JPH0551542B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0551542B2 JPH0551542B2 JP16599384A JP16599384A JPH0551542B2 JP H0551542 B2 JPH0551542 B2 JP H0551542B2 JP 16599384 A JP16599384 A JP 16599384A JP 16599384 A JP16599384 A JP 16599384A JP H0551542 B2 JPH0551542 B2 JP H0551542B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- fluorine
- porous glass
- glass layer
- present
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/14—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron and fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は石英系多孔質ガラス層にフツ素をドー
プするための処理方法に関する。
プするための処理方法に関する。
（従来技術）
石英系光フアイバにおいて、コア・クラツド相
互の相対的屈折率差を大きくすべく、あるいは光
フアイバの耐放射線性を高めるべく、そのクラツ
ド中にフツ素をドープすることがすでに実施され
ている。
互の相対的屈折率差を大きくすべく、あるいは光
フアイバの耐放射線性を高めるべく、そのクラツ
ド中にフツ素をドープすることがすでに実施され
ている。
光フアイバ母材の製造に際してフツ素ドープト
石英を合成するとき、１例として火炎加水分解法
における火炎（酸水素炎）中に直接フツ素化合物
を混入し、その合成ガラス中にフツ素をドープす
る方法がとられている。
石英を合成するとき、１例として火炎加水分解法
における火炎（酸水素炎）中に直接フツ素化合物
を混入し、その合成ガラス中にフツ素をドープす
る方法がとられている。
この方法の場合、酸水素炎中にフツ素化合物を
混入しているため、きわめて容易に大量のHFガ
スが合成され、しかもそのHFがSiO2などの合成
ガラスを侵食してこれをSiF4などのガスに転換
し、揮散させてしまう。
混入しているため、きわめて容易に大量のHFガ
スが合成され、しかもそのHFがSiO2などの合成
ガラスを侵食してこれをSiF4などのガスに転換
し、揮散させてしまう。
それゆえ上記方法の場合、反応収率が低い問題
があり、ガラス中にドープできるフツ素の量にも
限界があつた。
があり、ガラス中にドープできるフツ素の量にも
限界があつた。
（発明の目的）
本発明は上記の問題点に鑑み、ガラス揮散を抑
制して石英系ガラス中に必要かつ十分な量のフツ
素をドープすることのできる石英系多孔質ガラス
層の処理方法を提供しようとするものである。
制して石英系ガラス中に必要かつ十分な量のフツ
素をドープすることのできる石英系多孔質ガラス
層の処理方法を提供しようとするものである。
（発明の構成）
本発明に係る方法は、所定ハロゲン化原料の化
学反応により生成されたガラス微粒子を堆積して
B2O3−SiO2系多孔質ガラス層を形成し、該多孔
質ガラス層フツ素含有雰囲気中にて加熱処理する
ことを特徴としている。
学反応により生成されたガラス微粒子を堆積して
B2O3−SiO2系多孔質ガラス層を形成し、該多孔
質ガラス層フツ素含有雰囲気中にて加熱処理する
ことを特徴としている。
（実施例）
つぎに図面を参照して本発明方法の具体的な実
施例を説明する。
施例を説明する。
第１図は、本発明方法の処理対象となる石英系
多孔質ガラス層１が石英系ガラス棒２の外周に堆
積形成された状態を示している。
多孔質ガラス層１が石英系ガラス棒２の外周に堆
積形成された状態を示している。
上記ガラス棒２は既知のMCVD法とか、VAD
法、OVD法などを介してつくられたものであり、
該棒２は１例として純SiO2からなる。
法、OVD法などを介してつくられたものであり、
該棒２は１例として純SiO2からなる。
