JPH0547471A - 画像読取装置用ｅｌ光源およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】真空蒸着やスパッタ等の工程を用いずに印刷に
よりＥＬ発行素子を製造することにより、光源一体型画
像読取装置用光源として安価に製造可能なＥＬ発光素子
を提供する。 【構成】画像読取装置用ＥＬ光源の誘電体層にて形成し
たパターンの少なくとも外縁に発光層を積層しない非積
層部を設け、発光層を誘電体層パターン上の非積層部よ
り内側の領域に積層した画像読取装置用ＥＬ光源で、発
光層を印刷により形成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はファクシミリやスキャナ
等に用いられる画像読取装置用の光源およびその製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ファクシミリやスキャナ等に用いられる
画像読取装置には、ロッドレンズアレイ等の等倍結像系
を介して原稿を読み取る密着型イメージセンサが利用さ
れている。この等倍結像系を介して原稿を読み取る密着
型イメージセンサは光学系が必要であり、そのため小型
化を考えた場合、光学系の分だけ装置が大きくなるた
め、その分不利となっていた。そこで、近年結像系を用
いずに、原稿をイメージセンサに直接密着させて読み取
る小型の画像読取装置が開発されており、例えば特開昭
５９−２１０６６４号公報に記載されているように、薄
膜ＥＬ光源と密着型イメージセンサを一体化し、原稿に
直接密着させて読み取る超小型の光源一体型画像読取装
置が提案されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光源一体型画像読取装置において、光源となるＥＬ発光
素子を製造する際、ＥＬを構成する膜を形成する工程に
おいて、全て真空蒸着やスパッタリング等の真空着膜装
置を利用していた。このため、製造コストが高いという
問題があった。また、前記真空着膜の工程を印刷にて行
おうとすると、印刷精度がよくないため、パターンの端
部において発光層と下部電極が短絡する等の問題が発生
していた。

【０００４】そこで、本発明は、上記問題点を解決し、
真空蒸着やスパッタ等の工程を用いずに印刷によりＥＬ
発行素子を製造することにより、光源一体型画像読取装
置用光源として安価に製造可能なＥＬ発光素子を提供す
ることを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、原稿を照明し
かつ原稿反射光を受光素子に導く為の導光窓を有するＥ
Ｌ発光素子の誘電体層にて形成したパターンの少なくと
も外縁にこの発光層を積層しない非積層部を設け、この
発光層を誘電体層パターン上の非積層部より内側の領域
に積層した画像読取装置用ＥＬ光源である。また、前記
誘電体層上の外縁に前記発光層を積層しない非積層部を
形成するように、この非積層部以外の誘電体層上に前記
発光層を印刷により形成する印刷工程を有する画像読取
装置用ＥＬ光源の製造方法である。

【０００６】

【作用】光源一体型画像読取装置に用いられるＥＬ発光
素子においてＥＬ構成膜である誘電体層の少なくとも外
縁にこの発光層を積層しない非積層部を設け、この発光
層を誘電体層上の非積層部より内側の領域に積層したこ
とで、ＥＬ発光素子の誘電体層および発光層を製造コス
トの安い印刷法だけで製造可能になる。また、印刷法に
より簡便に形成できるので、安価でコンパクトなＥＬ発
光素子を提供することができる。

【０００７】また、誘電体層よりも発光層の面積を小さ
くしたことにより、印刷により膜を形成しても誘電体層
と発光層の段差部における発光層と下部電極との短絡が
なくなり製造歩留りが高まる。

【０００８】

【実施例】図１は本発明の画像読取装置用光源の第１の
実施例の平面図および断面図を示している。図２は第１
の実施例における画像読取装置用光源の製造工程を示す
工程説明図である。先ず厚さ５０〜２００μｍ程度のプ
ラスチックフィルム等の透明基板３にＡｌ等を蒸着法な
どで着膜する（図２（ａ））。

