JPH03501247A - アリール‐五フツ化硫黄化合物 - Google Patents

アリール‐五フツ化硫黄化合物

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JPH03501247A
JPH03501247A JP63505011A JP50501188A JPH03501247A JP H03501247 A JPH03501247 A JP H03501247A JP 63505011 A JP63505011 A JP 63505011A JP 50501188 A JP50501188 A JP 50501188A JP H03501247 A JPH03501247 A JP H03501247A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 アリール−五フッ化硫黄化合物 本発明は下記の式Iで示される、新規なアリール−サルファペンタフルオライド 化合物(アリール−五フッ化硫黄化合物)に関する: (XO)11 〔式中、Rは、HまたはYであり、あるいはRはC原子1〜15個をそれぞれ有 するアルキル基またはアルケニル基であり、この基は非置換であるか、または少 なくとも1個の基Yにより置換されており、そしてまた、この基中に存在する1 個のCH,基または隣接していない2個以上のCH,基はまた、O原子および( または)SBR子により、ソシテ(あ6イ1t)−E−1−CO−1−O−CO −1−CO−O−1−o−co−o−1−S−CO−および(または)−CO− S−基により置き換えられていてもよく、 XOは、相互に独立して、それぞれYまたはCH,であり、 Xは、相互に独立して、それぞれXOまたはHであり、 YはCN5N、、NGO,NC3,77素まタハ塩素テアリ、Aは、相互に独立 して、それぞれ、 a) 1.4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個のCH,基または 隣接していない2個のCH,基はO原子により置き換えられていてもよい)、 b) 1.4−フェニレン基(この基中に存在する1個または2個以上のCH基 はNにより置き換えられていてもよい)、あるいは c) 1.4−シクロヘキセニレン、ピペリジン−1,4−ジイル、ビシクロ( 2,2,2)オクチレン、ナフタレン−2,6−ジイル、デカヒドロナフタレン −2,6−ジイルまたは1.2.3.4−テトラヒドロす7タレンよりなる群に 属する基であり、 基a)および基b)は置換基として、1個または2個のxoを有することができ 、 Zは、相互に独立して、それぞれ−CO−O−1−O−CO−1−CHxCHz −1−CHCN−CH,−1−CH,−CHCN−1−CH=CH−1−CミC −1−OCH,−1−CH,O−1−CH=N−1−N=CH−1−NO=N− 1−N=NO−ま Iこは単結合であり、 mは0、lまたは2であり、そして nは1.2または3である〕。
簡潔にするために、下記の記載において、Pheはl、4−7 x = L/  7 基でアリ、Cyはトランス−1,4−シクロヘキシレン基であり% Che はシクロヘキセニレン基であり、Biはビシクロ(2,2,2)オクチレン基で あり、Pydはピリジン−2,5−ジイル基であり、Pyrはピリミジン−2, 5−ジイル基であり、Pipはピペリジン−1,4−ジイル基であり、Ditは 1.3−ジチアン−2,5−ジイル基であり、そしてDi。
は1.3−ジオキサン−2,5−ジイル基であり、これらの基は非置換であるか 、または置換されていてもよい。
下の記載において、好ましくは、塩素またはフッ素である。
式Iで示される化合物は、類似の化合物と同様に、液晶相、特に、ねじれセルの 原則、ゲスト−ホスト効果、整列相の変形の効果、動的散乱の効果または2周波 法にもとづく表示体用の液晶相の成分として使用すること力jできる。
式Iで示される化合物はまた、SBE表示体、STN表示体またはOM+表示体 用の相の成分として使用するのにも適している。
本発明の目的は液晶相の成分として使用するのに適する、安定な液晶化合物もし くはメソーゲン性化合物を見い出すことにある。
式1で示されるアリール−五フッ化硫黄化合物が液晶相の成分として使用するの に、優れて適することが見い出された。特に、これらの化合物は比較的低い粘度 を有し、かつまた、分子会合体を形成する傾向を有していないか、またはこの傾 向を僅かに有しているだけであり、さらに同時に、きわ立った正の誘電異方性を 有する。これらの化合物を使用することによって、広いメソフェース範囲、有利 な光学異方性および誘電異方性ならびに好ましい弾性物性を有する、安定な液晶 相を得ることができる。
さらに、式1で示される化合物を提供することによって、種々の技術的性能の観 点から、液晶混合物の調製に適する液晶物質の範囲は、非常に一般的な様相で、 相当に拡大される。
式1で示される化合物は広い用途分野を有する。置換基を選択することによって 、これらの化合物は、液晶相を主として構成する基材として使用することができ る。
しかしながら、式1で示される化合物は、別のクラスの化合物よりなる液晶基材 に添加し、たとえばこのような誘電体の誘電異方性および(または)光学異方性 に影響を及ぼすことができ、そして(あるいは)そのしきい電圧および(または )粘度を減じることができる。
式1で示される化合物は、純粋な状態で、無色であり、そりてまt;、これらの 化合物は電気光学用途に有利に適する温度範囲内で液晶メンフェースを形成する 。これらの化合物は化学物質、熱および光に対して安定である。
従って、本発明は、式Iで示されるアリール−五フッ化硫黄化合物に関し、そし てまた、本発明は、これらの化合物の製造方法に関する。この方法は、p−リチ ウム−アリール−五フッ化硫黄化合物またはブロモマグネシウム−アリール−五 フッ化硫黄化合物を相当する親電子性化合物と反応させるか、あるいは相当する 1−アルキン化合物を、遷移金属触媒の存在の下に、p−ブロモアリール−五フ ン化硫黄化合物とカップリングさせるか、あるいは式lにおいて、H原子の代り Iこ、1個または2個以上の還元可能な基および(または)C−C結合を有する 、相当する化合物を還元剤で処理するか、あるいは、式Iにおいて、Zが−CO −O−または−0−CO−であり、そして(または)Rがカルボキシル基を含有 する、相当するエステル化合物を製造するために、相当するカルボン酸化合物ま たはその反応性誘導体の一種を、相当するアルコール化合物またはその反応性誘 導体の一種と反応させるか、あるいは式1において、Rがアルコキシ基であり、 ソシテ(または)Zは、−0CHz−または−〇H,O−基である、相当するエ ーテル化合物を製造するために、相当するヒドロキシ化合物をエーテル化する、 ことを特徴とする方法である。
本発明はまた、式1で示される化合物を液晶相の成分として使用することに関す る。本発明はまた、式Iで示される化合物の少なくとも1種を含有する液晶相8 よびまI;、このタイプの相を含有する液晶表示素子、特、に電気光学表示素子 に関する。
従って、式Iで示される化合物は、従属式1a〜Idで示される化合物(2個の 環を有する化合物):R−A−Phe−SFs I a R−A−PheX−5Fs I b R−A−Z−Phe−SF、 I c R−A−Z−PheX−5Fs I d従属式Is〜工Ωで示される化合物(3 個の環を有する化合物): R−A−A−Phe−SF、 I e R−A−A−PheX−SF、 I fR−A−A−Z−Phe−SFs I  gR−A−A−Z−PheX−SFs I hR−A−Z−A−Phe−SFs  I 1R−A−Z−A−PheX−SFs I jR−A−Z−A−Z−Ph e−SFs I kR−A−Z−A−Z−PheX−5Fs I 1および従属 式Im〜Izbで示される化合物(4個の環を有する化合物): R−A−A−A−Phe−5Fs I mR−A−A−A−PheX−5Fs  I nR−A−A−A−Z−Phe−SFs I 。
R−A−A−A−Z−PheX−SFs I pR−A−A−Z−A−Phe− 5Fs I qR−A−A−Z−A−PheX−5Fs I rR−A−Z−A −A−Phe−SFs I 5R−A−Z−A−A−PheX−SFs I t R−A−A−Z−A−Z−Phe−3Fs I uR−A−A−Z−A−Z−P heX−SFs I vR−A−Z−A−A−Z−Phe−5Fs I wR− A−Z−A−A−Z−PheX−5Fs I xR−A−Z−A−Z−A−Ph e−SFs I VR−A−Z−A−Z−A−PheX−5Fs I zR−A −Z−A−Z−A−Z−Phe−SFs I zaR−A−Z−A−Z−A−Z −Phe−5Fa I zbを包含する。
これらの中で、従属式1as Idb IeおよびIgで示される化合物は特に 好ましい。
前記の、および後記の、式で示される化合物において、Rは、好ましくはアルキ ルであり、そしてまた、アルコキシである。さらにまた、Rの好ましい意味は、 オキサアルキル、特に2−オキサアルキルおよびアルケニルである。
基Aは、同一または異なることができ、好ましくは、Cy、 Phe、 Phe X、 PydまたはPyrである。cyまたはPheは特に好ましい。好ましく は、式Iで示される化合物は、基B10基pydまたは基Pyrを1個より多く は含有しない。
前記および後記の、式Iおよび工の全部の従属式で示される化合物において、P heXは、好ましくは1.4−フェニレン基であり、この基は置換基として、1 個または2個のフッ素原子または塩素原子、あるいはメチル基またはシアノ基を 有する。2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレ ンおよび2+3 ’;フルオロー1.4−フェニレン基は特に好ましい。