一方、上記ガラス層１はOVD法、VAD法など
を介してガラス棒２の外周に前記のごとく形成さ
れているのであり、これはB2O5−SiO2系からな
る。
を介してガラス棒２の外周に前記のごとく形成さ
れているのであり、これはB2O5−SiO2系からな
る。
多孔質ガラス層１をガラス棒２の外周に堆積形
成するとき、既知の多重管（三重管）構造からな
るバーナが用いられ、該バーナ中心にある第１流
道には原料ガスが、つぎの第２流道には酸素が、
さらに第３流道には水素がそれぞれ供給されると
ともにこれらの火炎加水分解反応により生成され
たガラス微粒子（スート状）がガラス棒２の外周
に堆積され、多孔質ガラス層１となる。
成するとき、既知の多重管（三重管）構造からな
るバーナが用いられ、該バーナ中心にある第１流
道には原料ガスが、つぎの第２流道には酸素が、
さらに第３流道には水素がそれぞれ供給されると
ともにこれらの火炎加水分解反応により生成され
たガラス微粒子（スート状）がガラス棒２の外周
に堆積され、多孔質ガラス層１となる。
多孔質ガラス層１を形成する際のより具体的な
例として、四塩化ケイ素250cc／分と、三塩化ホ
ウ素50cc／分と、アルゴン900cc／分とを混合し
た原料ガスが第１流道へ供給され、第２流道、第
３流道にはそれぞれ61／分の水素、41／分の酸素
が供給される。
例として、四塩化ケイ素250cc／分と、三塩化ホ
ウ素50cc／分と、アルゴン900cc／分とを混合し
た原料ガスが第１流道へ供給され、第２流道、第
３流道にはそれぞれ61／分の水素、41／分の酸素
が供給される。
上記のようにしてガラス棒２の外周に形成され
た多孔質ガラス層１は、三フツ化ホウ素１％・残
部ヘリウムとした混合ガス、しかもその混合ガス
供給量が301／分である1400℃のフツ素含有雰囲
気中にて加熱処理されるのであり、ここで多孔質
ガラス層１にはフツ素がドープされ、同時に該層
１が透明ガラス化される。
た多孔質ガラス層１は、三フツ化ホウ素１％・残
部ヘリウムとした混合ガス、しかもその混合ガス
供給量が301／分である1400℃のフツ素含有雰囲
気中にて加熱処理されるのであり、ここで多孔質
ガラス層１にはフツ素がドープされ、同時に該層
１が透明ガラス化される。
この際の加熱処理に用いられる装置は、第２図
に例示するごとく下部に給気口３、上部に排気口
４を備なえた石英製炉心管５の外周に電気ヒータ
６が配置されたものであり、該炉心管５内には下
部の給気口３から上記混合ガスが供給されるとと
もにその上部から多孔質ガラス層１付のガラス棒
２が低速で挿入降下され、多孔質ガラス層１が電
気ヒータ６により加熱処理される。
に例示するごとく下部に給気口３、上部に排気口
４を備なえた石英製炉心管５の外周に電気ヒータ
６が配置されたものであり、該炉心管５内には下
部の給気口３から上記混合ガスが供給されるとと
もにその上部から多孔質ガラス層１付のガラス棒
２が低速で挿入降下され、多孔質ガラス層１が電
気ヒータ６により加熱処理される。
上記処理により得らたガラス棒を光フアイアバ
母材とし、これを紡糸して光フアイバにしたとこ
ろ、その屈折率分布は第３図イのごとく、SiO2
製コア７の屈折率＝1.46におけるクラツド８との
比屈折率差△が1.0％にもなり、クラツド８にフ
ツ素が十分ドープされていることが確認できた。
母材とし、これを紡糸して光フアイバにしたとこ
ろ、その屈折率分布は第３図イのごとく、SiO2
製コア７の屈折率＝1.46におけるクラツド８との
比屈折率差△が1.0％にもなり、クラツド８にフ
ツ素が十分ドープされていることが確認できた。
比較のため、フツ素化合物を含まない雰囲気中
で加熱処理することにより得られた上記母材を紡
糸し、光フアイバを製造したところ、この比較例
での△は第３図ロのごとく0.25％とかなり小さい
ものになつてしまつた。
で加熱処理することにより得られた上記母材を紡
糸し、光フアイバを製造したところ、この比較例
での△は第３図ロのごとく0.25％とかなり小さい
ものになつてしまつた。
なお、B2O3−SiO2系でのB2O3の効果として、
B2O3はＦとの反応性が高く、これと容易に反応
してガラス中にＦを取りこむ。
B2O3はＦとの反応性が高く、これと容易に反応
してガラス中にＦを取りこむ。
