JPH0548355Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0548355Y2
JPH0548355Y2 JP1518287U JP1518287U JPH0548355Y2 JP H0548355 Y2 JPH0548355 Y2 JP H0548355Y2 JP 1518287 U JP1518287 U JP 1518287U JP 1518287 U JP1518287 U JP 1518287U JP H0548355 Y2 JPH0548355 Y2 JP H0548355Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
faraday cup
code plate
rotary table
rotary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1518287U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63174158U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1518287U priority Critical patent/JPH0548355Y2/ja
Publication of JPS63174158U publication Critical patent/JPS63174158U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0548355Y2 publication Critical patent/JPH0548355Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、ロータリエンコーダのコード板を作
成するための電子ビーム描画装置に関するもので
あり、詳述すればフアラデーカツプで電子ビーム
を検出する際の機構に関するものである。
〔従来の技術〕 ロータリエンコーダは、円盤状の板に光を透過
させるパターンが書込まれたコード板を回転体に
取付け、このコード板に光を照射することで、回
転体の回転数・角度を測定することができる装置
である。
第4図はローラリエンコーダに用いるコード板
に電子ビーム描画装置でパターンを描画している
ところを示す図である。この第4図の電子ビーム
描画装置は、ロータリステツパにより回転される
回転テーブルの上にコード板を配置し、これに電
子ビームを照射することで、コード板にパターン
を描画している。
このような電子ビーム描画装置においては、電
子ビームの強さと、コード板上でのビーム焦点を
調整する必要がある。その理由はコード板は通
常、ガラス状平板にレジストの膜が施されてお
り、このレジストの膜は照射される電子ビームの
強さ(ビーム焦点も影響)により露光状態が変化
し、現像後の除去される度合いが違つてくるから
である。
このようなことから、従来より電子ビーム電流
とビーム焦点をフアラデーカツプで測定し、ビー
ム調整を行なつていた。通常、描画を行なう前に
このビーム調整してから描画を開始する。
第5図と第6図を用いて、従来の電子ビーム電
流とビーム焦点の測定手段を説明する。第5図は
コード板を乗せる回転テーブル上にフアラデーカ
ツプを取付けておき、電子ビーム、ビーム焦点を
測定する方法である。
第6図は、フアラデーカツプの検出面と、コー
ド板の上面が一致するようにフアラデーカツプを
取付け、ビーム電流を検出する時には全体を平行
[イ→ロ]に移動させる手段である。
〔考案が解決しようとする問題点〕
しかし、第5図の手段はフアラデーカツプの上
面が回転テーブルと同じ高さであり、コード板よ
り下方の焦点位置で電子ビームを測定することに
なる。従つて、実際の動作状態ではコード板の上
面に焦点が合うようにコード板の厚さ分だけ電気
的に補正をする必要がある。しかし、正確に補正
をするのは困難なことであり、コード板上にビー
ム焦点が合わない問題が生ずる。
また、第6図の手段は水平移動のための構造が
複雑になる上、位置決めの精度が得にくい問題が
ある。
本考案の目的は、簡単な構成で電子ビームのビ
ーム検出を的確に行なうことができるコード板作
成用の電子ビーム描画装置を提供することであ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は、上記問題点を解決するために 露光対象のコード板を乗せる回転テーブルと、
この回転テーブルを回転させるロータリステツパ
と、コード板へ電子ビームを照射する手段と、こ
の電子ビームを検出するフアラデーカツプと、こ
のフアラデーカツプからの信号により電子ビーム
の強さとビーム焦点位置を制御する手段を備えた
電子ビーム描画装置において、 ロータリステツパを上下に移動させる駆動機構
4,5と、 回転軸を中心としてフアラデーカツプを回転さ
せることができ、フアラデーカツプの穴を電子ビ
ームの照射軸と一致させることができ、かつこの
際フアラデーカツプの表面位置が、回転テーブル
上に配置されたコード板の表面位置と同じ高さと
なるようにすることができるアームと、 を備えるようにしたものである。
〔実施例〕 以下、図面を用いた本考案を詳しく説明する。
第1図は、本考案に係る電子ビーム描画装置の
構成例を示した断面図、第2図と第3図は本考案
の動作を説明するための図、第7図はフアラデー
カツプの構成例を示す図である。
第1図〜第3図において、回転テーブル2はロ
ータリステツパ1とシヤフトを介して一体化され
ている。即ち、ロータリステツパ1に内蔵されて
いるモータ(図示せず)が回転すると、回転テー
ブル2も回転する。
ロータリステツパ1自身は、上下アクチユエー
タ4とガイド5とで構成される駆動機構により上
下に移動させられる。即ち、上下アクチユエータ
4の作用により精度良くガイド5に沿つてロータ
リステツパ1は移動する。このようにロータリス
テツパを上下に移動させる駆動機構を設けた点が
本考案の特徴点の1つである。従つて、回転テー
ブル2は回転するとともに、上下にも移動する。
なお、ロータリステツパ1及び回転テーブル2が
上方向へ移動した時の最終位置は、ガイド5によ
り規定されており、常に上方向の最終位置(第2
図と第3図で示す“H”)は一定となるように構
成されている。即ち、この“H”の位置で電子ビ
ームによる描画が行なわれる。
回転テーブル2の上には作業対象のコード板3
が置かれる。回転テーブルの回転中央部は、図の
ように円柱状の凸部があり、コード板はこの凸部
が突出ることができるようにドーナツ形になつて
いる。
21はアームであり、その端部にフアラデーカ
ツプ20が設けられている。このアーム21は回
転軸Pを中心として、第1図〜第3図に示すよう
に回転することができる機構になつている。そし
て、アーム21を回転させた時、フアラデーカツ
プの穴72が第7図のように丁度電子ビームAの
照射軸と一致させることができるようになつてい
る。さらに、この際フアラデーカツプの表面位置
が、第2図、第3図に示すように回転テーブル2
上に配置されたコード板3の表面位置Hと同じ高
さとなるように構成されている。
フアラデーカツプ20は例えば第7図に示すよ
うな構成となつている。第7図において、70は
金属(例えばモリブデン)で構成される部材、7
1は例えばステンレスで構成される板である。こ
の部材70には中空室70aが設けられており、
板71でこの中空室70aの蓋をしている。一
方、この板71には非常に小さな穴72(例え
ば、直径0.01ミリメートル)が開けられている。
そして、この穴72の周囲には、例えば金膜73
が施されている。部材70には電流計が接続され
ている。このような第7図のフアラデーカツプに
おいて、板71の穴72を通つて電子ヒームAが
部材70の中空室70aに照射されると、電子ビ
ームにより部材70が帯電する。この帯電量は電
子ビーム電流の強さに比例するので、接続した電
流計により電子ビームの強さを測定することがで
きる。
また、第7図のフアラデーカツプを用いてビー
ム焦点を測定することもできる。その動作は、電
子ビームAを図のように角度θだけ偏向させて、
金膜73に照射する。金膜73からは二次電子が
発生し、この二次電子を図示していない装置で検
出し焦点位置を測定する。
以上のアーム21を備えている点も本考案の特
徴点である。
以上に説明した各構成要素はケース6で囲まれ
る試料室8の中に配置され、この試料室8はポン
プ9により減圧されている。
また、このケース6には電子ビーム鏡筒10が
取付けられており、この鏡筒10から電子ビーム
Aがコード板3へ照射される。なお、電子ビーム
鏡筒10を取付けても試料室8の気密性がそなこ
われることはないようになつている。
また、第1図〜第3図では図示していないが、
本考案の電子ビーム描画装置はフアラデーカツプ
からの信号により電子ビームの強さと焦点位置を
制御する手段を備えている。この電子ビームの強
さと焦点位置を制御する手段は、公知なもので構
成することができるので本明細書ではその構成例
の説明を省略する。
このような電子ビーム描画装置においては最適
値に制御するため、以下のようにして電子ビーム
の強さと、ビーム焦点を測定している。
まず、回転テーブル2の上にコード板3を固定
する。次にロータリステツパ1を上下アクチユエ
ータ4の作用により下に移動させる。
次に第3図に示すようにアーム21を180°回転
させて電子ビームを検出する。このとき、フアラ
デーカツプ20の上面の位置は第2図のコード板
3の位置Hと一致しているため、フアラデーカツ
プ20上で焦点を合せても、コード板3上で行な
つたのと等価になる。
このビーム検出が終わつた後、第2図のように
アーム21を180°回転させて、その後ロータリス
テツパ1を上方へ移動させ、電子ビームによる描
画を行なう。もちろん、この場合、第3図で測定
された電子ビームの値を基にして、電子ビーム鏡
筒から照射される電子ビームは最適値に制御され
ている。
〔本考案の効果〕
以上述べたように本考案によれば、ロータリス
テツパを上下に移動させる駆動機構と、フアラデ
ーカツプを回転させるアームを備えることにより
簡単な構成で精度良く電子ビームの検出を行なう
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る電子ビーム描画装置の構
成例を示す断面図、第2図と第3図は本考案の動
作を説明するための図、第4図は電子ビーム描画
装置でパターンを描画しているところを示す図、
第5図と第6図は従来例を示す図、第7図はフア
ラデーカツプの構成例を示す図である。 1……ロータリステツパ、2……回転テーブ
ル、3……コード板、4……上下アクチユエー
タ、5……ガイド、20……フアラデーカツプ、
21……アーム。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 露光対象のコード板を乗せる回転テーブルと、
    この回転テーブルを回転させるロータリステツパ
    と、コード板へ電子ビームを照射する手段と、こ
    の電子ビームを検出するフアラデーカツプと、こ
    のフアラデーカツプからの信号により電子ビーム
    の強さとビーム焦点位置を制御する手段を備えた
    電子ビーム描画装置において、 ロータリステツパを上下に移動させる駆動機構
    4,5と、 回転軸を中心としてフアラデーカツプを回転さ
    せることができ、フアラデーカツプの穴を電子ビ
    ームの照射軸と一致させることができ、かつこの
    際フアラデーカツプの表面位置が、回転テーブル
    上に配置されたコード板の表面位置と同じ高さと
    なるようにすることができるアームと、 を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。
JP1518287U 1987-02-04 1987-02-04 Expired - Lifetime JPH0548355Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1518287U JPH0548355Y2 (ja) 1987-02-04 1987-02-04

