JPH0541342A - 微細パタン投影露光装置 - Google Patents
微細パタン投影露光装置Info
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- JPH0541342A JPH0541342A JP3218098A JP21809891A JPH0541342A JP H0541342 A JPH0541342 A JP H0541342A JP 3218098 A JP3218098 A JP 3218098A JP 21809891 A JP21809891 A JP 21809891A JP H0541342 A JPH0541342 A JP H0541342A
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- lens
- aperture stop
- oblique incidence
- projection
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 開口絞りによる光強度低下を防ぎ、かつ位置
合わせも容易に限定方向斜入射を実現する。 【構成】 マスクを照明する光線を投影レンズの開口数
に対応した角度だけ傾ける手段として、例えば光ファイ
バ4もしくはコーンレンズを用いる。これと同時に特定
の一方向または有限個の複数の方向から照明する手段と
して、特殊開口絞り6を用いる。これにより、光ファイ
バ4やコーンレンズを用いて光源の有効半径を広げると
ともに、光強度を周辺部あるいは周辺部内のいくつかの
領域に集中させ、その後方に所望の形の特殊開口絞りを
挿入することにより、開口絞りによる光強度を防止でき
る。さらに限定方向斜入射により、光学素子を挿入する
ことなくLSIパタンに適した解像度の向上がはかれ
る。
合わせも容易に限定方向斜入射を実現する。 【構成】 マスクを照明する光線を投影レンズの開口数
に対応した角度だけ傾ける手段として、例えば光ファイ
バ4もしくはコーンレンズを用いる。これと同時に特定
の一方向または有限個の複数の方向から照明する手段と
して、特殊開口絞り6を用いる。これにより、光ファイ
バ4やコーンレンズを用いて光源の有効半径を広げると
ともに、光強度を周辺部あるいは周辺部内のいくつかの
領域に集中させ、その後方に所望の形の特殊開口絞りを
挿入することにより、開口絞りによる光強度を防止でき
る。さらに限定方向斜入射により、光学素子を挿入する
ことなくLSIパタンに適した解像度の向上がはかれ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、LSI等の微細パタン
を投影レンズを用いてウエハ(基板)上に形成するとき
の微細パタン形成装置いわゆる投影露光装置に関するも
のである。
を投影レンズを用いてウエハ(基板)上に形成するとき
の微細パタン形成装置いわゆる投影露光装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来よりLSI等の微細パタンを形成す
るための投影露光装置には、高い解像力が要求されてい
る。そのため、最近の投影露光装置の投影レンズは、光
の波長から決まる理論限界に近い解像度を有している。
それにもかかわらず、近年のLSIパタンの微細化に対
応するため、さらに高解像化が要求されている。この要
求に答えるため近年、レチクル上の隣合う光透過部に1
80度に近い位相差を設けることにより遮光部での光強
度を零に近づける位相シフト法が提案され、解像度が向
上することが示された。しかし、位相シフト法にはレチ
クル製作と検査の困難さや、効果的なシフタ配置の難し
さなどの欠点があった。
るための投影露光装置には、高い解像力が要求されてい
る。そのため、最近の投影露光装置の投影レンズは、光
の波長から決まる理論限界に近い解像度を有している。
それにもかかわらず、近年のLSIパタンの微細化に対
応するため、さらに高解像化が要求されている。この要
求に答えるため近年、レチクル上の隣合う光透過部に1
80度に近い位相差を設けることにより遮光部での光強
度を零に近づける位相シフト法が提案され、解像度が向
上することが示された。しかし、位相シフト法にはレチ
クル製作と検査の困難さや、効果的なシフタ配置の難し
さなどの欠点があった。
【0003】これに対して、同一出願人は、微細パタン
投影露光装置においてレチクルに入射する光を投影光学
系の開口数に対応した角度だけ光軸から傾けて照射して
露光する方法を提案している(特願平3−99822
号)。この露光方法では位相シフト法と同等の解像度向
上が可能であることが理論的にかつ数値的に示され
た。。この方法について図8を用いて図9の従来方法と
対比して簡単に説明する。
投影露光装置においてレチクルに入射する光を投影光学
系の開口数に対応した角度だけ光軸から傾けて照射して
露光する方法を提案している(特願平3−99822
号)。この露光方法では位相シフト法と同等の解像度向
上が可能であることが理論的にかつ数値的に示され
た。。この方法について図8を用いて図9の従来方法と
対比して簡単に説明する。
【0004】図8は同一出願人にて提案された前述の斜
入射投影法(特願平3−99822号)を、図9は従来
の投影法を示している。従来の投影法においては、図9
に示すように、入射光I(波数k0 )はレチクル31の
面に垂直に入射し、光軸zの両側に回折光(波数k1 )
