JPH0540002Y2 - - Google Patents

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JPH0540002Y2
JPH0540002Y2 JP1986111866U JP11186686U JPH0540002Y2 JP H0540002 Y2 JPH0540002 Y2 JP H0540002Y2 JP 1986111866 U JP1986111866 U JP 1986111866U JP 11186686 U JP11186686 U JP 11186686U JP H0540002 Y2 JPH0540002 Y2 JP H0540002Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 イ 産業上の利用分野 本考案は、板状体移換え装置に関し、例えばバ
スケツトに収容されている半導体ウエハをカート
リツジに移換えるのに又はこの逆の移換えを行う
のに好適な板状体移換え装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] A. Field of Industrial Application The present invention relates to a plate-shaped object transfer device, and is used, for example, to transfer a semiconductor wafer contained in a basket to a cartridge, or vice versa. The present invention relates to a plate-shaped object transfer device suitable for.

ロ 従来技術 半導体ウエハ表面に酸化珪素膜等の堆積膜を形
成するためにCVD装置が汎用されているが、近
時、多数の半導体ウエハを上下に積み重ねる如く
に配した状態で処理する縦型炉と称される装置が
注目されてきている。この縦型炉は旧来の横型の
炉とは異なつて、半導体ウエハの挿入及び取出し
が容易であり、作業に必要な占有面積も少なくて
済むという利点がある。
B. Prior art CVD equipment is commonly used to form deposited films such as silicon oxide films on the surfaces of semiconductor wafers, but recently vertical furnaces have been used to process a large number of semiconductor wafers stacked one above the other. A device called . This vertical furnace differs from the conventional horizontal furnace in that it is easy to insert and remove semiconductor wafers and requires less space for operation.

こうしたCVD装置を含む種々の処理装置にお
いて、多数の半導体ウエハを円筒形のカートリツ
ジ内に収納し、カートリツジ毎に一括して処理す
ることは有利である。
In various processing apparatuses including such CVD apparatuses, it is advantageous to store a large number of semiconductor wafers in a cylindrical cartridge and to process each cartridge at once.

半導体ウエハ(以下、単にウエハと呼ぶ。)は、
珪素又はゲルマニウム等の半導体結晶のインゴツ
トを薄く切つたもので、例えば厚さ0.6mm程度、
直径150mm程度の円板状を呈しており、通常、バ
スケツトと呼ばれる容器内に互いに間隔をおいて
多数枚が収容されている。
A semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer) is
A thinly cut ingot of semiconductor crystal such as silicon or germanium, for example, about 0.6 mm thick.
They have a disc shape with a diameter of about 150 mm, and a large number of them are usually housed at intervals in a container called a basket.

旧来の横型炉にあつては、ウエハは縦にして横
方向に並んでバスケツトに収容されていて、これ
らを一括して半径方向から2個のレバーで挟み込
んでバスケツトから抜き出し、向きを変えること
なくカートリツジに移換えていた。
In conventional horizontal furnaces, the wafers are stored vertically and lined up horizontally in a basket, and the wafers are pulled out from the basket by being sandwiched between two levers from the radial direction without changing their orientation. I was switching to a cartridge.

縦型炉にあつては、カートリツジ中にウエハを
水平にして上下方向に互いに間隔をおいて多数枚
収容し、一括して炉に挿入するので、バスケツト
もカートリツジと同様の状態でウエハを収容する
ようにするのが好都合である。
In the case of a vertical furnace, a large number of wafers are stored horizontally in a cartridge at intervals from each other in the vertical direction, and the wafers are inserted into the furnace all at once, so the basket also stores the wafers in the same condition as the cartridge. It is convenient to do so.

炉内でウエハを処理するに当たり、カートリツ
ジとウエハとの接触面積は、雰囲気ガスの流通を
良好にするために、できるだけ小さいことが望ま
しい。その上、縦型炉用カートリツジでは、ウエ
ハをバスケツトとの間で移換えるために、横方向
の少なくとも一方にウエハが通過できる開口部
(空間部)を設ける必要があり、カートリツジは
この空間部を避けた位置でウエハを支持すること
になる。そのため、カートリツジ3は、第19図
に示すように、図示しないウエハを水平に支持す
る2本の主柱3aとこの水平支持を安定にする補
助柱3bとを有し、主柱3a及び補助柱3bには
夫々ウエハを支持するための溝3eを設けた構造
とするのが良い。同図中、3cは天蓋、3dは底
板、3fはウエハ出し入れのための空間部、3g
は空間部、3hはつばである。また、カートリツ
ジは、炉内でウエハと共に加熱されるので、その
材料には石英ガラスが好ましく使用される。
When processing wafers in a furnace, it is desirable that the contact area between the cartridge and the wafer be as small as possible in order to improve the circulation of atmospheric gas. Furthermore, in order to transfer wafers to and from the basket, vertical furnace cartridges must have an opening (space) on at least one side in the lateral direction through which the wafers can pass, and the cartridge must have an opening (space) through which the wafers can pass. The wafer will be supported at a position that is avoided. Therefore, as shown in FIG. 19, the cartridge 3 has two main pillars 3a that horizontally support wafers (not shown) and an auxiliary pillar 3b that stabilizes the horizontal support. It is preferable that each groove 3b is provided with a groove 3e for supporting a wafer. In the figure, 3c is a canopy, 3d is a bottom plate, 3f is a space for taking in and taking out wafers, and 3g
is the space part and 3h is the brim. Furthermore, since the cartridge is heated together with the wafer in the furnace, quartz glass is preferably used as the material for the cartridge.

第20図は、カートリツジ3中にウエハ16が
収容されている状態を示す正面図である。ウエハ
16は主柱3a及び補助柱3bの溝3eに挿入さ
れ、2本の主柱3a及び2本の補助柱3bによつ
て支持される。
FIG. 20 is a front view showing a state in which the wafer 16 is accommodated in the cartridge 3. The wafer 16 is inserted into the groove 3e of the main pillar 3a and the auxiliary pillar 3b, and is supported by the two main pillars 3a and the two auxiliary pillars 3b.

第21図はバスケツトの斜視図である。バスケ
ツト4はプラスチツク製で、その側壁内側には、
図示しないウエハを水中に互いに隔離して収容す
るよう、つば4bが設けてあり、前、後面には開
口部4c,4dが設けてある。
FIG. 21 is a perspective view of the basket. The basket 4 is made of plastic, and the inside of its side wall has
A collar 4b is provided so that wafers (not shown) can be accommodated in water while being separated from each other, and openings 4c and 4d are provided on the front and rear surfaces.

第22図バスケツト中にウエハ16が収容され
ている状態を示す第21図の−線矢
視断面図である。
FIG. 22 is a cross-sectional view taken along the - line in FIG. 21, showing the state in which the wafers 16 are accommodated in the basket.

ウエハ16は、バスケツトの側壁内側の凹部4
aに挿入され、つば4bに支承されてバスケツト
中に収容される。
The wafer 16 is placed in the recess 4 inside the side wall of the basket.
a, supported by the collar 4b, and housed in the basket.

ハ 考案に至る経過 上記したようなカートリツジとバスケツトとの
間で、半導体ウエハを取出して移換えるためのウ
エハ取出し装置として、本出願人は先に第18図
a〜cの部分断面図に示すようなものを提示して
いる(特願昭60−103250号)。
C. Process leading to the invention As a wafer take-out device for taking out and transferring semiconductor wafers between the above-mentioned cartridge and basket, the applicant previously developed a device as shown in the partial cross-sectional views of FIGS. 18a to 18c. (Patent Application No. 103250-1981)

第18図aは、バスケツト4中にウエハ16が
収容されている状態を示す。
FIG. 18a shows a state in which wafers 16 are accommodated in the basket 4. As shown in FIG.

