JPH0548636B2 - - Google Patents
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- JPH0548636B2 JPH0548636B2 JP60505216A JP50521685A JPH0548636B2 JP H0548636 B2 JPH0548636 B2 JP H0548636B2 JP 60505216 A JP60505216 A JP 60505216A JP 50521685 A JP50521685 A JP 50521685A JP H0548636 B2 JPH0548636 B2 JP H0548636B2
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- discharge
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/032—Constructional details of gas laser discharge tubes for confinement of the discharge, e.g. by special features of the discharge constricting tube
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- Electromagnetism (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
請求の範囲
１ 陰極１および陽極２間に配置され、多数のジ
スク４を使用しガス充填されたキヤリヤ管３中に
支持されている放電管５、並びに、キヤリヤ管３
およびこれを包囲する外管８により形成された、
冷媒により貫流される外室１０を有するガスレー
ザ、とくにイオンレーザにおいて、外室１０が軸
方向に延びる多数のセクター３２〜３５に分割さ
れ、かつ支持ジスク４，２４が冷媒貫流用のチヤ
ンネル１１，３６〜３９を含有し、それらの流入
−および流出口がそれぞれ外室の対応セクターに
開口していることを特徴とするガスレーザ、とく
にイオンレーザ。
スク４を使用しガス充填されたキヤリヤ管３中に
支持されている放電管５、並びに、キヤリヤ管３
およびこれを包囲する外管８により形成された、
冷媒により貫流される外室１０を有するガスレー
ザ、とくにイオンレーザにおいて、外室１０が軸
方向に延びる多数のセクター３２〜３５に分割さ
れ、かつ支持ジスク４，２４が冷媒貫流用のチヤ
ンネル１１，３６〜３９を含有し、それらの流入
−および流出口がそれぞれ外室の対応セクターに
開口していることを特徴とするガスレーザ、とく
にイオンレーザ。
２ 支持ジスク４，２４が放電管５を支持するた
めに使用される中心孔を有し、かつ冷媒チヤンネ
ル１１，３６〜３９が大体においてこの中心孔の
方向へ延びることを特徴とする、請求の範囲第１
項記載のガスレーザ、とくにイオンレーザ。
めに使用される中心孔を有し、かつ冷媒チヤンネ
ル１１，３６〜３９が大体においてこの中心孔の
方向へ延びることを特徴とする、請求の範囲第１
項記載のガスレーザ、とくにイオンレーザ。
３ それぞれの支持ジスク４，２４中に、相互に
分離された多数の冷媒チヤンネル３６〜３９が備
えられていることを特徴とする、請求の範囲第１
項または第２項のいずれかに記載のガスレーザ、
とくにイオンレーザ。
分離された多数の冷媒チヤンネル３６〜３９が備
えられていることを特徴とする、請求の範囲第１
項または第２項のいずれかに記載のガスレーザ、
とくにイオンレーザ。
４ 支持ジスク４，２４が、ガス透過に使用され
る付加的な孔４０を有することを特徴とする、請
求の範囲第１項から第３項までのいずれか１項に
記載のガスレーザ、とくにイオンレーザ。
る付加的な孔４０を有することを特徴とする、請
求の範囲第１項から第３項までのいずれか１項に
記載のガスレーザ、とくにイオンレーザ。
５ 放電管５が１体形でありかつ多数の半径方向
の孔を有することを特徴とする、請求の範囲第１
項または第２項のいずれかに記載のガスレーザ、
とくにイオンレーザ。
の孔を有することを特徴とする、請求の範囲第１
項または第２項のいずれかに記載のガスレーザ、
とくにイオンレーザ。
６ 放電管が多数の短小な短管５より成り、これ
らがそれぞれ支持ジスク４，２４の中心孔中に支
持されていることを特徴とする、請求の範囲第１
項または第２項のいずれかに記載のガスレーザ、
とくにイオンレーザ。
らがそれぞれ支持ジスク４，２４の中心孔中に支
持されていることを特徴とする、請求の範囲第１
項または第２項のいずれかに記載のガスレーザ、
とくにイオンレーザ。
７ キヤリア管３が、高電気抵抗性の材料より成