を生ずる。レチクル31下部の開口絞り(アパーチャ)
32により、図の投影系を通過することの出来る最大波
数はk1 となり、これにより波数の大きい光すなわち2
π/k1 より短い周期のパタンによる回折光は遮られて
しまう。ここで回折角をα′とすると
入射投影法(特願平3−99822号)を、図9は従来
の投影法を示している。従来の投影法においては、図9
に示すように、入射光I(波数k0 )はレチクル31の
面に垂直に入射し、光軸zの両側に回折光(波数k1 )
を生ずる。レチクル31下部の開口絞り(アパーチャ)
32により、図の投影系を通過することの出来る最大波
数はk1 となり、これにより波数の大きい光すなわち2
π/k1 より短い周期のパタンによる回折光は遮られて
しまう。ここで回折角をα′とすると
【0005】 k1=k0・sinα′ ・・・・・(1)
【0006】であるから、最小解像寸法は2π/(k0
・sinα′)の1/2となる。一方、図8に示す斜入
射投影法においては、入射光I(波数k0 )の直進によ
り得られる0次光が投影系開口絞りの最外周を通るよう
な傾きを持つ時、図に示すごとく回折角2α′をもつ回
折光と0次光とが最も高い解像度を与える。この回折光
の波数は
・sinα′)の1/2となる。一方、図8に示す斜入
射投影法においては、入射光I(波数k0 )の直進によ
り得られる0次光が投影系開口絞りの最外周を通るよう
な傾きを持つ時、図に示すごとく回折角2α′をもつ回
折光と0次光とが最も高い解像度を与える。この回折光
の波数は
【0007】 k1′=k0・sin(2α′) ≒2k0・sin(α′) ・・・・・(2)
【0008】と近似できるから最小解像寸法は2π/
(2k0 ・sinα′)の1/2、すなわち従来の露光
法に比べて1/2の寸法が解像できることになる。この
ようにレチクルを照射する光を光軸に対して傾けること
によって、より大きな回折角の光を通過させ解像度を上
げることができる。0次光が最外周を通るとき最も大き
な回折角の光を通すことができるので、最大の解像度が
実現できるというものであった。しかし、上記先願のも
のではこの斜入射投影法の具体的な実現方法については
触れていない。
(2k0 ・sinα′)の1/2、すなわち従来の露光
法に比べて1/2の寸法が解像できることになる。この
ようにレチクルを照射する光を光軸に対して傾けること
によって、より大きな回折角の光を通過させ解像度を上
げることができる。0次光が最外周を通るとき最も大き
な回折角の光を通すことができるので、最大の解像度が
実現できるというものであった。しかし、上記先願のも
のではこの斜入射投影法の具体的な実現方法については
触れていない。
【0009】また同一出願人は、露光装置に光学素子を
挿入することによりマスクに垂直な光線を傾ける方法
(特願平3−142872号)や、光ファイバ,コーン
レンズおよび特殊開口絞りを用いて光源の見かけ上の半
径を広げかつ外縁部の光のみを用いることによりマスク
照明光を傾ける方法(特願平3−148133号)を提
案している。これらの方法における照明方式の違いを図
6,図7を用いて説明する。
挿入することによりマスクに垂直な光線を傾ける方法
(特願平3−142872号)や、光ファイバ,コーン
レンズおよび特殊開口絞りを用いて光源の見かけ上の半
径を広げかつ外縁部の光のみを用いることによりマスク
照明光を傾ける方法(特願平3−148133号)を提
案している。これらの方法における照明方式の違いを図
6,図7を用いて説明する。
【0010】図6は光学素子の挿入により実現される斜
入射光源の効果を説明したもので、レチクルに入射する
光束を2次光源の射出面上に置き換えたもの(図6(a
1),(b1))と、その光束がレチクルに入射するときの角
度を概念的に表わしたもの(図6(a2),(b2))である。
図6における原点はxy平面と光軸の交わる点に一致す
る。図6(a1),(a2)は同図(a) に示す直角三角形プリズ
ム21の場合を表わし、図6(b1),(b2)は同図(b) に示
す二等辺三角形プリズム22または1次元回折格子の場
合を表わす。小円の半径は通常の露光装置における2次
光源の開口絞りの半径に対応し、原点から小円の中心ま
での距離rは斜入射照明における傾き度に対応してい
る。
入射光源の効果を説明したもので、レチクルに入射する
光束を2次光源の射出面上に置き換えたもの(図6(a
1),(b1))と、その光束がレチクルに入射するときの角
度を概念的に表わしたもの(図6(a2),(b2))である。
図6における原点はxy平面と光軸の交わる点に一致す
る。図6(a1),(a2)は同図(a) に示す直角三角形プリズ
ム21の場合を表わし、図6(b1),(b2)は同図(b) に示
す二等辺三角形プリズム22または1次元回折格子の場
合を表わす。小円の半径は通常の露光装置における2次
光源の開口絞りの半径に対応し、原点から小円の中心ま
での距離rは斜入射照明における傾き度に対応してい
る。
【0011】一方、図7は光ファイバや円輪形開口絞り
によって斜入射照明を実現した場合の光源の効果を説明
するための図である。図7(a) は2次光源の開口絞りの
図であり、図7(b) は図6におけるのと同様その光源か
らのレチクル照射光の角度を概念的に表わした図であ
る。図6,図7の両者を比較すると明らかなように、同
じように投影レンズの開口数に対応した傾きを与えた照
明であっても実際にマスクを照明する光の性質はその実
