JPH0542613Y2 - - Google Patents
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- JPH0542613Y2 JPH0542613Y2 JP11453188U JP11453188U JPH0542613Y2 JP H0542613 Y2 JPH0542613 Y2 JP H0542613Y2 JP 11453188 U JP11453188 U JP 11453188U JP 11453188 U JP11453188 U JP 11453188U JP H0542613 Y2 JPH0542613 Y2 JP H0542613Y2
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- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010813 internal standard method Methods 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本考案は、ノズルやスキマーでなるインターフ
エイスのサンプル導入性能を改善した高周波誘導
結合プラズマ質量分析計（以下、「ICP−MS」と
いう）に関する。
エイスのサンプル導入性能を改善した高周波誘導
結合プラズマ質量分析計（以下、「ICP−MS」と
いう）に関する。
〈従来の技術〉
ICP−MSは、高周波誘導結合プラズマを用い
て試料を励起させ、生じたイオンをノズルとスキ
マーからなるインターフエイスを介して質量分析
計に導いて電気的に検出し該イオン量を精密に測
定することにより、試料中の被測定元素を高精度
に分析するように構成されている。第２図は、こ
のようなICP−MSの全体的な構成説明図であり、
図中、１は高周波誘導結合プラズマを生じさせる
プラズマトーチ、２はプラズマトーチ１に巻回さ
れた高周波誘導コイル、３は高周波誘導コイル２
に電流を供給する高周波電源、４はアルゴンガス
を供給するアルゴンガス供給源、５は試料を霧化
してプラズマトーチ１に供給するネプライザ、６
はノズル、７はスキマー、８はインターフエイス
９内を例えば1torr.まで吸引する真空ポンプ、１
０は例えばイオンレンズ１１を収納するセンター
チヤンバー、１０-はセンターチヤンバー１０内
を気密構造に仕切つて二室に分けるバルブ、１２
はセンターチヤンバー１０内を例えば10-4torr.ま
で吸引する第１油拡散ポンプ、１４は例えばマス
フイルタ１３を収納するリアチヤンバー、１５は
リアチヤンバー１４内を例えば10-5torr.まで吸引
する第２油拡散ポンプ、１６は二次電子増倍管、
１７は演算処理部である。また、ノズル６は熱伝
導度が良いことが重視され通常は銅（融点1084.5
℃）又はニツケル（融点1455℃）で構成され、ノ
ズル６が熱で溶けないように配慮されている。
て試料を励起させ、生じたイオンをノズルとスキ
マーからなるインターフエイスを介して質量分析
計に導いて電気的に検出し該イオン量を精密に測
定することにより、試料中の被測定元素を高精度
に分析するように構成されている。第２図は、こ
のようなICP−MSの全体的な構成説明図であり、
図中、１は高周波誘導結合プラズマを生じさせる
プラズマトーチ、２はプラズマトーチ１に巻回さ
れた高周波誘導コイル、３は高周波誘導コイル２
に電流を供給する高周波電源、４はアルゴンガス
を供給するアルゴンガス供給源、５は試料を霧化
してプラズマトーチ１に供給するネプライザ、６
はノズル、７はスキマー、８はインターフエイス
９内を例えば1torr.まで吸引する真空ポンプ、１
０は例えばイオンレンズ１１を収納するセンター
チヤンバー、１０-はセンターチヤンバー１０内
を気密構造に仕切つて二室に分けるバルブ、１２
はセンターチヤンバー１０内を例えば10-4torr.ま
で吸引する第１油拡散ポンプ、１４は例えばマス
フイルタ１３を収納するリアチヤンバー、１５は
リアチヤンバー１４内を例えば10-5torr.まで吸引
する第２油拡散ポンプ、１６は二次電子増倍管、
１７は演算処理部である。また、ノズル６は熱伝
導度が良いことが重視され通常は銅（融点1084.5
℃）又はニツケル（融点1455℃）で構成され、ノ
ズル６が熱で溶けないように配慮されている。
このような構成からなる従来のICP−MSにお
いて、高濃度（1000ppm以上）の高沸点物質（例
えばシリコンやジルコニアなど）が含まれている
試料を分析した場合、ノズル６で該高沸点物質が
析出しノズル６の先端部を閉塞させたりするとい
う欠点があつた。
いて、高濃度（1000ppm以上）の高沸点物質（例
えばシリコンやジルコニアなど）が含まれている
試料を分析した場合、ノズル６で該高沸点物質が
析出しノズル６の先端部を閉塞させたりするとい
う欠点があつた。
〈考案が解決しようとする問題点〉
本考案は、かかる従来例の欠点に鑑みて成され