るリング７，２７より成り、その場合連続するリ
ング７，２７間にそれぞれ１つの支持ジスク４，
２４が配置されかつ真空密にリングに接続されて
いることを特徴とする、請求の範囲第１項または
第２項のいずれかに記載のガスレーザ、とくにイ
オンレーザ。
るリング７，２７より成り、その場合連続するリ
ング７，２７間にそれぞれ１つの支持ジスク４，
２４が配置されかつ真空密にリングに接続されて
いることを特徴とする、請求の範囲第１項または
第２項のいずれかに記載のガスレーザ、とくにイ
オンレーザ。
８ リング７，２７がセラミツクより成ることを
特徴とする、請求の範囲第７項記載のガスレー
ザ、とくにイオンレーザ。
特徴とする、請求の範囲第７項記載のガスレー
ザ、とくにイオンレーザ。
９ 外室１０中に形成されたそれぞれのセクター
３２〜３５に冷媒用の流入−ないしは流出孔が設
けられ、かつこれら孔に閉じられた冷媒循環系が
接続されていることを特徴とする、請求の範囲第
１項から第８項までのいずれか１項に記載のガス
レーザ、とくにイオンレーザ。
３２〜３５に冷媒用の流入−ないしは流出孔が設
けられ、かつこれら孔に閉じられた冷媒循環系が
接続されていることを特徴とする、請求の範囲第
１項から第８項までのいずれか１項に記載のガス
レーザ、とくにイオンレーザ。
１０ 冷媒循環系が、冷媒を一体温度に調節する
ためのサーモスタツト５１を含有することを特徴
とする、請求の範囲第９項記載のガスレーザ、と
くにイオンレーザ。
ためのサーモスタツト５１を含有することを特徴
とする、請求の範囲第９項記載のガスレーザ、と
くにイオンレーザ。
明細書
本発明は、ガスレーザ、とくにガスレーザに関
する。このようなレーザの場合、陽極および負極
間に配置されたガス充填放電管中でプラズマ放電
が点灯され、このプラズマ放電中でガス原子また
はガスイオンが励起されかつ発光せしめられる。
する。このようなレーザの場合、陽極および負極
間に配置されたガス充填放電管中でプラズマ放電
が点灯され、このプラズマ放電中でガス原子また
はガスイオンが励起されかつ発光せしめられる。
イオンレーザの場合、作動中に放電管が極めて
高温となり、このことがとりわけレーザーの定格
出力および寿命を制限する。
高温となり、このことがとりわけレーザーの定格
出力および寿命を制限する。
米国特許明細書第4378600号からは、放電管が
冷却されるイオンレーザが公知である。このレー
ザの場合、放電管が多数のジスクを使用しガス充
填キヤリヤ管中に支持されているが、このキヤリ
ヤ管は外管により距離をおいて包囲されている。
これら２つの管により形成された外室が冷媒によ
り貫流される。支持ジスクが、銅から形成され、
かつ熱伝導により熱を放電管からキヤリヤ管に搬
送する。キヤリヤ管に接触流動する冷媒が、熱を
この管から搬出する。
冷却されるイオンレーザが公知である。このレー
ザの場合、放電管が多数のジスクを使用しガス充
填キヤリヤ管中に支持されているが、このキヤリ
ヤ管は外管により距離をおいて包囲されている。
これら２つの管により形成された外室が冷媒によ
り貫流される。支持ジスクが、銅から形成され、
かつ熱伝導により熱を放電管からキヤリヤ管に搬
送する。キヤリヤ管に接触流動する冷媒が、熱を
この管から搬出する。
この公知のイオンレーザは、支持ジスクおよび
キヤリヤ管を介する熱伝導により放電管の冷却が
迅速かつ有効に行なわれず、その結果放電管の温
度がなお実際に大きい価に達するという欠点を有
する。
キヤリヤ管を介する熱伝導により放電管の冷却が
迅速かつ有効に行なわれず、その結果放電管の温
度がなお実際に大きい価に達するという欠点を有
する。
本発明の課題は、高寿命および発光の十分な再
現性により優れているガスレーザ、とくにイオン
レーザをつくり出すことである。
現性により優れているガスレーザ、とくにイオン
レーザをつくり出すことである。
本発明によればこの課題は、請求の範囲第１項
の上位概念によるガスレーザから出発し、外室が
軸方向に延びる多数のセクターに分割され、かつ
支持ジスクが冷媒貫流用のチヤンネルを有し、そ
の流入−および流出口がそれぞれ外室の対応セク
ターに開口することにより解決される。
の上位概念によるガスレーザから出発し、外室が
軸方向に延びる多数のセクターに分割され、かつ
支持ジスクが冷媒貫流用のチヤンネルを有し、そ
の流入−および流出口がそれぞれ外室の対応セク
ターに開口することにより解決される。
本発明によるレーザにおいて、外室の１つのセ
クター中に流入する冷媒が平行に全ての支持ジス
クを経て流動し、従つてこれを直接に冷却しかつ
外室の他の１つのセクターを経て再び流出する。
放電管全体にわたり分配された全ての支持ジスク
により同時かつ平行に行なわれるこのような冷媒
流動が、放電管を熱交換により迅速かつ有効に冷
