JPH054373U - 光デイスクカートリツジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シェル内面のリブ部と光ディスクとの摩擦に
よる摩耗を軽減し、塵埃の発生を防止する。 【構成】 光ディスク２の記録領域Ａの最内周より内側
で且つ保護コート層５が設けられている部分に対応する
位置にリブ部８ａ，８ｂを形成する。また、リブ部をシ
ェル１ａ，１ｂの材料より摩擦係数の小さい材料で形成
する。 【効果】 リブ部と光ディスクとの摩擦による摩耗が少
なくなって塵埃の発生が低減され、塵埃に起因する読み
出しや書き込みの障害が防止される。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は光ディスクカートリッジの改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】

光ディスクカートリッジは偏平なシェル内に光ディスクを回転可能に収容した ものであり、シェル内面の内周部に光ディスクと接触するリブ部を形成し、内蔵 された光ディスクをこのリブ部で支持するようにしてある。 図６は光ディスクを内蔵した従来の光ディスクカートリッジの断面図、図７は そのシェルの内面を示す平面図である。図において、１は光ディスクカートリッ ジ、１ａ及び１ｂは光ディスクカートリッジ１の主要部を構成しているシェル、 ２は光ディスク、３ａ及び３ｂはシェル１ａ，１ｂの内面中央部に環状あるいは Ｕ字状に形成されているリブ部、４ａ及び４ｂはシェル１ａ及び１ｂの開口部、 ５は光ディスク２に形成されている保護コート層、６は光ディスク１のハブであ る。

【０００３】 Ａは記録層(図示せず)が設けられている光ディスク２の記録領域の範囲を示し ており、保護コート層５はこの記録領域を保護するようにこれより内側の非記録 領域から最外側の非記録領域にかけて形成されている。リブ部３ａ，３ｂは開口 部４ａ，４ｂの幅に対応してハブ６に近い内周部に設けられており、保護コート 層５が形成されていない部分で光ディスク２と接触している。

【０００４】 光ディスク２がディスクドライブに挿入されてドライブされる場合は鎖線で示 すクランプマグネット７に吸着されており、ディスクドライブからの取り出しは まだ回転が停止しないうちに開始される。このため、その都度リブ部３ａ，３ｂ と光ディスク２が摩擦されて摩耗粉が発生し、この塵埃が光ディスク２に吸着さ れて読み出しや書き込みの際の障害の原因となることがあった。 これを防ぐために、光ディスク２のリブ部３ａ，３ｂと接触する部分に耐摩耗 性の優れたシールが貼られることもあるが、製作時の工数が増加し、また脱着の 繰り返しでシールがはがれる等の問題がある。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

この考案はこのような問題点に着目し、リブ部と光ディスクの摩擦による摩耗 を軽減し、塵埃の発生を防止することを課題としてなされたものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

上述の課題を解決するために、この考案では、光ディスクの記録領域最内周よ り内側で且つ保護コート層が設けられている部分に対応する位置にリブ部を形成 している。 また、リブ部をシェルの材料より摩擦係数の小さい材料で形成している。

【０００７】

【作用】

保護コート層は動摩擦係数が小さく硬度が大きいため摩擦による摩耗が少なく なり、特に光ディスクの摩耗が防止される。 またリブ部をシェルの材料より摩擦係数の小さい材料で形成することによって 摩耗が少なくなり、特にリブ部の摩耗が防止される。なお、この材料が耐摩耗性 に優れたものであれば更に良好な結果が得られる。

【０００８】

【実施例】

次に、図示の実施例について説明する。図は各シェルの内面を示したもので図 ６または図７と同一の部分は同一の参照符号で示してあり、図１乃至図４は請求 項１に対応する実施例、また図５は請求項２に対応する実施例である。 図１乃至図３において、８ａ及び８ｂはシェル１ａ及び１ｂの内周部に形成さ れたこの考案によるリブ部であり、光ディスク２の記録領域Ａの最内周より内側 でしかも保護コート層５が設けられている部分に接触するような位置に設けられ ている。図１は従来のリブ部３ａ，３ｂを全く設けない例、図３はリブ部３ａ， ３ｂのほかにリブ部８ａ，８ｂを設けた例であり、図１の場合は従来のリブ部３ ａ，３ｂと同様の高さ、例えば０．５mmの高さで設け、また図３の場合はリブ部 ３ａ，３ｂと同じかこれよりやや高く、例えば０．６mmの高さで設けられる。

