JPH05503683A - 大きな断面の射出成型或いはスリップ鋳造セラミック成形体を製造する方法 - Google Patents

大きな断面の射出成型或いはスリップ鋳造セラミック成形体を製造する方法

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JPH05503683A JP3507108A JP50710891A JPH05503683A JP H05503683 A JPH05503683 A JP H05503683A JP 3507108 A JP3507108 A JP 3507108A JP 50710891 A JP50710891 A JP 50710891A JP H05503683 A JPH05503683 A JP H05503683A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 大きな断面の射出成型或いはスリップ 鋳造セラミック成形体を製造する方法 本発明は、実質上クラックを含まないセラミック部品を製造する方法に関係する 。
特には、本発明は、実質上クラックを含まない、大きな断面の、射出成型或いは スリップ鋳造セラミック部品を製造する方法に関係する。
複雑な形状の大きな断面の構造セラミック部品(例えば、タービンエンジン回転 子)を製作する2つの方法は、射出成型プロセス或いはスリップ鋳造プロセスに よって行われている。射出成型においては、高密度化を促進しそして所望の材質 を付与するための適当な添加剤を加えた窒化珪素のようなセラミック粉末が、有 機バインダと生成する混合物が熱可塑性材料の性質を得るような態様で混合され る。混合物はその後、プラスチック業界で良く知られた射出成型技術及び設備に より成形される。有機バインダは液化、熱分解及び蒸発(蒸留)を含めて熱的な プロセスに°より除去される。生成する多孔質の生のセラミック体は、熱間等圧 プレス(HIP)或いは焼結により高密度化される。
しかし、有機バインダの非破壊的な除去により、プロセスには収率を制約する段 階が残っている。熱間等圧ブレス或いは冷間等圧プレスと続いての焼結による高 密度、 化をうま(行うためには、部品はバインダ除去段階から外部クラックを 含まない状態で取り出されねばならない。寸法精度許容差を維持するためには内 部傷を最小限としなければならない。これら条件は、部品が断面において大きく なりそして複雑となるにつれ一層実現困難となる。その結果として、許容しうる 部品の収率が低くなる。
スリップ鋳造においては、高密度化を促進しそして所望の材質を付与するための 適当な添加剤を加えた窒化珪素のようなセラミック粉末が、代表的に水である液 体ビヒクル、分散剤及び有機バインダと、生成する混合物が多孔質型内に注入或 いはポンプ送給するに適当な低粘度を得るような態様で混合される。多孔質型は 過剰の液体ビヒクルを吸収して、セラミック粉末並びにセラミック粒子間の間隙 における液体ビヒクルで飽和されたバインダから成る固形部品を残す0部品は型 からとりだされそして残留液体ビヒクルを除去するべく乾燥される。有機バイン ダは液化、熱分解及び蒸発(蒸留)を含めて熱的なプロセスにより除去される。
生成する多孔質の生のセラミック体は、熱間等圧プレス或いは焼結により高密度 化される。
厚い断面のスリップ鋳造部品において残留液体ビヒクルを非破壊的に除去するに は、徐々の制御された乾燥サイクルを必要とする。熱間等圧プレス或いは冷間等 圧ブレスと続いての焼結による高密度化をうまく行うためには、部品はバインダ 除去段階から外部クラックを含まない状態で取り出さねばならない。寸法精度許 容差を維持するためには内部傷を最小限としなければならない、これら条件は、 部品が断面において太き(なりそして複雑となるにつれ一層実現困難となる。そ の結果として、許容しうる部品の収率が低くなる。
本発明の一様相に従えば、実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物 品を製造するための新規にして改善された方法は次の段階を含む: 段階1:バインダを含有するセラミック物品射出成型用配合物を約0.1容積% から10容積%未満の短繊維とブレンドして混合物を形成すること、段階2:段 階1からの混合物を射出成型して成型物品を形成すること、 段階3:段階2から得られた成型物品からバインダを除去して生の成型体を形成 すること、 段階4:段階3からの生の成型体中の短繊維を除去して最終的な生の成型体を形 成すること、段階5:段階4からの生の成型体を高密度化して、実質上クラック を含まないそして歪のない高密度化セラミック物品を形成すること。