換言すれば、わずかにＦが存在する処理雰囲気
中でも上記反応が進み、多量のＦをガラス中に取
りこむ。
中でも上記反応が進み、多量のＦをガラス中に取
りこむ。
また、一般に純SiO2製とした多孔質ガラスを
フツ素化合物含有雰囲気中で加熱処理すると、そ
のガラスの大半が揮散してしまうが、本発明のご
とくB2O3を含むSiO2系の場合、上記処理による
ガラス揮散が10％以下であり、フツ素ドープ時の
ガラス歩どまりが高く、かつ、フツ素の反応収率
も高い。
フツ素化合物含有雰囲気中で加熱処理すると、そ
のガラスの大半が揮散してしまうが、本発明のご
とくB2O3を含むSiO2系の場合、上記処理による
ガラス揮散が10％以下であり、フツ素ドープ時の
ガラス歩どまりが高く、かつ、フツ素の反応収率
も高い。
（発明の効果）
以上説明した通り、本発明方法によるときは、
B2O3−SiO2系の多孔質ガラスをフツ素含有雰囲
気中にて加熱処理するから、ガラス揮散を抑制し
て石英系ガラス中に必要かつ十分な量のフツ素を
ドープすることができる。
B2O3−SiO2系の多孔質ガラスをフツ素含有雰囲
気中にて加熱処理するから、ガラス揮散を抑制し
て石英系ガラス中に必要かつ十分な量のフツ素を
ドープすることができる。
第１図は本発明方法において処理対象となる多
孔質ガラス層の略示説明図、第２図は本発明方法
に用いる装置の略示説明図、第３図は本発明方法
での処理母材から得られた光フアイバとその比較
例における光フアイバのそれぞれ屈折率分布を示
した説明図である。 １……多孔質ガラス層、５……炉心管、６……
電気ヒータ。
孔質ガラス層の略示説明図、第２図は本発明方法
に用いる装置の略示説明図、第３図は本発明方法
での処理母材から得られた光フアイバとその比較
例における光フアイバのそれぞれ屈折率分布を示
した説明図である。 １……多孔質ガラス層、５……炉心管、６……
電気ヒータ。
Claims (1)
- １ 所定ハロゲン化原料の化学反応により生成さ
れたガラス微粒子を堆積してB2O3−SiO2系多孔
質ガラス層を形成し、該多孔質ガラスをフツ素含
有雰囲気中にて加熱処理することを特徴とする石
英系多孔質ガラス層の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16599384A JPS6144725A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16599384A JPS6144725A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6144725A JPS6144725A (ja) | 1986-03-04 |
| JPH0551542B2 true JPH0551542B2 (ja) | 1993-08-02 |
Family
ID=15822874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16599384A Granted JPS6144725A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6144725A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0776092B2 (ja) * | 1985-10-09 | 1995-08-16 | 住友電気工業株式会社 | ガラスの製造方法 |
| JP2580542Y2 (ja) * | 1991-03-13 | 1998-09-10 | 日本精工株式会社 | ステアリングコラムの支持装置 |
| JP3713108B2 (ja) * | 1996-08-14 | 2005-11-02 | 富士写真フイルム株式会社 | ピロータイプ包装装置 |
-
1984
- 1984-08-08 JP JP16599384A patent/JPS6144725A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6144725A (ja) | 1986-03-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |