JPH0551273A - 窒化アルミニウム基板と金属板の接合体 - Google Patents

窒化アルミニウム基板と金属板の接合体

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JPH0551273A
JPH0551273A JP23712691A JP23712691A JPH0551273A JP H0551273 A JPH0551273 A JP H0551273A JP 23712691 A JP23712691 A JP 23712691A JP 23712691 A JP23712691 A JP 23712691A JP H0551273 A JPH0551273 A JP H0551273A
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JP
Japan
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aln
substrate
aln substrate
tin
aluminum nitride
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Pending
Application number
JP23712691A
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English (en)
Inventor
Yutaka Takeshima
裕 竹島
Masahiro Saito
政浩 斉藤
Yasunobu Yoneda
康信 米田
Yukio Sakabe
行雄 坂部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP23712691A priority Critical patent/JPH0551273A/ja
Publication of JPH0551273A publication Critical patent/JPH0551273A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 活性金属を含むロウ材とAlN基板の接合面
積が大きい場合にも、非接合領域を低減させ、AlN基
板と金属板との接合を確実にし、接合体の信頼性を向上
させる。 【構成】 AlN粉末に焼結助剤としてY23及びTi
Nを添加混合し、さらに有機バインダを加えたものを成
形し、焼成してAlN基板2を製作する。ついで、Ti
−Ag−Cuの混合粉末よりなるロウ材1のペーストを
用いてAlN基板2の両面にCu板等の金属板3を重
ね、熱処理して金属板3をAlN基板2に接合させる。
接合時には、ロウ材中のTiとAlN基板中のAlNか
ら生成されるTiNがAlN基板中のTiNと合体成長
し、TiN層の生成面積が大きくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、窒化アルミニウム基板
と金属板の接合体に関する。具体的には、本発明に係る
接合体は、例えばIC(集積回路)パッケージやパワー
ダイオード等を実装するための基板として用いられるも
のである。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの高密度化、高速化及び
高出力化に伴う発熱量の増大に対応するため、基板材料
としては放熱性に優れたものが要求されてきている。放
熱性に優れた基板材料としては、従来よりアルミナ基板
が用いられていたが、最近では熱伝導率の高い窒化アル
ミニウム(以下、AlNと記す。)基板が注目されてい
る。しかし、実装基板としての放熱性を良好にするため
には、AlN基板にヒートシンクとして厚さ数100μ
mの銅板等の金属板を接合させる必要がある。
【0003】このため、従来にあっては、Ti(チタ
ン)等の活性金属を添加したロウ材を用いてAlN基板
に金属板を接合させている。すなわち、Ti、Ag
(銀)、Cu(銅)の混合粉末よりなるロウ材のペース
トをAlN基板と金属板の間に厚膜印刷した後、真空中
においてこの接合体に熱処理を施し、ロウ材を溶融させ
てAlN基板と金属板を強固に接合させている。こうし
てAlN基板と接合された金属板はヒートシンクとして
働き、実装基板としての放熱性を良好にし、また配線パ
ターンとしても使用される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のようにして製作
された接合体においては、AlN基板とロウ材の界面で
TiとAlNが反応してTiN(窒化チタン)を生成
し、これによりAlN基板と金属板が接合している。
【0005】しかし、Ti−Ag−Cuの混合粉末より
なるペーストでロウ材を形成している場合には、AlN
基板と金属板の接合面積が大きくなると、AlN基板と
金属板の接合面の全面にTiN層を形成させるのが困難
になる。この結果、従来例にあっては、TiN層が生成
せず確実に接合されていない領域が生じ易く、接合の信
頼性が低下し、また、非接合部で熱伝導が妨げられて放
熱性が阻害されるという問題があった。
【0006】本発明は、叙上の従来例の欠点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、活性金属
を含むロウ材とAlN基板の接合を確実にし、接合体の
信頼性を向上させることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の窒化アルミニウ
ム基板と金属板の接合体は、窒化アルミニウム基板と金
属板を活性金属を含むロウ材を用いて接合した接合体に
おいて、窒化アルミニウム基板が、ロウ材中に含まれる
活性金属と同種類の元素の窒化物を分散させたものであ
ることを特徴としている。
【0008】
【作用】活性金属を含んだロウ材を用いて窒化アルミニ
ウム基板と金属板を接合させると、ロウ材中の活性金属
が窒化アルミニウム基板との界面に移動し、AlNと反
応して窒化物となる。この際、窒化アルミニウム基板内
の表面近傍に活性金属の窒化物が分散していると、ロウ
材中の活性金属と窒化アルミニウム基板中のAlNから
生成される窒化物が窒化アルミニウム基板中の窒化物と
合体成長しようとするため、窒化アルミニウム基板と金
属板との接合に寄与する窒化物の生成面積が大きくな
り、接合強度が大きくなるとともに接合の信頼性が向上
する。
【0009】
【実施例】図1は本発明の一実施例によるAlN基板2
と金属板3との接合体を示す正面図である。以下、この
接合体を製造順序に従って説明する。まず、AlN粉末
に焼結助剤として1重量%のY23(酸化イットリウ
ム)及び1.5重量%(Ti換算で0.9重量%)のTi