却する。冷媒および冷媒流速を選択することによ
り、冷却は、放電管が所定のレーザ出力で予定温
度を上廻らないように制御されることができる。
クター中に流入する冷媒が平行に全ての支持ジス
クを経て流動し、従つてこれを直接に冷却しかつ
外室の他の１つのセクターを経て再び流出する。
放電管全体にわたり分配された全ての支持ジスク
により同時かつ平行に行なわれるこのような冷媒
流動が、放電管を熱交換により迅速かつ有効に冷
却する。冷媒および冷媒流速を選択することによ
り、冷却は、放電管が所定のレーザ出力で予定温
度を上廻らないように制御されることができる。
殊に極めて有利に、わずかな流動断面積によ
り、レーザ外室の相応する流入−および流出口に
閉じられた冷媒循環系を接続しうることである。
この循環系にサーモスタツトが接続された場合、
冷媒の温度および従つて予定のレーザ出力で生じ
る放電管温度も一定に維持されることができる。
り、レーザ外室の相応する流入−および流出口に
閉じられた冷媒循環系を接続しうることである。
この循環系にサーモスタツトが接続された場合、
冷媒の温度および従つて予定のレーザ出力で生じ
る放電管温度も一定に維持されることができる。
直接に明白なのは、本発明によるレーザの場
合、放電管が有効に冷却されることによりレーザ
の長い寿命が得られることである。冷媒パラメー
タを相応に選択することにより、レーザがまた高
出力における作動を許容し、それも詳しくは低出
力で作動され公知の構造のイオンレーザと比べそ
の寿命が低減されることがない。最後に、本発明
によるレーザの場合放電管に高電流が負荷される
ことができ、その結果従来のガスレーザと比べ大
きい出力が同じ寸法のレーザで得られることがで
きる。
合、放電管が有効に冷却されることによりレーザ
の長い寿命が得られることである。冷媒パラメー
タを相応に選択することにより、レーザがまた高
出力における作動を許容し、それも詳しくは低出
力で作動され公知の構造のイオンレーザと比べそ
の寿命が低減されることがない。最後に、本発明
によるレーザの場合放電管に高電流が負荷される
ことができ、その結果従来のガスレーザと比べ大
きい出力が同じ寸法のレーザで得られることがで
きる。
本発明によるレーザの場合、放電管が有効に冷
却されることにより、この管は作動中にその状態
および長さが不変に維持され、すなわちレーザ容
積が不変に維持される。従つて、生じたレーザ光
束の出力およびスペクトル分布の十分な安定性が
得られる；このレーザは安定なベースモードで発
光する。
却されることにより、この管は作動中にその状態
および長さが不変に維持され、すなわちレーザ容
積が不変に維持される。従つて、生じたレーザ光
束の出力およびスペクトル分布の十分な安定性が
得られる；このレーザは安定なベースモードで発
光する。
支持ジスクおよび冷媒孔の有利な実施例が従属
請求項第２項〜第４項から明白である。支持ジス
クは、大きい熱伝導率を有する材料、例えば銅か
ら製造される。有利に、これらジスク自体は１体
であり、かつ冷媒孔がボーリングにより形成され
ている。しかしながら、冷媒孔が湾曲経路を有す
る場合、それぞれのジスクを２つのハーフから組
立てることも可能である。
請求項第２項〜第４項から明白である。支持ジス
クは、大きい熱伝導率を有する材料、例えば銅か
ら製造される。有利に、これらジスク自体は１体
であり、かつ冷媒孔がボーリングにより形成され
ている。しかしながら、冷媒孔が湾曲経路を有す
る場合、それぞれのジスクを２つのハーフから組
立てることも可能である。
放電−およびキヤリヤ管の有利な構造を従属請
求項第５項〜第８項に示す。
求項第５項〜第８項に示す。
以下に、本発明を添付図面の第１図〜第５図に
つき詳説する。それぞれ図面において： 第１図は本発明によるレーザの１実施例の縦断
面図； 第２図は他の実施例の１部分の縦断面図； 第３図は第２図の−線による断面図； 第４図は支持ジスクの他の実施例の第３図に相
応する断面図； 第５図は支持ジスクのもう１つの実施例の第３
図に相応する断面図； 第６図は閉じられた冷媒循環系を有するレーザ
の略示図を示す。
つき詳説する。それぞれ図面において： 第１図は本発明によるレーザの１実施例の縦断
面図； 第２図は他の実施例の１部分の縦断面図； 第３図は第２図の−線による断面図； 第４図は支持ジスクの他の実施例の第３図に相
応する断面図； 第５図は支持ジスクのもう１つの実施例の第３
図に相応する断面図； 第６図は閉じられた冷媒循環系を有するレーザ
の略示図を示す。
第１図において、１は図示せるガスレーザの陰
極、および２は対向する陽極を表わす。陰極１お
よび陽極２が、多数の部材により成るキヤリヤ管
３中に配置されている。図示せる実施例の場合、
良好な熱伝導率の材料により成る多数の支持ジス
ク４がキヤリヤ管３の部分を形成する。それぞれ
の支持ジスク４が中心孔を有し、その中に短小な
短管５が支持されている。これら全ての短管５
は、それらの軸がレーザの光軸６と１線になるよ
うに配置されている。これが一緒になつて放電管
を形成する。
極、および２は対向する陽極を表わす。陰極１お
よび陽極２が、多数の部材により成るキヤリヤ管
３中に配置されている。図示せる実施例の場合、
良好な熱伝導率の材料により成る多数の支持ジス
ク４がキヤリヤ管３の部分を形成する。それぞれ
の支持ジスク４が中心孔を有し、その中に短小な
短管５が支持されている。これら全ての短管５
は、それらの軸がレーザの光軸６と１線になるよ
うに配置されている。これが一緒になつて放電管
を形成する。
キヤリヤ管３は、その両端で真空密に密閉され
かつ活性ガス、例えばアルゴンまたはクリプトン
が充填されている。レーザの作動中、陰極１およ
び陽極２間にプラズマ放電が点灯し、これが放電
管５に沿つて延びる。この放電により、放電管５
中のガスが励起される。放電管５の範囲内に、大
きいイオンエネルギが生じる。この理由から、放
電管の部材５が耐スパツタリング性の材料、すな
わち生じる大きいイオンエネルギにおいてできる
だけ低い損耗率を有する材料から製造される。例
えばこのような材料として、タングステンあるい
はまた、酸化アルミニウムまたは窒化アルミニウ
ムのようなセラミツクが使用されることができ
る。
かつ活性ガス、例えばアルゴンまたはクリプトン
が充填されている。レーザの作動中、陰極１およ
び陽極２間にプラズマ放電が点灯し、これが放電
管５に沿つて延びる。この放電により、放電管５
中のガスが励起される。放電管５の範囲内に、大
きいイオンエネルギが生じる。この理由から、放
電管の部材５が耐スパツタリング性の材料、すな
わち生じる大きいイオンエネルギにおいてできる
だけ低い損耗率を有する材料から製造される。例
えばこのような材料として、タングステンあるい
はまた、酸化アルミニウムまたは窒化アルミニウ
ムのようなセラミツクが使用されることができ
る。
キヤリヤ管３が支持ジスク４により成り、これ
らの間に例えばセラミツクより成るリング７がそ
れぞれ配置されている。例えば、ジスク４および
リング７は、真空密な結合を得るため硬ろ・う・によ
り接続されている。
らの間に例えばセラミツクより成るリング７がそ
れぞれ配置されている。例えば、ジスク４および
リング７は、真空密な結合を得るため硬ろ・う・によ
り接続されている。
キヤリヤ管３が外管８により包囲され、かつこ
れにより得られた外室１０中で、冷媒が流入口か
ら流出口へ流動する。例えば冷媒として、水、オ
イルまたは他の常用の冷却液が使用されることが
できる。冷媒がキヤリヤ管３と接触流動するだけ
でなく、また支持ジスク４中のチヤンネル１１を
経て流動し、すなわち放電管５の全長にわたり冷
媒を使用する熱交換が行なわれ、この冷媒が放電
管５から生じた熱を搬出する。
れにより得られた外室１０中で、冷媒が流入口か
ら流出口へ流動する。例えば冷媒として、水、オ
イルまたは他の常用の冷却液が使用されることが
できる。冷媒がキヤリヤ管３と接触流動するだけ
でなく、また支持ジスク４中のチヤンネル１１を
経て流動し、すなわち放電管５の全長にわたり冷
媒を使用する熱交換が行なわれ、この冷媒が放電
管５から生じた熱を搬出する。
レーザの陰極１がキヤリヤ管３のカツプ形部材
１３中に配置され、この部材中に、ブルースター
窓１５を支持する短管１４が取付けられている。
この短管が、孔１６を経てキヤリヤ管の内部空間
に接続する。
１３中に配置され、この部材中に、ブルースター
窓１５を支持する短管１４が取付けられている。
この短管が、孔１６を経てキヤリヤ管の内部空間
に接続する。
陽極２がキヤリヤ管３のカツプ形部材１７中に
取付けられかつそこで２つの支持ジスク１８，１
９により支持されるが、これらジスクには支持ジ
スク４と同じく冷媒貫流用の孔が設けられてい
る。この部材１７に、同じブルースター窓２１を
支持する短管２０が取付けられている。この短管
２０が孔２２を経てキヤリヤ管３の内部空間に接
続する。
取付けられかつそこで２つの支持ジスク１８，１
９により支持されるが、これらジスクには支持ジ
スク４と同じく冷媒貫流用の孔が設けられてい
る。この部材１７に、同じブルースター窓２１を
支持する短管２０が取付けられている。この短管
２０が孔２２を経てキヤリヤ管３の内部空間に接
続する。
第２図の実施例において、銅より成る支持ジス
ク２４が備えられ、これらジスクが中心孔中に放
電管の短管５を支持する。支持ジスク２４の外周
がリング状に増厚され、かつ熱膨張率の低い材
料、例えばステンレス鋼より成るリング２５によ
り包囲されている。支持ジスク２４間にリング状
のセラミツク部材２７が接合されている。これら
セラミツク部材は、少くともその外周の縁がメタ