この状態から、第18図bに示すように、水平
な支持面40b及び140bを有する支持部40
a,140aを夫々多数設けたウエハ取出し具4
0及び140をバスケツト4内に移動させ、ウエ
ハ取出し具40及び140(以後、取出し具と呼
ぶことがある。)の支持部40a及び140aが
ウエハ16の縁部間隙に位置するようにする。
From this state, as shown in FIG. 18b, the support part 40 having horizontal support surfaces 40b and 140b
A wafer take-out tool 4 provided with a large number of wafers a and 140a, respectively.
0 and 140 are moved into the basket 4 so that the support parts 40a and 140a of the wafer take-out tools 40 and 140 (hereinafter sometimes referred to as take-out tools) are located in the gap between the edges of the wafers 16.

次に、第18図cに示すように、ウエハ取出し
具40及び140を図示しない例えばカム機構に
よつて上昇させ、ウエハ16を取出し具40及び
140の支持部40a,140aに載置する。こ
のとき、バスケツト4のつば4bはウエハ16か
ら離れる。その後は取出し具40及び140によ
りウエハ16を支持した状態で、カートリツジま
で移送すれば良い。(ウエハをカートリツジに収
容する手順については省略する。) 本考案者は、検討を加えた結果、上述したよう
な取出し具には、なお次のような問題が残されて
いることを見出した。
Next, as shown in FIG. 18c, the wafer take-out tools 40 and 140 are raised by, for example, a cam mechanism (not shown), and the wafer 16 is placed on the support parts 40a and 140a of the take-out tools 40 and 140. At this time, the collar 4b of the basket 4 separates from the wafer 16. Thereafter, the wafer 16 may be supported by the take-out tools 40 and 140 and transferred to the cartridge. (The procedure for storing the wafer in the cartridge will be omitted.) As a result of further study, the inventor of the present invention found that the following problems still remain with the above-mentioned extractor.

即ち、上述のウエハ取出し具を用いた場合、取
出し具をバスケツト又はカートリツジに挿入する
ため或いはウエハを移送するための往復動機構だ
けでなく、例えば第18図cにおいて示したよう
に取出し具の上下動機構を別個に設ける必要があ
る。そうすると装置全体が寸法的にみて必然的に
大型化し、機構が複雑となり、制御手続が煩雑と
なり、また装置の寸法的な狂いや誤動作のおそれ
が増大する。
That is, when the above-mentioned wafer pick-up tool is used, not only the reciprocating mechanism for inserting the pick-up tool into the basket or cartridge or for transferring the wafer, but also the upper and lower parts of the pick-up tool as shown in FIG. 18c, for example. It is necessary to provide a separate moving mechanism. This inevitably increases the size of the entire device, complicates the mechanism, complicates control procedures, and increases the risk of dimensional deviations and malfunctions of the device.

本考案者は研究の結果上記のような問題を解決
したウエハ取出し具を開発し、本考案を完成する
に至つた。
As a result of research, the present inventor developed a wafer removal tool that solved the above-mentioned problems and completed the present invention.

ニ 考案の目的 本考案は、上記の事情に鑑みてなされたもので
あつて、板状体を所定の支持位置に導くための機
構を別個に設けることなく、往復動機構のみによ
り自動的に板状体を所定の支持位置へ導くことが
できるような板状体移換え装置を提供することを
目的としている。
D. Purpose of the invention The present invention has been made in view of the above circumstances, and is designed to automatically move the plate-shaped body only by a reciprocating mechanism without providing a separate mechanism for guiding the plate-shaped body to a predetermined support position. It is an object of the present invention to provide a plate-shaped object transfer device that can guide a shaped object to a predetermined support position.

ホ 考案の構成 本考案は、 複数の板状体を挿入又は取出すための空間部を
夫々有する第一及び第二の板状体支持装置の間
で、前記複数の板状体を移換えるに際し、前記第
一の板状体支持装置に上下方向に所定間隔を以て
略水平に周辺部で支持された前記複数の板状体を
板状体取出し具によつて取出した後に、前記複数
の板状体を略水平移動させて前記第二の板状体支
持装置に前記複数の板状体を上下方向に前記所定
間隔を以て略水平に周辺部で支持させる板状体移
換え装置であつて、 前記板状体取出し具が、前記板状体支持装置に
対して略水平に往復動可能な互に対向した第一及
び第二の取出し具からなり、前記第一の取出し具
と前記第二の取出し具とを前記複数の板状体に対
してこれら板状体の周辺部を対向位置で同時に支
持する位置迄夫々略水平に往動させる駆動手段を
有し、 前記第一及び第二の取出し具の板状体支持部に
傾斜面を設け、前記往動時に前記複数の板状体
が、前記周辺部において前記傾斜面に接しながら
この傾斜面を下方から上方へ乗上げ、これによつ
て前記第一の板状体支持装置から離れ、前記第一
及び第二の取出し具間に支持されるようになさ
れ、 この支持状態の儘前記第一及び第二の取出し具
を同時に略水平移動させ、前記第一の板状体支持
装置から前記第二の板状体支持装置へ前記複数の
板状体を略水平移動させる駆動手段を有する板状
体移換え装置に係る。
E. Structure of the invention The present invention provides for, when transferring a plurality of plate-like bodies between first and second plate-like body support devices each having a space for inserting or taking out a plurality of plate-like bodies, After the plurality of plate-shaped bodies supported at the peripheral portions of the first plate-shaped body supporting device substantially horizontally at predetermined intervals in the vertical direction are taken out by the plate-shaped body extractor, the plurality of plate-shaped bodies are removed. A plate-like object transfer device that causes the second plate-like object supporting device to support the plurality of plate-like objects substantially horizontally at the peripheral portion at the predetermined intervals in the vertical direction by moving the plurality of plate-like objects substantially horizontally, The shaped object extractor includes first and second extractors facing each other and capable of reciprocating substantially horizontally with respect to the plate-shaped object support device, the first extractor and the second extractor. and driving means for moving the first and second extractors substantially horizontally relative to the plurality of plate-like bodies to positions where peripheral portions of the plate-like bodies are simultaneously supported at opposing positions; An inclined surface is provided on the plate-shaped body support part, and during the forward movement, the plurality of plate-shaped bodies run over this slope from below to upward while contacting the inclined plane in the peripheral part, thereby causing It is separated from one plate-like object supporting device and supported between the first and second pick-up tools, and while in this supported state, the first and second pick-up tools are simultaneously moved substantially horizontally, and the The present invention relates to a plate-like object transfer device having a drive means for moving the plurality of plate-like objects substantially horizontally from the first plate-like object support device to the second plate-like object support device.

ヘ 実施例 以下、本考案の実施例を図面に基づき詳細に説
明する。
F. Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第1図〜第17図は本考案の実施例を表わすも
の、第18図は比較例を示すもの、第19図〜第
22図は縦型CVD装置用カートリツジ及びバス
ケツトを示すものである。
1 to 17 show an embodiment of the present invention, FIG. 18 shows a comparative example, and FIGS. 19 to 22 show a cartridge and a basket for a vertical CVD apparatus.

実施例 1 第1図〜第6図は、本実施例を示すものであ
る。
Example 1 FIGS. 1 to 6 show this example.

先ず、バスケツトとカートリツジとの間でウエ
ハを移換える動作について説明する。
First, the operation of transferring wafers between the basket and the cartridge will be explained.

第4図は、バスケツト4中のウエハ16を、互
いに対向するウエハ取出し具1,101を使用し
てカートリツジ3に移換える手順を示すフローチ
ヤートである。
FIG. 4 is a flowchart showing the procedure for transferring wafers 16 in basket 4 to cartridge 3 using wafer take-out tools 1 and 101 facing each other.