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1518287U JPH0548355Y2 (ja) 1987-02-04 1987-02-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63174158U JPS63174158U (ja) 1988-11-11
JPH0548355Y2 true JPH0548355Y2 (ja) 1993-12-24

Family

ID=30805876

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1518287U Expired - Lifetime JPH0548355Y2 (ja) 1987-02-04 1987-02-04

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0548355Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63174158U (ja) 1988-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3894271A (en) Method and apparatus for aligning electron beams
CN107339955B (zh) 一种高精度透镜中心偏检测仪器及其测量方法
JP6305247B2 (ja) 蛍光x線分析装置
JPH03241651A (ja) イオン注入装置における高効率走査のための方法及び装置
WO2007105817A1 (en) Electron beam recording apparatus
JPH0548355Y2 (ja)
CN112008238A (zh) 一种激光螺旋扫描加工头的初始相位标定方法
JP4350471B2 (ja) 電子ビーム描画方法および描画装置
EP0120535A1 (en) Beam exposure apparatus comprising a diaphragm drive for an object carrier
CN1382954A (zh) 圆筒体的变形量测定装置
JPS6321088Y2 (ja)
JP4302566B2 (ja) ガスクラスターイオンビームによる形状創成方法及び装置
JPS58106746A (ja) 電子レンズの軸合せ方法
JPS6348042B2 (ja)
JPS61232546A (ja) イオン注入装置
JPH0733140Y2 (ja) 放射温度計の照準構造
JPS5841642Y2 (ja) 電子線照射分析装置の試料ホルダ−
JPH09162093A (ja) 荷電粒子ビーム描画における被描画材料の位置および回転ずれの検出方法ならびに荷電粒子ビーム描画方法
JPS60208829A (ja) 位置検出装置
JPH09147427A (ja) 光ディスク原盤露光方法及びその装置並びに光ディスク
JPH02123656A (ja) イオン注入装置
SU1223105A1 (ru) Камера дл рентгеноструктурного анализа поликристаллов
JPS62696Y2 (ja)
JPS6114816B2 (ja)
JPH0391228A (ja) 荷電粒子ビーム径測定方法