ライズされかつその水平方向の接触面に沿い支持
ジスク２４の環状厚縁に硬ろ・う・付けされる。外周
リング２５は、硬ろ・う・付け工程中にリング７およ
びジスク２４の増厚部間のスリツトを過大ならし
めないために役立つ。
ク２４が備えられ、これらジスクが中心孔中に放
電管の短管５を支持する。支持ジスク２４の外周
がリング状に増厚され、かつ熱膨張率の低い材
料、例えばステンレス鋼より成るリング２５によ
り包囲されている。支持ジスク２４間にリング状
のセラミツク部材２７が接合されている。これら
セラミツク部材は、少くともその外周の縁がメタ
ライズされかつその水平方向の接触面に沿い支持
ジスク２４の環状厚縁に硬ろ・う・付けされる。外周
リング２５は、硬ろ・う・付け工程中にリング７およ
びジスク２４の増厚部間のスリツトを過大ならし
めないために役立つ。
第３図に示すように、外管８およびキヤリヤ管
３間の外室１０が軸方向に延びる部材２８，２
９，３０，３１により４つのセクター３２，３
３，３４，３５に分割されている。それぞれの支
持ジスク２４に孔が設けられ、これらの孔が放電
管の方向へ延びかつ一緒になつて多数の冷媒チヤ
ンネル３６，３７，３８，３９を形成する。図示
せる実施例において、冷媒チヤンネル３６にチヤ
ンバ３２から冷媒が供給され、これが矢印方向に
冷媒チヤンネル３６中へ流入しかつこれからセク
ター３３中に再び流出する。セクター３２および
３４にそれぞれ冷媒用の流入口が設けられるとと
もに、セクター３３および３５にそれぞれ流出口
が設けられている。さらに支持ジスク２４に孔４
０が設けられ、これら孔が、キヤリヤ管３の、ジ
スク２４により相互に仕切られた個々の部分間の
ガス貫流を可能にする。
３間の外室１０が軸方向に延びる部材２８，２
９，３０，３１により４つのセクター３２，３
３，３４，３５に分割されている。それぞれの支
持ジスク２４に孔が設けられ、これらの孔が放電
管の方向へ延びかつ一緒になつて多数の冷媒チヤ
ンネル３６，３７，３８，３９を形成する。図示
せる実施例において、冷媒チヤンネル３６にチヤ
ンバ３２から冷媒が供給され、これが矢印方向に
冷媒チヤンネル３６中へ流入しかつこれからセク
ター３３中に再び流出する。セクター３２および
３４にそれぞれ冷媒用の流入口が設けられるとと
もに、セクター３３および３５にそれぞれ流出口
が設けられている。さらに支持ジスク２４に孔４
０が設けられ、これら孔が、キヤリヤ管３の、ジ
スク２４により相互に仕切られた個々の部分間の
ガス貫流を可能にする。
第４図に示した実施例の場合、冷媒チヤンネル
が直線上に延びる孔４１，４２，４３，４４によ
り形成されている。この実施例は、製造に際し第
３図の形状よりも簡単に製造可能であるが、但し
第３図のもののような冷却効果がない。
が直線上に延びる孔４１，４２，４３，４４によ
り形成されている。この実施例は、製造に際し第
３図の形状よりも簡単に製造可能であるが、但し
第３図のもののような冷却効果がない。
第５図の実施例において、４つの冷媒チヤンネ
ル４５，４６，４７，４８が備えられ、これらが
湾曲せる経路を有しかつ従つて放電管５に極めて
接近している。このような冷却チヤンネルは、も
はや中実な部材をボーリングすることにより形成
されることができず、従つてこの実施例の場合そ
れぞれの支持ジスク２４が２つのハーフから組立
てられる。
ル４５，４６，４７，４８が備えられ、これらが
湾曲せる経路を有しかつ従つて放電管５に極めて
接近している。このような冷却チヤンネルは、も
はや中実な部材をボーリングすることにより形成
されることができず、従つてこの実施例の場合そ
れぞれの支持ジスク２４が２つのハーフから組立
てられる。
これら図面に示した本発明によるガスレーザ
は、支持ジスク４により有効に冷却されるため放
電管５の側面方向の貯蔵範囲内で相対的に大きい
ガス密度を有する。これにより、いわゆるガスポ
ンピングが低減され、かつこれにより生じる不純
分が低減される。これら図面から明白なように、
ジスク４ないしは２４中のガス透過孔が、放電管
５を収容するのに使用される中心孔よりも小さい
直径を有する。
は、支持ジスク４により有効に冷却されるため放
電管５の側面方向の貯蔵範囲内で相対的に大きい
ガス密度を有する。これにより、いわゆるガスポ
ンピングが低減され、かつこれにより生じる不純
分が低減される。これら図面から明白なように、
ジスク４ないしは２４中のガス透過孔が、放電管
５を収容するのに使用される中心孔よりも小さい
直径を有する。
図面に示した実施例において、放電管がそれぞ
れ部材５から形成されている。しかしながら、放
電管を、支持ジスク４ないしは２４中に支持され
た唯一の部材から製造することも可能である。こ
のような１体形のガス管には、その軸に直角にガ
ス透過孔を設けることができる。