本発明の別の様相に従えば、実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック 物品を製造するための新規にして改善された方法は次の段階を含む:段階1:セ ラミック粉末、液体ビヒクル、分散剤及びバインダを含有するセラミック物品ス リップ鋳造用配合物を約0.1容積%から10容積%未満の短繊維とブレンドし て混合物を形成すること、 段階2:段階1からの混合物をスリップ鋳造して鋳造物品を形成すること、 段階3:段階2から得られた鋳造物品から液体ビヒクルを除去して乾燥した生の 成型体を形成すること、段階4:段階3から得られた成型体からバインダを除去 して生の成型体を形成すること、 段階5:段階4からの成型物品中の短繊維を除去して最終的な生の成型体を形成 すること、 段階6:段階5からの生の成型体を焼結成いは熱間等圧プレスにより高密度化し て実質上クラックを含まない【密度化セラミック物品を形成すること。
従って、本発明の目的は、大きな断面を有する射出成型セラミック部品からバイ ンダを除去する新規にして改善された方法を提供し、それによりり′ラックを含 まない、大きな断面のセラミック物品を提供することである。本方法はまた、ス リップ鋳造部品の作製の乾燥段階中クラック発生に対する耐性を改善するのにも 適当である。
本発明方法は、射出成型のバインダ除去或いはスリップ鋳造の乾燥という臨界的 な段階中部品を補強する少量の短繊維の使用と関与する。使用される繊維はその 後、高密度化収縮の開始に先立って部品から完全に除去されるように企画されて おり、従ってウィスカー或いは繊維補強セラミック部品が高密度化中歪的する傾 向を排除する。
一時的な繊維補強材を使用するセラミック粉末/繊維組成物は、セラミック射出 成型或いはスリップ鋳造プロセス工程でのバインダ除去或いは乾燥段階の改善を 通して、複雑な形状の大きな断面の部品の品質を改善しそして収率を増大する。
繊維の添加は、バインダ除去或いは乾燥段階中の内1部及び外部クラック両方の 形成を抑制し、以て一層高い収率と品質を生み出す。
一般に、射出成型或いはスリップ鋳造により成形された大きな断面のセラミック 部品に見出されるクラック去されるに際して或いは残留液体ビヒクルが乾燥中ス リップ鋳造部品から除去されるに際して粉末粒子の再配列或いは移動が原因の一 部となって起こる不均一な収縮と関連する。射出成型或いはスリップ鋳造プロセ スにおいて使用される粉末への、約0.1〜10容積%、好ましくは0.25〜 5容積%の、比較的少量の繊維或いはウィスカーの添加は、2つの態様でこのク ラック発生を軽減乃至排除する。繊維或いはウィスカーは、粒子移動に対する補 強ブロックとして作用することにより収縮を抑制しそして部品に一層大きな「生 の強度」を付与し、これがクラック発生を軽減する(表1)。
L 焼成後の射出成型バーのウィスカー濃度の関数としての相対的な生の強度 ウィスカー IL至乏上旦2 容積% lb/in” 射出成型供給原料中に含まれるセラミック粉末の約0.1〜10容積%を構成す る繊維或いはウィスカーの添加が、成型プロセスに著しく悪影響を及ぼすことな (有効であることが示された。材料として炭素、グラファイト、或いは高融点乃 至高分解点有機ポリマーからなるウィスカー或いは繊維が使用されつる。これら 繊維は、5〜10ミクロン範囲の直径と20〜1000のアスペクト比を有する 。配合された混合物の溶融粘度は添加される繊維或いはウィスカーの濃度に比例 して増加するが、成型プロセスを著しくは妨害しない。射出成型試験片及びター ボチャージャー寸法の試験部品において外部クラック発生は排除されそして内部 クラック発生は軽減された(表2)。
ム バインダ除去の改善例 ■ u エム 射出成型プロセスについて以下に詳しく記載する。ミリング(粉砕・混合)処理 したセラミック粉末、バインダ及び繊維を含有する原料は緊密な混合物に配合さ れそして造粒される。配合材料は200トン射出成型機を使用して1.5インチ にも至る断面を有するタービン回転子寸法の成型体に射出成型される。造粒材料 を射出室に充填しそして成型温度に加熱される。最適成型温度は通常バインダ組 成物の融点直上である。パラフィンワックスが主たるバインダ成分である場合、 射出室の室温は70〜72℃である。グイは室温もしくはそれより僅かに高く維 持される(20〜40℃)、成型圧力はグイのすべての領域に予熱した混合物を 強送するに十分でなければならない。これら材料を成型するには、3,000〜 10,0OOpsiの射出圧力で十分である。ショットはグイ空洞部に射出され そして圧力は約1分間保持される。圧力が解除され、グイか開放され、そして部 品がグイから取り出される。
