JPH05500204A

JPH05500204A - トリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類

Info

Publication number: JPH05500204A
Application number: JP2505320A
Authority: JP
Inventors: ライフェンラート、フォルカー; ペーチュ、アイケ; クールマイアー、ハンス―アードルフ; ヴェーバー、ゲオルグ; ヒチヒ、ラインハルト; コンプター、ハンス―ミヒァエル; プラハ、ヘルベルト
Original assignee: メルク　パテント　ゲゼルシヤフト　ミツト　ベシユレンクテル　ハフトング
Priority date: 1989-04-08
Filing date: 1990-03-31
Publication date: 1993-01-21
Also published as: KR920700275A; RU2051948C1; DE3930119A1; DE59008181D1; WO1990012073A1; US5209868A; EP0418362A1; TW209243B; EP0418362B1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】トリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類本発明は、式■ Ｒは、未置換のまたはＣＮでもしくは少なくとも１種のハロゲンで置換され、その１つ以上の隣接しないＣＨ２基を一〇−５−Ｓ−１−ＣＯ−１−Ｏ−ＣＯ−２ −ＣＯ−Ｏ−および＝Ｃ巴Ｃ−から成る群から構成される装置き換えてもよい１８個までのＣを有するアルキルまたはアルクニル基であり、ａ）その１つまたは２つのＣＨ基をＮで置き換えてもよい１．４−フェニレン基、ｂ）その１つまたは２つの隣接しないＣＨ２基を−０−または−Ｓ−で置き換えてもよい１．４−シクロヘキシレン基、ｃ）１．４−シクロヘキセニレン、ピペリジン−１゜４−ジイル、１，４−ビシクロ［２，２，２］−オクチレンまたはナフタレン−２，６−ジイル基であり、基ａ）およびｂ）はハロゲン原子またはシアンおよび／′またはメチル基でモノ置換またはポリ置換すること０−８−ｏ−ｃｏ−５−ＣＨＣＨ２−１−ＣＨ（ＣＮ）−ＣＨ−１−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＮ）−１−〇Ｈ＝ＣＨ−１−ＯＣＨ−１−ＣＨ２０−、−ＣＨ＝Ｎ−１−Ｎ＝ＣＨ一、−ＮＯ＝Ｎ−２−Ｎ＝ＮＯ−１−Ｎ＝Ｎ−まタハー重結合であり、および０は０．１または２である］のトリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類に関する。

本発明は、さらに液晶媒体の成分としてのこれらの化合物の使用、および本発明の液晶媒体を含んでいる液晶および電気光学ディスプレイ要素に関する。

式■の化合物は、特にマトリックス液晶ディス／レイ（ＭＬＣディスグレイ）において例えばＳＴＮまたはＳＢＥのようなその高捩じれ形を含む捩じれセルの原理、ゲスト／ホスト効果、配列相の変形効果または動的散乱効果に基づくディスプレイ用の液晶媒体成分として使用することができる。

本発明は、液晶ｔＩＸ体成分として適した、また特にかなり低い粘度および適度の正の誘電率奥方性を有する新規の安定した液晶化合物またはメソ相形成性（ＩｅＳｏｇｅｎｉＣ）化合物を見出すことを目的とする。

式Ｉの化合物が液晶相の成分として著しく適していることを見出した。特に、これらの化合物はかなり低い粘度を有している。これらの化合物を使用すると、広いメソ相範囲、光学および誘電率異方性に関する有利な値を有すると同時に比抵抗に関する非常に好ましい値で抜きんでた安定な液晶相を得ることができる。このことは、特にマトリックス液晶ディスグレイ（ＭＬＣディスプレイ）まなは超捩じれディスプレイ用の媒体の場合にかなり有利である。

液晶特性を有する類似の化合物が、例えばＥＰ−Ａ−０，０１９３゜１９１［原文の通り］　、ＪＰ５９１０７８，１２９またはＪＰ５８／１９８，４２７に既に開示されている。しかしながら、これらにおいては、トリフルオロメチル基がフェニル基に結合しているので、これらの化合物は一般に光学異方性に関しかなり不利な値を有し、かつ現代のディスプレイ用途に関し本発明の化合物より著しく劣っている。

ＪＰ６０／６９，０５９およびＪＰ６３／２３８．０３０は類似の化合物を開示しているが、それらはＯＸ基（但し、ＸはＣＮ、ＦｔたはＣ１である）を含んでいる。

さらに、トリフルオロメチルシクロヘキシル基を含んでいるが、メソ相形成性を有していない化合物が知られている０例えば、ＪＰ６３１５１，３５４はトリフルオロメチル基で置換されるシクロヘキサンカルボン酸類およびそれらの製法を記載している。

に、−、ボールドリン（Ｂａ１ｄｒｉｎ）、Ｈ，Ｊ、Ｔ、ｏビンリン（Ｒｏｂｉｎｓｏｎ）　［テトラヘトｏ　ン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、１旦、１６６３〜１６６８　（１９７７）　］は］１−トリフルオロメチルー３＝置換シクロヘキサンに関する研究を行った。

さらに、ＤＥ−Ｏ３３，０２２，８１８は、特に液晶媒体の混合成分として、一般式において、置換基の１つがトリフルオロメチル基であってもよい４．４′− ジ置換ビシクロヘキシレン類を挙げている。

しかしながら、そこにはこの種の化合物もまたその製法もはっきりと記載されておらず、当業者がこれらの化合物の優れた特性や製造手順を推論することは不可能である。

さらに、式Ｉの化合物を提供することによって、種々の用途の観点から液晶混合物の製造に適する液晶物質の範囲が非常に普遍的にかなり拡大される。

式Ｉの化合物は広い分野に適用される。置換基を選択することによって、液晶相を主として構成する基材としてこれらの化合物を使用することができるけれど、例えば、この種の誘電体の誘電率および／まなは光学異方性に影響を及ぼしてそのしきい電圧および／またはその粘度および／またはその比抵抗を最適にするために、式Ｉの化合物を他の群の化合物から成る液晶基材に加えることもできる。

純粋な状態で、式Ｉの化合物は無色であり、電気光学用途に好適な温度範囲において液晶メソ相を形成する。これらの化合物は化学的、熱的および光に非常に安定である。

従って、本発明は、式Ｉの化合物、特に基Ａ１およびＡ２が、それぞれ互いに独立して、その１つまたは２つの隣接しないＣＨ２基を一〇−または−８−で置き換えてもよいシクロヘキシレン基である式Ｉの化合物に関する。

本発明は、さらに液晶媒体の成分としてのこれらの化合物の使用に関する。本発明は、さらに弐■の少なくとも１種の化合物を含んでいる液晶媒体、およびこの種の媒体を含んでいる液晶ディスプレイ要素、特に電気光学ディスプレイ要素、特にマトリックス液晶ディスプレイに関する。

簡略のなめに、以下Ｘは−ＣＦ３であり、Ｃｙｃは１．４−シクロヘキシレンまたは１．４−シクロヘキセニレン基であり、Ｄｉｏは１．３−ジオキサ−２，５ −ジイル基であり、Ｄｉｒは１．３−ジチアン−２，５−ジイル基であり、Ｐｈｅは１．４−７エニレン基であり、ＰＩ／ｄはピリジン−２゜５−ジイル基であり、Ｐｙｒはピリミジン−２，５−ジイル基であり、そしてＢｉはビシクロ（２，２，２）オクチレン基である（但し、Ｃｙｃおよび／またはｐｈｅは未置換であるか、またはＦまたはＯＮでモノまたはジ置換されていても従って、式■の化合物は、下位式１ａ〜Ｉｃ［原文の通り］の２つの環を有する化合物：Ｒ−Ａ２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩａＡ−Ａ２−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉｂ下位式１ｃ〜１ｔの３つの環を有する化合物：Ｒ−Ａ１−Ａ２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｃＲ−Ａ１−Ｚｌ−Ａ２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｄＲ−＾１−Ａ２−２２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｅＲ−Ａ’−２’−Ａ２−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　１　ｆおよび下位式１１１１〜Ｉｈ［原文の通り］の４つの環を有する化合物：Ｒ−Ａ１−Ａ１−Ａ２−ＣＶＣ−Ｘ　ＩｇＲ−Ａ’−２’−Ａ１−Ａ２−ＣＶＣ −Ｘ　ＩｈＲ−Ａ１−Ａ１−Ｚｌ−Ａ２−Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉ　１Ｒ−Ａ’−Ａ’− Ａ２４２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｊＲ−Ａ１−Ｚｌ−Ａ１−２１−Ａ２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｋＲ−Ａ’−２’−Ａ’−Ａ２−Ｚｌ−ＣＶＣ−Ｘ　ＩＩＲ−Ａ１−Ａ’−Ｚｌ−Ａ２−２２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｍＲ−Ａ１−２１−Ａ’−２’−Ａ”−７”− Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉｎを包含するものである。

これらのうち、下位式１ａ、　Ｉｂ、　Ｉｃ、　Ｉｄ、　Ｉｓ、　Ｉｆ、　Ｉｇ、Ｉｔｌ、１ｉおよび１１が特に好ましい。

式■の好ましい化合物は式１１（式中、Ｒ，Ａ１、Ｚｌ−Ａ−および０は先に定義した通りである）の４−トリフルオロメチルビシクロヘキシル誘導体、特にＯが０または１であるものである。

さらに、式Ｉの好ましい化合物は式１２（式中、Ｒ，Ａ　、Ｚ’、−Ａ−および０は先に定義した通りである）の２−　＜４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）ジオキサン誘導体、特に０が０であり、そしてＲが式（ＣＨ２）。−Ｘ［式中、ｎは１〜１０であり、およびＸはＦ、ＣＩ、ＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ，Ｈ２，＋１．０−Ｃｒ１　Ｈ２ｎ＋１、Ｃ−ＣＨまたはＨ（但し、ｍは１〜１０である）である〕の基である式Ｉ２のものである。

下位式１ａの好ましい化合物には、下位式Ｉａａ〜Ｉａｅ：Ｒ−ｐｈｅ−ｃｙｃ −ｘ　ＩａａＲ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＴａｂＲ−Ｐｙｒ−Ｃｙｃ−Ｘ　１ａｄＲ７Ｐｙｄ−ＣｙＣ−Ｘ　Ｉａｅのらのがある。

これらのうち、式ＩａａおよびＩａｂのものが特に好ましい。

下位式ｌｂの好ましい化合物には、下位式１ｂａ　−１ｂｌ：Ｒ−Ｐｈｅ−Ｃ１２ＣＨ２−Ｃｙｃ−Ｘ　１ｂａＲ−Ｃｙｃ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩＩＩ＋Ｒ−Ｃｙｃ−ＣＨ２０−Ｃｙｃ−Ｘ　、ＩＩ＋ｃＲ−Ｐｈｅ−０Ｍ２０−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩＭＲ−Ｐｈｅ−ＣＯ−０−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｂｅＲ−Ｃｙｃ−Ｃｏ−Ｑ −Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｂｆＲ−Ｃｙｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｂＱＲ−Ｐｉｅ−Ｃ −Ｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｂｈＲ−Ｐｆｉｅ−ＱＣ）１２−Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉｂ１Ｒ− Ｃｙｃ−ＯＣＨ２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｂｊＲ−Ｃｙｃ−０−ＣＯ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｂｋＲ−Ｐｈｅ−０−Ｃｏ−Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉｂｌのらのがある。

下位式ＩＣの好ましい化合物には、下位式１ｃａ〜Ｉｃｈ：Ｒ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ −Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｃａＲ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｃｂＲ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｘ　１ｃｃＲ−Ｃｙｃ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｃｄＲ−Ｐｙｄ −Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｃｆＲ−Ｐｙｒ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩＣ！；ＩＲ −Ｐｙｒ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉｃｈのものがある。

これらのうち、式Ｉｃａ　、　ＩｃｂおよびＩＣＣのものが特に好ましい。

下位式１ｄの好ましい化合物には、下位式１ｄａ〜Ｉｄｉ：Ｒ−Ｐｈｅ−Ｚｌ− Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｄａＲ−Ｐｈｅ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　１ｄｂＲ −Ｃｙｃ−”−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　１ｄｃＲ−Ｐｙｒ−２１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ −Ｘ　ＩｄｄＲ−Ｐｙｄ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｘ　１ｄｅＲ−Ｐｙｄ−Ｚ’ −Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩＩＨＲ−Ｐｙｒ−Ｚｌ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｄａＲ−Ｃｙｃ−７１−Ｄｉｏ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｄｈＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｄ　１ｏ− Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉｄ　ｉのものがある。

下位式Ｉｅの好ましい化合物には、下位式Ｉｅａ　−１ｅｉ：Ｒ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−Ｚ”−Ｃｙｃ−Ｘ　１ｅａＲ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｅｂＲ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−Ｚ”Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｅｃＲ−Ｃｙｃ−Ｐｈｅ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　１ｅｄＲ−Ｐｙｒ−Ｐｈｅ−Ｚ’Ｃｙｃ−Ｘ　１ｅｅＲ−Ｐｙｄ−Ｐｈｅ−Ｚ”−Ｃｙｃ−Ｘ　、ＩｅｆＲ−Ｐｈｅ−Ｐｙｒ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｅｇＲ−Ｐｈｅ−Ｐｙｄ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｅｈＲ−Ｐｈｅ−Ｏｉｏ−２２− Ｃｙｃ−Ｘ　ｌｅｉのものがある。

下位式Ｉｆの好ましい化合物には、下位式１ｆａ〜Ｉｆａ：Ｒ−Ｐｈｅ−Ｚｌ− Ｐｈｅ−７２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｆａＲ−Ｐｈｅ−Ｚ’−Ｃｙｃ−Ｚｌ−Ｃｙｃ− Ｘ　ＩｆｂＲ−Ｃｙｃ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−、？２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｆｃＲ−Ｃｙｃ −Ｚｌ−Ｐｈｅ−２”−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｆｄＲ−Ｃｙｃ−Ｚ’−Ｂｉ−２２−Ｃｙｃ−Ｘ　ＩｆｅＲ−Ｃｙｃ−Ｚｌ−Ｄｉｏ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　’ＩｆｔＲ− Ｄｉｏ−２１−Ｃｙｃ−Ｚｌ−Ｃｙｃ−Ｘ　Ｉｆｇのらのがある。

以上および以下の式の化合物において、Ｃｙｃ−Ｘは４−トリフルオロメチルシクロヘキシル基、特にトランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル基であるのが好ましい。

１つまたはそれ以上のＺｌおよび／またはｚ２＊を含んでいる下位式ＩＩ）、Ｉｄ、　Ｉｅ、　ＩｆおよびＩｔｌ〜Ｉｎの化合物において、これらの橋掛は部員は−ＣＯ−Ｏ−１−Ｏ−ＣＯ−１−ＣＨ２ＣＨ２−１ＣＨ２０−１−０ＣＨ２− または−ｃ＝ｃ−１特に−ＣＨ２ＣＨ２−１−ｃｏ−ｏ−または−０−ＣＯ−であるのが好ましい。