第4図aに示すように、支持部13,113と
夫々一体となつた一対のウエハ取出し具1,10
1を対向させ、それらと軸を一致させてウエハ1
6を収容したバスケツト4と空のカートリツジ3
とを位置させる。次に、同図bに示すように、取
出し具1,101を前進させてこれらの先端縁部
でウエハ16を支持するようにし、同図cに示す
ように、その儘取出し具1,101を図に於いて
右方に移動させてウエハ16をカートリツジ3中
に収容し、最後に同図dに示すように、取出し具
1,101を後退させる。
As shown in FIG. 4a, a pair of wafer extractors 1 and 10 are integrated with support parts 13 and 113, respectively.
1 facing each other and aligning the axes with them.
Basket 4 containing 6 and empty cartridge 3
and position it. Next, as shown in Figure b, the extractors 1 and 101 are advanced so that the wafer 16 is supported by their tip edges, and as shown in Figure c, the extractors 1 and 101 are moved forward. The wafer 16 is moved to the right in the figure to accommodate the wafer 16 in the cartridge 3, and finally the extractor 1, 101 is retreated as shown in d of the figure.

第4図aの状態におけるバスケツト4、カート
リツジ3並びに取出し具1及び101の位置関係
は、第3図に斜視図で示す通りである。
The positional relationship between the basket 4, the cartridge 3, and the extractors 1 and 101 in the state shown in FIG. 4a is as shown in a perspective view in FIG.

バスケツト4の前面及び背面には、前述したよ
うに壁が設けられておらず、取出し具1,101
が貫通できるように開口部4c,4dが形成され
ている。また、カートリツジ3の前後共に主柱3
a及び補助柱3bは取出し具1,101が通過で
きるに十分な間隔をおいて設けられ、開口部3
f,3gが形成されている。従つて、取出し具
1,101は、バスケツト4及びカートリツジ3
に対して、開口部4c,4d,3f,3gを経由
して挿入、離脱が可能になつていて、第4図aの
状態から同図b,c,dの状態へと往復動が可能
である。
As mentioned above, there are no walls on the front and back sides of the basket 4, and the take-out tools 1, 101 are not provided with walls.
Openings 4c and 4d are formed so that the openings 4c and 4d can be penetrated therethrough. In addition, the main pillar 3 is attached to both the front and rear of the cartridge 3.
a and the auxiliary pillar 3b are provided with a sufficient interval to allow the extraction tool 1, 101 to pass through, and the opening 3
f, 3g are formed. Therefore, the extractor 1, 101 can remove the basket 4 and the cartridge 3.
Insertion and removal are possible through openings 4c, 4d, 3f, and 3g, and reciprocating movement is possible from the state shown in Fig. 4a to the states shown in Fig. 4b, c, and d. be.

第1図aはウエハ取出し具1,101を示す斜
視図、同図bはそのb−b線断面図である。
取出し具1,101は、支持部13,113の端
部に固定されて一体化されており、後述する機構
によつて往復動可能となつている。
FIG. 1a is a perspective view showing the wafer take-out tool 1, 101, and FIG. 1b is a cross-sectional view taken along line bb--b.
The extractor 1, 101 is fixed and integrated with the end of the support portion 13, 113, and is capable of reciprocating movement by a mechanism described later.

取出し具はウエハの形状に合わせた円弧柱状を
しており、その前面にはウエハを支持し移送する
ための傾斜面1bを有するつば1aが、縦方向に
多数設けられている。
The take-out tool has an arcuate column shape that matches the shape of the wafer, and a large number of ribs 1a having an inclined surface 1b for supporting and transferring the wafer are provided on the front surface thereof in the vertical direction.

次に、第4図bの状態におけるウエハ移換え装
置を、第5図に平面図で、第6図で正面図(一部
は断面)で示す。
Next, the wafer transfer apparatus in the state shown in FIG. 4b is shown in a plan view in FIG. 5 and in a front view (partly in cross section) in FIG.

雌ねじが螺設されたスライダ5には取出し具1
を支持する支持部13が、雌ねじが螺設されたス
ライダ6には取出し具101を支持する支持部1
13がそれぞれ水平に固着され、取出し具1,1
01は互いに向い合つて位置している。
A take-out tool 1 is attached to the slider 5 on which the female thread is screwed.
A support part 13 for supporting a take-out tool 101 is provided on the slider 6 having a female thread.
13 are fixed horizontally, respectively, and the take-out tools 1, 1
01 are located opposite each other.

フレーム11,111には送りねじ9,10が
平行に貫通していて、送りねじ9にはスライダ5
が、送りねじ10にはスライダ6が夫々螺合し、
送りねじ9はスライダ6に、送りねじ10はスラ
イダ5に夫々接触することなく貫通していて、送
りねじ9,10の回動によつてスライダ5,6が
別個に送りねじ9,10に沿つて往復動できるよ
うにしてある。7及び8はスライダ5,6の案内
軸である。
Feed screws 9 and 10 pass through the frames 11 and 111 in parallel, and the feed screw 9 has a slider 5.
However, the sliders 6 are respectively screwed into the feed screws 10,
The feed screw 9 passes through the slider 6, and the feed screw 10 passes through the slider 5 without contacting them, and the rotation of the feed screws 9 and 10 causes the sliders 5 and 6 to move along the feed screws 9 and 10 separately. It is designed so that it can move back and forth. 7 and 8 are guide shafts of the sliders 5 and 6.

第5図及び第6図は、第4図aの状態から送り
ねじ9,10を回転させてスライダ5,6をウエ
ハ16に向かつて前進させ、第4図bの状態とし
た時点を示している。
5 and 6 show the state shown in FIG. 4b by rotating the feed screws 9 and 10 to advance the sliders 5 and 6 toward the wafer 16 from the state shown in FIG. 4a. There is.

バスケツト中に収容されているウエハをカート
リツジに移換えるに至るウエハ取出し具の運動
は、部分断面図で第2図に示す通りである。
The movement of the wafer extractor leading to the transfer of the wafers contained in the basket to the cartridge is shown in FIG. 2 in partial cross-section.

第2図aはバスケツト4中にウエハ16が収容
されている状態を示し、ウエハ16はバスケツト
4のつば4b上に載置され、図示しない搬送手段
によつて対向する一対の取出し具1,101の間
に搬送される(第4図aの状態)。
FIG. 2a shows a state in which a wafer 16 is accommodated in the basket 4. The wafer 16 is placed on the collar 4b of the basket 4, and is transferred to a pair of opposing take-out tools 1, 101 by a transport means (not shown). (state shown in Fig. 4a).

この状態から、第2図bに示すように、取出し
具101をバスケツト4内に移動させ、取出し具
101の端縁の支持部101aがウエハ16の縁
部間隙に位置するようにする。他方、取出し具1
はバスケツト4から突出しているウエハ16の縁
部間隙に端縁の支持部1aが位置するように移動
する(第4図bの状態)。取出し具1,101の
移動は第6図の送りねじ9,10の回動によつて
なされる。
From this state, as shown in FIG. 2B, the take-out tool 101 is moved into the basket 4 so that the support portion 101a at the edge of the take-out tool 101 is positioned in the gap between the edges of the wafers 16. On the other hand, the extraction tool 1
moves so that the edge support portion 1a is located in the edge gap of the wafer 16 protruding from the basket 4 (state shown in FIG. 4b). The removal tools 1, 101 are moved by rotating the feed screws 9, 10 shown in FIG.

取出し具1,101の支持部1a,101aに
は、前述したように前方に向かつて下降する傾斜
面1b,101bが設けてあり、この傾斜支持面
1b,101bがウエハ16に当接してから後
は、取出し具1,101の移動に伴い、ウエハ1
6は支持部1a,101aに支承されながらこの
傾斜支持面1b,101b上を上昇し、バスケツ
ト4のつば4bから離れる。このとき、第2図c
に示すように取出し具1,101を所定位置で停
止させれば、ウエハ16は自動的に所定の支持位
置へ導かれて静止する。
The support parts 1a, 101a of the pick-up tool 1, 101 are provided with inclined surfaces 1b, 101b that move downward toward the front as described above. As the take-out tools 1 and 101 move, the wafer 1
6 rises on the inclined support surfaces 1b, 101b while being supported by the support parts 1a, 101a, and leaves the collar 4b of the basket 4. At this time, Fig. 2c
When the pick-up tool 1, 101 is stopped at a predetermined position as shown in FIG. 1, the wafer 16 is automatically guided to a predetermined support position and becomes stationary.

次に、取出し具1,101をウエハ16を支承
した儘カートリツジ3へ向かつて移動させ、第2
図dに示すように、主柱3a及び補助柱3bの溝
3e中にウエハ16の縁部を侵入させる(第4図
cの状態)。
Next, the take-out tool 1, 101 is moved toward the cartridge 3 supporting the wafer 16, and the second
As shown in FIG. 4D, the edge of the wafer 16 is inserted into the grooves 3e of the main pillar 3a and the auxiliary pillar 3b (state shown in FIG. 4C).

次に、取出し具1,101を僅か後退させる
と、それに伴い、第2図eに示すように、ウエハ
16は、傾斜支持面1b,101b上を下降し、
主柱3a及び補助柱3bの溝3e上の所定位置に
自動的に導かれて載置され、取出し具1,101
の支持部1a,101aはウエハ16から離れ
る。
Next, when the extractor 1, 101 is slightly retreated, the wafer 16 descends on the inclined support surfaces 1b, 101b, as shown in FIG. 2e.
The extractor 1, 101 is automatically guided and placed in a predetermined position on the groove 3e of the main column 3a and the auxiliary column 3b.
The supporting parts 1a and 101a are separated from the wafer 16.

引続き、取出し具1,101を後退させ、第2
図fに示すように、これらをカートリツジ3及び
バスケツト4から外す(第4図dの状態)。
Subsequently, the extractor 1, 101 is moved back, and the second
As shown in Figure f, these are removed from the cartridge 3 and basket 4 (the state shown in Figure 4D).

かくして、ウエハ16はバスケツト4からカー
トリツジ3へ一括して移換えられ、カートリツジ
3に収容されたウエハ16は、カートリツジ3と
共に図示しない移送装置によつて図示しない処理
装置へ移送され、処理が施される。
In this way, the wafers 16 are transferred all at once from the basket 4 to the cartridge 3, and the wafers 16 accommodated in the cartridge 3 are transferred together with the cartridge 3 by a transfer device (not shown) to a processing device (not shown), where they are processed. Ru.

処理が終了したウエハは、カートリツジと共に
移換え装置に移送され、第2図a〜fの手順の逆
の手順に従つてバスケツトに移換えられ、図示し
ない搬送手段によつて搬送される。
The processed wafer is transferred to a transfer device together with the cartridge, transferred to a basket in the reverse order of the steps shown in FIGS. 2a to 2f, and transferred by a transfer means (not shown).

実施例 2 第7図及び第8図は、本実施例を示すものであ
る。
Example 2 FIGS. 7 and 8 show this example.

第7図aはウエハ取出し具の斜視図、同図bは
同図aのb−b−線断面図である。
FIG. 7a is a perspective view of the wafer removal tool, and FIG. 7b is a sectional view taken along the line bb--b of FIG. 7a.

取出し具2,102は、前記実施例1の取出し
具1と同様の形状であるが、その前面に下側傾斜
面2b及びそれと溝2eを挟んで対向する上側傾
斜面2cを有するつば2aが、縦方向に多数設け
られており、つば2aの傾斜面2b上にウエハを
載置して移送する。
The extractor 2, 102 has the same shape as the extractor 1 of the first embodiment, except that the collar 2a has a lower inclined surface 2b on the front surface and an upper inclined surface 2c facing the lower inclined surface 2b with a groove 2e in between. A large number of wafers are provided in the vertical direction, and wafers are placed and transferred on the sloped surface 2b of the collar 2a.

取出し具2,102は、実施例1の取出し具1
と同様に、前に第2図〜第6図に基づいて説明し
た方法で使用できる。そのとき、ウエハの取出
し、移送、移換え手順等は前述したものと同じで
よい。傾斜面2bが取出し具1の傾斜面1bと同
様の働きをすることは言うまでもない。
The extractor 2, 102 is the extractor 1 of Example 1.
Similarly, it can be used in the manner previously described with reference to FIGS. 2-6. At that time, the wafer removal, transfer, transfer procedures, etc. may be the same as those described above. It goes without saying that the inclined surface 2b functions similarly to the inclined surface 1b of the extractor 1.

本実施例のウエハ取出し具2,102には更に
別の効果がある。以下、第8図a〜cの部分断面
図を用いてそれを説明する。
The wafer extractor 2, 102 of this embodiment has yet another effect. This will be explained below using partial cross-sectional views of FIGS. 8a to 8c.

第8図aは、カートリツジにウエハ16が収容
されている状態を示すが、一部のウエハ16aが
補助柱3bの溝3eから外れて傾斜している。
FIG. 8a shows a state in which wafers 16 are accommodated in the cartridge, but some of the wafers 16a are tilted out of the groove 3e of the auxiliary column 3b.

このとき、取出し具2,102をカートリツジ
内に移動させると、第8図bに示すように、取出
し具102の支持部102aに設けられた上側傾
斜面102cが、傾いて他のウエハより上方に向
けて少し突出しているウエハ16aの縁部周面に
当接する。この状態から、取出し具2,102が
移動すると、それに伴いウエハ16aの縁部周面
が上側傾斜面102cと摺動しながら溝2eの奥
の方へ移動するので、それにつれてウエハ16a
の傾きは小さくなる。
At this time, when the pick-up tool 2, 102 is moved into the cartridge, the upper inclined surface 102c provided on the support part 102a of the pick-up tool 102 is tilted upwards from the other wafers, as shown in FIG. 8b. The edge of the wafer 16a slightly protrudes toward the wafer 16a. When the extractor 2, 102 moves from this state, the peripheral surface of the edge of the wafer 16a moves toward the back of the groove 2e while sliding on the upper inclined surface 102c, so that the wafer 16a
The slope of becomes smaller.

更に取出し具2,102が移動すると、第8図
cに示すように、ウエハ16aは取出し具2,1
02のつば2a,102aの傾斜面2b,102
bに支持され、主柱3aの支持は解除される。
When the pick-up tools 2 and 102 move further, the wafer 16a is moved to the pick-up tools 2 and 1, as shown in FIG. 8c.
Inclined surfaces 2b, 102 of collars 2a, 102a of 02
b, and the support of the main pillar 3a is released.

この様に、本実施例のウエハ取出し具を用いれ
ば、上側傾斜面を設けてあるので、例えばカート
リツジ中で一部のウエハが溝から外れて傾斜して
いても、それを破損することなく取り出すことが
可能である。
In this way, if the wafer ejector of this embodiment is used, since the upper inclined surface is provided, even if some of the wafers in the cartridge are tilted away from the grooves, the wafers can be ejected without being damaged. Is possible.

実施例 3 第9図〜第14図は、本実施例を示すものであ
る。
Example 3 FIGS. 9 to 14 show this example.

第9図aは本実施例のウエハ取出し具を示す斜
視図、同図bは同図aのb−b断面図であ
る。
FIG. 9a is a perspective view showing the wafer take-out tool of this embodiment, and FIG. 9b is a sectional view taken along line bb in FIG. 9a.

取出し具20,120も前記の取出し具1,
2,101,102と同様の形状を有するが、そ
の前面には前記実施例2に於けると同様の傾斜面
20b,20c,120b,120cが縦方向に
多数設けてあつて、これらにより断面楔形の溝2
0e,120e及びつば20a,120aが形成
されている。更に、楔形溝20e,120eの最
奥部からは、上下面を水平にしたウエハ支持溝2
0fが延設されている。
The extractor 20, 120 is also the extractor 1,
2, 101, and 102, but the front surface thereof has a large number of inclined surfaces 20b, 20c, 120b, and 120c in the vertical direction similar to those in the second embodiment, and these have a wedge-shaped cross section. Groove 2
0e, 120e and collars 20a, 120a are formed. Furthermore, from the innermost part of the wedge-shaped grooves 20e and 120e, a wafer support groove 2 whose upper and lower surfaces are horizontal is formed.
0f is extended.