射出成型した生のターボチャージャー寸法の部品は、バインダ除去のための加熱 サイクル中部品を支持するためにセラミック粉末からなるセッター床中に埋火さ れる。
バインダは窒素のような非酸化性雰囲気中で埋入部品を400℃の温度まで加熱 することにより成型部品から部分的に除去される。バインダの15〜20重量% を除去する10℃/時間以上での初期加熱中、セッター粉末は部品の周りに厚い ケーキを形成する。ケーキはそれ以上のバインダ除去を妨げるが、やがて温度が 充分高(なって約400℃から450℃に至るまで高(なるとこの障壁はバイン ダの熱分解及び蒸発により崩壊する。こうして、バインダ除去の大半は、400 ℃の温度に達した後起こりそして450℃まで継続する。その後、温度は450 ℃から600℃まで昇温されそして加熱は600℃において空気のような酸化性 雰囲気中で20時間継続されて部品から残留バインダを除去する。タービン回転 子寸法の試験部品に対しては、バインダを完全に除去するには約3日の熱処理で 充分である。タービン回転子よりもっと大きな断面寸法の部品に対しては、1℃ /時間のような実質上もっと低い加熱速度が必要とされ、約17日の合計熱処理 期間を必要とする。
この段階で、炭素或いはグラフディト繊維はまだ大半そのまま残っている。高密 度化に先立ってこれら繊維を除去するために、部品は空気のような酸化性雰囲気 中で約700〜800℃に加熱されそして使用される繊維の等級に依存して2〜 20時間その温度に保持される。部品はその後室温に冷却される。
その後、焼結やHIPのような高密度化技術が純な単体セラミック体を形成する のに使用される。
この方法により得られた性質の例を表3に示す、PY6配合物は窒化珪素と高密 度化助剤としての6%Y20.の混合物である。
1容積%炭素繊維を含む射出成型及びHIP処理したPY6材料の強度 組成(PYe中の 25℃ 1200℃ 1400℃、′ % ■亙り一 −コ 盈■−−1五υ−0140、095,061,1 1155,1100,660,7 炭素繊維を使用して作製されたHIP処理後の部品の走査電子顕微鏡観察から、 繊維は処理後の部品から検知し得なかった。しかも、高密度化された部品の性質 は、使用されはするが、バインダ除去段階の最終段階モ除去される繊維の存在に より悪影響を受けなかった。こうして、繊維は最終ミクロ組織にほとんど影響を 持たずそしてより重要なことには高密度死中部品の歪曲をもたらさない。
プロセス処理における同様の改善はスリップ鋳造部品にも該当し、繊維添加材を 使用するとき一層迅速な乾燥サイクル或いは同等の乾燥サイクルに対して発生す る傷の減少を可能ならしめる。スリップ鋳造部品の場合、繊維はやはり高密度化 前に空気のような酸化性雰囲気において700〜800℃で加熱することにより 完全に除去される。
例 6重量%Y20.そして残部5isN4粉末の配合物を約6〜72時間ミリング 処理(粉砕混合処理)してセラミック供給原料粉末を得た。
ミリング処理したセラミック粉末を約34〜42容積%、好ましくは約37〜4 0容積%のワックス基バインダ(例えば90重量%パラフィンワックス、5重量 %表面活性剤及び5重量%可塑剤)及び1容積%グラファイト繊維と配合した。
グラフディト繊維は5ミクロンの公称直径及び1/8インチの裁断長さを有した 。配合操作はツイン形ブレード付き分散ミキサーにおいて行った。
混合室は70℃に加熱した。混合は材料がクリーム状の均質な様相を有するよう になるまで続けた。
生成する混合物は、40〜75℃の軟化範囲を有する熱可塑性材料に匹敵するレ オロジー(流動)性質を有した。これを射已成型装置への供給原料として適当な 一様な粒寸に周知の技術に従ってベレット化或いは造粒化した。
自動車ガスタービン回転子を1容積%グラファイト繊維を含有する混合物を使用 して射出成型した。成型部品をセッター粉末に埋設しそして窒素雰囲気中で45 0℃に加熱しそして後空気雰囲気中で450℃から600℃に加熱した。空気雰 囲気中で800℃において5時間の続いての熱サイクルを使用してグラフディト 繊維を除去した。1容積%グラファイト繊維を使用して作製した回転子は、外面 から検出しうるクラックをなんら示さなかった。グラファイト繊維を使用せずに 作製した比較サンプルは、バインダ除去後幾つかの外部クラックを示した。
グラファイト繊維を使用して作製した回転子をガラス包封用媒体中に封入しそし て1825℃の温度及び30.0OOpsiの圧力において90分間熱間等圧プ レスにより高密度化した。高密度化したセラミック回転子をガラス包封用媒体か ら取り出した。