Ｒはアルキル、さらにアルコキシ、Ｆ、ＣＩｔたはＣＮであるのが好ましい、Ａ１および／またはＡ２はＰｈｅ　、　Ｃｙｃ、ｃｈｅ　、　Ｐｙｒ　ｔたはＤｉｏであるのが好ましい０式Ｉの化合物は１つ以下の基Ｂｉ、　Ｐｙｄ　、　Ｐｙｒ　、Ｄｉｏまたは口ｉｔを含んでいるのが好ましい。

式Ｉおよび全ての下位式の好ましい化合物は、Ａ１、Ａ　、Ａ　および／またはＡ４がＦでモノまたはジ置換されるかまたはＣＮでモノ置換される１、４−フェニレンであるものである。詳細には、これらは、２−フルオロ−１゜４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレンおよび２．３−ジフルオロ−１，４− フェニレン並びに２−シアノ−１，４−フェニレンおよび３−シアノ−１，４− フェニレンである。

Ｚ　およびＺ２は一重結合、−ＣＯ−０−１−ｏ−ｃ。

一および一〇ＨＣＨ−であるのが好ましく、−ＣＨ２０−および一０ＣＨ２−であるのがその次に好ましい。

Ｒがハロゲンである場合は、Ｆ、ＣＩ、Ｂ「かつよた■であるのが好ましい。

Ｒがアルキル基および／またはアルコキシ基である場合は、直′Ｍまたは枝分れ鎖でありうる。この基は直鎖てあり、２．３．４．５．６または７個のＣ原子を有するのが好ましく、従って、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、１０ボキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシまたはへブトキシ、さらにはメチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、メトキシ−、オクトキシ、ツノキシ、デコキシ、ウンデコキシ、ドデコシキ、トリデコキシまたはテトラデシルシであるのが好ましい。

オキサアルキルは直ｆｉ２−オキサプロピル（＝メトキシメチル）、２−オキサブチル（＝エトキシメチル）または３−オキサブチル（＝２−メトキシエチル）、２−１３−または４−オキサペンチル、２−１３−５４−または５−オキサヘキシル、２−１３−１４−１５−または６−オキサヘプチル、２−５３−１４− １５−１６−または７−オキサオクチル、２−１３−１４−１５−５６−１７− または８−オキサノニル、２−１３−１４−１５−２６−１７−１８−または９ −オキサデシルであるのが好ましい。

Ｒがアルケニル基である場合は、直Ｈｔ、たは枝分れ鎖でありうる。この基は直鎖てあり、２〜１０個のＣ原子を有するのが好ましい。したがって、詳細には、この基はビニル、■−または２−プロペニル、１−１２−または３−ブテニル、１−２２−１３−または４−ペンテニル、１−１２−１３−１４−または５−へキセニル、１−１２−２３−２４−１５−または６−へブテニル、１−１２−５３−１４−１５−１６−または７−オクテニル、１−１２−５３−５４−１５− １６−１７−または８−ノネニル、または１−１２−１３−１４−１５−１６− １７−１８−または９−デセニルである。

Ｒが、１つのＣＨ２基を一〇−で置き換えそして１つを−ｃｏ−で置き換えたアルキル基である場合、こ、れらは隣接しているのが好ましい、したがって、これらの基はアシロキシ基−ＣＯ−Ｏ−またはオキシカルボニル基−０−ＣＯ−を含む、これらは直鎖でありおよび２〜６個のＣ原子を有するのが好ましい、したがって、詳細には、これらの基はアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセチルオキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセチルオキシエチル、２−１０ピオニルオキシエチル、２−ブチリルオキシエチル、３−アセチルオキシプロピル、３−グロピオニルオキシグロピル、４ −アセチルオキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、グロボキシカルポニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、２−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキサカルボニル）エチル［原文の通り］、２−（プロポキシカルボニル）エチル、３−（メトキシカルボニル）プロピル、　３−（エトキシカルボニル）プロピルおよび４ −（メトキシカルボニル）ブチルである。

Ｒが、１つのＣＨ２基をＣＯまタハｃ　ｏ　−ｏまたは〇−ＣＯで置き換えたアルキル基である場合、それは直鎖または枝分れ鎖でありうる。その基は直鎖でありまた４〜１３個のＣ原子を有するのが好ましい、したがって、詳細には、その基はアクリロイルオキシメチル、２−アクリロイルオキシエチル、３−アクリロイルオキシエチル、４−アクリロイルオキシブチル、５−アクリロイルオキシペンチル、６−アクリロイルオキシヘキシル、７−アクリロイルオキシヘプチル、８−アクリロイルオキシオクチル、９−アクリロイルオキシノニル、１０−アクリロイルオキシデシル、メタクリロイルオキシメチル、２−メタクリロイルオキシエチル、３−メタクリロイルオキシプロピル、４−メタクリロイルオキシブチル、５−メタクリロイルオキシペンチル、６−メタクリロイルオキシヘキシル、７−メタクリロイルオキシへブチル、８−メタクリロイルオキシオクチルまたは９−メタクリロイルオキシノニルである。

重合反応に適している側基Ｒを含んでいる式Ｉの化合物は液晶重合体を製造するために適している。

枝分れ側基Ｒを含んでいる式■の化合物は、通常の液晶基材に対する溶解度が良好なので時には重要であるが、それらが光学的に活性であるならば、キラルドーピング剤として特に重要である。この種のスメクテイック化合物は強誘電性材料の成分として適している。

ＳＡ相を有する式■の化合物は、例えば熱的にアドレスされるディスプレイ用に適している。

この種の枝分れ基は一般に１つ以下の鎖枝を有している。

好ましい枝分れ基Ｒはイングロビル、２−ブチル（＝１−メチルプロピル）、イソブチル（＝２−メチルア１ロビル）、２−メチルブチル、イソペンチル（＝３ −メチルブチル）、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−エチルヘキシル、２−プロピルペンチル、インプロポキシ、２−メチル１０ポキシ、２−メチルブトキシ、３−メチルブトキシ、２−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、２−エチルヘキソキシ、１−メチルヘキソキシ、１−メチルへブトキシ、２−オキサ−３−メチルブチル、３−オキサ−４−メチルペンチル、４−メチルヘキシル、２−ノニル、２−デシル、２−ドデシル、６−メチルオクトキシ、６ −メチルオクタロイルオキシ、５−メチルへブチルオキシカルボニル、２−メチルブチリルオキシ、３−メチルバレリルオキシ、４−メチルヘキサノイルオキシ、２−クロロプロピオニルオキシ、２−クロロ−３−メチルブチリルオキシ、２ −クロロ−４−メチルバレリルオキシ、２−クロロ−３−メチルバレリルオキシ、２−メチル−３−オキサペンチルおよび２−メチル−３−オキサヘキシルである。