Nを添加混合し、さらに有機バインダを加え、厚さ0.
9mmのシート状に成形してグリーンシートを得た。焼
結収縮を考慮して焼成後に2インチ角となる寸法にグリ
ーンシートを打ち抜いた後、打ち抜かれた成形体を窒素
中において800℃で2時間熱処理を施し、引き続き空
気中において550℃で2時間熱処理を施し、成形体か
らバインダを飛散させた。
【0010】ついで、バインダを飛散させた成形体を窒
化硼素(BN)製のセッターに挟み、その状態で窒素中
において1850℃で5時間焼成した。このようにして
作製したAlN基板2は黒色の外観を呈していた。ま
た、このAlN基板2の熱伝導率及び絶縁抵抗を測定し
たところ、熱伝導率は180W/m・゜K、絶縁抵抗は
1013Ω−cmであった。
【0011】また、Tiが5重量%、Agが69重量
%、Cuが26重量%(金属部のみの重量比)となるよ
うにTi−Ag−Cuの混合粉末よりなるロウ材1のペ
ーストを調製した。
【0012】しかる後、このロウ材1のペーストを用い
て2インチ角のAlN基板2の両面に縦横各50mm、
厚み0.3mmのCu板等の金属板3を加圧して貼り合
せ、真空中(≦10-4Torr)において950℃で10分
間熱処理し、金属板3をAlN基板2に接合させた。
【0013】このロウ付け時においては、ロウ材中のT
iがAlN基板との界面に移動し、AlNと反応してT
iNとなる。しかも、AlN基板内にTiNが分散して
いるので、ロウ材中のTiとAlN基板中のAlNから
生成されるTiNがAlN基板中のTiNと合体成長し
ようとするため、TiN層の生成面積が大きくなり、A
lN基板と金属板との接合強度が大きくなる。
【0014】なお、AlN基板中に分散しているTi等
の活性金属の窒化物は、金属元素に換算して1.0重量
%以下であれば、AlN基板の特性に悪影響を及ぼさな
いことが確認されている(特開平2−83266号公
報)。
【0015】つぎに、接合体の剥離強度を測定するた
め、上記AlN基板と上記ロウ材のペーストを用い、A
lN基板の片面に縦横各2mm、厚みが0.3mmのC
u板を60枚加圧して貼り合せ、真空中(≦10-4Tor
r)において950℃で10分間熱処理し、60枚のC
u板をAlN基板に接合させ、実施例の接合体を作製し
た。
【0016】同様にして、焼結助剤としてY23のみを
含んだ市販のAlN基板(2インチ角)と前記ロウ材の
ペーストを用い、このAlN基板の片面に縦横各2m
m、厚みが0.3mmのCu板を60枚加圧して貼り合
せ、真空中(≦10-4Torr)において950℃で10分
間熱処理し、60枚のCu板をAlN基板に接合させ、
比較例の接合体を作製した。
【0017】このようにして作製された実施例及び比較
例の接合体を用い、各Cu板に直径8mmの錫メッキ銅
線をL形に半田付けし、実施例及び比較例の各60サン
プルについて剥離強度を測定した。この結果を表1に示
す。
【0018】
【表1】
【0019】表1において、xは剥離強度の平均値、m
in,maxは剥離強度の最小値および最大値、σはバ
ラツキ(標準偏差)である。この表1より理解されるよ
うに、比較例と比較して、実施例では剥離強度の平均値
及び最小値が大きく、接合強度を向上させることができ
た。また、実施例では、剥離強度のバラツキも比較例よ
り小さくなった。
【0020】さらに、これら実施例及び比較例の接合体
を硝酸水溶液に浸漬し、金属部分を溶解させ、Cu板の
面積に対するTiN層の生成面積を画像解析により測定
した。その結果、比較例では82.0%であったのに対
し、実施例では96.1%となり、接合性の改善が認め
られた。
【0021】なお、上記実施例ではTiNをAlN粉末
に混合(分散)したが、TiO2等のTi酸化物など他
の化合物で焼成時に窒化物に変化するものをAlN粉末
に混合しても同様な構造のAlN基板となり、同等の接
合特性を得ることができる。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、ロウ材中の活性金属が
窒化アルミニウム基板との界面に移動してAlNと反応
して窒化物となる際、窒化アルミニウム基板内の表面近
傍に分散している活性金属の窒化物と合体成長し、窒化
アルミニウム基板と金属板との接合に寄与する窒化物の
生成面積が大きくなる。この結果、窒化アルミニウム基
板と金属板との接合強度が大きくなり、接合の信頼性も
向上する。従って、半導体デバイスの基板として好適な
接合体となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す正面図である。
【符号の説明】
1 ロウ材 2 AlN基板 3 金属板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂部 行雄 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒化アルミニウム基板と金属板を活性金
    属を含むロウ材を用いて接合した接合体において、 窒化アルミニウム基板が、ロウ材中に含まれる活性金属
    と同種類の元素の窒化物を分散させたものであることを
    特徴とする窒化アルミニウム基板と金属板の接合体。
JP23712691A 1991-08-22 1991-08-22 窒化アルミニウム基板と金属板の接合体 Pending JPH0551273A (ja)

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JP23712691A Pending JPH0551273A (ja) 1991-08-22 1991-08-22 窒化アルミニウム基板と金属板の接合体

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012209466A (ja) * 2011-03-30 2012-10-25 Mitsubishi Materials Corp 黒色化窒化アルミニウム基板からなるパワーモジュール用セラミックス基板およびその製造方法
JP2023025496A (ja) * 2021-08-10 2023-02-22 日本特殊陶業株式会社 接合体、その製造方法、および電極埋設部材

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012209466A (ja) * 2011-03-30 2012-10-25 Mitsubishi Materials Corp 黒色化窒化アルミニウム基板からなるパワーモジュール用セラミックス基板およびその製造方法
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