【０００９】この膜はＥＬの不透明電極４となる。次に
フォトリソグラフィー法により、不透光性電極４のうち
導光窓９となるべき部分を除去する（図２（ｂ））。

【００１０】次に、誘電体層５をスクリーン印刷などの
印刷法によって数１０μｍの厚さでパターンを形成する
（図２（ｃ））。この際不透光性電極４に形成した導光
窓９の部分のみストライプ状に成膜されないようにす
る。誘電体層５としては、今回チタン酸バリウムや酸化
チタン等をシアノエチルセルロース（ＣＥＣ）等の有機
分散媒体中に分散させたものを用いた。この誘電体層５
は今回用いた材料以外に低融点ガラス、シアノエチルセ
ルロース、フッ化ビニリデン系３共重合体、フッ化ビニ
リデン−トリフッ化エチレン共重合体、エポキシ樹脂、
シリコーン樹脂等の誘電体材料を使うことも可能であ
る。

【００１１】また塗布方法としてはスクリーン印刷また
はスプレープレーティング法等の厚膜プロセスの塗布に
より形成できるものを用いることができる。

【００１２】次に、発光層６を誘電体層５上に誘電体層
５の面積よりも小さくなるよう誘電体層５のパターン外
縁にこの発光層６を積層しない非積層部１９を設け、こ
の非積層部１９より内側の領域に発光層６を印刷法でス
トライプ状に形成した（図２（ｄ））。発光層６を形成
するための塗布材料として酸化亜鉛の蛍光母体に銅など
の附活剤をドーピングしたものをシアノエチルセルロー
ス等に分散させたペースト状のものを用いた。この誘電
体層５のパターン外縁部と発光層６との距離は、誘電体
層５と発光層６との段差部での不透光性電極４と発光層
６の間のショートを防ぐように誘電体層５の内側に印刷
されるような印刷パターンであれば特に本実施例の形状
に限定されることはない。

【００１３】また、誘電体層上に形成する発光層として
はこの外にＺｎＳ：Ｃｕ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｂｒ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｍｎ，Ｃｌ、Ｚｎ
ＣｄＳ：Ｃｕ，Ｂｒ等のいずれか、あるいはブレンドし
た所望の材料を分級した後、アセタール樹脂、エポキシ
樹脂メチルメタアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、
シアノエチルセルロース樹脂、フッソ樹脂等のバインダ
材のうちいずれかに分散混合したもの等を発光色に応じ
て用いることができる。

【００１４】次に、透光性電極７が形成されているプラ
スチックフィルム等透明部材１０を、発光層６と透光性
電極７が接するように合わせ、加熱圧着する（図２
（ｅ））。なお、この透光性電極は、予めインジウム・
スズ酸化物（ＩＴＯ）などを蒸着等で着膜し、フォトリ
ソグラフィー法により、ストライプ状に形成された発光
層６の間隙１８より広い幅で除去したものである。

【００１５】このようにして出来上がったＥＬ発光素子
を、別工程で受光素子２を形成したセンサ基板１（図２
（ｆ））と、透光性接着層１１を介して接着する。この
際、ＥＬ発光素子の不透光性電極４側が受光素子２に近
い側にくるよう配置し、かつ、各導光窓９が受光素子２
の直上に来るよう位置合わせを行った後、接着剤１１に
より接着する（図２（ｇ））。

【００１６】センサ基板としては、例えば、ガラス基板
上に受光部２を形成する個別電極と、この個別電極上に
水素化アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）１５と透
明電極（ＩＴＯ）１６を積層した密着型センサ基板を用
いることができる。このようにして図１に示すようなＥ
Ｌ光源を一体化した画像読取装置が完成する。このよう
に本発明のＥＬ光源を画像読取装置に適用すれば大幅な
製造コストの低下ができる。

【００１７】図１において、ＥＬの２つの電極、すなわ
ち不透光性電極４と透光性電極７の間に±１００〜±２
００Ｖ程度、数１０〜数１００Ｈｚの交流電圧を印加す
るとＥＬ発光素子８は発光を開始する。ＥＬ発光光１３
は原稿１２を照明し、原稿パターンに応じた強度の反射
光１４が生じる。アレイ状に配設されている受光素子２
はそれぞれ個別の導光窓９を有しており、各受光素子直
上からの原稿反射光１４は導光窓９を通過して受光素子
２に達し、画像読み取りが行われる。