Ｒが、２つまたはそれ以上のＣＨ２基を一〇−および／または−ＣＯ−Ｏ−で置き換えたアルキル基である場合は、直鎖または枝分れ鎖でありうる。その基は枝分れ鎖でありまた３〜１２個のＣ原子を有するのが好ましい、したがって、詳細には、その基はビスカルボキシ、メチル、２．２−ビスカルボキシエチル、３．３−ビスカルボキシグロビル、４．４−ビスカルボキシブチル、５．５−ビスカルボキシペンチル、６．６−ビスカルボキシヘキシル、７．７−ビスカルボキシヘプチル、８．８−ビスカルボキシオクチル、９．９−ビスカルボキシノニル、１０．１０−ビスカルボキシデシル、ビス（メトキシカルボニル）メチル、２．２−ビス（メトキシカルボニル）エチル、３．３−ビス（メトキシカルボニル）グロビル、４．４−ビス（メトキシカルボニル）ブチル、５．５−ビス（メトキシカルボニル）ペンチル、６．６−ビス（メトキシカルボニル）ヘキシル、７゜７−ビス（メトキシカルボニル）ヘプチル、８．８″ビス（メトキシカルボニル）オクチル、ビス（エトキシカルボニル）メチル、２．２−ビス（エトキシカルボニル）エチル、３．３−ビス（エトキシカルボニル）グロピル、４゜４−ビス（エトキシカルボニル）ブチルまたは５．５−ビス（エトキシカルボニル）ヘキシルである。

重縮合に適する側基Ｒを含んでいる式Ｉの化合物は液晶重縮合物を製造するために適している。

式■はこれらの化合物のラセミ体と光学対本体との両方およびそれらの混合物を包含するものである。

式■およびそれらの下位式の化合物のうち、そこに存在する基の少なくとも１つが上述の好ましい意味の１つを有するものが好ましい。

大工の化合物において、環Ｃｙｅおよびピペリジンがトランス−１，４−ジ置換されている立体異性体が好ましい。

１つまたはそれ以上の基Ｐｙｄ　、　Ｐｙｒおよび／またはＤｉｏを含んでいる上述の式の化合物は、それぞれの場合において、２つの２．５位置異性体を包含するものである。

１．４−シクロヘキセニレン基が以下の構造：を有するのが好ましい。

式■の化合物は、文献［例えば、シュトットガルトのゲオルグースイ−ｙｔ　（Ｇｅｏｒａ−Ｔｈｉｅｍｅ）出版社発行のホーベン−フィル（Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ）、「有機化学の方法（Ｈｅｔｈｏｄｅｎｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ）　Ｊ　、Ｖｏｌ、　ＩＸ　、　ｐｐ、８６７　ｆｆのような定本］に記載されているようにそれ自体公知の方法によって、すなわち、公知の前記反応に適した反応条件下に製造される。同様に、それ自体公知であるが、ここではさらに詳細には説明しない兵法らここで使用することができる。

本発明に従う式■のトリフルオロメチルシクロヘキシル化合物は、例えば式に従って式Ｉに従うシクロヘキサンカルボン酸を三弗化ジアルキルアミノ硫黄、例えばＤＡＳＴ　（三弗化ジエチルアミノ硫黄）　［１４，Ｊ、ミッドルト：ｙ　（ＨｉｄｄｌｅｔＯｎ）、Ｊ、　Ｏｒｇ。

Ｃｈｅｗ、　、土ユ、５７４、（１９７５）　］または四弗化硫黄［＾、ハウス（Ｈａｕｓ）　、Ｈ，スピッツ７−　（５ｐｉｔｚｅｒ）、台、リーベ（Ｌｉｅｂ）　、Ｃｈｅｗ、　Ｂｅｒ、、１２１　（１９８８）　、１３２９］と反一応させることによって製造することができる。

さらに、接触水素添加［例えば、Ｋ、　１４．ボールドリン、ＨｌＪ、Ｔ、ロビンソン、テトラヘドロン、１ユ、１６６３〜１６６８　（１９７７）に準じて］によって対応するトリフルオロフェニル化合物から式■の化合物を製造することができる。

さらに、式Ｉの化合物は、式ＩＩＹ　は−（ＣＨ）　−Ｙ３．−ＣＨ０＊たはＣＮであｎす、Ｙ２はＨであり、またＹｌおよびＹ２は一緒にＯであり、Ｙ３はＯＨ、ハロゲンまたはｏ−８０２−Ｃ７Ｈ７であり、およびｎは０．１または２である）の対応する４−置換１−トリフルオロメチルシクロへキサンを弐■、Ｒ−（Ａ１ −Ｚ’　）　−Ａ２−２３にＱＷ１切にｔ換した化合物と反応させることによって製造することができる。

式ＩＩの新規の化合物も同様に本発明の主題を構成する。

ｚ２がＣＨＯまたは０ＣＨ２である式■の化合物は、例えば、Ｙ　が（ＣＨ２）。−Ｙ　である式ＩＩの化合物を、Ｚ３がＣＨ２０ＨまたはＯＨである式■の化合物を用いてエーテル化することによって得られる。

ｚ２がＣＨＣＨである式■の化合物は、例えば、Ｚ３がＣＨＮｅｔであって、ＮｅｔがＬｉ、　Ｈａ、　Ｋ、はＣＨＯである式ＩＩの化合物と反応させ、引き続き得られたゲｊ・ンまたはエチレン誘導体を反応させることによって製造することができる。

Ｚ２が一重結合である式Ｉの化合物は、例えば、Ｚ３がＮｅｔである弐■の化合物をＹｌおよびＹ２が一緒にＯである式ＩＩの化合物と反応させ、引き続き生成物を脱水し、そして必要に応じて得られたシクロヘキセン誘導体を接触水素添加することによって得ることができる。

さらに、式Ｉの化合物は、例えばＣ，Ｆ、オラー（Ｏｌａｈ）等、Ｊ、　ＡＩｌ、　Ｃｈｅｎ、　Ｓａｃ、　、１１１．３９３〜３９５　（１９８９）の方法によって式Ｉに従うシクロヘキサノンを、例えば四塩化チタンまたは臭化亜鉛のようなルイス酸の存在下または、例えば弗化テトラブチルアンモニウムまたは弗化セシウムのような弗化物の存在下にＮｅｔがＬｉ、　Ｎａ、　Ｋ、　ＨｇＢｒまたはＨｇＣｌであるトリフルオロメチル−〇ｆ３ｔと、またはトリメチル（トリフルオロメチル）シランと反応させ、そして脱水試薬の存在下に対応するトリフルオロメチルヒドリンを脱水することによって　（単語脱落）することができる。

ＴＭＳ−ＣＦ３／Ｆｅ又！、ｔ　ルイスｎ適切な脱水試薬は、例えばＰ２Ｏ５、ＰＯＣｌ３、ＰＣｌ３、に従ってルイス酸によって触媒される２−トリフルオロメチルブタジェンと適切なビニル化合物とのディールス−アルダ−縮合［例えば、■、コジマ（にｏｊｉｍａ）　、Ｔ、イヌハイ（Ｉｎｕｈａｉ）　、Ｊ、　Ｏｒｃ＋、　Ｃｈｅｗ、　、３５　（５）　、１３４２〜１３４８（１９７０）の方法によって］製造することができる。

図式ＩＩこの方法を使用して、ｚ２が一〇−ＣＯである式■の化合物、特に式１１ａ（式中、ＹｌがＣＨＯ，ＣＮまたはＣ０ＯＲであり、およびＲｏがＨまたは１〜６個のＣ原子を有するアルキルである）の中間体を製造するのが好ましい。

２−トリフルオロブタジェンは、■、イヌハイ、Ｈ，カサイ（にａｓａ　ｉ　）、Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｒｉ、　、　３０．３５６７　（１９６５ンの方法によって１．１．１−トリフルオロアセトンから得ることができる。

式Ｉ２の２−　（４−）リフルオロメチルシクロヘキシル）ジオキサンは、図式 ■に従って適切に置換されたプロノ（ンジオールと４−ホルミルトリフルオロメチルシクロヘキサンとを縮合させることによって製造される。

図式■ 適切に置換されたプロパンジオールは図式■に従ってマロン酸エステルをアルキル化することによって、またはＤＥ３，２２７，９１６に記載された方法に準じて製造される。

図式ＩＶ所望ならば、反応混合物からそれらを単離する代わりに即座にそれらをさらに反応させて式■の化合物を生成すことによって、出発物質を現場で生成することもでさる。

例えば、式１の化合物は、１つまたはそれ以上の還元性基および／またはＨ原子の変りにＣ−Ｃ結合を含んでいるが、そのほかの点では式Ｉに対応する化合物を還元することによって製造することができる。

適切な還元性基はカルボニル基、特にゲト基、さらには、例えば遊離またはエステル化水酸基あるいは芳香環に結合したハロゲン原子であるのが好ましい、還元に対して好ましい出発物質は式■に対応するが、シクロヘキサン環の代わりにシクロヘキセン環、シクロヘキサノン環またはフェニル環を含み、および／または一〇ＨＣＨ２−基の代わりに−ＣＨ＝ＣＨ−基を含み、および／または−ＣＨ２ −基の代わりに一〇〇−基を含み、および／またはＨ原子の代わりに遊離または官能的に（例えば、そのｐ−トルエンスルホネートの形で）誘導されたＯＨ基を含んでいる。

還元は、例えば、不活性溶媒、例えばメタノール、エタノール、イン１０パノール等のアルコール、テトラしドロ７ラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル、酢酸エチル等のエステル、酢酸等のカルボン酸またはシクロヘキサン等の炭化水素巾約Ｏ℃〜約２００℃の温度および約１〜２００バールの圧力で接触水素添加することによって行うことができる。適切な触媒は、酸化物の形（例えば、ＰｔＯ□またはＰｄ０）で、支持体に担持（例えば、木炭、炭酸カルシウムまたは炭酸ストロンチウム上のＰｄ）させてまたは微粉状で使用することができるＰｔ、　Ｐｄ等の貴金属であるのが好ましい。

ケトン類をクレメンゼン（約８０〜１２０℃の温度で好ましくは水性アルコール溶液中または水／トルエン不均質相中で亜鉛、亜鉛アマルガムまたは錫および塩酸を用いる）またはウォルフーキシュナ−（約１００〜２００℃の温度でジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の高沸点溶媒中、好ましくはＫＯＨ，ＮａＯＨ等のアルカリの存在下にヒドラジンを使用する）の方法によって還元して、アルキル基および／または一〇　Ｈ２ＣＨ２ｍを含んでいる式■の対応する化合物を生成することもできる。

さらに、複合水素化物を使用する還元も可能である０例えば、アリールスルホニルオキシ基をＬｉ＾Ｉ８４を用いて還元的に除去することができる。詳細には、約０く１００℃の温度で、好ましくはジエチルエーテル、ＴＨＦ等の不活性溶媒中でｐ−トルエンスルホニルオキシメチル基がメチル基に還元される。二重結合はメタノール中のＮａＢＨ４＊たは水素化トリブチル錫を用いて水素化することができる。

１．４−フェニレン基の代わりに１．４−シクロヘキセニレン基を含むがそのほかの点では式Ｉに対応する式Ｉの化合物を、例えば適切な溶媒中のＤＤＱ　（ジクロロジシアノベンゾキノン）を用いて酸化することができる。

式Ｉのエステル類も、アルコールまたはフェノール（またはその反応性誘導＃）を用いて適切なカルボン酸くまたはその反応性誘導体）をエステル化することによって、またはＤＣＣ法＜ＤＣＣ＝ＣＣニジシクロルカルボジイミド）によって得ることができる。

それらに対応するカルボン酸およびアルコールまたはフェノールは知られているかまたは、公知の方法に準じて製造することができる。

上述のカルボン酸の適切な反応性誘導体は、特にハロゲン化アシル、とりわけ塩化物および臭化物、さらに無水物、例えば混合無水物も、アジドまたはエステル、特にアルキル基に１〜４個のＣ原子を有するアルキルエステルである。

上記アルコールまたはフェノールの適切な反応性誘導体は、特に、好ましくはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の対応する金属アルコラードまたはフェノラートである。

エステル化は不活性溶媒の存在下に有利に行うことができる。非常に適した溶媒は、特にジエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン、アニソール等のエーテル、アセトン、ブタノン、シクロヘキサノン等のゲトン、ＤＭＦ、ヘキサメチル燐酸トリアミド等のアミド、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素、テトラクロロメタン、ジクロロメタン、テトラクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素およびジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシドである。

式Ｉのニトリルを製造するために、適切な酸アミド、例えばＣＯＮＨ２基がＣＮ基に取って代わったものを脱水することができる。これらのアミドは、例えば、アンモニアと反応させることによって適切なエステルまたはハロゲン化アシルから得ることができる。Ｗｉ切な脱水剤は、例えば５ＯＣ１、ＰＣｌ３、ＰＣｌ５、ＰＯＣｌ３．５０２Ｃ１２、ＣＯＣｌ□等の無機酸の塩化物、さらにＰ２Ｏ５、Ｐ２Ｓ５、ＡｌＣｌ３＜例えばＮａＣｌとの複合化合物として）、芳貢族スルホン酸およびハロゲン化スルホニルである０反応は約０℃〜１５０℃の温度で不活性溶媒の存在下または不存在下に行うことができる０Ｍ切な溶媒は、例えばピリジン、トリエチルアミン等の塩基、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素またはＤＭＦ等のアミドである。

式■の上述のニトリル類を製造するために、テトラメチレンスルホン等の不活性溶媒巾約８０℃〜１５０℃の温度、好ましくは１２０℃で適切なハロゲン化アシル、好ましくは塩化アシルをスルファミドと反応させることもできる。

通常の操作後に、ニトリルを直接単離することができる。

式■のエーテル類は、対応するヒドロキシル化合物、好ましくは対応するフェノールをエーテル化することによって得ることができる。特に好適には、ヒドロキシル化合物を、まず対応する金属誘導体、例えば、ＮａＨ、ＮａＮ　Ｈ２、ＮａＯＨ，ＫＯＨ，Ｈａ２Ｃｏ３ｔ、たはに２ｃｏ３で処理することによってアルカリ金属アルコラードまたはアルカリ金属フェノラートに転化する０次に、特に好適には、これを、アセトン、１．２−ジメトキシエタン、ＤＭＦ、ジメチルスルホキシド等の不活性溶媒中、または同様に過剰のＮａＯＨまたはＫＯＨの水溶液もしくは水性アルコール溶液巾約２０℃〜１００℃の温度で適切なハロゲン化アルキル、スルホネートまたはに酸ジエチルと反応させることができる。

の温度で、例えばＤＭＦ、Ｎ−メチルピロリドン等の不活性溶媒中ピリジンの存在下に式Ｉの適切な塩素、臭素またはヨウ素化合物をシアニド、好ましくはＮａＣＮ、ＫＣＮ、ＣＬ１２　（ＣＮ　）　２等の金属シアニドと反応させることもできる。

Ａ１が少なくとも１個のＦ原子及び／またはＣＮ基で置換される式■の化合物は、例えばジーマンまたはサンドマイヤーの方法によってジアゾニウム基を弗素原子またはＣＮ基で置換することによって対応するジアゾニウム塩から得ることができる。

式■のジオキサン誘導体およびジチアン誘導体は、約り０℃〜約１５０℃、好ましくは８０°Ｃ〜１２０°Ｃの温度で、好ましくはベンゼン、トルエン等の不活性溶媒の存在下および／または触媒、例えば硫酸、ベンゼンスルホン酸、ρ−トルエンスルホン酸等の強酸の存在下に適切なアルデヒド（またはその反応性誘導体）を適切な１，３−ジオール（またはその反応性誘導体）あるいは適切な１．３−ジチオールと反応させることによって特に好適に製造される。

出発物質の適切な反応性誘導体は主としてアセタールである。

上述のアルデヒド、１．３−ジオールおよび１，３−ジチオールのあるもの、およびそれらの反応性誘導体のあるものは公知であり、そしであるものは有機化学の標準方法によって文献で知られている化合物から何の苦もなく製造される０例えば、対応するアルコールの酸化によっであるいはニトリルまたは対応するカルボン酸もしくはその誘導体の還元によってアルデヒドを得ることができ、対応するりエステルの還元によってジオールを得ることができ、そして対応するジハロゲン化物のＮａ５Ｈとの反応によってジチオールを得ることができる。

本発明による液晶媒体は本発明の１種以上の化合物のほかにもさらに別の成分として２〜４０、特に４〜３０成分を含んでいるのが好ましい、特に、これらの媒体は本発明の１種以上の化合物のほかに７〜２５成分を含んでいるのが非常に好ましい、これらのさらに追加の成分は、ネマティック又はネマティック相形成性（単変性又は等方性）物質、特にアゾキシベンゼン類、ベンジリデンアニリン類、ビフェニル類、テルフェニル類、安息香酸フェニル類または安息香酸シクロヘキシル類、シクロヘキサンカルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル類、シクロヘキシル安息香酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル類、シクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のフェニルまたハシクロヘキシルエステル票、安息香酸、シクロヘキサンカルボン酸およびシクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のシクロへキシルフェニルエステル類、フェニルシクロヘキサン類、シクロへキシルビフェニル類、フェニルシクロへキシルシクロヘキサン類、シクロへキシルシクロヘキサン類、シクロへキシルシクロヘキセン類、シクロへキシルシクロへキシルシクロヘキセン類、１．４−ビス−シクロヘキシルベンゼン類、４．４′−とスーシクロへキシルビフェニル類、フェニルピリミジン類またはシクロへキシルピリミジン類、フェニルピリジン類またはシクロへキシルピリジン類、フェニルジオキサン類またはシクロへキシルジオキサン類、フェニル−１，３−ジチアン類またはシクロへキシル−１，３−ジチアン類、１．２−ジフェニルエタン類、１．２−ジシクロヘキシルエタン顕、１−フェニル−２−シクロヘキシルエタン類、１−シクロヘキシル−２−（４−フェニルシクロヘキシル）エタン類、１−シクロへキシル−２−ビフェニルエタン類、■−フェニルー２− シクロへキシルフェニルエタン類、必要に応じてハロゲン化されるスチルベン類、ベンジルフェニルエーテル類、トラン類並びに置換ゲイ皮酸類の群から成る物質から選択するのが好ましい、これらの化合物における１、４−７エニレン基は弗素化されてもよい。

本発明による媒体のさらに別の成分として適した最も重要な化合物の特徴は次式１．２．３．４及び５によって示すことができる。

Ｒ”　−Ｌ−Ｅ−Ｒ″　ＩＲ”　−Ｌ−Ｃｏｏ−Ｅ−Ｒ＃　２Ｒ′−Ｌ−００Ｃ−Ｅ−Ｒ〜　３Ｒ”−Ｌ−ＣＨＣＨ−Ｅ−Ｒ″　４Ｒ′−Ｌ−ＣミＣ−Ｅ−Ｒ”　５一式１．２．３．４および５において、同一でも異なってもよいしおよびＥは、それぞれの場合において互いに独立して、　−Ｐｈｅ−、−Ｃｙｃ−１−Ｐｈｅ− Ｐｈｅ−１−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−、−Ｐｙｒ−、−Ｄｉｏ− 、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−〇−Ｃｙｃ−並びにそれらの鏡像基［但し、Ｐｈｅは未置換又は弗素置換１゜４−フェニレンであり、ＣｙＣはトランス−１，４−シクロヘキシレン又は１．４−シクロヘキセニレンであり、Ｐｙ「はピリミジン− ２，５−ジイルまたはピリジン−２、’　５−ジイルであり、Ｄｉｏは１，３− ジオキサン−２，５−ジイルであり、そしてＧは２−（トランス−１，４−シクロヘキシル）エチル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイルまたは１．３−ジオキサン−２，５−ジイルである］から成る群からの２価の基である。

基りおよびＥの１つはＣｙｃ、　ＰｈｅまたはＰｙｒであるのが好ましい。ＥはＣｙｃ、　ＰｈｅまたはＰｈｅ−Ｃｙｃであるのが好ましい。本発明の媒体は、しおよびＥがＣｙｃ、　ＰｈｅおよびＰｙｒから成る群から選択される式１．２．３．４および５の化合物から選択される１種以上の成分を含み、同時に基しおよびＥの１つがＣｙｃ、　ＰｈｅおよびＰｙｒから成る群から選択され、他方の基が−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−１−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−５−ｃｙｃ−ｃｙｃ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−から成る群から選択される式１．２．３．４及び５の化合物から選択される１種以上の成分を含み、さらに必要に応じて基りおよびＥが−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−〇−Ｃｙｃ−から成る群から選択される式１．２．３．４及び５の化合物から選択される１種以上の成分を含むのが好ましい。

下位式１ａ、２ａ、３ａ、４ａおよび５ａの化合物において、Ｒ′およびＲ″は、それぞれの場合において互いに独立して、８個までの炭素原子を有するアルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルカノイルオキシである。これらの化合物の大部分は、Ｒ′とＲ″が互いに興なり、これらの基の１つは通常アルキル又はアルケニルである。下位式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂの化合物において、Ｒ″は−ＣＮ、−ＣＦ３、Ｆ、ＣＩ又は−ＮＣＳである。

この場合Ｒは下位式１ａ〜５ａの化合物に関して示した意味であり、アルキル又はアルケニルであるのが好まし−い、しかしながら、式１．２．３．４及び５の化合物において提案した置換基の他のあらゆるものが共通する。そのような物質あるいはまたそれらの混合物の多くは市販されている。これらの物質は全て文献で知られている方法又はそれに準じる方法によって得ることができる。

化合物１ａ、２ａ、３ａ、４ａ及び５ａから成る群（１群）からの成分以外に、本発明の媒体は化合物１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂ及び５ｂから成る群（２群）からの成分も含んでいるのが好ましい。

それらの割合は次の通りであるであるのが好ましい。

１群＝２０〜９０％、特に３０〜９０％２群：１０〜８０％、特に１０〜５０％。

の合計は１００％となる。

本発明に従う媒体は１〜４０％、特に５〜３０％の本発明の化合物を含んでいるのが好ましい、４０％より多い、特に４５〜９０％の本発明の化合物を含んでいる媒体がさらに好ましい、媒体は３．４または５種の本発明の化合物を含んでいるのが好ましい。

本発明の媒体はそれ自体通常の方法で製造される。一般に、これら成分は高温で特に好適に互いに溶解する。適切な添加剤によって、液晶相は、それらがこれまでに開示された全ての種類の液晶ディスプレイ要素に使用できるように本発明に従って改質することかできる。この種の添加剤は当業者に知られており、また文献［例えば、■、ゲルカー（にｅｌｋｅｒ）及びＲ，ハッッ（Ｈａｔｚ）、「液晶ハンドブック（Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｌｉｑｕｉｄ　ｃｒｙｓｔａｌｓ）Ｊ　、化学出版社、ワインハイム、１９８０１に詳細に記載されている。例えば、２色性染料を添加して着色ゲスト−ホスト系を製造し、またある種の物質を添加して、ネマティック相の誘電率異方性、粘度および／または配向を調節することができる。