このウエハ取出し具を用いて、バスケツト中に
収容されているウエハをカートリツジに移換える
に至るアームの運動は、部分断面図で第10図に
示す通りである。
The movement of the arm to transfer the wafers contained in the basket to the cartridge using this wafer extractor is as shown in FIG. 10 in a partial cross-sectional view.

第10図aはバスケツト4中にウエハ16が収
容されている状態を示し、ウエハ16はバスケツ
ト4のつば4b上に載置され、図示しない搬送手
段によつて対向する一対の取出し具20,120
の間に搬送される(第4図aの状態)。
FIG. 10a shows a state in which the wafer 16 is accommodated in the basket 4. The wafer 16 is placed on the collar 4b of the basket 4, and is transferred to a pair of opposing take-out tools 20, 120 by a transport means (not shown).
(state shown in Fig. 4a).

この状態から、第10図bに示すように、取出
し具120をバスケツト4内に移動させ、取出し
具120のつば120aがウエハ16の縁部間隙
に位置するようにする。他方、取出し具20はバ
スケツト4から突出しているウエハ16の縁部間
隙につば20aが位置するように移動する(第4
図bの状態)。ウエハ取出し具の移動については
既に詳述した通りである。
From this state, as shown in FIG. 10b, the pick-up tool 120 is moved into the basket 4 so that the collar 120a of the pick-up tool 120 is located in the gap between the edges of the wafers 16. On the other hand, the extractor 20 moves so that the collar 20a is located in the gap between the edges of the wafers 16 protruding from the basket 4 (the fourth
Figure b). The movement of the wafer pick-up tool has already been described in detail.

取出し具20,120のつば20a,120a
には前方に向かつて下降する傾斜面20b,12
0bが設けてあり、この傾斜20b,120bが
ウエハ16に当接してから後は、ウエハ16は、
つば20a,120aに支承されながらこの傾斜
面20b,120b上を上昇し、バスケツト4の
つば4bから離れ、最終的には第10図cに示す
ように、ウエハ支持溝20f,120fへ導びか
れ、水平なウエハ支持面20d,120d上にそ
の周縁部が載置される。
Collar 20a, 120a of extraction tool 20, 120
There are inclined surfaces 20b and 12 that descend toward the front.
0b is provided, and after these slopes 20b and 120b contact the wafer 16, the wafer 16 is
The wafers rise on the slopes 20b, 120b while being supported by the flanges 20a, 120a, leave the flanges 4b of the basket 4, and are finally guided to the wafer support grooves 20f, 120f, as shown in FIG. 10c. , the peripheral edge portions thereof are placed on horizontal wafer support surfaces 20d and 120d.

次に、取出し具20,120をウエハ16を支
承した儘カートリツジ3へ向かつて移動させ、第
10図dに示すように、主柱3a及び補助柱3b
の溝3e中にウエハ16の縁部を侵入させる。
(第2図cの状態)。
Next, the extractor 20, 120 is moved toward the cartridge 3 supporting the wafer 16, and as shown in FIG.
The edge of the wafer 16 is inserted into the groove 3e.
(Situation shown in Figure 2c).

次に、取出し具20,120を僅かに後退させ
ると、第10図eに示すように、ウエハ16はウ
エハ支持面20d,120dを離れ、さらに傾斜
面20b,120bを下降し、主柱3a及び補助
柱3bの溝3e上に載置され、取出し具20,1
20のつば20a,120aはウエハ16から離
れる。
Next, when the take-out tools 20, 120 are slightly retreated, as shown in FIG. It is placed on the groove 3e of the auxiliary column 3b, and the extraction tool 20,1
20 collars 20a, 120a are separated from the wafer 16.

引続き、取出し具20,120を後退させ、第
10図fに示すように、これらをカートリツジ3
及びバスケツト4から外す(第4図dの状態)。
Subsequently, the ejecting tools 20 and 120 are moved back and removed from the cartridge 3 as shown in FIG. 10f.
and remove it from the basket 4 (state shown in Figure 4d).

かくして、ウエハ16はバスケツト4からカー
トリツジ3へ一括して移換えられ、カートリツジ
3に収容されたウエハ16は、カートリツジ3と
共に図示しない移送装置によつて図示しない処理
装置へ移送され、処理が施される。
In this way, the wafers 16 are transferred all at once from the basket 4 to the cartridge 3, and the wafers 16 accommodated in the cartridge 3 are transferred together with the cartridge 3 by a transfer device (not shown) to a processing device (not shown), where they are processed. Ru.

処理が終了したウエハは、カートリツジと共に
移換え装置に移送され、第10図a〜fの手順の
逆の手順に従つてバスケツトに移換えられ、図示
しない搬送手段によつて搬送される。
The processed wafer is transferred together with the cartridge to the transfer device, transferred to a basket in the reverse order of the procedure shown in Figs. 10a to 10f, and transported by a transport means (not shown).

本実施例のウエハ取出し具20,120の利点
は、ウエハ収容部20f,120f及びウエハ支
持面20d,120dを設けることにより、バス
ケツト又はカートリツジ内で位置ずれしたウエハ
をも傾くことなく確実に水平に支持できることで
ある。
The advantage of the wafer take-out tools 20, 120 of this embodiment is that by providing the wafer storage portions 20f, 120f and the wafer support surfaces 20d, 120d, even wafers that are misaligned in the basket or cartridge can be reliably leveled without being tilted. This is something I can support.

以下、上記の利点について、第10図〜第14
図を用いて説明する。
Below, the above advantages are explained in Figures 10 to 14.
This will be explained using figures.

ここで第11図a〜c及び第13図a〜cは位
置ずれした半導体ウエハを取出す手順を示す概略
平面図、第12図aは第11図bのa−a線
矢視断面図、第12図bは第11図cのb−
b線矢視断面図、第14図aは第13図aの
a−a線矢視断面図、第14図bは第13図
bのb−b線矢視断面図である。第11
図〜第14図においては、ウエハ及びウエハ取出
し具のみを示し、カートリツジ又はバスケツトは
図示省略してある。
Here, FIGS. 11a to 13c and 13a to 13c are schematic plan views showing the procedure for taking out a semiconductor wafer that has shifted in position, FIG. 12a is a cross-sectional view taken along the line a-a in FIG. Fig. 12 b is b- of Fig. 11 c.
FIG. 14a is a cross-sectional view taken along line a-a in FIG. 13a, and FIG. 14b is a cross-sectional view taken along line b-b in FIG. 13b. 11th
In Figures 1 to 14, only the wafer and wafer removal tool are shown, and the cartridge or basket is omitted.

例えば、第11図に示すように、図示省略した
バスケツト又はカートリツジ内で、一部のウエハ
16bが取出し具の往復動する一点鎖線で示す中
心線から横方向に位置ずれしていることがある。
図中Oはウエハ6bの中心点である。
For example, as shown in FIG. 11, some of the wafers 16b may be laterally displaced from the center line indicated by the dashed-dotted line along which the pick-up tool reciprocates in a basket or cartridge (not shown).
O in the figure is the center point of the wafer 6b.

この場合、第10図bに示したように取出し具
20,120をウエハ16bの方へと移動させる
と、第12図aに示すように、位置ずれしている
ウエハ16bは、取出し具の傾斜面20bには図
に於いて左側が先に接触し、この接触部が傾斜面
20bに沿つて上昇する。その結果、ウエハ16
bは、Aで示す側の周縁が高く、Bで示す側の周
縁が低く傾斜する。この侭の状態でウエハ16を
バスケツト又はカートリツジから取出して移送
し、カートリツジ又はバスケツト内に挿入する
と、ウエハが主柱や補助柱のつば或いはバスケツ
トのつばに衝突したりして破損するおそれがあ
る。
In this case, when the pick-up tools 20, 120 are moved toward the wafer 16b as shown in FIG. The left side in the figure contacts the surface 20b first, and this contact portion rises along the inclined surface 20b. As a result, wafer 16
In b, the periphery on the side indicated by A is high and the periphery on the side indicated by B is sloped low. If the wafer 16 is taken out from the basket or cartridge in this state, transferred, and inserted into the cartridge or basket, there is a risk that the wafer will collide with the brim of the main pillar, the auxiliary pillar, or the brim of the basket, and be damaged.