完成した回転子は理論値の99%の浸漬密度を有しそして高密度化歪曲の兆候を まった(示さなかった。
実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック部品、殊にタービンエンジン 部品を得る本発明の新規にして改善された方法は、従来からの金属部品に比較し てセラミック部品と関連する作動温度の増加により排気ガス汚染を減少すること ができそして重量減少により燃費を低減することのできる自動車工業におけるセ ラミック応用の信頼性を向上する。
現時点で本発明の好ましい具体例と考えられる事項を示しそして記載したが、そ こに様々の変更や改変を本発明の範囲から逸脱することなくなしうることは当業 者には明らかであろう。
要約書 大きな断面を有するクラックを含まないセラミックの製造方法を開示する。バイ ンダと、0.1〜10容積%範囲の、炭素、グラフディト、高温の融点乃至分解 点を持つ有機ポリマーからなるウィスカー或いは繊維とを含有するセラミック粉 末出発混合物を用意する。混合物を射出成型或いはスリップ鋳造して成型物品を 形成する。成型物品を窒素雰囲気中で450℃の温度まで加熱しそして後空気雰 囲気中で450〜600℃の温度に加熱してバインダを完全に除去する。生成す るバインダを除去した成型物を800℃にそこからウィスカー或いは繊維を完全 に除去するに十分な期間加熱する。成型物をガラス中に包封しモして30,0O Ops iの圧力で熱間等圧プレスして物品を理論値の約99%まで高密度化す る。
生成する物品は複雑な形状及び大きな断面をとることができ、しかも有害なりラ ックは存在しない。
国際調査報告

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.実質上クラックを含まない、大きな断面のセラミック物品を製造するための 方法であって、段階1:セラミック粉末及びパインダを含有するセラミック物品 射出成型用配合物を約0.25〜5.0容積%範囲の、炭素、グラファイト、高 温の融点乃至分解点を持つ有機ポリマー及びその組合せから選択されるウイスカ ー或いは繊維とブレンドして混合物を形成すること、 段階2:段階1からの混合物を射出成型して成型物品を形成すること、 段階3:段階2から得られた成型物品をパインダを完全に除去するよう加熱して 生の成型体を形成すること、 段階4:段階3からの生の成型体を約800℃の温度に加熱して前記ウイスカー 或いは繊維を除去すること、 段階5:段階4からの生の成型体を高密度化して、理論値の約98%を超える密 度を有するセラミック物品を形成すること を包含する実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物品を製造する方 法。
  2. 2.高密度化が段階4からの生の成型体を包封しそして成型体を約1825℃の 温度において約30,000psiで加圧することを含む請求項1の方法。
  3. 3.セラミック粉末が窒化珪素基セラミックを含む請求項1の方法。
  4. 4.窒化珪素基セラミックが実質上窒化珪素と約6%イットリアからなる請求項 3の方法。
  5. 5.前記繊維或いはウイスカーが約5ミクロンの公称直径及び約20〜1000 のアスペクト比を有する請求項1の方法。
  6. 6.実質上クラックを含まない、大きな断面のセラミック物品を製造するための 方法であって、段階1:セラミック粉末、液体ビヒクル分散剤及びパインダを含 有するセラミック物品スリップ鋳造用配合物を約0.5〜5.0容積%範囲の、 炭素、グラファイト、高温の融点乃至分解点を持つ有機ポリマー及びその組合せ から選択されるウィスカー或いは繊維とブレンドして混合物を形成すること、 段階2:段階1からの混合物をスリップ鋳造して鋳造物品を形成すること、 段階3:乾燥段階において前記液体ビヒクルの残部を除去して乾燥鋳造物品を形 成すること、段階4:段階3から得られた乾燥鋳造物品をパインダを完全に除去 するよう加熱して生の成型体を形成すること、 段階5:段階4からの生の成型体を前記ウイスカー或いは繊維を除去するよう加 熱すること、段階6:段階5からの生の成型体を高密度化して理論値の約99% を超える密度を有するセラミック物品を形成すること を包含する実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物品を製造する方 法。
  7. 7.前記高密度化が段階5からの生の成型体を包封しそして成型体を約1825 ℃の温度において約30,000psiで加圧することを含む請求項6の方法。