nは、好ましくは1または2、特に好ましくは1であ基Zは、同一または異なる ことができ、好ましくは単結合であり、二番目に好ましいものとして、−CO− O−1−O−CO−1−C=C−まf: バーCH,CH,−基である。式Iに おいて、基Zが全部、単結合であるか、あるいは基Zの一つ(好ましくは、Ph eX−5Fsj::結合しティる基Z)が−CO−O−1−O−CO−または− CH、CH、−である、相当する化合物は特に好ましい。
Rがアルキル基および(または)アルコキシ基である場合には、この基は直鎖状 または分枝鎖状であることができる。好ましくは、この基は直鎖状であり、C原 子2.3.4.5.6または7個を有し、従って好ましくは、エチル、フロビル 、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、 ペントキシ、ヘキソキシまたはへブトキシであり、そしてまた、メチル、オクチ ル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペン タデシル、メトキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシ ルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシまたはテトラデシルオキシである 。
オキサアルキルは、好ましくは、直鎖状の2−オキサプロピル(−メトキシメチ ル)、2−オキサブチル(=メトキシエチル)または3−オキサブチル(=2− メトキシエチル)、2−13−または4−オキサペンチル、2−13−14−ま たは5−オキサヘキシル、2−13−14−15−または6−オキサヘプチル、 2−13−14−15−16−または7−オキサオクチル、2−13−14−1 5−16−17−または8−オキサノニルあるいは2−13−14−15−16 −17−18−または9−オキサデシルである。
R2がアルケニル基である場合には、この基は直鎖状または分枝鎖状であること ができる。この基は、好ましくは直鎖状であり、C原子2〜lO個を有する。従 って、この基は、特にビニル、プロプ−1−ノニル、プロプ−2−ノニル、ブド ー1−、ブドー2−またはブドー3−ノニル、ベント−1−1−2−1−3−ま たは−4−ノニル、ヘキス−1−1−2−1−3−1−4−または−5−エニル 、ヘプト−1−1−2−1−3−1−4−1−5−または−6−ノニル、オクト −1−1−2−1−3−1−4−1−5−1−6−または−7−ノニル、ノン7 −または−8−ノニルあるいはデク−1−1−2−1−3−1−4−1−5−1 −6−1−7−1−8−または−9−ノニルである。
Rがアルキル基であり、この基中に存在するCH,基が−0−CO−または−C O−O−により置き換えられている場合には、この基は、好ましくは直鎖状であ り、C[子2〜6個を有する。従って、この基は、特にアセトキシ、プロピオニ ルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセト キシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル キシメチル、2−アセトキシエチル、、2−プロピオニルオキシエチル、2−ブ チリルオキシエチル、3−アセトキシプロピル、3−プロピオニルオキシエチル 、4−アセトキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキ シカルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシカルボニ ルメチル、エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシ カルボニルメチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(エトキシカルボ ニル)エチル、2− (プロポキシカルボニル)エチル、3−(メトキシカルボ ニル)プロピル、3−(エトキシカルボニル)プロピルまたは4−(メトキシカ ルボニル)−ブチルである。
Rがアルケニル基であり、この基中に存在し、C−C二重結合に隣接しているC H,基が一CO−またはーCO−O−または−0−CO−により置き換えられて いる場合には、この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。この基は、 好ましくは直鎖状であり、C原子4〜13個を有する。従って、特に、アクリロ イルオキシメチル、2−アクリロイルオキシエチル、3−アクリロイルオキシエ チル、4−アクリロイルオキシブチル、5−アクリロイルオキシペンチル、6− アクリロイルオキシヘキシル、7−アクリロイルオキシヘプチル、8−アクリロ イルオキシオクチル、9−アクリロイルオキシノニル、10−アクリロイルオキ シデシル、メタアクリロイルオキシメチル、2−メタアクリロイルオキシエチル 、3−メタアクリロイルオキシプロピル、4−メタアクリロイルオキシブチル、 5−メタアクリロイルオキシペンチル、6−メタアクリロイルオキシヘキシル、 7−メタアクリロイルオキシヘプチル、8−メタアクリロイルオキシオクチルあ るいは9−メタアクリロイルオキシノニルである。
重合反応に適する、側鎖基Rを有する式Iで示される化合物は、液晶ポリマーの 製造に適する。
分枝鎖状側鎖基Rを有する式1で示される化合物は、これらが慣用の液晶基材中 で改良された溶解性を有することから、場合により、重要であることがあるが、 これらが光学活性である場合には、カイラルドーピング剤と、して、特に重要で ある。このタイプのスメクテイツク化合物は強誘電性材料の成分として使用する のに適している。
一般に、この種の分枝鎖状基は、多くて1個の鎖分枝を有する。好適な分枝鎖状 基Rはインフロビル、2−ブチル(−1−メチルフロビル)、イソブチル(−2 −メチルフロビル)、2−メチルブチル、インペンチル(−3−メチルブチル) 、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−エチルヘキシル、2−プロピ ルペンチル、インプロポキシ、2−メチルプロポキシ、2−メチルブトキン、3 −メチルブトキシ、2−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2−エチル ヘキソキシ、l−メチルヘキソキシおよびl−メチルへブトキシである。
Rがアルキル基であり、この基中に存在する2個または3個以上のCH,基が一 〇−および(または)−CO−O−により置き換えられている場合には、この基 は直鎖状または分枝鎖状であることができる。この基は、好ましくは分枝鎖状で あり、C原子3〜12個を有する。従って、この基は、特に、ビス−(カルボキ シ)−メチル、2.2−ビス−(カルボキシ)−エチル、3.3−ビス−(カル ボキシ)−プロピル、4.4−ビス−(カルボキシ)−ブチル、5.5−ビス− (カルボキシ)−ペンチル、6.6−ビス−(カルボキシ)−ヘキシル、7.7 −ビス−(カルボキシ)−へブチル、8.8〜ビス−(カルボキシ)−オクチル 、9.9−ビス=(カルボキシ)−ノニル、lo、lo−ヒス−(カルボキシ) −デシル、ビス−(メトキシカルボニル2、2−ビス−(メトキシカルボニル) −エチル、3,3−ビス−(メトキシカルボニル)−プロピル、4.4−ビス− (メトキシカルボニル)−ブチル、5.5−ビス−(メトキシカルボニル)−ペ ンチル、6.6−ビス−(メトキシカルボニル)−ヘキシル、7,7−ビス=( メトキシカルボニル)−ヘプチル、8.8−ビス−(メトキシカルボニル)ーオ クチル、ビス−(エトキシカルボニル)−メチル、2.2−ビス−(エトキシカ ルボニル)−エチル、3.3−ビス−(エトキシカルボニル)−プロピル、4, 4−ビス−(エトキシカルボニル)−ブチルあるいは5.5−ビス−(エトキシ カルボニル)−ペンチルである。
重縮合反応に適する側鎖基Rを有する式Iで示される化合物は、液晶重縮合物の 製造に適する。
式Iは、これらの化合物のラセミ体ならびにその光学対掌体およびその混合物を 包含する。
式1で示される化合物が不斉C原子を含有する場合には、式Iはラセミ体、およ びまた、光学活性エナンチオマーおよびエナンチオマーの混合物を包含する。
式1および前記のおよび後記する、式■の従属式で示される化合物の中で、好ま しい化合物は、その分子中に存在する基のうちの少なくとも一つが前記の好まし い意味のうちの一つを有する化合物である。
従って、従属式Iaで示される好ましい化合物は、下記の従属式I aa= I  ajで示される化合物を包含する:RーPheーPheーSFs I aaR −PheX−Phe−SFs I abR−Cy−Phe−SFs I ac R−Che−Phe−SFs I adR−Bi−Phe−SFs I ae R−Pyd−Phe−SFs I afR−Pip−Phe−SFs I ag R−Dio−Phe−SF. I ahR−Dit−Phe−SF. I ai R−Pyr−Phe−SFs I aj従属式I b − I Qで示される化 合物の中では、下記の従属式11〜I48で示される化合物が特に好ましい:R ーPheーPheXーSFs I 1R−Cy−Cy−Phe−Phe−5Fs  I 50R−Cy−PheX−Phe−Coo−Phe−SFs I 51R −Cy−Phe−Phe−Phe−SFs I 52R−Cy−Phe−Phe −C=C−Phe−5Fs I 53R−Phe−Phe−Cy−Co、−Ph e−SFs I 54R−Phe−Phe−Che−Cot−Phe−5Fs  I 55R−Phe−Phe−OCO−Che−Phe−5Fs I 56R− Phe−Phe−OCO−Cy−Phe−SFi I 57R−Cy−Phe− Phe−0−Co−Phe−SFs I 58R−Cy−Phe−Phe−0− CHz−Phe−SFs I 59式1で示される化合物は文献〔たとえばHo uben−Way 1によるMethoden der Organische n Chemie(Georg−Thieme出版社、Stuttgart市〕 のような標準的学術書〕番;記載されているようなそれ自体既知の方法により、 4−置換フェニル一五フッ化硫黄化合物から製造することができ、この4−置換 フェニル一五フッ化硫黄化合物は、たとえば文献(W、A、 5heppard によるJ、Am、 Cheto、 SOC,84%3064頁、1962)に従 い得られる。