本発明の媒体はＭＬＣディスプレイに使用するのに特に適している。

以下の実施例は本発明を説明するものであって、本発明を限定するものではない、ｍｐ＝融点、ｃｐ＝透明点０以上および以下において、パーセントは重量％であり、温度は全て℃表示である。「通常の操作」とは、水を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、有機相を分離して乾燥および蒸発させ、そして生成物を結晶化および／またはクロマトグラフィーによって精製することを意味する。

さらに、略語は以下の意味を有する。

Ｃ：結晶固体、Ｓ：スメクティプク相（表示は相の種類を表わす）、Ｎ：ネマティック状態、Ｃｈ：コレステリック相、■＝等方性相、２つの記号間の数字は℃ 基準の転移温度を示す。

ＤＡＳＴ　三弗化ジエチルアミノ硫黄ＤＣＣジシクロへキシルカルボジイミドＤＤＱ　ジクロロジシアノベンゾキノンＤ　Ｉ　ＢＡＬＨ水素化ジイソブチルアルミニウムＤＭＳＯジメチルスルホキシドＰＯＴ　カリウムｔｅｒｔ−ブタノラードＴＨＦ　テトラヒドロフランｐＴｓＯＨＰ　ｈルエンスルホン酸実施例１トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサンカルボン酸０．４７モルの４−トリフルオロメチル安息香酸エチル（塩化４−トリフルオロメチルベンゾイル、エタノールおよびピリジンから製造）、１０００１のエタノールおよび２０ｇのロジウム／活性炭（５％）の混合物を５バールの圧力および６０℃の温度で５時間水素添加する。濾過によって触媒を除去しおよび溶媒を除去した後に得られた４−トリフルオロメチルシクロヘキサンカルボン酸エチル（シス／トランス＝８７％／１３％）を前もって精製することなく３００ｍ１の水に懸濁させ、７０ｇの３０％水酸化ナトリウム溶液で処理する。この混合物を沸騰するまで手短に加熱して、室温で１８時間撹拌する。塩酸を用いて酸性化することによって、シス／トランス混合物としてカルボン酸を得る。

このＧｏ、３８モルと塩化チオニル１５０１１との混合物を４８時間煮沸する。

過剰の塩化チオニルを留去した後、５００１１の水および１００ｎｌの３０％水酸化ナトリウム溶液を添加し、反応混合物を６０℃で２時間撹拌する。酸性化および石油エーテルでの再結晶化によって、１５５℃の融点を有する純粋のトランス／カルボン酸を得る。

実施例２トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサノール０．３モルの４−トリフルオロメチルフェノール、１０００１のエタノールおよび２０ｇのロジウム／活性炭（５％）の混合物を５バールの圧力および６０℃の温度で２時間水素添加する。固形成分を一過によって除去し、溶媒を留去することによって、シス／トランス混合物（３０％／７０％）として目的のシクロヘキサノールを得る。３．３ −ジメチル−２−ブタノンの存在下にトルエン中のアルミニウムトリイソプロピラードと共に加熱し、引き続き再結晶化することによってこの混合物から純粋のトランス化合物を得る。

実施例３トランス−４−トリフルオロメチル−１−ホルミルシクロヘキサン０．０５モルのトランス−４−トリフルオ口メチルシクロヘキサンカルボン酸（実施例１におけると同様に製造）を０℃において１００１１１の臭化イソブチルマグネシウムのエーテル溶液（１モル／ｊ　）および０．３ミリモルのジクロロビス［π−シクロペンタジェニル］チタンに滴下し、混合物を室温で４時間撹拌する。３０１の４規定塩酸を添加し、そして通常の操作を行って、無色油状物として生成物を得る。

実施例４トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサンカルボン酸トランス、トランス−４′−プロピルビシクロヘキシル０．００５モルのトランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサンカルボン酸、０．００５モルのトランス、トランス−４−１０ピルビシクロへキシル−４′ −オール、１００１のジクロロメタン、０．００５ミリモルの４−Ｎ。

Ｎ−ジメチルアミノピリジンおよび０．００７モルのＤＣＣの混合物を室温で２時間撹拌する。固形成分を一過によって除去し、そして通常の操作を行って、無色固形物として生成物を得る（Ｃ８９５Ｂ１６５　Ｉ、Δｎ　０．０６５、Δε 　十１０．０１）。

以下の化合物を同様に製造する。

実施例５トランス−４−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル０．００５モルのトランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサノール（実施例２におけると同様に製造）を用いて、０．００５モルのトランス−４−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸を実施例４に準じてエステル化する。生成物を無色固形物として得る。

以下の化合物を同様に製造する。

実施例６トランスー４−へ１チルシクロヘキシルメチルトランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシルエーテル０．１１モルの臭化トランス−４−へブチルシクロヘキシルメチルと８０１のＴＨＦとの混合物を０℃において０．１モルのナトリウム（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサノラード）（０，１モルのトランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサノールと０．１モルの水素化ナトリウムとから製造）と２００１のＴＨＦとの混合物に添加する。この混合物を６０℃で３時間撹拌し、そして通常の操作を行うことによって無色固形物として生成物を得る。

以下の化合物を同様に製造する。

臭化トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシルメチル（水素化リチウムアルミニウムを用いて還元し、引き続き三臭化燐を用いて臭素化することによってトランス−４−トリフルオロシクロヘキサンカルボン酸から製造）とトランス −４−アルキルシクロヘキサノールとを用いて、以下の化合物を同様に製造する。

実施例７１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２−（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）エテン０．２モルの臭化（トランス−４−プロピルシクロヘキシルメチル）トリフェニルホスホニウム（臭化トランス−４−プロピルシクロヘキシルメチルとトリフェニルホスフィンとから製造）と１５０１のＤＭＳＯとの混合物が０℃において０．２モルの水素化ナトリウムと１０（ｌｌのＤＭＳＯとの混合物に供給する［原文の通り］、この混合物を室温で１０分間撹拌した後、０．２モルのトランス− ４−トリフルオロメチル−１−ホルミルシクロヘキサン（実施例３におけると同様に製造）と５０１のＤＭＳＯとの混合物を滴下する。得られた混合物を６５゛Ｃで１時間加温し、通常の操作を行う、生成物を無色染料［原文の通り］として得る。

以下の化合物を同様に製造する。

実施例８１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２−（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）エタン０．１モルの１−（１−ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２−（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）エテノ、２００１のメタノールおよび５ｇのパラジウム／活性炭（１５％）の混合物を２バールの圧力および５０ °Ｃの温度において２時間水素添加する０通常の操作を行うことによって、無色固形物として生成物を得る。

以下の化合物を同様にして製造する。

Ｃ３Ｈ１１００Ｋ　４８　Ｌ　Δｔ　＋６．３．　Ａｎ　Ｏ，０２５Ｃ７Ｈ１５０ＱＣ３Ｈ７１０Ｋ　１５７５Ｂ（１５６）　Ｎ　１５８，５　ｒ。

Δｔ　＋８．７．　Δｎ　０．０５４実施例９トランス、トランス−４′−プロピル−４−トリフルオロメチルビシクロヘキサン０．３５モルのトランス、トランス−４′−ペンチルビシクロへキシル−４−カルボン酸と０．９モルの四弗化硫黄との混合物をオートクレーブ中で７０℃において１０日間加温する。生成物をペンタンに溶解し、溶液を水洗し、乾燥し、そして蒸発させる。蒸留および結晶化を行うことによって、生成物を得る（Ｃ４３Ｉ）。