  8. 8.セラミック粉末が窒化珪素基セラミックを含む請求項6の方法。
  9. 9.窒化珪素基セラミックが実質上窒化珪素と約6%イットリアからなる請求項 8の方法。
  10. 10.前記繊維或いはウイスカーが約5ミクロンの公称直径及び約20〜100 0のアスペクト比を有する請求項6の方法。
  11. 11.実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物品を製造するための 方法であって、段階1:セラミック粉末及びパインダを含有するセラミック物品 射出成型用配合物を約0.5〜5.0容積%範囲の、炭素、グラファイト、高温 の融点乃至分解点を持つ有機ポリマー及びその組合せから選択されるウイスカー 或いは繊維とブレンドして混合物を形成すること、 段階2:段階1からの混合物を射出成型して成型物品を形成すること、 段階3:段階2から得られた成型物品を窒素雰囲気中で約450℃の温度で加熱 してパインダを部分的に除去すること、 段階4:段階3からの生の成型体を酸素含有雰囲気中で約700〜800℃の温 度で加熱して前記パインダを完全に除去すると共に、前記ウイスカー或いは繊維 を除去すること、 段階5:段階4からの生の成型体をガラス中に包封しそして約1825℃の温度 において約30,000psiで加圧して理論値の約98%を超える密度を有す るセラミック物品を形成すること を包含する実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物品を製造する方 法。
  12. 12.セラミック粉末が窒化珪素基セラミックを含む請求項11の方法。
  13. 13.窒化珪素基セラミックが実質上窒化珪素と約6%イットリアからなる請求 項12の方法。
  14. 14.前記繊維或いはウイスカーが約5ミクロンの公称直径及び約20〜100 0のアスペクト比を有する請求項11の方法。
  15. 15.実質上クラックを含まない、大きな断面のセラミック物品を製造するため の方法であって、段階1:セラミック粉末、液体ビヒクル分散剤及びパインダを 含有するセラミック物品スリップ鋳造用配合物を約0.25〜5.0容積%範囲 の、炭素、グラファイト、高温の融点乃至分解点を持つ有機ポリマー及びその組 合せから選択されるウイスカー或いは繊維とブレンドして混合物を形成すること 、 段階2:段階1からの混合物をスリップ鋳造して鋳造物品を形成すること、 段階3:乾燥段階において前記液体ビヒクルの残部を除去して乾燥鋳造物品を形 成すること、段階4:段階3から得られた乾燥鋳造物品を窒素雰囲気中で約45 0℃の温度に加熱してパインダを部分的に除去すること、 段階5:段階4からの乾燥鋳造物品を酸素含有雰囲気中で約700〜800℃の 温度で加熱して前記ウイスカー或いは繊維を除去すること、 段階6:段階5からの生の成型体をガラス中に包封しそして約1825℃の温度 において約30,000psiで加圧して理論値の約98%を超える密度を有す るセラミック物品を形成すること を包含する実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物品を製造する方 法。
  16. 16.セラミック粉末が窒化珪素基セラミックを含む請求項15の方法。
  17. 17.窒化珪素基セラミックが実質上窒化珪素とイットリアからなる請求項16 の方法。
  18. 18.前記繊維或いはウイスカーが約5ミクロンの公称直径及び約20〜100 0のアスペクト比を有する請求項15の方法。
  19. 19.実質上クラックを含まない、大きな断面のセラミック物品を製造するため の方法であって、段階1:セラミック粉末及びパインダを含有するセラミック物 品射出成型用配合物を約0.25〜5.0容積%範囲の、炭素、グラファイト、 高温の融点乃至分解点を持つ有機ポリマー及びその組合せから選択されるウイス カー或いは繊維とブレンドして混合物を形成すること、 段階2:段階1からの混合物を射出成型して成型物品を形成すること、 段階3:段階2から得られた成型物品を窒素雰囲気中で約450℃の温度で加熱 してパインダを部分的に除去すること、 段階4:段階3からの生の成型体を酸素含有雰囲気中で約700〜800℃の温 度で加熱して前記パインダを完全に除去すると共に、前記ウイスカー或いは繊維 を除去すること、 段階5:段階4からの生の成型体をガラス中に包封しそして約1825℃の温度 において加圧して約30,000psiで理論値の約98%を超える密度を有す るセラミック物品を形成すること を包含する実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物品を製造する方 法。