この場合の出発物質はジー(p−ニトロフェニル)ジスルフィドであり、この化 合物をニフツ化銀と反応させると、p−ニトロフェニル−五フッ化硫黄が生成す る。
この生成物は次いで、多くの4−置換フェニルm=フッ化硫黄の出発化合物とし て使用することができる。
この出発物質はまた、所望により、これらを反応混合物から単離せずに、直ちに さらに反応させて、式Iで示される化合物を生成するような方法によって、その 場で生成させることができる。
式■において、R=アルキルであり、この基中に存在する1個または2個のCH 2基が一〇−CO−基および(または)−CO−O−基により置き換えられてお り、そして(または)Zが−CO−O−または一〇−C叶である、相当するエス テル化合物はまた、相当するカルボン酸化合物(またはそれらの反応性誘導体) をアルコールまたはフェノール化合物(あるいはそれらの反応性誘導体)でエス テル化することにより得ることもできる。
前記カルボン酸化合物の特に適当な反応性誘導体は酸ハライド化合物、中でもク ロライド化合物およびブロマイド化合物、およびまた酸無水物、アジド化合物あ るいはエステル化合物、特にアルキル基中にCl子1〜4個を有するアルキルエ ステル化合物である。
前記アルコールまたはフェノール化合物の適当な反応性誘導体は、特にNaまた はKのようなアルカリ金属の相当する金属アルコレートまたは金属フエナートで ある。
このエステル化は有利には、不活性溶媒の存在の下に行なう。好適な溶媒は、特 にエーテル類、たとえばジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、THF、 ジオキサンまたはアニソール、ケトン類、たとえばアセトン、ブタノンまたはシ クロヘキサノン、アミド類、たとえばDMF、 N、N−ジメチルプロピレン尿 素またはリン酸へキサメチルトリアミド、炭化水素類、たとえばベンゼン、トル エンまたはキシレン、ハロゲン化炭化水素類たとえばメチレンジクロライド、四 塩化炭素またはテトラクロロエチレン、およびスルホキシド類、たとえばジメチ ルスルホキシドまたはスルホランである。水不混和性溶媒を同時に有利に使用す ることができ、これによりエステル化中に生成された水を共沸蒸留により留去す ることができる。場合により、エステル化用溶媒として、過剰の有機塩基、たと えばピリジン、キノリンまたはトリエチルアミンを使用することもできる。エス テル化はまた溶媒の不存在の下に、たとえば反応成分を酢酸ナトリウムの存在の 下に単純に加熱することにより行なうこともできる。反応温度は通常、−50〜 +25001好ましくは一206〜+80°である。これらの温度で、エステル 化反応は、一般に15分〜48時間後に完了する。
各場合において、エステル化の反応争件はほとんど使用する出発物質の種類に依 存する。すなわち、遊離カルボン酸は遊離アルコールまたはフェノールと一般に 強酸、たとえば塩酸または硫酸のような鉱酸の存在の下に反応させる。好適な反 応方法は酸無水物、または特に酸クロライドをアルコールと、好ましくは塩基性 媒質中で反応させる方法であり、二の場合に塩基としては、水酸化ナトリウムま たは水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸水素 ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属の炭酸 塩あるいは炭酸水素塩、酢酸ナトリウムまたは酢酸カリウムのようなアルカリ金 属酢酸塩、水酸化カルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物、あるいはトリ エチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジンまたはキノリンのような有機塩基 が特に重要である。もう一つの好適なエステル化方法は上記のアルコールまたは フェノールを先ずたとえば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムのエタノール 溶液で処理することによりナトリウムアルコレートまたはナトリウムフエナート あるいはカリウムアルコレートまたはカリウムフエカートに変換し、このアルコ レートまたは7エナートを単離し、次いでこれを、酸無水物、または特に、酸ク ロライドと反応させることよりなる。
式Iで示されるエステル化合物を製造するための、好ましい方法は、相当するカ ルボン酸化合物を、カルボジイミド、特にジシクロへキシルカルボジイミドの脱 水作用の下に、不活性溶媒中で、必要に応じて、反応を促進するための触媒とし て、4−N、N−ジメチルアミノピリジンを使用し、相当するアルコールまたは フェノールと反応させる方法である。
式Iにおいて、Rがアルキル基であり、この基中に存在する1個または2個のC H2基が0原子により置き換えられており、そして(または)Z′および(また は)がか−0CR,−基あるいは一〇H,O−基である、相当するエーテル化合 物は、相当するフェノール化合物のエーテル化によ’J4ることかできる。この ヒドロキシ化合物は好ましく′は先ず、相当する金属誘導体に、たとえばNaH ,NaNH2、NaOH,KOH,Na2GO,またはに、Co、で処理するこ とにより相当するアルカリ金属アルコレート化合物またはアルカリ金属フエナー ト化合物に変換する。このアルコレートまたは7エナートは次いで、相当するア ルキルハライド、アルキルスルホネートまたはジアルキルスルホネート化合物と 、好ましくはアセトン、l、2−ジメトキシエタン、DMFまたはジメチルスル ホキシドなどの不活性溶媒中で、あるいはまた過剰の水性または水性−アルコー ル性NaOHまたはKOH中で、約20°〜100°の温度において反応させる ことができる。
式Iにおいて、Aが芳香族構造を有し、モしてRが慣用の意味を有し、かつまた 側鎖で置換されている、相当するフッ素または塩素化合物を製造するI;めには 、相当するアニリン誘導体を亜硝酸ナトリウムと反応させ、次いでテトラフルオ ロホウ素酸により(F原子を導入するため)、あるいは塩化銅(I)により(C QW子を導入するため)、ジアゾニウム塩に変換し、次いでこの生成物を100 °〜140°で加熱することによって分解させることかで芳香族核を、非芳香族 核に、または2側の非芳香族核に、結合させるためには、好ましくは、有機リチ ウム化合物または有機マグネシウム化合物を、ケトンまたはアルデヒドと縮合反 応させ、あるいは核と核との間に脂肪族基Zを存在させようとする場合には、ケ トンと縮合反応させる。
この有機金属化合物は、たとえば相当するハロゲン化合物と有機リチウム化合物 、好ましくは、!二とえばtert−ブチルリチウムまたはリチウムナツタリド との間の金属−ハロゲン交換によって〔たとえば、Org、 React、6. 339〜366頁(1951)参照〕、あるいはマグネシウム片との反応によっ て、製造される。
2個の芳香族環または1個の脂肪族基Zを芳香族環に結合させるためには、好ま しくは、相当するハロゲン化合物を、ルイス酸による触媒作用の下に、相当する 芳香族化合物と反応させることによる、Fr1edel−Craftsアルキル 化またはアシル化によって行なう。適当なルイス酸の例は、5nC4,、ZnC Q、および特に、AQC(isおよびTiCQ4である。
2個の芳香族環の結合はまた、ヨウ化銅を使用するアリールヨーダイト間の、し かし好ましくは、アリール−銅化合物とアリールヨーダイトとの間の、Lll1 mann反応(たとえば、5ynthesis坦岨、9頁参照)によって、ある いはアリールジアゾニウム塩と相当する芳香族化合物との間のGomber−B achmann反応〔たとえば、Org’、 React、25224頁(19 44)参照〕によって、行なうこともできる。式!で示されるトラン化合物(2 ・−C=C−)の製造は、たとえば相当するアリールハライド化合物を、塩基性 溶媒中で、遷移金属触媒を用いて、アセチライドと反応させることによって行な う。この場合には、パラジウム触媒、特にビス−(トリフェニルホスフィン)− パラジウム(II)クロライドとヨウ化銅との混合物を、溶媒としてのピペリジ ン中で、好ましく使用することができる。
さらにまた、式Iで示される化合物は、式Iに相当する化合物で、その分子中に 、H原子の代りに、1個または2個以上の還元可能な基および(または)C−C 結合を有する化合物を還元することによって製造することができる。
適当な還元可能な基は、好ましくはカルボニル基、特にケト基およびまた、たと えば遊離の、またはエステル化されているヒドロキシル基または芳香族核に結合 しているハロゲン原子である。還元に好適な出発物質は、式Iにおいて、シクロ ヘキサン環の代りに、シクロヘキセン環またはシクロヘキサノン環を有し、そし て(または)−CFI、CH,−基の代りに−cH−cH−基を有し、そして( または)−CH,−基の代りに−C〇−基を含有し、そして(または)H原子の 代りに、遊離のまたは官能性に変えられている(たとえばそのI)−トルエンス ルホネートの形) OR基を有する相当する化合物である。
還元は、たとえば、約0″〜約200°の温度で、約1〜200バールの圧力の 下に、不活性溶媒、たとえばメタノール、エタノールまたはイソプロパツールの ようなアルコール、テトラヒドロフラン(THF)またはジオキサンのようなエ ーテル、酢酸エチルのようなエステル、酢酸のようなカルボン酸あるいはシクロ ヘキサンのような炭化水素中で、接触水素添加により、行なうことができる。
適当な触媒は好ましくは、PtまたはPdのような貴金属であり、これらは酸化 物の形で(たとえば、PtO,またはPd0)、支持体上で(たとえば、木炭、 炭酸カルシウムまたは炭酸ストロンチウム上のPd) 、あるいは微粉砕された 形で使用することができる。
ケトン化合物はまた、Clemmensenの方法(この方法では、アニン、ア ニンアマルガムまたはスズと塩酸とを、好ましくは水性−アルコール性溶液中ま たは水/トルエンを用いる不均質相系中で、約80〜120′′の温度で使用す る)、あるいはWolff−Kishnerの方法(この方法では、ヒドラジン を、好ましくはKOHまたはNaOHのようなアルカリの存在の下で、ジエチレ ングリコールまたはトリエチレングリコールのような高沸点溶媒中において、約 100〜200°の温度において使用する)により還元することができ、アルキ ル基および(まI;は) −CH,CH2−架橋を有する式Iで示される相当す る化合物を生成することができる。
複合水素化物を用いる還元もまた使用できる。−例として、アリールスルホニル オキシ基はLiAQH+を用いる還元により分離でき、そして特に、p−トルエ ンスルホニルオキシメチル基は、好ましくはジエチルエーテルまたはTHFのよ うな不活性溶媒中で、約0〜100”の温度において、メチル基に還元すること ができる。二重結合はメタノール中でNaBH,またはトリブチル−スズ水素化 物を用いて水素添加することができる。
適当な稀釈剤は、好ましくはエーテル類、たとえばジエチルエーテル、ジブチル エーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン、アミド類、たとえばジメチル ホルムアミドまたはへキサメチルリン酸トリアミド、炭化水素類、たとえばヘキ サン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンまたはキシレン、ハロゲン化炭化水 素類、たとえばメチレンジクロライド、クロロホルム、四塩化炭素またはテトラ クロロエチレン、スルホキシド類、たとえばジメチルスルホキシドまたはスルホ ラン、アルコール類、!二とえばメタノール、エタノールまたはイングロパノー ル、およびその他の有機溶剤、たとえばアセトニトリルおよびニトロメタンであ る。水またはこれらの溶剤の相互の、および(または)水との混合物もまた、上 記反応に適する。反応温度は、−20〜+100°、好ましくは0〜50°であ る。これらの温度で、反応は、一般に、30分〜24時間後に完了する。
本発明による液晶相は2〜25種、好ましくは3〜15種の成分よりなり、式1 で示される化合物の少くとも一種を含有する。他の成分は、好ましくはネマチッ クまたはネマトゲニツク物質、特にアゾキシベンゼン化合物、ベンジリデンアニ リン化合物、ビフェニル化合物、ターフェニル化合物、フェニルまたはシクロへ キシルベンゾエート化合物、フェニルまたはシクロへキシルシクロヘキサンカル ボキシレート化合物、フェニルシクロヘキサン化合物、シクロへキシルビフェニ ル化合物、シクロへキシルシクロヘキサン化合物、シクロへキシルナフタレン化 合物、l、4−ヒス−シクロヘキシルベンゼン化合物、4.4′−ヒス−シクロ へキシルビフェニル化合物、フェニルピリミジン化合物、シクロへキシルピリミ ジン化合物、フェニルジオキサン化合物、シクロへキシルジオキサン化合物、フ ェニルジチアン化合物、シクロへキシルジチアン化合物、l、2−ビス−フェニ ルエタン化合物、1.2−ビス−シクロヘキシルエタン化合物、1−フェニル− 2−シクロヘキシルエタン化合物、場合によりハロゲン化されているスチルベン 化合物、ベンジルフェニルエーテル化合物、トラン化合物および置換されている ケイ皮酸化合物の群の既知物質から選択される。
このタイプの液晶相の成分として使用できる最も重要な化合物は次式■で示すこ とができる特徴を有する:R’ −L−G−E−R“ ■ 〔式中、LおよびEは、それぞれ1,4−ジ置換ベンゼンおよびシクロヘキサン 環、4.4’−ジ置換ビフェニルシク1.3−ジオキサン環、2,6−ジ置換ナ フタレン、ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、キナゾリンおよびテ トラヒドロキナゾリンを含む群からの炭素環状または複素環状環系であり、 Gは −CH=CH−−N(0)=N−−CH=CY−−CH=N(,0)− −CiC−−CHz−CHz− −CH=N−−COO−Phe−COO−またはC−C単結合であり、Yはハロ ゲン、好ましくは塩素、あるいはYは一〇Nであり、そしてR′およびR#は1 8個まで、好ましくは8個までの炭素原子を有するアルキル、アルコキシ、アル カノイルオキシあるいはアルコキシカルボニルオキシであり、またはこれらの基 のうちの一つはまた、CN、 No2、CF、、F、 CQまI;はBrである ことができる〕。
これらの化合物の大部分において R/およびR#は、相互に異なり、これらの 基のうちの一方は、大部分の場合に、アルキル基またはアルコキシ基である。し かしながら、包含されるその他の種々の置換基も慣用である。かなりのこのよう な物質またはその混合物は市販されている。これらの物質の全部は文献から既知 の方法により製造することができる。
本発明による液晶相は、式Iで示される化合物の1種または2種以上を、約0. 1〜99%、好ましくは10〜95%の量で含有する。式Iで示される化合物の 1種または2種以上を、0.1〜40%、特に0.5〜29%の量で含有する液 晶相もまた好ましい。
式1で示される化合物の1種または2種以上を、0.1〜40%、好ましくは0 .5〜30%含有する、本発明による誘電体もまた好ましい。
光学活性の側鎖基を有する、式Iで示される化合物は、逆転ねじれを回避するた めに、およびまj;、弾性定数を改良するために、ネマティック液晶相の成分と して使用するのに適する。
式Iで示される光学活性化合物はまた、カイラルにチルトされたスメクテイツク 液晶相の成分として使用するのにも適している。
本発明による誘電体の調製は、それ自体慣用の方法で行なう。一般に、諸成分を 相互に、好ましくは高められI;温度で溶解させる。
本発明による液晶誘電体は、適当な添加剤を使用することにより、これらを従来 開示されているタイプの液晶表示素子のいずれにも使用できるように変性するこ とができる。
このような添加剤は当業者に既知であり、文献に詳細に記載されている。たとえ ば、導電性を改善するために、導電性塩、好ましくはエチルジメチルドデシル、 アンモニウム4−へキシルオキシベンゾエート、テトラブチルアンモニウムテト ラフェニルポラネートまたはクラウンエーテルの錯塩〔この化合物については、 たとえば1、 Haller等によるMo1. Cryst、 Liq、 Cr yst、 24巻、249〜258頁(1973年)を参照できる〕を添加する ことができ、着色ゲスト−ホスト系を生成するために二色性染料を添加すること ができ、あるいは誘電異方性、粘度および(または)ネマティック相の配向を変 えるための物質を添加することができる。このような物質は、たとえば、西ドイ ツ国公開特許出願公報第2,209.127号、同第2.240.854号、同 第2.321.632号、同第2.338.282号、同第2.450.088 号、同第2.637.430号、同第2,853,728号および同第2.90 2.177号に記載されている。
次側は本発明を説明するためのものであり本発明を制限するものではない。m、 p=融点であり、c、p−透明点である。本明細書全体を通して、パーセンテー ジは重量によるパーセンテージである。全ての温度は摂氏度で示すものである。
「慣用の方法で仕上げる」の用語は次の意味を有するものとする:必要に応じて 、水を加え、混合物を塩化メチレン、エーテルまたはトルエンで抽出し、相を分 離させ、有機相を乾燥させ、次いで蒸発させ、生成物を減圧の下で蒸留すること により、あるいは結晶化および(または)クロマトグラフィにより精製する。
例 l p−ペンチルベンゾイルクロライド11.6g、p−ヒドロキシフェニル−五フ ッ化硫黄11 + 1gおよびピリジン100rn(lの混合物を室温で20時 間、撹拌する。混合物を濃縮し、次いで慣用の方法で仕上げ処理し、4−(4− ペンチルベンゾイルオキシ)−7二二ルー五フツ化硫黄を得る。
同様にして、下記の化合物が製造される:4−(4−エチルベンゾイルオキシ) −フェニル−五7フ化硫黄 4−(4−7’口ピルベンゾイルオキシ)−7二二ルー五フツ化硫黄 4−(4−ブチルベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ヘキシルベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ヘプチルベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−オクチルベンゾイルオキシ 五フン化硫黄 4−(4−メトキシベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−エトキシベンゾイルオキシ)−7二二ルー五フツ化硫黄 4− (4−プロポキシベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ブトキシベンゾイルオキシ)−7二二ルー五フツ化硫黄 4−(4−へキシルオキシベンゾイルオキシ)−フェニルー五フツ化硫黄 4−(4−へブチルオキシベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−オクチルオキシベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (4− (トランス−4−エチルシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)− フェニル−五フッ化硫黄4−(4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル) ベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4− (4−(トランス−4−ブ チルシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4−(4− (トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)−フェニル−五 フッ化硫黄4−(4−(1−ランス−4−へブチルシクロヘキシル)ベンゾイル オキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4−(4−(トランス−4−オクチルシクロ ヘキシル)ベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4−(4−(トランス −4−メトキシシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−(トランス−4−エトキシシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)−フ ェニル−五フッ化硫黄4− (4− (トランス−4−プロポキシシクロヘキシ ル)ベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化WL黄4−(4−(トランス−4 −ブトキシシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4−  (4− (トランス−4−ペントキシシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)− フェニル−五フッ化i ’R4− (4− (トランス−4−ヘキソキシシクロ ヘキシル)ベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4− (4− (トラ ンス−4−へブチルオキシシクロヘキシル)ベンゾイルオキシ)−7二二ルー五 フッ化硫黄4− (4− (トランス−4−オクチルオキシシクロヘキシル)ベ ンゾイルオキシ)−フェニル−五フン化硫黄4−(4−エチルベンゾイルオキシ )−2−フルオロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−7’口ビルベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−ブチルベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ペンチルベンゾイルオキシ)−2−−yルオロフェニルー五フッ化硫 黄 4−(4−ヘキシルベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ヘプチルベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−オクチルベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−エトキシベンゾイルオキシ)−2−7.ルオロフェニルー五フッ化硫 黄 4−(4−7’ロポキシベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化 硫黄 4−(4−ブトキシベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フン化硫黄 4−(4−ベントキシベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−ヘキソキシベンゾイルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−エチルベンゾイルオキシ) −2−りC7C7フエニル一五フッ化硫 黄 4−(4−プロピルベンゾイルオキシ)−2−’70ロフェニルー五フッ化硫黄 4−(4−ブチルベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フン化硫黄 4−(4−ペンチルベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ヘキシルベンゾイルオキシ)−2−10ロフエニルー五フン化硫黄 4−(4−ヘプチルベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フン化硫黄 4−(4−オクチルベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フン化硫黄 4−(4−二トキシベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−プロポキシベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ブトキシベンゾイルオキシ)−2−10ロフエニルー五フツ化硫黄 4−(4−ベントキシベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ヘキソキシベンゾイルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化硫黄 4−(4−へブチルオキシベンゾイルオキシ”)−2−クロoフェニルー五フッ 化硫黄 4−(4−オクチルオキシベンゾイルオキシ)−2−クロロフエニル一五フツ化 硫黄 例 2 ジシクロへキシルカルボジイミド10.6gと塩化メチレン40mQとの混合物 を、トランス−4−ペンチルシクロへキシルカルボン酸9.19とp−ヒドロキ シフェニル−五フフ化硫黄11.29と塩化メチレン10h+rlとの混合物に 加え、集めた混合物を6時間、加熱沸とうさせる。慣用の方法を仕上げ処理し、 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルカルボニルオキシ)フェニル−五 7フ化硫黄を得る。
同様にして、下記の化合物が製造される:4− (トランス−4−エチルシクロ へキシルカルボニルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4− ()ランス−4−プロピルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル −五フフ化硫黄4− (!−ランスー4−ブチルシクロヘキシルカルボニルオキ シ)−フェニル−五フン化硫黄 4− (トランス−4−へキシルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル −五フッ化硫黄4− ()ランス−4−へブチルシクロヘキシルカルボニルオキ シ)−フェニル−五フッ化硫黄4−()ランス−4−オクチルシクロヘキシルカ ルボニルオキシ)−フェニル−五フン化硫黄4−(トランス−4−(トランス− 4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル− 五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキ シルカルボニルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシ ルカルボニルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキ シルカルボニルオキシ)−フェニル−五フン化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキ シルカルボニルオキシ)−2エニルー五フツ化硫黄 4−(トランス−4−(トラ:・スー4−へブチルシクロヘキシル)−シクロヘ キシルカルボニルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−シクロヘキ シルカルボニルオキシ)−7二二ルー五フツ化硫黄 4−(トランス−4−(4−エチルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオキ シ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−プロピルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオ キシ)−フェニル−五フン化硫黄 4−(トランス−4−(4−ブチルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオキ シ)−フェニル−五フッ化硫黄4−(トランス−4−(4−ペンチルフェニル) −シクロへキシルカルボニルオキシ)−7二二ルー五フッ化硫黄 4− (トランス−4−(4−へキシルフェニル)−シクロヘキシルカルボニル オキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4− ()ランス−4−(4−へブチルフェニル)−シクロヘキシルカルボニル オキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−オクチルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオ キシ)−7二二ルー五フツ化硫黄 4− (トランス−4−エチルシクロへキシルカルボニルオキシ)−2−フルオ ロフェニル−五7フ化硫黄4− (トランス−4−プロピルシクロヘキシルカル ポニルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フン化硫黄4− ()ランス−4− ブチルシクロへキシル力ルポニルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫 黄4− ()ランス−4−へキシルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−2−フ ルオロフェニル−五フン化硫黄4− (トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル カルボニルオキシ)−2−フルオロフェニル−五フッ化硫黄4− (トランス− 4−エチルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化 硫黄4− (トランス−4−プロピルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−2− クロロフェニル−五フッ化硫黄4− ()ランス−4−ブチルシクロヘキシルカ ルボニルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化硫黄4− (トランス−4− ヘキシルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−2−クロロフェニル−五フッ化硫 黄4− (トランス−4−へブチルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−2−ク ロロフェニル−五フッ化硫黄4−(トランス−4−(4−エチルフェニル)−シ クロヘキシルカルボニルオキシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−プロピルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオ キシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−ブチルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオキ シ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−ペンチルフェニル)−シクロへキシルカルボニルオ キシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−へキシルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオ キシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−へキシルフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオ キシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−エトキシフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオ キシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−プロポキシフェニル)−シクロヘキシルカルボニル オキシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−ブトキシフェニル)−シクロヘキシルカルボニルオ キシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−ペントキシフェニル)−シクロヘキシルカルボニル オキシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トラ:/スー4−(4−ヘキソキシフ゛エニル)−シクロヘキシルカルボ ニルオキシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−ヘプト、キシフェニル)−シクロヘキシルカルボニ ルオキシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 4− (トランス−4−(4−オクチルオキシフェニル)−シクロヘキシルカル ボニルオキシ)−2−フルオロ−五フッ化硫黄 例 3 4−プロピルシクロへキサノン2.9gとテトラヒドロ7ラン10rnQとの混 合物を、4−ブロモマグネシウムフェニル−五フフ化硫黄(この化合物は4−ブ ロモフェニル−五7)化硫黄5.6g、マグネシウム片0.59およびヨウ素0 .059から製造される)およびテトラヒドロ7ラン20rnQの混合物に滴下 して加える。半濃縮塩酸40mQを加え、固形成分を除去し、水性相を分離し、 次いで濃縮し、残留する残留物を、次いでトルエン40mQに溶解し、p−)ル エンスルホン酸5.0gを加え、この混合物を3時間、加熱沸とうさせる。慣用 の方法で仕上げ処理し、4−(4−プロピルシクロへキス−1−エニル)−フェ ニル−五フッ化硫黄を得る。
同様にして、下記の化合物が製造される:4−(4−エチルシクロヘキス−1− エニル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ブチルシクロへキス−1−エニル)−フェニル−五7フ化硫黄 4−(4−ペンチルシクロ−・キス−1−エニル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−へキシルシクロヘキス−1−エニル)−フ二二ルー五フッ化硫黄 4−(4−へブチルシクロヘキス−1−エニル)−7二二ルー五フフ化硫黄 4−(4−オクチルシクロへキス−1−エニル)−7二二ルー五フツ化硫黄 4− (4−(4−エチルフェニル)−シクロへキス−1−エニル)−フェニル −五フッ化硫黄4−(4−(4−7”ロビルフェニル)−シクロへキス−1−エ ニル)−フェニル−五フッ化硫黄4−c4−(4−−iチルフェニル)−シクロ へキス−1−エニル)−7二二ルー五フッ化硫黄4− (4−(4−ペンチルフ ェニル)−シクロへキス−1−エニル)−フェニル−五フッ化硫黄4− (4− (4−へキシルフェニル)−シクロへキス−1−エニル)−フェニル−五フッ化 硫黄4− (4−(4−へブチルフェニル)−シクロへキス−1−エニル)−フ ェニル−五フッ化硫黄4− (4−(4−オクチルフェニル)−シクロへキス− 1−エニル)−フェニル−五フッ化硫黄4−(4−()ランス−4−エチルシク ロヘキシル)−シクロへキス−1−エニル)−フェニル−五ジツ化硫黄4−(4 −(!−ランスー4−プロピルシクロヘキシル)−シクロへキス−1−エニル) −フェニル−五フッ化硫黄 4− (4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロへキス−1−エ ニル)−フェニル−五フン化硫黄 4−(4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロへキス−1−エ ニル)−フェニル−五フン化硫黄 4−(4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロへキス−1−エ ニル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−シクロへキス−1−エ ニル)−7二二ルー五フツ化硫黄 4−(4−(1−ランス−4−オクチルシクロヘキシル)−シクロヘキス−1− エニル)−フェニル−五フッ化硫黄例 4 4−(4−ペンチルシクロヘキス−1−エニル)−7二二ルー五フッ化硫黄6. 59、活性炭上のパラジウム(1の下に、飽和に達するまで、水素添加する。溶 媒を留去し、次いで慣用の方法で仕上げ処理し、4−(トランス−4−ペンチル シクロヘキシル)−フェニル−五フン化硫黄を得る。
同様にして、下記の化合物が製造される:4− (トランス−4−エチルシクロ ヘキシルニル−五フッ化硫黄 4− ()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− Cトランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− ()ランス−4−へキシルシクロヘキシル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− 0ランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(4−エチルフェニル)−シクロヘキシル)−フェニル− 五フン化硫黄4−(トランス−4−(4−グロビルフェニル)−シクロヘキシル )−フェニル−五フッ化硫黄4−(トランス−4−(4−ブチルフェニル)−シ クロヘキシル)−フェニル−五フフ化硫黄4−(トランス−4−(4−ヘキシル フェニル)−シクロヘキシル)−7二二ルー五フッ化硫黄4−(トランス−4− (4−へブチルフェニル)−シクロヘキシル)−フェニル−五フン化硫黄4−( トランス−4−(4−オクチルフェニル)−シクロヘキシル)−フェニル−五フ ッ化硫黄4−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シク ロヘキシル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシ ル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−へキシルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−7二二ルー五フン化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−へブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−フェニル−五フッ化硫黄 例 5 4−ブロモフェニル−五フッ化硫黄18.39とテトラヒドロフラン50m0と の混合物を、l−ブロモ−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シ クロヘキサン28、7gおよびアニン7gから製造された有機アニン化合物、塩 化ニッケル(I[)139およびテトラヒドロフランの混合物に加え、この混合 物を5時間、加熱線とうさせる。慣用の方法で仕上げ処理し、4−(トランス− 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−フェニル −五フッ化硫黄を得ル。