れ部材５から形成されている。しかしながら、放
電管を、支持ジスク４ないしは２４中に支持され
た唯一の部材から製造することも可能である。こ
のような１体形のガス管には、その軸に直角にガ
ス透過孔を設けることができる。
一般に、本発明によるレーザの場合、不導電性
である冷媒が使用され、かつこれが第６図の実施
例に相応に閉じられた冷媒循環系中を循環する。
第６図にこの循環系が略示され、その場合５０が
循環ポンプおよび５１がサーモスタツトを表わ
し、このサーモスタツトが冷媒を予定の温度に維
持するために使用される。
である冷媒が使用され、かつこれが第６図の実施
例に相応に閉じられた冷媒循環系中を循環する。
第６図にこの循環系が略示され、その場合５０が
循環ポンプおよび５１がサーモスタツトを表わ
し、このサーモスタツトが冷媒を予定の温度に維
持するために使用される。
明白にして、冷媒として一般的な水も使用され
ることができるが、その場合電圧の加わる部材を
絶縁層で被覆する必要がある。
ることができるが、その場合電圧の加わる部材を
絶縁層で被覆する必要がある。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19848433460U DE8433460U1 (de) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | Gaslaserrohr |
| DE8433460.6 | 1984-11-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62501461A JPS62501461A (ja) | 1987-06-11 |
| JPH0548636B2 true JPH0548636B2 (ja) | 1993-07-22 |
Family
ID=6772722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60505216A Granted JPS62501461A (ja) | 1984-11-15 | 1985-11-12 | ガスレ−ザ、とくにイオンレ−ザ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4752936A (ja) |
| EP (1) | EP0184029B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62501461A (ja) |
| DE (1) | DE8433460U1 (ja) |
| WO (1) | WO1986003065A1 (ja) |
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| US4930136A (en) * | 1989-03-07 | 1990-05-29 | American Laser Corporation | Segmented air cooled laser tube |
| US5020070A (en) * | 1989-12-14 | 1991-05-28 | I. L. Med., Inc. | Gas laser |
| US5177761A (en) * | 1991-10-17 | 1993-01-05 | Spectra-Physics Lasers, Inc. | Gas discharge tube having refractory ceramic coated bore disc for ion laser |
| WO1993010583A1 (en) * | 1991-11-22 | 1993-05-27 | Omnichrome Corporation | Liquid stabilized internal mirror lasers |
| JP2870618B2 (ja) * | 1992-01-24 | 1999-03-17 | 日本電気株式会社 | イオンレーザ管 |
| US6738400B1 (en) | 1993-07-07 | 2004-05-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Large diameter lasing tube cooling arrangement |
| DE4428356C2 (de) * | 1994-08-10 | 1996-07-11 | Nwl Laser Tech Gmbh | Kühlvorrichtung eines Gasentladungsrohres |
| US5471491A (en) * | 1994-11-15 | 1995-11-28 | Hughes Aircraft Company | Method and structure for impingement cooling a laser rod |