【００１８】本発明の第２の実施例を図３に示す。製造
プロセスは図２（ｄ）まで第１の実施例と同様である
が、第２の実施例ではそのうち、透光性電極も第一の基
板上に印刷により形成してしまうものである。たとえ
ば、オクチル酸インジウムとオクチル酸スズの混合物を
スクリーン印刷などによって発光層６上に形成し、５０
０〜７００°Ｃで焼成することにより透明電極１７が得
られる。下部電極とのショートを防ぐため発光層６の内
側に透明電極１７が形成されるような印刷パターンとす
る。次に、防湿のための封止及び耐磨耗を目的としてガ
ラス等の透明部材１０をその上に接着してＥＬ発光素子
が出来る。

【００１９】第２の実施例のＥＬ発光素子は第１の実施
例と同様のプロセスでセンサ基板と接着されるものであ
り、第１の実施例と同様の機能を有することはいうまで
もない。また、第２の実施例では透明電極も印刷により
形成したので、さらに製造コストを低くできる。

【００２０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば光源
一体型画像読取装置における光源としてのＥＬ発光素子
のＥＬ構成膜である誘電体層の外縁にこの発光層を積層
しない非積層部を設け、この発光層を誘電体層上の非積
層部より内側の領域に印刷法により積層したにより、段
差部における発光層と下部電極との短絡がなくなり製造
歩留りが高まる。この結果、ＥＬ発光素子を真空装置を
用いず印刷法のみによって形成することが可能になる。
また印刷法により発光層を形成することで真空装置など
の複雑な装置を用いずにＥＬ発光素子を安価でかつ容易
に製造できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の画像読取装置の第１実施例を示してお
り、図１（ａ）はその平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）
のＡ−Ａ’線断面図。

【図２】本発明の第１実施例の製造工程を示しており。
図２（ａ）〜（ｇ）はその工程説明図である。

【図３】本発明の第２の実施例のＥＬ発光素子の断面
図。

【符号の説明】

１ センサ基板，２ 受光素子，３ ＥＬ透明基板，４
不透光性電極，５ 誘電体層，６ 発光層，７ 透光
性電極，８ ＥＬ素子，９ 導光窓，１０ 透明部材，
１１ 透明接着層，１２ 原稿，１３ ＥＬ発光光，１
４ 原稿反射光，１５ ａ−Ｓｉ，１６，１７ 透明電
極，１８ 発光層間隙，１９ 非積層部

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明な第１の基板（３）の表面に不透光性
   電極（４）と誘電体層（５）と発光層（６）と透光性電
   極（７）とを順次積層してなり、前記不透光性電極
   （４）が前記透光性電極（７）側に配設された原稿から
   の反射光を前記第１の透明基板（３）裏面側に配設され
   る第２の基板上に形成した受光素子へ導くための導光窓
   （９）を有する画像読取装置用ＥＬ光源において、 前記誘電体層がこの誘電体層上の外縁に前記発光層を積
   層しない非積層部（１９）を有し、この非積層部（１
   ９）以外の誘電体層上に前記発光層を有することを特徴
   とする画像読取装置用ＥＬ光源。
2. 【請求項２】透明な第１の基板（３）の表面に不透光性
   電極（４）と誘電体層（５）と発光層（６）と透光性電
   極（７）とを順次積層してなり、前記不透光性電極
   （４）が前記透光性電極（７）側に配設された原稿から
   の反射光を前記第１の透明基板（３）裏面側に配設され
   る第２の基板上に形成した受光素子へ導くための導光窓
   （９）を有する画像読取装置用ＥＬ光源の製造方法にお
   いて、 前記誘電体層（５）上の外縁に前記発光層（６）を積層
   しない非積層部（１９）を形成するように、この非積層
   部（１９）以外の誘電体層上に前記発光層（６）を印刷
   により形成する印刷工程を有することを特徴とする画像
   読取装置用ＥＬ光源の製造方法。