しかし、本実施例のウエハ取出し具を用いた場
合は、ウエハ16bを傾斜した状態で支持した儘
移送する必要はなく、第10図cに示したように
ウエハ取出し具を更に進めてウエハ16bをウエ
ハ支持溝20f内へ送り込み、第11図c及び第
12図bに示す状態とすればよい。この状態で
は、ウエハ16bはウエハ支持溝20fのウエハ
支持面20dにより水平に支持されているので、
前述したような問題が回避される。
However, when the wafer pick-up tool of this embodiment is used, it is not necessary to support the wafer 16b in an inclined state and transfer it as is, but to move the wafer pick-up tool further as shown in FIG. 10c to remove the wafer 16b. The wafer may be fed into the wafer support groove 20f to create the state shown in FIGS. 11c and 12b. In this state, the wafer 16b is supported horizontally by the wafer support surface 20d of the wafer support groove 20f.
Problems such as those mentioned above are avoided.

なお、取出し具20,120でウエハを支持す
る際、対向する取出し具がウエハ支持のため進行
する過程において、取出し具20,120の傾斜
面20b,120bが、ウエハ16bのA側周面
に対しB側周面より先に当接して摺動しながら押
しやる効果があるので、それだけウエハ16bの
位置ずれも矯正される。
Note that when the wafer is supported by the pick-up tools 20 and 120, the inclined surfaces 20b and 120b of the pick-up tools 20 and 120 are in contact with the A-side circumferential surface of the wafer 16b while the opposing pick-up tools move forward to support the wafer. Since the wafer 16b has the effect of coming into contact with the B-side circumferential surface first and pushing it away while sliding, the misalignment of the wafer 16b is corrected accordingly.

また、第13図aに示すように、図示省略した
例えばバスケツト内で、一部のウエハ16cが中
心点Oを一点鎖線で示す中心線から、一方の取出
し具120の方にずらして位置ずれしていること
がある。
Further, as shown in FIG. 13a, for example, in a basket (not shown), some wafers 16c are displaced with the center point O shifted from the center line indicated by the dashed line toward one of the pick-up tools 120. There are times when I am.

この場合、第10図bに示したように取出し具
20,120をウエハ16cの方へと移動させる
と、第13図b及び第14図aに示すように、位
置ずれしたウエハ16cは傾斜面20bよりも先
に傾斜面120bに接触する。その結果、前記と
同様にしてウエハ16cのC側周縁が高く、D側
周縁が低くなる。この儘の状態でウエハ16cを
バスケツトから取出し、移送し、カートリツジ内
に挿入すると、前述した場合と同様にウエハが主
柱や補助柱のつばに衝突したりして破損するおそ
れがある。
In this case, when the pick-up tools 20 and 120 are moved toward the wafer 16c as shown in FIG. 10b, the displaced wafer 16c is placed on the inclined surface as shown in FIGS. 13b and 14a. It contacts the inclined surface 120b before the contact surface 20b. As a result, the C-side periphery of the wafer 16c becomes high and the D-side periphery becomes low, in the same manner as described above. If the wafer 16c is taken out of the basket, transferred, and inserted into the cartridge in this state, the wafer may collide with the brim of the main pillar or the auxiliary pillar and be damaged, as in the case described above.

しかし、この場合もウエハ16cを傾斜した状
態で支持した儘移送する必要はなく、第10図c
に示したようにウエハ取出し具を更に進めてウエ
ハ16cをウエハ収容部20f内へ送り込み、第
13図c及び第14図b示す状態とすればよい。
この状態では、ウエハ16cはウエハ支持溝20
fのウエハ支持面20dにより水平に支持されて
いるので、前述したような問題は回避できる。
However, in this case as well, there is no need to support the wafer 16c in an inclined state and transfer it as is, as shown in FIG.
As shown in Figure 13c and Figure 14b, the wafer take-out tool may be further advanced to feed the wafer 16c into the wafer accommodating portion 20f, resulting in the states shown in Figures 13c and 14b.
In this state, the wafer 16c is held in the wafer support groove 20.
Since the wafer is supported horizontally by the wafer support surface 20d of f, the above-mentioned problem can be avoided.

なお、取出し具20,120でウエハを支持す
る際、取出し具20,120の移動の過程におい
て、取出し具120の傾斜面120bがウエハ1
6cのC側周縁に当接するのが、取出し具20の
傾斜面2bがウエハ16cのD側周縁に当接する
よりも先であり、その間傾斜面120bがウエハ
16cのC側周縁と摺動しながらウエハ16cを
押しやる効果があるので、それだけウエハ16c
の位置ずれも矯正される。
Note that when the wafer is supported by the pick-up tools 20 and 120, the inclined surface 120b of the pick-up tool 120 touches the wafer 1 in the process of movement of the pick-up tools 20 and 120.
The inclined surface 2b of the take-out tool 20 comes into contact with the C-side periphery of the wafer 6c before it contacts the D-side periphery of the wafer 16c, while the inclined surface 120b is sliding on the C-side periphery of the wafer 16c. Since it has the effect of pushing the wafer 16c, the wafer 16c
The positional deviation of is also corrected.

なお、本実施例のウエハ取出し具においては、
上側傾斜面20cを設けてあり、これが前記実施
例2のウエハ取出し具2の上側傾斜面2cと同様
の働きをするので、前記実施例2と同様に、例え
ばカートリツジ中で一部のウエハが溝から外れて
傾斜していても、それを破損することなく取出す
ことができる。
In addition, in the wafer removal tool of this example,
An upper inclined surface 20c is provided, and this functions similarly to the upper inclined surface 2c of the wafer take-out tool 2 of the second embodiment, so that, like the second embodiment, some wafers may fall into the groove in the cartridge, for example. Even if it comes off and is tilted, it can be taken out without damaging it.

第15図〜第17図は、夫々本実施例の他の実
施例を示す断面図である。
FIGS. 15 to 17 are sectional views showing other embodiments of this embodiment.

第15図のウエハ取出し具21は、楔形溝21
eを挟んで互いに対向する傾斜面21b,21c
を有するつば21aが縦方向に多数設けられた形
状であり、楔形溝21eの奥にウエハ周縁収容溝
21fが設けられており、楔形溝21eとウエハ
周縁収容溝21fの境界には、傾斜面21bの延
長上にウエハ支持突起21gが設けられている。
ウエハを取出す際には、ウエハはまず傾斜面21
bに当接し、取出し具21の移動につれて傾斜面
21b上を上昇してウエハ支持突起21gへ導か
れ、最後にウエハ支持突起21d上に載置され、
ウエハの周縁部がウエハ周縁収容溝21f内に収
容される。
The wafer take-out tool 21 in FIG.
Slanted surfaces 21b and 21c facing each other with e in between
A wafer periphery accommodating groove 21f is provided at the back of the wedge-shaped groove 21e, and an inclined surface 21b is provided at the boundary between the wedge-shaped groove 21e and the wafer periphery accommodating groove 21f. A wafer support protrusion 21g is provided on an extension of the wafer support protrusion 21g.
When taking out the wafer, the wafer is first placed on the inclined surface 21.
b, rises on the inclined surface 21b as the take-out tool 21 moves, is guided to the wafer support protrusion 21g, and is finally placed on the wafer support protrusion 21d,
The peripheral edge of the wafer is accommodated in the wafer peripheral edge accommodation groove 21f.

このウエハ取出し具21においては、実施例1
〜3で既述した効果があり、また、ウエハ支持突
起21gとウエハが面接触しないので摺動による
摩擦等が少なくなる。
In this wafer take-out tool 21, Example 1
There are the effects already mentioned in 3 to 3, and since the wafer support protrusion 21g and the wafer do not come into surface contact, friction due to sliding is reduced.

第16図に示すウエハ取出し具22は、傾斜面
22b及びウエハ支持面22cを有するつば22
aを、縦方向に多数設けた形状である。これは、
前記実施例3のウエハ取出し具と同様に使用すれ
ばよく、前記実施例1,3で既述した効果を有す
る。
The wafer take-out tool 22 shown in FIG.
It has a shape in which a large number of a are provided in the vertical direction. this is,
It may be used in the same manner as the wafer take-out tool of the third embodiment, and has the effects already described in the first and third embodiments.

第17図に示すウエハ取出し具23は、傾斜面
22b,22c及びウエハ支持面22dを有する
つば23aを、縦方向に多数設けた形状であり、
前記実施例3のウエハ取出し具と同様に使用すれ
ばよく、前記実施例1〜3で既述した効果を奏す
る。
The wafer take-out tool 23 shown in FIG. 17 has a shape in which a large number of ribs 23a having inclined surfaces 22b, 22c and a wafer support surface 22d are provided in the vertical direction.
It may be used in the same manner as the wafer removal tool of the third embodiment, and the effects described in the first to third embodiments can be obtained.

本考案に基づくウエハ取出し具においては、ウ
エハをカートリツジ又はバスケツトに載置されて
いる位置から取出し具の支持位置へ導くための斜
面に、テフロンコート等を施して鏡面仕上げをす
ることができる。この場合は、ウエハの周面と取
出し具の前記傾斜面との摺動時に摩擦を少なくす
ることができる。しかも、ウエハ外周と傾斜面が
線接触するので、鏡面同士が面接触をしたときに
起るような大気圧による滑り阻止が起らず、ウエ
ハは滑らかに傾斜面と摺動する。従つてウエハの
破損等のおそれがない。
In the wafer extractor based on this invention, the inclined surface for guiding the wafer from the position where it is placed in the cartridge or basket to the support position of the extractor can be given a mirror finish by applying a Teflon coating or the like. In this case, friction can be reduced when the peripheral surface of the wafer slides against the inclined surface of the extractor. Moreover, since the peripheral surface of the wafer and the inclined surface make line contact, there is no slippage caused by atmospheric pressure, as occurs when mirror surfaces make surface contact, and the wafer slides smoothly against the inclined surface. Therefore, there is no risk of damage to the wafer.

以上、本考案を例示したが、本考案の実施例は
上述のものに限られるわけではない。
Although the present invention has been illustrated above, the embodiments of the present invention are not limited to those described above.

例えば、本考案に基づくウエハ取出し具のつば
の形状、傾斜面の角度等は種々変更が可能であ
る。
For example, the shape of the brim, the angle of the inclined surface, etc. of the wafer extractor based on the present invention can be changed in various ways.

また、本考案に基づく板状体取出し具は、半導
体ウエハのほか、他の板状体、例えば板状ガラス
製品其他の板状物品の取出しにも同様に適用可能
である。
Furthermore, the plate-shaped object removal tool based on the present invention is similarly applicable to taking out other plate-shaped objects, such as plate-shaped glass products and other plate-shaped articles, in addition to semiconductor wafers.

また、板状体取出し具による板状体の支持方法
としては、上記の例のように板状体を傾斜面又は
水平な支持面により支承してこれを支承する以外
に、板状体を斜面によつてその支持位置まで導い
た後に、吸着其他の方法でこれを支持するように
しても良い。
In addition, as a method for supporting a plate-like object using a plate-like object removal tool, in addition to supporting the plate-like object on an inclined surface or a horizontal support surface as in the above example, After guiding it to the supporting position by means of a roller, it may be supported by suction or other methods.

また、板状体が鉄、コバルト、ニツケル等の強
磁性体である場合は、永久磁石、電磁石等を用い
て板状体をある特定の方向(例えば上方)に引き
つけて支持することもできる。この場合、板状体
を所定の支持位置に導く斜面は、板状体が引きつ
けられている上記した特定の方向に板状体を導け
るように設ければ良い。また、上記の例によりも
比較的弱い磁石を用い、板状体が最も円滑に取出
されるようにその荷重を増減することもできる。
Further, when the plate-like body is made of a ferromagnetic material such as iron, cobalt, or nickel, the plate-like body can be supported by being attracted to a certain direction (for example, upward) using a permanent magnet, an electromagnet, or the like. In this case, the slope that guides the plate-shaped body to a predetermined support position may be provided so as to guide the plate-shaped body in the above-mentioned specific direction to which the plate-shaped body is attracted. Furthermore, compared to the above example, a relatively weak magnet can be used and the load can be increased or decreased so that the plate-shaped body can be taken out most smoothly.

ト 考案の効果 以上説明したように、本考案に基づく板状体移
換え装置は、板状体に対する支持面に、前記板状
体の挿入初期位置から支持位置へ前記板状体を導
くための斜面が連設されているので、板状体を前
記支持位置へ導くための機構を別個に設けること
なく、往復動機構のみにより、自動的に板状体を
所定の支持位置へ導くことができる。そのため、
装置が小さくて済み、機構か単純で、制御が容易
であり、また、装置各部分の運動の寸法的な狂い
や誤動作のおそれがない。
G. Effects of the Invention As explained above, the plate-like object transfer device based on the present invention has a device for guiding the plate-like object from the initial insertion position of the plate-like object to the supporting position on the support surface for the plate-like object. Since the slopes are connected, the plate-like body can be automatically guided to the predetermined support position using only the reciprocating mechanism without requiring a separate mechanism for guiding the plate-like body to the support position. . Therefore,
The device is small, has a simple mechanism, and is easy to control, and there is no risk of dimensional deviation or malfunction of the movement of each part of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第17図は本考案の実施例を示すもの
であつて、第1図は板状体(半導体ウエハ)取出
し具を示し、同図aは斜視図、同図bは同図aの
b−b線矢視断面図、第2図a,b,c,
d,e及びfは半導体ウエハ移換えの手順を示す
部分断面図、第3図は半導体ウエハ取出し具、バ
スケツト及びカートリツジの関係を示す斜視図、
第4図a,b,c及びdは半導体ウエハ移換えの
手順を示す概略平面図、第5図は半導体ウエハ移
換え装置の要部平面図、第6図は半導体ウエハ移
換え装置の要部正面図、第7図は他の半導体ウエ
ハ取出し具を示し、同図aは斜視図、同図bは同
図aのb−b線矢視断面図、第8図a,b及
びcはカートリツジ中の半導体ウエハを第7図の
半導体ウエハ取出し具で支持する手順を示す部分
断面図、第9図は更に他の半導体ウエハ取出し具
を示し、同図aは斜視図、同図bは同図aのb
−b線矢視断面図、第10図a,b,c,d,
e及びfは第9図の半導体取出し具を用いて半導
体を移換える手順を示す部分断面図、第11図
a,b及びcは第9図の半導体ウエハ取出し具を
用いて位置ずれした半導体ウエハを支持する手順
を示す概略平面図、第12図は第11図の断面図
で、第12図aは第11図bのa−a線矢視
断面図、第12図bは第11図cのb−b線
矢視断面図、第13図a,b及びcは第9図の半
導体ウエハ取出し具を用いて位置ずれした半導体
ウエハを支持する他の手順を示す概略平面図、第
14図は第13図の断面図で、第14図aは第1
3図bのa−a線矢視断面図、第14図
bは第13図cのb−b線矢視断面図、
第15図、第16図及び第17図は夫々更に他の
半導体ウエハ取出し具の断面図である。第18図
a,b及びcは比較の半導体ウエハ取出し具を用
いてバスケツト中の半導体ウエハ支持する手順を
示す部分断面図である。第19図はカートリツジ
の斜視図、第20図は半導体ウエハを収容したカ
ートリツジの断面図、第21図はバスケツトの部
分斜視図、第22図は半導体ウエハを収容したバ
スケツトの第21図の−線矢視断面
図である。 なお、図面に示された符号に於いて、1,10
1,2,102,20,120,21,22,2
3……板状体(半導体ウエハ)取出し具、1a,
101a,2a,102a,20a,120a,
21a,22a,23a……つば、1b,101
b,2b,102b,20b,120b,21
b,22b,23b……下側傾斜面、2c,10
2c,20c,120c,21c,23c……上
側傾斜面、3……カートリツジ、4……バスケツ
ト、5,6……スライダ、7,8……案内軸、
9,10……送りねじ、11,111……フレー
ム、13,113……板状体(半導体ウエハ)取
出し具支持部、16,16a,16b,16c…
…半導体ウエハ、20d,120d,22d,2
3d……板状体(半導体ウエハ)支持面、20
e,120e……楔形溝、20f,120f……
板状体(半導体ウエハ)周縁部収容溝、21g…
…板状体(半導体ウエハ)支持突起である。
1 to 17 show an embodiment of the present invention, in which FIG. 1 shows a plate-shaped object (semiconductor wafer) removal tool, FIG. Cross-sectional view taken along the line bb, Fig. 2 a, b, c,
d, e, and f are partial cross-sectional views showing the procedure for transferring semiconductor wafers; FIG. 3 is a perspective view showing the relationship between the semiconductor wafer takeout tool, the basket, and the cartridge;
Figures 4a, b, c, and d are schematic plan views showing the steps of semiconductor wafer transfer, Figure 5 is a plan view of the main parts of the semiconductor wafer transfer apparatus, and Figure 6 is the main parts of the semiconductor wafer transfer apparatus. A front view, FIG. 7 shows another semiconductor wafer removal tool, FIG. 7a shows a perspective view, FIG. FIG. 9 is a partial sectional view showing the procedure for supporting the semiconductor wafer inside with the semiconductor wafer take-out tool shown in FIG. 7, and FIG. 9 shows another semiconductor wafer take-out tool; FIG. b of a
-b line arrow sectional view, Figure 10 a, b, c, d,
e and f are partial cross-sectional views showing the procedure for transferring semiconductors using the semiconductor wafer pick-up tool shown in FIG. 12 is a sectional view of FIG. 11, FIG. 12a is a sectional view taken along the line a-a of FIG. 11b, and FIG. 12b is a sectional view of FIG. 11c. 13a, b and c are a schematic plan view showing another procedure for supporting a misaligned semiconductor wafer using the semiconductor wafer pick-up tool of FIG. 9, and FIG. 14 is a sectional view of FIG. 13, and FIG. 14a is a cross-sectional view of the first
3b is a cross-sectional view taken along the line a-a, FIG. 14b is a cross-sectional view taken along the line b-b of FIG. 13c,
FIGS. 15, 16, and 17 are sectional views of still other semiconductor wafer take-out tools. FIGS. 18a, b, and 18c are partial sectional views showing a procedure for supporting a semiconductor wafer in a basket using a comparative semiconductor wafer take-out tool. FIG. 19 is a perspective view of the cartridge, FIG. 20 is a sectional view of the cartridge containing semiconductor wafers, FIG. 21 is a partial perspective view of the basket, and FIG. It is an arrow sectional view. In addition, in the symbols shown in the drawings, 1, 10
1, 2, 102, 20, 120, 21, 22, 2
3... Plate-shaped object (semiconductor wafer) removal tool, 1a,
101a, 2a, 102a, 20a, 120a,
21a, 22a, 23a...Brim, 1b, 101
b, 2b, 102b, 20b, 120b, 21
b, 22b, 23b...lower inclined surface, 2c, 10
2c, 20c, 120c, 21c, 23c... Upper inclined surface, 3... Cartridge, 4... Basket, 5, 6... Slider, 7, 8... Guide shaft,
9, 10... Feed screw, 11, 111... Frame, 13, 113... Plate-shaped object (semiconductor wafer) extractor support part, 16, 16a, 16b, 16c...
...Semiconductor wafer, 20d, 120d, 22d, 2
3d...Plate-shaped body (semiconductor wafer) support surface, 20
e, 120e... wedge-shaped groove, 20f, 120f...
Plate-shaped body (semiconductor wafer) peripheral edge accommodation groove, 21g...
...This is a plate-shaped object (semiconductor wafer) supporting protrusion.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 1 複数の板状体を挿入又は取出すための空間部
を夫々有する第一及び第二の板状体支持装置の
間で、前記複数の板状体を移換えるのに際し、
前記第一の板状体支持装置に上下方向に所定間
隔を以て略水平に周辺部で支持された前記複数
の板状体を板状体取出し具によつて取出した後
に、前記複数の板状体を略水平移動させて前記
第二の板状体支持装置に前記複数の板状体を上
下方向に前記所定間隔を以て略水平に周辺部で
支持させる板状体移換え装置であつて、 前記板状体取出し具が、前記板状体支持装置
に対して略水平に往復動可能な互に対向した第
一及び第二の取出し具からなり、前記第一の取
出し具と前記第二の取出し具とを前記複数の板
状体に対してこれら板状体の周辺部を対向位置
で同時に支持する位置迄夫々略水平に往動させ
る駆動手段を有し、 前記第一及び第二の取出し具の板状体支持部
に傾斜面を設け、前記往動時に前記複数の板状
体が、前記周辺部において前記傾斜面に接しな
がらこの傾斜面を下方から上方へ乗上げ、これ
によつて前記第一の板状体支持装置から離れ、
前記第一及び第二の取出し具間に支持されるよ
うになされ、 この支持状態の侭儘前記第一及び第二の取出
し具を同時に略水平移動させ、前記第一の板状
体支持装置から前記第二の板状体支持装置へ前
記複数の板状体を略水平移動させる駆動手段を
有する板状体移換え装置。 2 板状体が傾斜面の下方から上方へ乗上げるよ
うに構成し、この上昇位置から略水平に支持面
が形成されている、実用新案登録請求の範囲第
1項記載の板状体移換え装置。
[Claims for Utility Model Registration] 1. Transferring the plurality of plate-shaped bodies between first and second plate-shaped body support devices each having a space for inserting or taking out the plurality of plate-shaped bodies. On this occasion,
After the plurality of plate-shaped bodies supported at the peripheral portions of the first plate-shaped body supporting device substantially horizontally at predetermined intervals in the vertical direction are taken out by the plate-shaped body extractor, the plurality of plate-shaped bodies are removed. A plate-like object transfer device that causes the second plate-like object supporting device to support the plurality of plate-like objects substantially horizontally at the peripheral portion at the predetermined intervals in the vertical direction by moving the plurality of plate-like objects substantially horizontally, The shaped object extractor includes first and second extractors facing each other and capable of reciprocating substantially horizontally with respect to the plate-shaped object support device, the first extractor and the second extractor. and driving means for moving the first and second extractors substantially horizontally relative to the plurality of plate-like bodies to positions where peripheral portions of the plate-like bodies are simultaneously supported at opposing positions; An inclined surface is provided on the plate-shaped body support part, and during the forward movement, the plurality of plate-shaped bodies run over this slope from below to upward while contacting the inclined plane in the peripheral part, thereby causing away from the first plate support device,
The device is configured to be supported between the first and second ejecting tools, and while in this supported state, the first and second ejecting tools are simultaneously moved substantially horizontally and removed from the first plate-like object supporting device. A plate-shaped object transfer device having a drive means for moving the plurality of plate-shaped bodies substantially horizontally to the second plate-shaped object support device. 2. The plate-like object relocation according to claim 1 of the utility model registration claim, which is configured such that the plate-like object rides on an inclined surface from below to above, and the supporting surface is formed substantially horizontally from this raised position. Device.
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