| DE69738632T2 (de) * | 1996-07-01 | 2009-06-10 | Panasonic Corp., Kadoma | Lasergerät |
| AT405776B (de) * | 1997-11-24 | 1999-11-25 | Femtolasers Produktions Gmbh | Kühlvorrichtung für einen laserkristall |
| US6859472B2 (en) * | 2001-11-13 | 2005-02-22 | Raytheon Company | Multi-jet impingement cooled slab laser pumphead and method |
| JP2005088052A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
| US7719676B2 (en) * | 2007-02-15 | 2010-05-18 | Baker Hughes Incorporated | Downhole laser measurement system and method of use therefor |
| US8770170B2 (en) * | 2012-01-04 | 2014-07-08 | GM Global Technology Operations LLC | Bedplate assembly and method |
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|---|---|---|---|---|
| US3531734A (en) * | 1965-03-15 | 1970-09-29 | Bell Telephone Labor Inc | Ion laser having metal cylinders to confine the discharge |
| GB1197123A (en) * | 1967-05-29 | 1970-07-01 | Laser Sciences Inc | Gas Coherent Radiation Generator and Discharge Tube Therefor |
| US3763442A (en) * | 1972-07-07 | 1973-10-02 | American Laser Corp | Ion laser plasma tube cooling device and method |
| GB1422622A (en) * | 1974-01-04 | 1976-01-28 | France Etat Defense | Laser device |
| JPS58500682A (ja) * | 1981-05-04 | 1983-04-28 | コヒ−レント・インコ−ポレ−テッド | レーザ |
| US4378600A (en) * | 1981-05-04 | 1983-03-29 | Coherent, Inc. | Gas laser |
-
1984
- 1984-11-15 DE DE19848433460U patent/DE8433460U1/de not_active Expired
-
1985
- 1985-11-12 US US06/891,249 patent/US4752936A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-11-12 JP JP60505216A patent/JPS62501461A/ja active Granted
- 1985-11-12 WO PCT/EP1985/000601 patent/WO1986003065A1/de not_active Ceased
- 1985-11-12 EP EP85114341A patent/EP0184029B1/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0184029B1 (de) | 1988-07-06 |
| DE8433460U1 (de) | 1985-03-21 |
| JPS62501461A (ja) | 1987-06-11 |
| US4752936A (en) | 1988-06-21 |
| WO1986003065A1 (fr) | 1986-05-22 |
| EP0184029A1 (de) | 1986-06-11 |
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