同様にして、下記の化合物が製造される:4−(トランス−4−(トランス−4 −エチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシ ル)−フェニル−五7フ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−フェニル−五フン化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(トランス−4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−シクロヘキ シル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−エチルビシクロ[2.2.2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−プロピルビシクロ(2.2.2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−ブチルビシクロ(2.2.2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ペンチルビシクロ(2.2.2)オクチル)−フ二ニルー五フッ化硫 黄 4−(4−へキシルビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−へブチルビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−オクチルビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−エトキシビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−プロポキシビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フッ化 硫黄 4−(4−ブトキシビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フッ化硫 黄 4−(4−ペントキシビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フッ化 硫黄 4−(4−ヘキソキシビシクロ[:2.2.2)オクチル)−フェニル−五フフ 化硫黄 4−(4−へブチルオキシビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フ ッ化硫黄 4−(4−オクチルオキシビシクロ(2,2,2)オクチル)−フェニル−五フ ッ化硫黄 例 6 トランスー1−ヨードメチル−4−プロピルシクロヘキサン6.09およびジメ チルホルムアミド10wnの混合物ヲ、4−ヒドロキシフェニル−五フッ化硫黄 4−4g、炭酸カリウム3.5gおよびジメチルホルムアミド20tn(lの混 合物に加え、集めた混合物を100°Cで2時間撹拌する。固形成分を除去した 後に、慣用の方法で仕上げ処理し、4−(4−トランス−プロピルシクロへキシ ルメトキシ)−フェニル−五フッ化硫黄を得る。
同様にして、下記の化合物が製造される:4−(トランス−4−エチルシクロへ キシルメトキシ)−フェニル−五フン化硫黄 4−(トランス−4−ブチルシクロへキシルメトキシ)−フェニル−五フン化硫 黄 4−()ランス−4−ペンチルシクロへキシルメトキシ)−7二二ルー五フン化 硫黄 4− (トランス−4−ヘキシルシクロへキシルメトキシ)−フェニル−五フッ 化硫黄 4− (トランス−4−ヘプチルシクロへキシルメトキシ)−7二二ルー五フッ 化硫黄 4−(トランス−4−オクチルシクロへキシルメトキシ)−フェニル−五フン化 硫黄 4−(4−エチルビシクロ(2,2,2)オクチルメトキシ)−フェニル−五7 フ化硫黄 4−(4−プロピルビシクロ(2,2,2)オクチルメトキシ)−フェニル−五 フッ化硫黄 4−(4−ブチルビシクロ(2,2,2)オクチルメトキシ)−フェニル−五フ ン化硫黄 4−(4−ペンチルビシクロ(2,2,2)オクチルメトキシ)−フェニル−五 フン化硫黄 4−(4−へキシルビシクロ(2,2,2)オクチルメトキシ)−フェニル−五 フッ化硫黄 4−(4−へブチルビシクロ(2,2,2)オクチルメトキシ)−フェニル−五 フッ化硫黄 4−(4−オクチルビシクロ(2,2,2)オクチルメトキシ)−フェニル−五 フッ化硫黄 4−(4−エチルベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−プロピルベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ブチルベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (4−ペンチルベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−へキシルベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−へブチルベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−オクチルベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−エトキシベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (4−7’ロポキシベンジルオキシ)−フェニルー五フツ化硫黄 4−(4−ブトキシベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ペンチルオキシベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−ヘキソキシベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(4−へブチルオキシベンジルオキシ)−7二二ルー五フッ化硫黄 4−(4−オクチルオキシベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (4−()ランス−4−エチルシクロヘキシル)−ベンジルオキシ)−フ ェニル−五フッ化硫黄4−(4−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)− ベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4− (4−(+−ランス−4−ブ チルシクロヘキシル)−ベンジルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄4−(4− (トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−ベンジルオキシ)−7二二ルー五 フッ化硫黄4−(4−(トランス−4−へキシルシクロヘキシル)−ベンジルオ キシ)−フェニル−五フッ化硫黄4−(4−(トランス−4−へブチルシクロヘ キシル)−ベンジルオキシ)−フェニル−五7フ化硫黄4−(4−(トランス− 4−オクチルシクロヘキシル)−ベンジルオキシ)−7二二ル一五フフ化硫黄例  7 4−ペントキシフェニルアセチレン8.5g、ピペリジン2QtnQ、トリフェ ニルホスフィン−パラジウム(II)クロライド420m9およびヨウ化銅30 +I+9の混合物に、p−ブロモフェニル−五7フ化硫黄8.5gおよびピペリ ジン20rnQを加え、集めた混合物を20時間、加熱する。濃縮させ、次いで 慣用の方法で仕上げ処理し、4− (2−(4−ペントキシフェニル)−エチニ ル)−フェニル−五フッ化硫黄を得る。
同様にして、下記の化合物が製造される:4− (2−(4−エトキシフェニル )−エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−(4−プロポキシフェニル)−エチニル)−フェニルー五フッ化硫 黄 4− (2−(4−ブトキシフェニル)−エチニル)−7二二ルー五フツ化硫黄 4− (2−(4−ヘキソキシフェニル)−エチニル)−フェニル−五フッ化硫 黄 4− (2−(4−へブチルオキシフェニル)−エチニル)−フェニル−五フッ 化硫黄 4− (2−(4−オクチルオキシフェニル)−エチニル)−フェニル−五フッ 化硫黄 4− (2−(4−エチルフェニル)−エチニル)−7二二ルー五フッ化硫黄 4− (2−(4−プロピルフェニル)−エチニル)=フェニルー五フッ化硫黄 4− (2−(4−ブチルフェニル)−エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−(4−ペンチルフェニル)−エチニル)−フェニル−五フン化硫黄 4− (2−(4−へキシルフェニル)−エチニル)−フェニル−五フン化硫黄 4− (2−(4−へブチルフェニル)−エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−(4−オクチルフェニル)−エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−0ランス−4−エチルシクロヘキシル)−エチニル)−フェニル− 五フッ化硫黄4−(2−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−エチニル )−7二二ルー五フッ化硫黄4− (2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ ル)−エチニル)−フェニル−五フッ化i