現方法により異なる。図6(a) のようなプリズムによる
照明法を一方向斜入射とすれば、円輪形開口絞りによる
照明は一定角度の全方向からの斜入射と表現できる。
によって斜入射照明を実現した場合の光源の効果を説明
するための図である。図7(a) は2次光源の開口絞りの
図であり、図7(b) は図6におけるのと同様その光源か
らのレチクル照射光の角度を概念的に表わした図であ
る。図6,図7の両者を比較すると明らかなように、同
じように投影レンズの開口数に対応した傾きを与えた照
明であっても実際にマスクを照明する光の性質はその実
現方法により異なる。図6(a) のようなプリズムによる
照明法を一方向斜入射とすれば、円輪形開口絞りによる
照明は一定角度の全方向からの斜入射と表現できる。
【0012】ここで縮小投影露光における斜入射照明の
傾き度を規格化入射角Rで、通常露光において光の可干
渉性σに対応する光束の広がり度をσD として次のよう
に定義する。
傾き度を規格化入射角Rで、通常露光において光の可干
渉性σに対応する光束の広がり度をσD として次のよう
に定義する。
【0013】 R =m・sinβ/NA σD =m・sinβ′/NA ・・・・・(3)
【0014】ここで、mは縮小倍率、βは入射光束中心
の光軸からの傾き角、β′は光束の広がり角で、NAは
投影系の開口数である。図6,図7に示すように、円環
などの全方向入射の場合とプリズムなどの限定方向入射
の場合とで、σD の意味が若干異なる。なお、図6及び
図7ともr,sは次式で近似的に表される。
の光軸からの傾き角、β′は光束の広がり角で、NAは
投影系の開口数である。図6,図7に示すように、円環
などの全方向入射の場合とプリズムなどの限定方向入射
の場合とで、σD の意味が若干異なる。なお、図6及び
図7ともr,sは次式で近似的に表される。
【0015】 r≒sinβ=(R・NA)/m s≒sinβ′=(σD・NA)/m ・・・・・(4)
【0016】
【発明が解決しようとする課題】斜入射照明による露光
法を実現する具体的手法のうち特に二等辺三角形プリズ
ムの場合は両方向の光が重畳される領域が狭くなるた
め、レチクル全面に両側斜入射するためには非常に面積
の広い両側プリズムに大面積の光が入射する必要があ
り、現状では困難である。また、直角三角形プリズムも
含む光学素子挿入法においては光学素子設置方向とパタ
ンのx,y方向との位置合わせを精確に行うことが必要
で、これは着脱可能な装置においても素子を差し替えて
使用する場合には常に問題となる。光源を円環状にする
全方向斜入射の方法は、あらゆる角度のパタンに対して
最適角斜入射を実現しようとするので、LSIパタンの
ようにx,y方向の線パタンが多い場合にはあまり適さ
ず、解像度向上効果は一方向斜入射の法が高い。
法を実現する具体的手法のうち特に二等辺三角形プリズ
ムの場合は両方向の光が重畳される領域が狭くなるた
め、レチクル全面に両側斜入射するためには非常に面積
の広い両側プリズムに大面積の光が入射する必要があ
り、現状では困難である。また、直角三角形プリズムも
含む光学素子挿入法においては光学素子設置方向とパタ
ンのx,y方向との位置合わせを精確に行うことが必要
で、これは着脱可能な装置においても素子を差し替えて
使用する場合には常に問題となる。光源を円環状にする
全方向斜入射の方法は、あらゆる角度のパタンに対して
最適角斜入射を実現しようとするので、LSIパタンの
ようにx,y方向の線パタンが多い場合にはあまり適さ
ず、解像度向上効果は一方向斜入射の法が高い。
【0017】このように斜入射照明法を実現しようとす
る前記の二種類の方法において、それぞれ光学素子の挿
入に関する位置合わせの問題と直交する線パタンが多い
LSIパタンにおいては解像度向上効果が最大とはなら
ないという問題点があった。
る前記の二種類の方法において、それぞれ光学素子の挿
入に関する位置合わせの問題と直交する線パタンが多い
LSIパタンにおいては解像度向上効果が最大とはなら
ないという問題点があった。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明は以上の点に鑑み
てなされたもので、次のような手段を最も主要な特徴と
する。すなわち、前述の問題点を解決するためには、光
学素子の挿入によらずに特定の一方向もしくは有限個の
複数の方向からの斜入射照射を実現すればよい。円環照
射の場合のように2次光源の工夫またはコンデンサレン
ズの倍率の工夫によって投影系の開口数に対応した傾き
を実現すると共に、2次光源における射出光の形状を1
点斜入射や2点斜入射などの所望の入射方法に合った形
状となるような特殊開口絞りを2次光源射出部に挿入す
ることにより、これを実現する。
てなされたもので、次のような手段を最も主要な特徴と
する。すなわち、前述の問題点を解決するためには、光
学素子の挿入によらずに特定の一方向もしくは有限個の
複数の方向からの斜入射照射を実現すればよい。円環照
射の場合のように2次光源の工夫またはコンデンサレン
ズの倍率の工夫によって投影系の開口数に対応した傾き
を実現すると共に、2次光源における射出光の形状を1
点斜入射や2点斜入射などの所望の入射方法に合った形
状となるような特殊開口絞りを2次光源射出部に挿入す
ることにより、これを実現する。
【0019】
【作用】本発明によれば、光ファイバやコーンレンズを
用いて光源の有効半径を広げるとともに、光強度を周辺