以下の化合物を同様に製造する。

Ｃ５Ｈ工、ｏｏ−〇一実施例１０４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−トリフルオロメチルシクロヘキセン−１１０ミリモルの４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノン、１１ミリモルのトリメチル（トリフルオロメチル）シラン、１０ミリモルの弗化テトラブチルアンモニウムおよび５０１のＴＨＦの混合物を０℃で２時間撹拌する０通常の操作を行った後、粗生成物を２０１のＴＨＦに溶解し、１０ミリモルのＤＡＳＴを添加し、そして得られた混合物を沸騰するまで加熱する０通常の操作を行った後、粗生成物をクロマトグラフィ、−および結晶化によって精製する。

以下の化合物を同様に製造する。

実施例１１２−（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）−５−プロピル−１，３−ジオキサン０．０２モルのトランス−４−トリフルオロメチル−１−ホルミルシクロヘキサン（実施例３におけると同様に製造）、０．０２モルの２−１０ピルプロパンジオール、３０１のトルエンおよび０．５ｇのｐＴｓＯＨ［原文の通り］の混合物を水分離器上で４時間加熱する０通常の操作および結晶化を行った後に、純粋の生成物を得る。

Ｘ　ｎＨ］Ｃｏ５Ｘ　ｎ実施例１２２−（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）　−５−（トランス −４−ペンチルシクロヘキシル）−１，３−ジオキサン０．０２モルのトランス−４−トリフルオロメチル−１−ホルミルシクロヘキサン（実施例３におけると同様に製ロヘキシル）プロパンジオール（ＯＥ３，２２７，９１６におけると同様に製造）、３（１１のトルエンおよび０．５ｇのｐ’ ｒｓＯＨの混合物を水分離器上で６時間加熱する６通常の操作および結晶化を行った後に、生成物を得る。

以下の化合物を同様に製造する。

実施例１３１−（４′−ペンチルー２′−フルオロビフェニル−４−イル）−２−（）ランス−４−トリフルオロメチルヘキシル）エタン実施例７に準じて、０．２モルの臭化４′−ペンチルー２′−フルオロビフェニル−４−イルメチルおよび０．２モルのトランス−４−トリフルオロメチルホルミルシクロヘキサン（実施例３におけると同様に製造）から１−（４′−ペンチル−２−フルオロビフェニル−４−イル）−２−（トランス−４−トリフルオロメチルヘキシル）エテノを得る。後者の化合物をパラジウム／活性炭（１５％）を用いてメタノール中で実施例８に準じて水素添加する。

通常の操作および結晶化を行うことによって、純粋の生成物を得る。

以下の化合物を同様に製造する。

実施例１４トランス−４−（２−エチルピリミジン−５−イル）−トリフルオロメチルシクロヘキサン０．１モルの２−（ジェトキシメチル）ブチルアルデヒド（２−エチルマロン酸ジエチルから得られる）、０．１モルのトランス−４−トリフルオロメチルシクロへキシルカルボアミジン塩酸塩し６５℃において水溶液中の０−スルホン酸ヒドロキシルアミンで処理し、引き続き塩酸アルコール溶液と反応させることによって（実施例３参照）、トランス−４−トリフルオロメチル−１−ホルミルシクロヘキサンから得られる）および１００１のジメチルホルムアミドの混合物を１３０℃で４時間加熱し、さらに１００１のジメチルホルムアミドを添加した後、１３０℃でさらに１６時間加熱する０通常の操作を行い、再結晶化によって純粋の生成物を得る。

以下の化合物を同様に製造する。

混合物実施例Ａ以下の成分から成る基混合物（Ａ）を９０重量％含有する液晶媒体を製造する。

２４重量％のｐ−（トランス−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル：３６重量％のＰ−（トランス−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル；２５重量％のＰ−（トランス−へブチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル；１５重量％の４′−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−シアノビフェニル；および１０％のトランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキサンカルボン酸トランス、トランス−４−プロピルシクロヘキシル。

混合物実施例Ｂ９０１１％の基混合物（Ａ）と１０重量％の２−（トランス、トランス−４′− プロピルビシクロへキシル−４−イル）−１−（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）エタンとを含有する液晶媒体を製造する。

混合物実施例Ｃ９０重量％の基混合物（Ａ）と１０重量％の２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−（トランス−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）エタンとを含有する液晶媒体を製造する。

国際調査報告国際調査報告ＥＰ　９０００５１３Ｓ＾　３５６８７

Claims

【特許請求の範囲】

１．式ＩＲ−（Ａ１−ＬＺ１）。−Ａ２−Ｚ２−（Ａ）−ＣＦ３［式中、Ｒは、未置換のまたはＣＮでもしくは少なくとも１種のハロゲンで置換され、その１つ以上の隣接しないＣＨ２基を−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、 −ＣＯ−Ｏ−および−Ｃ≡Ｃ−から成る群から選択される基で置き換えてもよい１８個までのＣを有するアルキルまたはアルケニル基であり、Ａ１およびＡ２は、それぞれ互いに独立してａ）その１つまたは２つのＣＨ基をＮで置き換えてもよい１，４−フェニレン基、ｂ）その１つまたは２つの隣接しないＣＨ２基を−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えてもよい１，４−シクロヘキシレン基、ｃ）１，４−シクロヘキセニレン、ヒペリジン−１，４−ジイル、１，４−ビシクロ［２，２，２］−オクチレンまたはナフタレン−２，６−ジイル基であり、基ａ）およびｂ）はハロゲン原子またはシアノおよび／またはメチル基でモノ置換またはポリ置換することができ、 ▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼であり、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ互いに独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＮ）− ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＮ）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＮＯ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＮＯ−、−Ｎ＝Ｎ −または一重結合であり、およびｏは０、１または２である］のトリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類。
２．Ａ１およびＡ２が、それぞれ互いに独立して、その１つまたは２つの隣接しないＣＨ２基を−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えてもよい１，４−シクロヘキシレン基であることを特徴とする請求項１記載のトリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類。
３．Ｚ２が−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＨ２ＣＨ２−であることを特徴とする請求項１または２記載のトリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類。
４．式Ｉ１ ▲数式、化学式、表等があります▼ Ｉ１（式中、Ｒ、Ａ１、−Ａ−、Ｚ１およびｏは先に定義した通りである）で表わされる請求項１または２記載のトリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類。
５．式Ｉ２ ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ａ１、−Ａ−、Ｚ１およびＯは先に定義した通りである）で表わされる請求項１または２記載の２−（トリフルオロメチルシクロヘキシル）ジオキサン［原文の通り］誘導体類。
６．式Ｉ２ａ ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ＸはＦ、Ｃｌ、ＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ−ＣｍＨ２ｍ＋１［原文の通り］、Ｏ −ＣｍＨ２ｍ＋１、Ｃ−ＣＨまたはＨであり、およびｍおよびｎは、それぞれ互いに独立して、０〜１０である）で表わされる請求項５記載の２−くトリフルオロメチルシクロヘキシル）ジオキサン誘導体類。
７．１，４−シクロヘキシレン基がトランス型であることを特徴とする請求項１〜６の１項に記載のトリフルオロメチルシクロヘキサン誘導体類。
８．電気光学ディスフレイ要素用の液晶媒体成分としての式Ｉの化合物類の使用。
９．１種以上の成分が式Ｉの化合物であることを特徴とする少なくとも２種の成分を有する液晶媒体。
１０．誘電体として請求項９記載の液晶媒体を含むことを特徴とする電気光学ディスプレイ。
１１．誘電体として請求項９記載の液晶媒体を含むことを特徴とする請求項８記載のマトリックス液晶ディスプレイ。