JPH0542740B2

JPH0542740B2 -

Info

Publication number: JPH0542740B2
Application number: JP59214974A
Authority: JP
Inventors: Toshiki Aoi; Noryoshi Nanba; Hiroshi Hosaka; Shohei Mimura
Original assignee: Tokyo Magnetic Printing Co Ltd; TDK Corp
Current assignee: TDK Corp; Toppan Infomedia Co Ltd
Priority date: 1984-10-13
Filing date: 1984-10-13
Publication date: 1993-06-29
Also published as: JPS6194248A

Description

【発明の詳細な説明】発明の背景技術分野本発明は、光カード、特にヒートモードの光記
録を行う光カードに関する。

先行技術とその問題点一般に、情報の記録および再生として磁気記録
方式が広く知られている。例えば、磁気テープ、
磁気デイスク、磁気記録カード等の磁気記録媒体
が挙げられる。この一つの利用例としてキヤツシ
ユカード等として使用されている磁気記録カード
がある。

周知のように磁気記録再生方式は、情報の記
録、消却および再記録を容易に行なうことができ
る。従つて、この方式を利用した磁気記録カード
は、悪用されたりまたは磁石等による磁場の中に
置かれると記録されている情報に変化が生ずるな
ど情報の信頼性は低い。また、磁気記録カードは
磁気ヘツドの制約から低密度の情報の記録しかで
きず、さらにカードの大きさに基づく制限から、
極めて少量の情報しか記録できないという欠点が
ある。従つて、悪用防止のために複雑な信号形態
を取るという手段も、以上の磁気記録カード上の
制限から不可能である。

これらの欠点を改善するものとして、光学的原
理による記録および再生方式が最近提案されてい
る。この光学的記録および再生方式によるものに
は、光カードが挙げられる。

この光カードの応用範囲は広く、銀行のキヤツ
シユカードをはじめ、クレジツトカード、身分証
明書、運転免許証、定期券、公衆電話カード、ガ
ソリン購入カード等、多種にわたつて、その実用
化が期待されている。

とこので、光カードに適用しうる光記録媒体と
してはヒートモードのものがある。

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その１例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このピツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。

このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源
とするものにおいては、これまで、Teを主体と
する材料を記録層とするものが大半をしめてい
る。

しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、各種色素を主とした有機材料系の記録
層を用いる媒体についての提案や報告が増加して
いる。

ところで、光カードでは、記録層の損傷防止の
ため、記録層上に保護膜を形成する必要がある。
そして、この保護膜は、基材とラミネートされる
ので、記録層と保護膜間は密着される。しかし、
このように記録層と保護層とを密着すると、色素
系の記録層では反射率が低下し、コントラストお
よびＳ／Ｎ比が小さいという欠点がある。

発明の目的本発明の目的は、コントラストおよびＳ／Ｎ比
の高い色素系の記録層を有する光カードを提供す
ることにある。

発明の開示このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。

すなわち、本発明は基板と、色素または色素組
成物からなる記録層を有する光記録部と、保護膜
とを有する光カードにおいて、光記録部と保護膜との間に、0.01mm以上の空隙
が形成されていることを特徴とする光カードであ
る。

発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。

第１図には、本発明の実施例が示される。

第１図に示されるように、本発明の光カード１
は、基板２を有する。

基板２は、通常、樹脂材質とし、アクリル樹
脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリオレフイ
ン等のいずれであつてもよい。

ただ、印刷性、積層性、耐湿性、強度等を考慮
すると、ポリ塩化ビニル系のポリマーが好適であ
る。ポリ塩化ビニル系のポリマーとしては、塩化
ビニルのホモポリマーの他、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル、塩化ビニル−マレイン酸等の塩化ビニルコ
ポリマーであつてよい。

基板２の厚さは、0.1〜1.0mm程度とする。基板
２上には、記録層３が設層される。

記録層としては、色素単独からなるか、色素組
成物からなるものである。

用いる色素としては、書き込み光および読み出
し光の波長に応じ、これを有効に吸収するものの
なかから、適宜決定すればよい。この場合、これ
らの光源としては、装置を小型できる点で、半導
体レーザーを用いることが好ましいので、色素は
シアニン系、フタロシアニン系、アントラキノン
系、アゾ系、トリフエニルメタン系、ピリリウム
ないしチアピリリウム塩系等が好ましい。

また、色素組成物を記録層とする場合、ニトロ
セルロース等の自己酸化性の樹脂や、ポリスチレ
ン、ナイロン等の熱可塑性樹脂を含有させること
ができる。また、色素の酸化劣化を防止するた
め、クエンチヤーを含有させることもできる。さ
らには、この他の添加剤を含有させてもよい。

このような場合、特に好ましくは、インドレニ
ン系のシアニン色素とビスフエニルジチオール系
等のクエンチヤーとの混合物が好ましい。

またこれらを色素のカチオンと、クエンチヤー
のアニオンとのイオン結合体として用いるのも好
ましい。

記録層の設層は、ケトン系、エステル系、エー
テル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系、アル
コール系等の溶媒を用いてスピンナーコート等の
塗布を行えばよい。

このような記録層は0.01〜10μmの厚さとすれ
ばよく、特に0.05〜0.1μmの厚さとすることが好
ましい。

なお、基板にはトラツキング制御用の溝を設け
てもよいが、この場合には、記録層における記録
トラツク部の厚さは、0.2μm以下、より好ましく
は0.05〜0.15μmとすることが好ましい。

このような光記録層はそれのみで光記録部とし
てもよい。あるいは記録層の上層あるいは下地層
を設置して、光記録部とすることもできる。

上層または下地層としては、記録層の上下に半
透膜（ハーフミラー層）や反射層等を設けてもよ
い。

このような光記録部は、カードの用途に応じ、
基板上にて、その全面または一部に、ストライプ
状、矩形状等の形状に設けられる。

光記録部の上には保護膜４が設けられる。

保護膜４は、塗布によつて形成することもでき
るが、通常、フイルム体を融着ないし接着して形
成する。

保護膜４の材質としては、各種樹脂が好適であ
るが、特に吸湿性、耐ヒツカキ性等の点で、前記
のポリ塩化ビニル系のポリマーが好適である。

そして、その厚さは、0.1〜1.0mm程度とする。
これは、0.1mm未満となると、ホコリやゴミの影
響で記録・再生が阻害され、また1.0mmをこえる
と実用上不適となるからである。

なお、保護膜４は、各種ヒツカキ防止用の被覆
層を有していてもよい。

また、基板２は、その両面に光記録部および保
護層を有してもよく、これらは片面のみに設けら
れていてもよい。

後者の場合、基板裏面には保護層が形成されて
いてもよい。

このような前提において、光記録部と保護膜と
の間には、空隙５が形成される。

空隙５の形成は、保護膜シート４に凹部を形成
することによるのが製造上好適である。これは、
保護膜シート成形時に加圧成形、射出成形等によ
つて容易に凹部形成ができるからである。

このような空隙は、0.01mm以上とする。

これは、0.01mm未満となると、コントラスト向
上効果の実効がないからである。

なお、空隙は、強度の点から、保護膜の1/2以
下とすることが好ましい。

また、空隙は、光記録部上の全面に設けられて
もよく、部分的に設けられてもよい。部分的に設
けるときには、その部分を通常記録トラツクとし
てもよい。

すなわち、保護膜シートに所望の凹部を形成
し、この凹部以外の凸部にて、記録層ないし基板
と融着ないし接着すればよいからである。

また、記録層と接着される上記凹部は、連続状
としても散点状としてもよい。ただし、記録層
は、保護膜４によつてその全面が外系からシール
されていることが好ましい。これにより、記録層
の劣化がなくなる。

発明の具体的効果本発明によれば、光記録部と保護膜との間に
0.01mm以上の空隙が形成されているので、コント
ラストおよびＳ／Ｎ比が向上する。

本発明者らは、本発明の効果を確認するため
種々実験を行つた。以下に１例を示す。

実施例 85×54×0.3mmの塩化ビニル樹脂製シート上に
0.06μm厚にて1.1′，３，３、3′，3′−ヘキサメチ
ル−４，4′，５，5′−ジベンゾ−２，2′−インド
トリカルボシアニンパークロレート（２重量
部）と、 NIR−PA1006〔三井東圧化学株式会社製ビス
フエニルジチオールNi鎖体〕（１重量部）とから
なる記録層を設層した。

この上に、0.1mm深さ３mm巾、３mm間隔の凹部
を形成した塩化ビニル樹脂製、0.3mm厚さのシー
トを熱融着した。

半導体レーザーを用いて記録・再生を行つたと
ころ、凹部を形成しないときに比較して、コント
ラストは２倍向上した。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光カードの断面図である。符号の説明１……光カード、２……基板、３
……記録層、４……保護部材、５……空隙。

Claims

【特許請求の範囲】１基板と、色素または色素組成物からなる記録
層を有する光記録部と、保護膜とを有する光カー
ドにおいて、光記録部と保護膜との間に、0.01mm以上の空隙
が形成されていることを特徴とする光カード。