部もしくは周辺部内のいくつかの領域に集中させ、その
後方に所望の形の特殊絞りを挿入することにより、開口
絞りによる光強度低下を防ぎつつ位置合わせも容易に限
定方向斜入射を実現することができる。この限定方向斜
入射により、光学素子を挿入することなくLSIパタン
に適した解像度向上効果が得られる。
用いて光源の有効半径を広げるとともに、光強度を周辺
部もしくは周辺部内のいくつかの領域に集中させ、その
後方に所望の形の特殊絞りを挿入することにより、開口
絞りによる光強度低下を防ぎつつ位置合わせも容易に限
定方向斜入射を実現することができる。この限定方向斜
入射により、光学素子を挿入することなくLSIパタン
に適した解像度向上効果が得られる。
【0020】
【実施例】実施例1:本発明の方法は、基本的に所望の
傾き角を得るために光源の有効半径を広げることと、一
方向などの限定方法斜入射を実現するためにそれに合わ
せた光源の射出孔を設けるという2つの要素を含んでい
る。また、射出孔の面積が小さくなることによる照度の
低下を防ぐため、あらかじめ射出しようとする部分に光
束を集中させるという機能を付加させることもできる。
以下に本発明方法の具体的な実施例を上記機能別に図を
用いて説明する。
傾き角を得るために光源の有効半径を広げることと、一
方向などの限定方法斜入射を実現するためにそれに合わ
せた光源の射出孔を設けるという2つの要素を含んでい
る。また、射出孔の面積が小さくなることによる照度の
低下を防ぐため、あらかじめ射出しようとする部分に光
束を集中させるという機能を付加させることもできる。
以下に本発明方法の具体的な実施例を上記機能別に図を
用いて説明する。
【0021】第1の実施例は、同一出願人の出願に係る
特願平3−148133号に挙げた方法で光源の有効半
径を広げかつ円環上に光束を集中し、かつその先願にお
ける円環開口絞りの代わりに図1に示すような各種の特
殊開口絞りを用いる方法である。ここで光源の有効半径
を広げる方法は前記先願に示されている3つの方法、す
なわち光ファイバを用いた方法、コーンレンズを用いた
方法、及び実半径はそのままでコンデンサレンズの倍率
を上げることにより斜入射照明の角度を実現する方法の
うちどれを適用してもよい。これらの方法と以下に示す
特殊開口絞りを組み合わせることにより、所望の斜入射
光源を実現する。
特願平3−148133号に挙げた方法で光源の有効半
径を広げかつ円環上に光束を集中し、かつその先願にお
ける円環開口絞りの代わりに図1に示すような各種の特
殊開口絞りを用いる方法である。ここで光源の有効半径
を広げる方法は前記先願に示されている3つの方法、す
なわち光ファイバを用いた方法、コーンレンズを用いた
方法、及び実半径はそのままでコンデンサレンズの倍率
を上げることにより斜入射照明の角度を実現する方法の
うちどれを適用してもよい。これらの方法と以下に示す
特殊開口絞りを組み合わせることにより、所望の斜入射
光源を実現する。
【0022】図1に示す特殊開口絞りは、図2のような
露光装置においてフィルタ3より後方アウトプットレン
ズ7より前方に挿入する。この特殊開口絞りは着脱交換
可能とする。図1は2次光源射出部における開口絞りの
開口Aを示しており、x軸,y軸は射出面上においてレ
チクル上のx軸y軸に対応し、原点は光軸が射出面と交
わる点である。図1(a) の絞りは一方向からの斜入射を
実現するもので、光学素子では直角三角形(片屋根)プ
リズムを挿入した場合に相当する。この方法は対応する
一方向のみの解像度を向上させるもので、例えばy方向
のみに細い線パタンが多く存在し、x方向にはその3倍
位の線幅のパタンやそれより大きいパタンのみが存在す
るような場合に適しており、その場合には最も高い解像
度と焦点深度の向上が得られる。x方向とy方向のパタ
ン形状の特性が逆でx方向のパタンが細い線パタンが多
い場合には図1(a) の開口絞りを90度回転させて取り
付ければよい。
露光装置においてフィルタ3より後方アウトプットレン
ズ7より前方に挿入する。この特殊開口絞りは着脱交換
可能とする。図1は2次光源射出部における開口絞りの
開口Aを示しており、x軸,y軸は射出面上においてレ
チクル上のx軸y軸に対応し、原点は光軸が射出面と交
わる点である。図1(a) の絞りは一方向からの斜入射を
実現するもので、光学素子では直角三角形(片屋根)プ
リズムを挿入した場合に相当する。この方法は対応する
一方向のみの解像度を向上させるもので、例えばy方向
のみに細い線パタンが多く存在し、x方向にはその3倍
位の線幅のパタンやそれより大きいパタンのみが存在す
るような場合に適しており、その場合には最も高い解像
度と焦点深度の向上が得られる。x方向とy方向のパタ
ン形状の特性が逆でx方向のパタンが細い線パタンが多
い場合には図1(a) の開口絞りを90度回転させて取り
付ければよい。
【0023】図1(b) の絞りは、光軸に対称な2方向か
らの斜入射を実現する開口絞りで、光学素子では二等辺
三角形(両屋根)プリズムを挿入した場合に相当する。
プリズム挿入の場合両方向の入射光の重なる領域を広く
とるのが困難であるのに比べて、この開口絞りによる方
法ではほぼ全面に両方向入射光を照射することができる
利点がある。この図1(b)の絞りを用いた場合も同図(a)
の場合と同様x,y両方向のパタンがあったときにどち
らか一方向のパタンの解像度を著しく向上させることが
できる。図1(a) の場合と比較すると焦点深度の向上は