  20. 20.セラミック粉末が窒化珪素基セラミックを含む請求項19の方法。
  21. 21.窒化珪素基セラミックが実質上窒化珪素とイットリアからなる請求項20 の方法。
  22. 22.前記繊維或いはウイスカーが約5ミクロンの公称直径及び約20〜100 0のアスペクト比を有する請求項19の方法。
  23. 23.実質上クラックを含まない、大きな断面のセラミック物品を製造するため の方法であって、段階1:セラミック粉末、液体ビヒクル分散剤及びパインダを 含有するセラミック物品スリップ鋳造用配合物を約0.25〜5.0容積%範囲 の、炭素、グラファイト、高温の融点乃至分解点を持つ有機ポリマー及びその組 合せから選択されるウイスカー或いは繊維とブレンドして混合物を形成すること 、 段階2:段階1からの混合物をスリップ鋳造して鋳造物品を形成すること、 段階3:乾燥段階において前記液体ビヒクルの残部を除去して乾燥鋳造物品を形 成すること、段階4:段階3から得られた乾燥鋳造物品を窒素雰囲気中で約45 0℃の温度に加熱してパインダを部分的に除去すること、 段階5:段階4からの成型物品を空気中で約450〜600℃の温度で加熱して パインダを完全に除去して乾燥鋳造物品を形成すること、 段階6:段階5からの乾燥鋳造物品を酸素含有雰囲気中で約700〜800℃の 温度で加熱して前記ウイスカー或いは繊維を除去すること、 段階7:段階6からの生の成型体をガラス中に包封しそして約1825℃の温度 において約30,000psiで加圧して理論値の約98%を超える密度を有す るセラミック物品を形成すること を包含する実質上クラックを含まない大きな断面のセラミック物品を製造する方 法。
  24. 24.セラミック粉末が窒化珪素基セラミックを含む請求項23の方法。
  25. 25.窒化珪素基セラミックが実質上窒化珪素とイットリアからなる請求項24 の方法。
  26. 26.前記繊維或いはウイスカーが約5ミクロンの公称直径及び約20〜100 0のアスペクト比を有する請求項23の方法。
JP3507108A 1990-01-31 1991-01-24 大きな断面の射出成型或いはスリップ鋳造セラミック成形体を製造する方法 Pending JPH05503683A (ja)

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19818375A1 (de) * 1998-04-24 1999-11-04 Dornier Gmbh PTCR-Widerstand
US6583563B1 (en) 1998-04-28 2003-06-24 General Electric Company Ceramic discharge chamber for a discharge lamp
US7297037B2 (en) * 1998-04-28 2007-11-20 General Electric Company Ceramic discharge chamber for a discharge lamp
KR100297364B1 (ko) * 1998-12-31 2001-08-07 구자홍 플라즈마표시장치의격벽재조성물
US6592695B1 (en) 2000-11-16 2003-07-15 General Electric Company Binder system for ceramic arc discharge lamp
KR100774963B1 (ko) * 2005-01-18 2007-11-09 엘지전자 주식회사 평판 디스플레이 패널용 격벽 및 제조방법
EP3800031B1 (de) * 2019-10-02 2022-06-29 Wittmann Battenfeld GmbH Verfahren zum spritzgiessen eines spritzgiessfähigen thermoplastischen materials

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2939199A (en) * 1952-08-11 1960-06-07 Int Standard Electric Corp Formation of ceramic mouldings
US3234308A (en) * 1961-11-21 1966-02-08 Corning Glass Works Method of molding ceramic articles