たものであり、その目的は、ノズルで該高沸点物
質が析出しノズルの先端部を閉塞させたりするこ
となく、高濃度の高沸点物質が含まれている試料
をも正確に分析できるような高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析を提供することにある。
たものであり、その目的は、ノズルで該高沸点物
質が析出しノズルの先端部を閉塞させたりするこ
となく、高濃度の高沸点物質が含まれている試料
をも正確に分析できるような高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析を提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉
上述のような問題点を解決する本考案の特徴
は、高周波誘導結合プラズマ質量分析計におい
て、ノズルボデイの一側を水冷管が埋設されたフ
オアチヤンバーボデイに固着して水冷部を構成す
ると共に、該ノズルボデイの他側に接合され高融
点金属材料でなる先端部と前記冷却部の間に熱伝
導抑止部を設けたことにある。
は、高周波誘導結合プラズマ質量分析計におい
て、ノズルボデイの一側を水冷管が埋設されたフ
オアチヤンバーボデイに固着して水冷部を構成す
ると共に、該ノズルボデイの他側に接合され高融
点金属材料でなる先端部と前記冷却部の間に熱伝
導抑止部を設けたことにある。
〈実施例〉
以下、本考案について図を用いて詳細に説明す
る。第１図は本考案実施例の要部構成説明図であ
り、図中、第２図と同一記号は同一意味をもたせ
て使用しここでの重複説明は省略する。また、６
ａは例えば銅のような熱伝導性の良い材料でなる
ニズルボデイ、６ｂは例えばステンレスでなる熱
伝導抑止部、６ｃは例えばタングステンのような
高融点金属材料でなるノズル先端部、１８，１９
はフオアチヤンバー９のボデイ、２０ａ，２０ｂ
はフオアボデイ１８内に埋設され水冷部を構成す
る冷却管、２１ａ，２１ｂはノズル６をボデイ１
８に固着するネジ、２２ａ，２２ｂはスキマー７
をボデイ１９に固着するネジである。尚、高融点
金属材料としては上記タングステン以外に、モリ
ブデン、タンタル等が用いられることが多い。ま
たノズルボデイ６ａと熱伝導抑止部６ｂは例えば
銀ロウ付けで接合されると共に、熱伝導抑止部６
ｂとノズル先端部６ｃは例えばニツケルロウ付け
で接合されている。
る。第１図は本考案実施例の要部構成説明図であ
り、図中、第２図と同一記号は同一意味をもたせ
て使用しここでの重複説明は省略する。また、６
ａは例えば銅のような熱伝導性の良い材料でなる
ニズルボデイ、６ｂは例えばステンレスでなる熱
伝導抑止部、６ｃは例えばタングステンのような
高融点金属材料でなるノズル先端部、１８，１９
はフオアチヤンバー９のボデイ、２０ａ，２０ｂ
はフオアボデイ１８内に埋設され水冷部を構成す
る冷却管、２１ａ，２１ｂはノズル６をボデイ１
８に固着するネジ、２２ａ，２２ｂはスキマー７
をボデイ１９に固着するネジである。尚、高融点
金属材料としては上記タングステン以外に、モリ
ブデン、タンタル等が用いられることが多い。ま
たノズルボデイ６ａと熱伝導抑止部６ｂは例えば
銀ロウ付けで接合されると共に、熱伝導抑止部６
ｂとノズル先端部６ｃは例えばニツケルロウ付け
で接合されている。
このような要部構成からなる本考案の実施例に
おいて、水冷管２０ａ，２０ｂ内を流れる冷却水
等により熱伝導性の良いノズルボデイ６ａが冷却
されている。また、ノズル先端部６ｃは超高温状
態の高周波誘導結合プラズマ（図示せず）内に突
き出て高周波誘導結合プラズマ内のイオンをサン
プリングするようになつている。このため、。ノ
ズル先端部は、超高温状態の高周波誘導結合プラ
ズマからの熱入力と十分に冷却されている上記ノ
ズルボデイ６ａへの熱出力との差で高温状態にな
つており、高沸点物質がノズル先端部に析出しな
いようになつている。従つて、高濃度（1000ppm
以上）の高沸点物質（例えばシリコンやジルコニ
ウムなど）が含まれている試料を測定しても、ノ
ズル６で該高沸点物質が析出しノズル６の先端部
を閉塞させたりするようなことはない。
おいて、水冷管２０ａ，２０ｂ内を流れる冷却水
等により熱伝導性の良いノズルボデイ６ａが冷却
されている。また、ノズル先端部６ｃは超高温状
態の高周波誘導結合プラズマ（図示せず）内に突
き出て高周波誘導結合プラズマ内のイオンをサン
プリングするようになつている。このため、。ノ
ズル先端部は、超高温状態の高周波誘導結合プラ
ズマからの熱入力と十分に冷却されている上記ノ
ズルボデイ６ａへの熱出力との差で高温状態にな
つており、高沸点物質がノズル先端部に析出しな
いようになつている。従つて、高濃度（1000ppm
以上）の高沸点物質（例えばシリコンやジルコニ
ウムなど）が含まれている試料を測定しても、ノ
ズル６で該高沸点物質が析出しノズル６の先端部
を閉塞させたりするようなことはない。
尚、本考案は上述の実施例に限定されることな
く種々の変形が可能であり、例えばノズル先端部
６ｃを高沸点セラミツクスで構成しても良い。
く種々の変形が可能であり、例えばノズル先端部
６ｃを高沸点セラミツクスで構成しても良い。
〈考案の効果〉
以上詳しく説明したような本考案の実施例によ
れば、ノズルで該高沸点物質が析出しノズルの先
端部を閉塞させたりすることなく、高濃度の高沸
点物質が含まれている試料をも正確に分析できる
ような高周波誘導結合プラズマ質量分析計が実現
する。また、従来は高濃度の高沸点物質が含まれ
ている試料を分析すると、ノズルで該高沸点物質
が析出しノズルの先端部を閉塞し信号強度が低下
するため、定量分析するには内部標準法で補正す
る必要があつた。しかし、本考案によれば上述の
如くノズルで高沸点物質が析出したりノズルの先
端部を閉塞させたりすることがなくなるため、定
量分析するに際しても内部標準法で補正する必要
がなくなるという利点がある。
れば、ノズルで該高沸点物質が析出しノズルの先
端部を閉塞させたりすることなく、高濃度の高沸
点物質が含まれている試料をも正確に分析できる
ような高周波誘導結合プラズマ質量分析計が実現
する。また、従来は高濃度の高沸点物質が含まれ
ている試料を分析すると、ノズルで該高沸点物質
が析出しノズルの先端部を閉塞し信号強度が低下
するため、定量分析するには内部標準法で補正す
る必要があつた。しかし、本考案によれば上述の
如くノズルで高沸点物質が析出したりノズルの先
端部を閉塞させたりすることがなくなるため、定
量分析するに際しても内部標準法で補正する必要
がなくなるという利点がある。
第１図は本考案実施例の要部構成説明図、第２
図は高周波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的
な構成説明図である。 １……プラズマトーチ、６……ノズル、６ａ…
…ノズルボデイ、６ｂ……熱伝導抑止部、６ｃ…
…ノズル先端部、７……スキマ、１０-……バル
ブ、１８，１９……フオアチヤンバーのボデイ、
２０ａ，２０ｂ……水冷管、２１ａ，２１ｂ，２
２ａ，２２ｂ……ネジ。
図は高周波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的
な構成説明図である。 １……プラズマトーチ、６……ノズル、６ａ…
…ノズルボデイ、６ｂ……熱伝導抑止部、６ｃ…
…ノズル先端部、７……スキマ、１０-……バル
ブ、１８，１９……フオアチヤンバーのボデイ、
２０ａ，２０ｂ……水冷管、２１ａ，２１ｂ，２
２ａ，２２ｂ……ネジ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励起
させ生じたイオンをノズルとスキマーからなる
インターフエイスを介して質量分析計に導いて
前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導
結合プラズマ質量分析計において、ノズルボデ
イの一方の側を水冷管が埋設されたフオアチヤ
ンバーボデイに固着して水冷部を構成すると共
に、該ノズルボデイの他方の側に接合され高融
点金属材料でなる先端部と前記冷却部の間に熱
伝導抑止部を設けたことを特徴とする高周波誘
導結合プラズマ質量分析計。 (2) 前記高融点金属材料は、タングステン、モリ
ブデン、若しくはタンタルのいずれかの材料で
なる実用新案登録請求範囲第(1)項記載の高周波
誘導結合プラズマ質量分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11453188U JPH0542613Y2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11453188U JPH0542613Y2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0319248U JPH0319248U (ja) | 1991-02-26 |
| JPH0542613Y2 true JPH0542613Y2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=31662892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11453188U Expired - Lifetime JPH0542613Y2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0542613Y2 (ja) |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP11453188U patent/JPH0542613Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0319248U (ja) | 1991-02-26 |
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