比較的小さいが、解像度向上についてはほぼ同様の効果
が得られ、2次光源射出孔の面積が2倍となるため露光
強度が大きいという利点がある。
らの斜入射を実現する開口絞りで、光学素子では二等辺
三角形(両屋根)プリズムを挿入した場合に相当する。
プリズム挿入の場合両方向の入射光の重なる領域を広く
とるのが困難であるのに比べて、この開口絞りによる方
法ではほぼ全面に両方向入射光を照射することができる
利点がある。この図1(b)の絞りを用いた場合も同図(a)
の場合と同様x,y両方向のパタンがあったときにどち
らか一方向のパタンの解像度を著しく向上させることが
できる。図1(a) の場合と比較すると焦点深度の向上は
比較的小さいが、解像度向上についてはほぼ同様の効果
が得られ、2次光源射出孔の面積が2倍となるため露光
強度が大きいという利点がある。
【0024】図1(c) の絞りは光軸に直交する面内でみ
たときに、互いに直交する2方向からの斜入射を実現す
る開口絞りである。この方法では、x,y両方向のパタ
ン解像度を同時に向上させることができる。図1(d) の
絞りは光軸に対して対称な2方向と、光軸に直交する面
内でみたときにそれに対して直交する光軸に対して対称
な2方向とを合わせて4方向からの斜入射を実現する開
口絞りである。この方法も図1(c) の方法と同様にx,
y両方向のパタンの解像度を向上させることができ、図
1(c) の場合よりさらに露光強度が大きくなり露光時間
を短くすることができる。
たときに、互いに直交する2方向からの斜入射を実現す
る開口絞りである。この方法では、x,y両方向のパタ
ン解像度を同時に向上させることができる。図1(d) の
絞りは光軸に対して対称な2方向と、光軸に直交する面
内でみたときにそれに対して直交する光軸に対して対称
な2方向とを合わせて4方向からの斜入射を実現する開
口絞りである。この方法も図1(c) の方法と同様にx,
y両方向のパタンの解像度を向上させることができ、図
1(c) の場合よりさらに露光強度が大きくなり露光時間
を短くすることができる。
【0025】図1(e) の絞りは各入射光の光軸に対する
角度(60°)が等しく、かつ互いに等しい角度を持つ
6つの方向からの入射光による斜入射照明法のための開
口絞りで、図1(f) の絞りは同様な性質を持つ8方向か
らの斜入射照明のための開口絞りである。いずれも円環
形開口絞りと近い性質を持つ。以上示したいずれの開口
絞りを用いた場合も光ファイバやコーンレンズなどによ
る光源半径拡大法と組み合わせて、通常の露光法により
パタン形成する場合に比べて、一方向あるいは複数方向
のパタンの解像度を向上させることができる。また、以
下に示す例と比較すると入射の限定方向の数が少ないと
きは、露光強度の低下が大きいが、形成しようとするパ
タンに応じてレチクル入射光の方向を開口絞りの交換の
みで簡単に変えられるという利点を持つ。
角度(60°)が等しく、かつ互いに等しい角度を持つ
6つの方向からの入射光による斜入射照明法のための開
口絞りで、図1(f) の絞りは同様な性質を持つ8方向か
らの斜入射照明のための開口絞りである。いずれも円環
形開口絞りと近い性質を持つ。以上示したいずれの開口
絞りを用いた場合も光ファイバやコーンレンズなどによ
る光源半径拡大法と組み合わせて、通常の露光法により
パタン形成する場合に比べて、一方向あるいは複数方向
のパタンの解像度を向上させることができる。また、以
下に示す例と比較すると入射の限定方向の数が少ないと
きは、露光強度の低下が大きいが、形成しようとするパ
タンに応じてレチクル入射光の方向を開口絞りの交換の
みで簡単に変えられるという利点を持つ。
【0026】実施例2 次に開口絞りを用いないか、あるいは用いたとしても補
助的に用いるのみとして、他の方法によって図1に示し
たいくつかの開口絞りと同じような2次光源を実現する
方法の実施例を示す。図3は光ファイバを用いて光束を
1点に集中させて一方向斜入射を行う方法を示してい
る。図3の1は楕円反射鏡の第2焦点で、図2に示した
ような投影露光装置において光源ランプ11を出た光を
楕円反射鏡12などにより1点に集めた点である。この
焦点1を出た光はインプットレンズ2を通って平行光と
なり、フィルタ3を通るところまでは通常の露光と同様
である。この後に一端の半径(2r1)が他端の半径
(2r0)より小さい光ファイバの束4を図3に示すよ
うな形で設置し、光束を小さな領域に集中しかつ所望の
傾きを与えるような位置に移動させる。例えば投影系の
開口数0.5で縮小倍率5分の1、設定されたσ値0.
5でこれに対応する入射瞳の半径が1.5cmの場合を
考える。
助的に用いるのみとして、他の方法によって図1に示し
たいくつかの開口絞りと同じような2次光源を実現する
方法の実施例を示す。図3は光ファイバを用いて光束を
1点に集中させて一方向斜入射を行う方法を示してい
る。図3の1は楕円反射鏡の第2焦点で、図2に示した
ような投影露光装置において光源ランプ11を出た光を
楕円反射鏡12などにより1点に集めた点である。この
焦点1を出た光はインプットレンズ2を通って平行光と
なり、フィルタ3を通るところまでは通常の露光と同様
である。この後に一端の半径(2r1)が他端の半径
(2r0)より小さい光ファイバの束4を図3に示すよ
うな形で設置し、光束を小さな領域に集中しかつ所望の
傾きを与えるような位置に移動させる。例えば投影系の
開口数0.5で縮小倍率5分の1、設定されたσ値0.