【０００９】 保護コート層５は例えばアクリル系の紫外線硬化樹脂を所定の範囲に塗布した 後、紫外線を照射して硬化させることにより形成されるものであり、硬化後の硬 度は鉛筆硬度で２Ｈ相当、動摩擦係数は約０．５であるから、リブ部８ａ，８ｂ と光ディスク２との摩擦が小さくなって特に光ディスク２の摩耗が減少し、読み 出しや書き込みの障害の原因となる塵埃の発生が防止される。 図４は以上の各実施例と従来例との比較例であり、ディスクドライブからの取 り出し回数と１５バイト以上のエラーを有するエラーセクター数の関係を例示し たものである。この図から従来品は取り出し回数の増加に伴ってエラーセクター の発生数が増加しているのに対して、実施例ではエラーセクターが全く発生して いないことがわかる。

【００１０】 次に図５について述べる。図において、９ａ及び９ｂはシェル１ａ及び１ｂの 内周面に設けられたこの考案によるリブ部であり、従来のリブ部３ａ，３ｂと同 じ位置に形成されている。このリブ部９ａ，９ｂは従来のリブ部３ａ，３ｂの表 面に耐摩耗性に優れ、低摩擦係数を有するシールを貼り付けたり、耐摩耗性に優 れ、低摩擦係数を有する材料からなるリブ部９ａ，９ｂを例えば射出成形により 製作し、これを紫外線硬化樹脂による接着や超音波溶着等の手段によってシェル １ａ，１ｂに固着することによって形成される。

【００１１】 一般にシェル１ａ，１ｂはポリカーボネートやＡＢＳ樹脂の成形品であるが、 これより耐摩耗性に優れ、且つ低摩擦係数の材料としては例えばポリテトラフル オロエチレンのようなふっ素樹脂やポリアセタール、ポリエチレンテレフタレー ト等の樹脂があり、リブ部９ａ，９ｂにはこれらの材料が適している。これによ り、シェル１ａ，１ｂと同じ材料で一体成形されていた従来のリブ部３ａ，３ｂ と比較して摩耗が大幅に少なくなり、読み出しや書き込みの障害の原因となる塵 埃の発生が防止されるのである。 ちなみに、ディスクドライブへの脱着を繰り返した場合のリブ部表面の傷の有 無を比較したところ、ポリカーボネート製の従来のリブ部では１，０００回の脱 着後に傷の発生が認められたのに対し、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアセ タール及びポリエチレンテレフタレート製のリブ部はいずれも１０万回の脱着後 でも傷の発生が認められなかった。

【００１２】

【考案の効果】

上述の実施例から明らかなように、この考案は、光ディスクの記録領域最内周 より内側で且つ保護コート層が設けられている部分に対応する位置にリブ部を形 成したものである。従って、リブ部が動摩擦係数が小さく硬度が大きい保護コー ト層に接触することになるため、摩擦による摩耗、特に光ディスクの摩耗が少な くなって塵埃の発生が低減され、塵埃に起因する読み出しや書き込みの障害が防 止される。 また、リブ部をシェルの材料より摩擦係数の小さい材料で形成したものでは、 摩擦による摩耗、特にリブ部の摩耗が少なくなって塵埃の発生が低減され、塵埃 に起因する読み出しや書き込みの障害が防止されるのである。また、光ディスク に耐摩耗性のシールを貼る場合と比較して製作工数が低減され、使用中にシール がはがれるような問題も生じない。

【図面の簡単な説明】

【図１】この考案の第１の実施例におけるシェルの内面
を示す平面図である。

【図２】同実施例における光ディスクカートリッジの断
面図である。

【図３】第２の実施例におけるシェルの内面を示す平面
図である。

【図４】従来例と第１及び２の実施例の比較を示すグラ
フである。

【図５】別の実施例における光ディスクカートリッジの
断面図である。

【図６】従来例における光ディスクカートリッジの断面
図である。

【図７】従来例におけるシェルの内面を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

１ 光ディスクカートリッジ １ａ，１ｂ シェル ２ 光ディスク ５ 保護コート層 ８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂ リブ部

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 偏平なシェル内に光ディスクを回転可能
   に収容した光ディスクカートリッジにおいて、シェル内
   面に設けられて光ディスクと接触するリブ部を、光ディ
   スクの記録領域最内周より内側で且つ保護コート層が設
   けられている部分に対応する位置に形成してなる光ディ
   スクカートリッジ。
2. 【請求項２】 偏平なシェル内に光ディスクを回転可能
   に収容した光ディスクカートリッジにおいて、シェル内
   面に設けられて光ディスクと接触するリブ部を、シェル
   の材料より摩擦係数の小さい材料で形成してなる光ディ
   スクカートリッジ。