jE4− (2−(トランス−4− ペンチルシクロヘキシル)−エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄4−(2−( 1−ランス−4−へキシルシクロヘキシル)−エチニル)−フェニル−五フッ化 硫黄4−(2−()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)−エチニル)−フェ ニル−五フッ化硫黄4− (2−()ランス−4−オクチルシクロヘキシル)− エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄4−(2−()ランス−4−エトキシシク ロヘキシル)−エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄4− (2−(トランス− 4−プロポキシシクロヘキシル)−エチニル)−フェニル−五フン化硫黄4−  (2−(1−ランス−4−ブトキシシクロヘキシル)−エチニル)−フェニル− 五フッ化i Tt4− (2−()ランス−4−ヘキソキシシクロヘキシル)− エチニル)−7二二ルー五フッ化硫黄4− (2−()ランス−4−へブチルオ キシシクロヘキシル)−エチニル)−フェニル−五フッ化硫黄4−(2−()ラ ンス−4−オクチルオキシシクロヘキシル)−エチニル)−フェニル−五フッ化 硫黄例 8 4−<2−44−トランス−ペンチルシクロヘキシル)−エチニル)−7二二ル ー五フッ化硫黄11.49 (この化合物は例7と同様にして製造される)、ト ルエン50mQおよび活性炭上のパラジウムl 0rnyの混合物を、室温で、 常圧の下に、水素添加する。固形成分を炉別し、炉液を濃縮し、次いで慣用の方 法で仕上げ処理し、4− (2−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)− エチル)−フェニル−五フッ化硫黄を得る。
同様にして、下記の化合物が製造される:4−(2−(トランス−4−エチルシ クロヘキシル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(2−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−エチル)−7二二ルー 五フッ化硫黄 4− (2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)−エチル)−フェニル− 五フン化硫黄 4− (2−(トランス−4−ヘキシリルシクロヘキシル)−エチル)−フェニ ル−五フッ化硫黄 4−(2−(トランス−4−へブチルシクロヘキシル)−エチル)−フェニル− 五7フ化硫黄 4−(2−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−エチル)−フェニル− 五フッ化硫黄 4−(2−()ランス−4−エトキシシクロヘキシル)−エチル)−フェニル− 五フッ化i ’R4−(2−(トランス−4−プロポキシシクロヘキシル)−エ チル)−7二二ルー五フッ化硫黄4− (2−(トランス−4−ブトキシシクロ ヘキシル)−エチル)−フェニル−五フン化硫黄 4− (2−(トランス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)−エチル)−フ ェニル−五フッ化硫黄4−.(2−()ランス−4−ヘプチルオキシシクロヘキ シル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄4− (2−(1−ランス−4−オ クチルオキシシクロヘキシル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄4− (2 −(4−エチルフェニル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−(4−プロピルフェニル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−(4−ブチルフェニル)−エチル)−フエニル一五フッ化硫黄 4− (2−(4−ペンチルフェニル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4−(2−(4−へキシリルフェニル)−エチル)−フェニル−五フン化硫黄 4− (2−(4−へブチルフェニル)−エチル)−7二二ルー五フツ化硫黄 4− (2−(4−オクチルフェニル)−エチル)−7二二ルー五フツ化硫黄 4− (2−(4−エトキシフェニル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−(4−プロポキシフェニル)−エチル)−フェニル−五フン化硫黄 4− (2−(4−ブトキシフェニル)−エチル)−7二二ルー五フッ化硫黄 4− (2−(4−ペントキシフェニル)−エチル)−フェニル−五フッ化硫黄 4− (2−(4−へキシルオキシフェニル)−エチル)−フェニル−五フッ化 硫黄 4− (2−(4−へブチルオキシフェニル) −x チル) −フェニル−五 7フ化硫黄 4− (2−(4−オクチルオキシフェニル)−エチル)−フェニル−五フフ化 硫黄 例 A 下記の組成: p−シアノフェニルp−エチルベンゾエート10%、p−シアノフェニルp−ブ チルベンゾエートl1%、p−エトキシフェニルトランス−4−プロピルシクロ ヘキサンカルボキシレート9%、 p−ブトキシフェニルトランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボキシレート 24%、 p−エトキシフェニルトランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボキシレート1 9%、 p−メトキシフェニルトランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボキシレート 21%および4−(4−ペンチルベンゾイルオキシ)−フェニル−五フッ化硫黄 6% を存する液晶混合物を製造する。
宝悴諜査報告 国際調査報告 EP8800S30 SA 22701

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.式I ▲数式、化学式、表等があります▼I 〔式中、Rは、HまたはYであり、あるいはRはC原子1〜15個をそれぞれ有 するアルキル基またはアルケニル基であり、この基は非置換であるか、または少 なくとも1個の基Yにより置換されており、そしてこの基中に存在する1個のC H2基または隣接していない2個以上のCH2基はまた、O原子および(または )S原子により、および(または)−E−、−CO−、−O−CO−、−CO− O−、−O−CO−O−、−S−CO−および(または)−CO−S−基により 置き変えられていてもよく、 Eは、C≡C、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等 があります▼であり、Xoは、相互に独立して、それぞれYまたはCH3であり 、 Xは、相互に独立して、それぞれXoまたはHであり、 YはCN、N3、NCO、NCS、フツ素または塩素であり、Aは、相互に独立 して、それぞれ、 a)1,4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個のCH2基または隣 接していない2個のCH2基はO原子により置き換えられていてもよい)、b) 1,4−フエニレン基(この基中に存在する1個または2個以上のCH基はNに より置き換えられていてもよい)、あるいは c)1,4−シクロヘキセニレン、ピペリジン−1,4−ジイル、ビシクロ(2 ,2,2)オクチレン、ナフタレン−2,6−ジイル、デカヒドロナフタレン− 2,6−ジイルまたは1,2,3,4−テトラヒドロナフタレンよりなる群に属 する基であり、 基a)および基b)は、置換基として、1個または2個のXoを有していてもよ く、 Zは、相互に独立して、それぞれ−CO−O−、−O−CO−、−CH2CH2 −、−CHCN−CH2−、−CH2−CHCN−、−CH=CH−、−C≡C −、−OCH2−、−CH2O−、−CH=N−、−N=CH−、−NO=N− 、−N=NO−または単結合であり、 mは0、1または2であり、そして nは1、2または3である〕 で示されるアリール−五フツ化硫黄化合物。
  2. 2.式Iで示されるアリール−五フツ化硫黄化合物の製造方法であって、p−リ チウムフェニル−五フツ化硫黄化合物またはp−ブロモマグネシウムムフエニル −五フツ化硫黄化合物を適当な親電子性化合物と反応させるか、あるいは相当す る1−アルキン化合物を、遷移金属触媒を使用し、p−ブロモフエニル−五フツ 化硫黄化合物とカッブリングさせるか、あるいは、式Iにおいて、H原子の代り に、1個または2個以上の還元可能な基および(または)C−C結合を有する相 当する化合物を、還元剤で処理するか、あるいは式Iにおいて、Zが−CO−O −または−O−CO−であり、そして(または)Rがカルボキシル基を有する、 エステル類を製造するために、相当するカルボン酸化合物またはその反応性誘導 体の一種を相当するアルコールまたはその反応性誘導体の一種と反応させるか、 あるいは、式Iにおいて、Rがアルコキシ基であり、そして(または)Zが−O CH2−または−CH2O−基である相当するエーテル化合物を製造するために 、相当するヒドロキシ化合物をエーテル化する、ことを特徴とする製造方法。
  3. 3.少なくとも2種の成分を有する液晶相であって、式1で示される化合物の少 なくとも−種を含有することを特徴とする液晶相。
  4. 4.請求項3に記載の液晶相を含有することを特徴とする液晶表示素子。
  5. 5.誘電体として、請求項3に記載の相を含有することを特徴とする電気光学表 示素子。
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