5でこれに対応する入射瞳の半径が1.5cmの場合を
考える。
【0027】この時斜入射照明法の一例として、光束の
広がり度σD =0.2、傾き度R=0.8とすれば、光
ファイバ4により光束を半径0.6cmの円に集中させ
るとともに、その円の中心を光軸からx方向2.4cm
の点に移動させることにより所望の斜入射光源が実現で
きる。このようにして光ファイバ4から出た光は通常の
露光装置の場合と同様にオプチカルインテグレータ5を
通り、照明系のアウトプットレンズ7へ入射する。オプ
チカルインテグレータ5を入れない系も可能であり、ま
た同様の役割を光ファイバ4の射出端に各々小さいレン
ズをつけておくという方法も有効である。
広がり度σD =0.2、傾き度R=0.8とすれば、光
ファイバ4により光束を半径0.6cmの円に集中させ
るとともに、その円の中心を光軸からx方向2.4cm
の点に移動させることにより所望の斜入射光源が実現で
きる。このようにして光ファイバ4から出た光は通常の
露光装置の場合と同様にオプチカルインテグレータ5を
通り、照明系のアウトプットレンズ7へ入射する。オプ
チカルインテグレータ5を入れない系も可能であり、ま
た同様の役割を光ファイバ4の射出端に各々小さいレン
ズをつけておくという方法も有効である。
【0028】オプチカルインテグレータを入れる場合は
特にオプチカルインテグレータ5とアウトプットレンズ
7との間に、光軸からx方向2.4cmの点を中心とす
る半径0.6cmの円形の孔のある開口絞り6を挿入す
ることが望ましい。ここで開口絞り6は、所望の斜入射
光源を得るために挿入することが望ましいが、既に光フ
ァイバ4により所望の位置に所望の径の光束が作られて
いるので、この絞りにより遮られる光は少ない。ここで
は光束を1点に集中させる場合について説明したが、例
えば図1(c) に対応するような2方向からの入射の場合
には、光ファイバの束4を2等分して一方の射出口をx
方向にもう一方をy方向に、それぞれ所定の場所に導く
ことで所望の光源が得られる。同様に図1に示した全て
の開口絞りに対応した斜入射光源を光ファイバによって
作ることができる。
特にオプチカルインテグレータ5とアウトプットレンズ
7との間に、光軸からx方向2.4cmの点を中心とす
る半径0.6cmの円形の孔のある開口絞り6を挿入す
ることが望ましい。ここで開口絞り6は、所望の斜入射
光源を得るために挿入することが望ましいが、既に光フ
ァイバ4により所望の位置に所望の径の光束が作られて
いるので、この絞りにより遮られる光は少ない。ここで
は光束を1点に集中させる場合について説明したが、例
えば図1(c) に対応するような2方向からの入射の場合
には、光ファイバの束4を2等分して一方の射出口をx
方向にもう一方をy方向に、それぞれ所定の場所に導く
ことで所望の光源が得られる。同様に図1に示した全て
の開口絞りに対応した斜入射光源を光ファイバによって
作ることができる。
【0029】なお、図2中符号13はコールドミラー、
14はコンデンサレンズ、15はレチクル、16は投影
光学系、17はその投影系開口絞り、18はウエハ、1
9はランプハウスをそれぞれ示している。
14はコンデンサレンズ、15はレチクル、16は投影
光学系、17はその投影系開口絞り、18はウエハ、1
9はランプハウスをそれぞれ示している。
【0030】実施例3 次に光ファイバの代わりにコーンレンズと凸レンズ,凹
レンズの組み合わせにより、斜入射照明を行う方法を説
明する。図4は光軸について対称な2方向からの斜入射
の場合を例にこの方法を説明する図である。インプット
レンズ2を通過した光がフィルタ3を通るところまでは
図3の光ファイバの例と同様である。フィルタ3を通過
した光は円錐を重ねた形のレンズ、つまりコーンレンズ
8を通過し、この過程で所望の傾き度になるように光束
の半径を広げる。コーンレンズ8を通過した光は断面が
幅の広い円環状の平行光束になっている。その後、円環
状の光軸に対称な2箇所に凸レンズ9を置き、続けてそ
の凸レンズ9の焦点よりも前に凸レンズの中心軸に軸を
合わせて凹レンズ10を置く。幅の広い円環状になった
光束の2箇所に凸レンズ9を置くと2つの凸レンズ9に
入射した光は各々集光され、焦点より前に凹レンズ10
が置かれるために各々が半径の小さい円形の平行光束と
なる。
レンズの組み合わせにより、斜入射照明を行う方法を説
明する。図4は光軸について対称な2方向からの斜入射
の場合を例にこの方法を説明する図である。インプット
レンズ2を通過した光がフィルタ3を通るところまでは
図3の光ファイバの例と同様である。フィルタ3を通過
した光は円錐を重ねた形のレンズ、つまりコーンレンズ
8を通過し、この過程で所望の傾き度になるように光束
の半径を広げる。コーンレンズ8を通過した光は断面が
幅の広い円環状の平行光束になっている。その後、円環
状の光軸に対称な2箇所に凸レンズ9を置き、続けてそ
の凸レンズ9の焦点よりも前に凸レンズの中心軸に軸を
合わせて凹レンズ10を置く。幅の広い円環状になった
光束の2箇所に凸レンズ9を置くと2つの凸レンズ9に
入射した光は各々集光され、焦点より前に凹レンズ10
が置かれるために各々が半径の小さい円形の平行光束と
なる。
【0031】この時、この円形光束の位置および円の半
径が傾き度と光束の広がり度に対応する。例えば前述の
例と同様に設定σ値0.5でそれに対応する光源半径
1.5cmの露光装置において、傾き度R=0.7、光
束の広がり度σD =0.2の斜入射照明を実現しようと
する場合には2つの光束が光軸からそれぞれ2.1cm
の距離にある光軸に対称な2点を中心とする半径0.6
cmの円になればよい。そのためにはコーンレンズ8に
おいて円環光束最大半径を4.2cmまで拡大する。よ
り多くの光を集めるために、2つの凸レンズ9の半径は
大きい方がよく、他の凸レンズと重ならない範囲で設定
する。この場合は半径2.1cmの凸レンズ2つを各々
のレンズ中心が光軸から2.1cmの距離にくるように
設置する。
径が傾き度と光束の広がり度に対応する。例えば前述の
例と同様に設定σ値0.5でそれに対応する光源半径
1.5cmの露光装置において、傾き度R=0.7、光
束の広がり度σD =0.2の斜入射照明を実現しようと
する場合には2つの光束が光軸からそれぞれ2.1cm
の距離にある光軸に対称な2点を中心とする半径0.6