GB1370478A (en) * 1971-11-19 1974-10-16 Rolls Royce Injection of a ceramic into a mould
DE2737208C2 (de) * 1977-08-18 1986-06-19 MTU Motoren- und Turbinen-Union München GmbH, 8000 München Verfahren zur Kapselung eines Formkörpers aus Keramik
US4144207A (en) * 1977-12-27 1979-03-13 The Carborundum Company Composition and process for injection molding ceramic materials
JPS5520259A (en) * 1978-07-28 1980-02-13 Ngk Spark Plug Co Production of high density sintered body
JPS5927743B2 (ja) * 1979-02-28 1984-07-07 旭硝子株式会社 セラミック紛未の成形品の処理方法
JPS5692180A (en) * 1979-12-27 1981-07-25 Sumitomo Electric Industries Manufacture of silicon nitride whisker reinforced silicon nitride sintered body
DE3170354D1 (en) * 1980-01-14 1985-06-13 Witec Cayman Patents Ltd Manufacture of parts from particulate material
US4558016A (en) * 1980-08-18 1985-12-10 Exxon Research And Engineering Co. Ceramic fiber reinforced refractory
JPS595550B2 (ja) * 1980-11-20 1984-02-06 日本碍子株式会社 セラミツクロ−タ−及びその製造法
JPS5895640A (ja) * 1981-11-30 1983-06-07 株式会社東芝 セラミツク製品の製造方法
JPS5970736A (ja) * 1982-10-13 1984-04-21 Toyota Motor Corp 複合材料の製造方法
US4507224A (en) * 1982-12-03 1985-03-26 Agency Of Industrial Science & Technology Ceramics containing fibers of silicon carbide
JPS59120406A (ja) * 1982-12-27 1984-07-12 トヨタ自動車株式会社 セラミツクス焼結体の製造方法
JPS59137366A (ja) * 1983-01-24 1984-08-07 住友電気工業株式会社 セラミツクスの製造方法
US4533345A (en) * 1983-06-14 1985-08-06 Fertility & Genetics Associates Uterine catheter
JPS60501852A (ja) * 1983-07-19 1985-10-31 フオ−ド モ−タ− カンパニ− 高密度化した窒化/オキシ窒化ケイ素複合物の製造方法
US4579699A (en) * 1983-09-29 1986-04-01 The Boeing Company Method for making α-Si3 N4 whiskers and articles therefrom
FR2555933A2 (fr) * 1983-12-01 1985-06-07 Ceraver Procede de fabrication d'une structure composite renforcee en matiere ceramique
JPS60204673A (ja) * 1984-03-29 1985-10-16 株式会社東芝 窒化ケイ素焼結体の製造方法
US4569886A (en) * 1984-06-18 1986-02-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Fabrication of novel whisker reinforced ceramics

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