JPH05509076A - 金属含有率を低減したセラミック複合体 - Google Patents

金属含有率を低減したセラミック複合体

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JPH05509076A
JPH05509076A JP3515601A JP51560191A JPH05509076A JP H05509076 A JPH05509076 A JP H05509076A JP 3515601 A JP3515601 A JP 3515601A JP 51560191 A JP51560191 A JP 51560191A JP H05509076 A JPH05509076 A JP H05509076A
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JP3515601A
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ジョンソン,ウィリアム ベイヤード
ワン,ジェームズ チェン―コウン
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ランキサイド テクノロジー カンパニー,リミティド パートナーシップ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、形成した自己支持体がら金属を除去する新規な方法に一般的に関係す る。自己支持体は、ホウ素供与体材料及び炭素供与体材料(例、炭化ホウ素)及 び/又はホウ素供与体材料及び窒素供与体材料(例、窒素ホウ素)、及び所望に より一種または二糧以上の不活性フィラーを含む床または材料の中に溶融母金属 を反応浸透することによって形成される。いったん自己支持体を形成し、ついで 自己支持体に含まれる金属成分を少なくとも部分的に除去する適切な条件に暴露 する。
国際調査報告

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.自己支持体から金属を除去する方法であって、該自己支持体は(i)実質的 に不活性な雰囲気中で母金属をその融点以上に加熱して溶融母金属を形成し、( ii)該溶融金属を反応浸透されるべき第一の通気性材料に接触させ、(iii )反応浸透されるべき該第一の通気性材料に溶融母金属を浸透させるに充分な時 間まで該温度を維持し、該溶融母金属と該第一の通気性材料とを反応させて、少 なくとも一種のホウ素含有化合物を形成し、(iv)少なくとも或る金属成分を 含む該少なくとも一つの第一の自己支持体を形成するに充分な時間まで該浸透反 応を持続することからなるプロセスによって形成される少なくとも一つの第一の 自己支持体を提供して作成され、該少なくとも一つの第一の自己支持体の少なく とも一部を、固体、液体、及び気体からなる群より選択された少なくとも一種の 材料であって、該少なくとも一種の材料が該金属成分の少なくとも一部を除去す ることができる材料に接触させる工程、及び該金属成分の所望の量を除去する工 程からなる自己支持体から金属を除去する方法。
  2. 2.自己支持体から金属を除去する方法であって、該自己支持体は(i)実質的 に不活性な雰囲気中で母金属をその融点以上に加熱して溶融母金属を形成し、( ii)該溶融金属を反応浸透されるべき第一の通気性材料に接触させ、(iii )反応浸透されるべき該第一の通気性材料に溶融母金属を浸透させるに充分な時 間まで該温度を維持し、該溶融母金属と該第一の通気性材料とを反応させて、少 なくとも一種のホウ素含有化合物を形成し、(iv)少なくとも或る金属成分を 含む該少なくとも一つの第一の自己支持体を形成するに充分な時間まで該浸透反 応を持続することからなるプロセスによって形成される少なくとも一つの第一の 自己支持体を提供して作成され、該少なくとも一つの第一の自己支持体の少なく とも一部を、該金属成分の少なくとも一部を除去することができる第二の通気性 材料に接触させ、 該少なくとも一種の第一の自己支持体と該通気性材料を加熱して該第一の自己支 持体から金属成分を少なくとも部分的に除去せしめ、しかして、 該金属成分の除去を金属成分の所望の量を除去するに充分な時間まで持続する工 程からなる自己支持体から金属を除去する方法。
  3. 3.該母金属がチタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウム、バナジウム 、クロム、及びニオブ、及びそれらの合金からなる群より選択された少なくとも 一種の金属を含む請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。
  4. 4.該少なくとも一つの第一の自己支持体が、一種または二種以上のホウ素含有 材料、一種または二種以上の炭素含有材料、一種または二種以上の窒素含有材料 、及び金属からなる群より選択された少なくとも一種の材料を含む請求の範囲第 1項または第2項に記載の方法。
  5. 5.該第一の通気性材料が、ホウ素供与体材料と炭素供与体材料、及びホウ素供 与体材料と窒素供与体材料、及びそれらの混合物からなる群より選択された少な くとも一種の材料を含む請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。
  6. 6.該第一の通気性材料が、さらに少なくとも一種の不活性フィラー材料を含む 請求の範囲第5項に記載の方法。
  7. 7.該第一の通気性材料が、ホウ素、炭素、炭化ホウ素及び窒化ホウ素からなる 群より選択された少なくとも一種の材料を含む請求の範囲第5項に記載の方法。
  8. 8.該少なくとも一つの第一の物体が、母金属ホウ化物、母金属ホウ素化合物、 母金属炭化物、母金属窒化物、残余の金属、及びボイドからなる群より選択され た少なくとも一種の材料を含む請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。
  9. 9.該第一の通気性材料が、プリフォームを含む請求の範囲第1項または第2項 に記載の方法。
  10. 10.バリヤを該第一の通気性材料の少なくとも一表面に接触して提供すること をさらに含む請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。
  11. 11.該バリヤが、グラファイト型、グラファイトテープ、またはグラファイト 塗膜の形態のグラファイト材料からなる請求の範囲第10項に記載の方法。
  12. 12.該グラファイト型に多数の貫通孔を提供することをさらに含む請求の範囲 第11項に記載の方法。
  13. 13.該除去を、該金属成分の少なくとも一部を該第一の自己支持体の少なくと も一表面から除去するに充分な時間まで行う請求の範囲第1項に記載の方法。
  14. 14.該除去を、該金属成分を該第一の自己支持体からほぼ完全に除去するに充 分な時間まで行う請求の範囲第1項に記載の方法。
  15. 15.該第二の通気性材料が、該金属成分によって少なくとも部分的に湿潤可能 である請求の範囲第2項に記載の方法。
  16. 16.該第二の通気性材料が、炭化物、ホウ化物、及び窒化物からなる群より選 択された少なくとも一種の材料を含む請求の範囲第2項に記載の方法。
  17. 17.該第二の通気性材料が、炭化ジルコニウムを含む請求の範囲第2項に記載 の方法。
  18. 18.該金属成分が該自己支持体の少なくとも一部から除去され、よって濃度勾 配をもって金属成分を含む自己支持体が得られる請求の範囲第1項または第2項 に記載の方法。
  19. 19.該除去が、熱エッチング、化学的エッチング、及び真空エッチングからな る群より選択された少なくとも一種の方法を含む請求の範囲第1項に記載の方法 。
  20. 20.該母金属が、ジルコニウム、チタン、及びハフニウムからなる群より選択 された少なくとも一種の金属を含み、該第一の通気性材料が、ホウ素、炭素、炭 化ホウ素、及び窒化ホウ素からなる群より選択された少なくとも一種の材料を含 み、該金属成分がほぼ完全に該自己支持体から除去される請求の範囲第1項また は第2項に記載の方法。
  21. 21.該少なくとも一種の材料が、炭化物、ホウ化物、及び窒化物からなる群よ り選択された固体を含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  22. 22.該少なくとも一種の材料が、酸性液体、アルカリ性液体からなる群より選 択された液体を含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  23. 23.該少なくとも一種の材料が、金属成分の少なくとも一部と少なくとも部分 的に反応する気体を含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  24. 24.該除去が、該少なくとも一つの第一の自己支持体の少なくとも一部が該少 なくとも一種の材料の少なくとも二個に接触し、該金属成分の所望の量を除去す ることを含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  25. 25.該母金属がジルコニウムを含み、該第一の通気性材料が炭化ホウ素を含み 、該第二の通気性材料が炭化ジルコニウムを含む請求の範囲第2項に記載の方法 。
  26. 26.前記の請求の範囲のいずれか1項にしたがって得られた自己支持体。
JP3515601A 1990-07-12 1991-07-12 金属含有率を低減したセラミック複合体 Pending JPH05509076A (ja)

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