cmの円になればよい。そのためにはコーンレンズ8に
おいて円環光束最大半径を4.2cmまで拡大する。よ
り多くの光を集めるために、2つの凸レンズ9の半径は
大きい方がよく、他の凸レンズと重ならない範囲で設定
する。この場合は半径2.1cmの凸レンズ2つを各々
のレンズ中心が光軸から2.1cmの距離にくるように
設置する。
【0032】この凸レンズ9の焦点距離をf1とする
と、凸レンズから5/7f1離れ光軸からは凸レンズ同
様2.1cmの点に凸レンズの中心と凹レンズの中心が
合うように半径1cm程度の凹レンズ10を置けば、こ
の凹レンズ10を通過した光は半径0.6cmの平行光
束となる。このようなレンズ系では、コーンレンズ8を
通過した後、凸レンズ9に入射する段階で、凸レンズに
入らない光は光源形成に寄与しないので、凸レンズの周
りに遮光板もしくは凸レンズ部を開口する開口絞りを設
置して周りの光を遮光することが望ましい。
と、凸レンズから5/7f1離れ光軸からは凸レンズ同
様2.1cmの点に凸レンズの中心と凹レンズの中心が
合うように半径1cm程度の凹レンズ10を置けば、こ
の凹レンズ10を通過した光は半径0.6cmの平行光
束となる。このようなレンズ系では、コーンレンズ8を
通過した後、凸レンズ9に入射する段階で、凸レンズに
入らない光は光源形成に寄与しないので、凸レンズの周
りに遮光板もしくは凸レンズ部を開口する開口絞りを設
置して周りの光を遮光することが望ましい。
【0033】いくつかの限定方向斜入射における遮光領
域を図5に斜線部で示す。ここで、図5中符号601は
上記コーンレンズ8からの光通過領域、602は凸レン
ズ9への光入射領域をそれぞれ表わす。図5(a)は一方
向入射の場合であり、図5(b)は2方向斜入射の場合、
図5(c)は4方向斜入射の場合、図5(d)は光強度低下抑
制のための一方向斜入射の場合である。この時コーンレ
ンズ8通過後の光強度が全面に均一であるとすると、遮
光による光強度低下は上記の例では50%である。同様
に光軸に対称な4箇所に凸レンズを置く場合には光強度
は約31%低下する。
域を図5に斜線部で示す。ここで、図5中符号601は
上記コーンレンズ8からの光通過領域、602は凸レン
ズ9への光入射領域をそれぞれ表わす。図5(a)は一方
向入射の場合であり、図5(b)は2方向斜入射の場合、
図5(c)は4方向斜入射の場合、図5(d)は光強度低下抑
制のための一方向斜入射の場合である。この時コーンレ
ンズ8通過後の光強度が全面に均一であるとすると、遮
光による光強度低下は上記の例では50%である。同様
に光軸に対称な4箇所に凸レンズを置く場合には光強度
は約31%低下する。
【0034】すなわち、大きな凸レンズを使用して集光
すれば、斜入射光源実現のための遮光による露光強度の
低下分は一方向斜入射の場合でも高々3/4であるが、
一方向などの偏った光強度分布が必要な場合コーンレン
ズの代わりにプリズムを用いるなどして、あらかじめ必
要な部分に光を集めておくなどの工夫をすればさらに強
度の低下を抑えることができる。これらの光ファイバや
レンズの組み合わせにより直接限定方向斜入射光源を作
り出す方法は、その限定方向を容易に変えることはでき
ないが、露光強度の低下が少ないという利点がある。
すれば、斜入射光源実現のための遮光による露光強度の
低下分は一方向斜入射の場合でも高々3/4であるが、
一方向などの偏った光強度分布が必要な場合コーンレン
ズの代わりにプリズムを用いるなどして、あらかじめ必
要な部分に光を集めておくなどの工夫をすればさらに強
度の低下を抑えることができる。これらの光ファイバや
レンズの組み合わせにより直接限定方向斜入射光源を作
り出す方法は、その限定方向を容易に変えることはでき
ないが、露光強度の低下が少ないという利点がある。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、従来装置
が用いていたレチクル照射光の傾きの範囲を投影レンズ
の開口数に応じて設定することにより解像度を大幅に向
上させることができる。しかも、LSI等に多く用いら
れる線パタンに対応した限定方向入射を光源によって実
現することにより、位置合わせの困難な光学素子を挿入
すること無しに、LSI等のパタンにおいてさらに高い
解像度を得ることができる。このように本発明を用いれ
ば、LSI等の微細パタン形成において集積度向上と信
頼性の向上が図れる効果がある。
が用いていたレチクル照射光の傾きの範囲を投影レンズ
の開口数に応じて設定することにより解像度を大幅に向
上させることができる。しかも、LSI等に多く用いら
れる線パタンに対応した限定方向入射を光源によって実
現することにより、位置合わせの困難な光学素子を挿入
すること無しに、LSI等のパタンにおいてさらに高い
解像度を得ることができる。このように本発明を用いれ
ば、LSI等の微細パタン形成において集積度向上と信
頼性の向上が図れる効果がある。
【図1】本発明に用いる特殊開口絞りをそれぞれ示す図
である。
である。
【図2】本発明において用いる通常の露光装置の概略図
である。
である。
【図3】本発明の一実施例を示す光ファイバによる一方
向斜入射光源の説明図である。
向斜入射光源の説明図である。
【図4】本発明の他の実施例を示すコーンレンズによる
2方向斜入射光源の説明図である。
2方向斜入射光源の説明図である。
【図5】本実施例における凸レンズ周辺の遮光領域の説
明図である。
明図である。
【図6】同一出願人にて提案された光学素子の挿入によ
る斜入射光源の説明図である。
る斜入射光源の説明図である。
【図7】同一出願人にて提案された光ファイバや円環開
口絞りによる斜入射光源の説明図である。
口絞りによる斜入射光源の説明図である。
【図8】同一出願人にて提案された斜入射露光法による
レチクル照射の原理説明図である。
レチクル照射の原理説明図である。
【図9】図8と比較するための従来法によるレチクル照
射の説明図である。
射の説明図である。
1 楕円反射鏡の第2焦点 2 インプットレンズ 3 フィルタ 4 光ファイバの束 5 オプチカルインテグレータ 6 開口絞り 7 アウトプットレンズ 8 コーンレンズ 9 凸レンズ 10 凹レンズ 11 光源ランプ 14 コンデンサレンズ 15 レチクル 16 投影光学系 17 投影系開口絞り 18 ウエハ 601 コーンレンズからの光通過領域 602 凸レンズへの光入射領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹内 良亘 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 原田 勝征 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 三村 義昭 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内
Claims (4)
- 【請求項1】 物面マスク上のパタンを投影光学系を介
してウエハ上に投影露光する投影露光装置において、マ
スクを照射する光線を投影レンズの開口数に対応した角
度だけ傾け、かつ特定の一方向または有限個の複数の方
向から照明するような手段を設けたことを特徴とする微
細パタン投影露光装置。 - 【請求項2】 請求項1において、マスクを照射する光
線を投影レンズの開口数に対応した角度だけ傾け、かつ
特定の一方向または有限個の複数の方向から照明する手
段として光ファイバを用いたことを特徴とする微細パタ
ン投影露光装置。 - 【請求項3】 請求項1において、マスクを照射する光
線を投影レンズの開口数に対応した角度だけ傾け、かつ
特定の一方向または有限個の複数の方向から照明する手
段として凸レンズと凹レンズを組み合わせて用いたこと
を特徴とする微細パタン投影露光装置。 - 【請求項4】 請求項1において、マスクを照明する光
線を投影レンズの開口数に対応した角度だけ傾ける手段
として光ファイバもしくはコーンレンズを用いるか、あ
るいは通常よりも焦点距離の短いコンデンサレンズを用
いると同時に、特定の一方向または有限個の複数の方向
から照明する手段として特殊開口絞りを用いたことを特
徴とする微細パタン投影露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3218098A JPH0541342A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 微細パタン投影露光装置 |
| EP92302512A EP0507487B1 (en) | 1991-04-05 | 1992-03-24 | Optical projection exposure method and system using the same |
| DE69215942T DE69215942T2 (de) | 1991-04-05 | 1992-03-24 | Verfahren und System zur optischen Projetkionsbelichtung |
| US07/863,454 US5208629A (en) | 1991-04-05 | 1992-04-03 | Optical projection exposure method and system using the same |
| KR1019920005715A KR970004682B1 (ko) | 1991-04-05 | 1992-04-06 | 투영노광방법 및 그 사용시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3218098A JPH0541342A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 微細パタン投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0541342A true JPH0541342A (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=16714603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3218098A Pending JPH0541342A (ja) | 1991-04-05 | 1991-08-05 | 微細パタン投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0541342A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05283317A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58160914A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ミラ−集光型照明光学系 |
| JPS6191662A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 投影露光装置 |
| JPS62115719A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | Canon Inc | 照明光学系 |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP3218098A patent/JPH0541342A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58160914A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ミラ−集光型照明光学系 |
| JPS6191662A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 投影露光装置 |
| JPS62115719A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | Canon Inc | 照明光学系 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05283317A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
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