JPH0551631A - 無酸化高周波焼入方法および装置 - Google Patents
無酸化高周波焼入方法および装置Info
- Publication number
- JPH0551631A JPH0551631A JP3240376A JP24037691A JPH0551631A JP H0551631 A JPH0551631 A JP H0551631A JP 3240376 A JP3240376 A JP 3240376A JP 24037691 A JP24037691 A JP 24037691A JP H0551631 A JPH0551631 A JP H0551631A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling liquid
- work
- receiver
- immersed
- oxidizing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 無酸化高周波焼入を行ったワークの硬化層の
着色を防止する。 【構成】 上部開放下部半閉鎖の箱状であって下部が冷
却液に浸漬されており且つ無酸化性または還元性ガス中
に設置された冷却液受け95の底面を貫通したワーク受け
93の頂部に歯車Ｗを載置後、無酸化性または還元性ガス
Ｇが充満しており且つ下部開放上部半閉鎖の箱状であっ
て高周波加熱コイル24を設けた雰囲気ケース50の下部を
冷却液受け95内の冷却液Ｌに浸漬し、次いで冷却液受け
95に電磁弁64を介して冷却液Ｌを供給して雰囲気ケース
50内の冷却液面を歯車Ｗの下端近辺まで上昇させてか
ら、高周波加熱コイル24によって歯車Ｗを加熱直後、冷
却液受け95に更に電磁弁65を介して冷却液を供給してワ
ークを冷却液に浸漬させる。
着色を防止する。 【構成】 上部開放下部半閉鎖の箱状であって下部が冷
却液に浸漬されており且つ無酸化性または還元性ガス中
に設置された冷却液受け95の底面を貫通したワーク受け
93の頂部に歯車Ｗを載置後、無酸化性または還元性ガス
Ｇが充満しており且つ下部開放上部半閉鎖の箱状であっ
て高周波加熱コイル24を設けた雰囲気ケース50の下部を
冷却液受け95内の冷却液Ｌに浸漬し、次いで冷却液受け
95に電磁弁64を介して冷却液Ｌを供給して雰囲気ケース
50内の冷却液面を歯車Ｗの下端近辺まで上昇させてか
ら、高周波加熱コイル24によって歯車Ｗを加熱直後、冷
却液受け95に更に電磁弁65を介して冷却液を供給してワ
ークを冷却液に浸漬させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は無酸化高周波焼入方法お
よび装置に関する。
よび装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】以下、図面を参照して従来の技術を説明
する。図５は、例えば歯車の歯面を焼入する従来の無酸
化高周波焼入装置の平面説明図、図６は、図５のＡ−Ａ
線矢視断面説明図である。12ステップで軸94を中心とし
て１回転する水平なターンテーブル90の周辺には、ター
ンテーブル90の２ステップの回転角の間隔をおいて設け
た６個のワーク受け93が配置されている。
する。図５は、例えば歯車の歯面を焼入する従来の無酸
化高周波焼入装置の平面説明図、図６は、図５のＡ−Ａ
線矢視断面説明図である。12ステップで軸94を中心とし
て１回転する水平なターンテーブル90の周辺には、ター
ンテーブル90の２ステップの回転角の間隔をおいて設け
た６個のワーク受け93が配置されている。
【０００３】このワーク受け93は、ターンテーブル90の
周辺に等間隔で且つ昇降自在、回転自在に貫通している
ワーク支持杆92と、各ワーク支持杆92の上端に水平に形
成された円盤状のワーク載置台91とを備えている。ワー
ク載置台91上には下側のコンセントリング41を介して歯
車Ｗが載置される。歯車Ｗの上には、上側のコンセント
リング42が載置される。これらコンセントリング41、42
は、歯車Ｗの硬化層を形成する必要がない部分が加熱さ
れることを防止すると共に、歯底の硬化層を直線的に形
成するためのものである。
周辺に等間隔で且つ昇降自在、回転自在に貫通している
ワーク支持杆92と、各ワーク支持杆92の上端に水平に形
成された円盤状のワーク載置台91とを備えている。ワー
ク載置台91上には下側のコンセントリング41を介して歯
車Ｗが載置される。歯車Ｗの上には、上側のコンセント
リング42が載置される。これらコンセントリング41、42
は、歯車Ｗの硬化層を形成する必要がない部分が加熱さ
れることを防止すると共に、歯底の硬化層を直線的に形
成するためのものである。
【０００４】歯車Ｗの進行方向に沿って、トンネル状の
予備室10と、予備室10に隣接したトンネル状の熱処理室
20が設けられており、これらの室の下部は図示しない冷
却液中に浸漬されている。そして、予備室10の入口と出
口（熱処理室20の入口) にはそれぞれ図示しないシリン
ダで昇降されるシャッタS1、S2が取り付けられている。
熱処理室20は予熱ゾーン21と本加熱焼入ゾーン22とを有
し、本加熱焼入ゾーン22の後端に熱処理室20を封止する
後壁27が設けられている。
予備室10と、予備室10に隣接したトンネル状の熱処理室
20が設けられており、これらの室の下部は図示しない冷
却液中に浸漬されている。そして、予備室10の入口と出
口（熱処理室20の入口) にはそれぞれ図示しないシリン
ダで昇降されるシャッタS1、S2が取り付けられている。
熱処理室20は予熱ゾーン21と本加熱焼入ゾーン22とを有
し、本加熱焼入ゾーン22の後端に熱処理室20を封止する
後壁27が設けられている。
【０００５】予備室10、予熱ゾーン21および本加熱焼入
ゾーン22のそれぞれの上部には、２個の配管11、８個の
配管25および３個の配管26によって、図示しない無酸化
性または還元性ガス発生装置から、無酸化性または還元
性ガスが供給されて、予備室10と熱処理室20はこのガス
で充満されている。なお、予熱ゾーン21には、昇降可能
な予熱コイル23が、また、本加熱焼入ゾーン22にはほぼ
環状の加熱コイル24が設けられている。24a は加熱コイ
ル24に高周波電流を供給する高周波電源である。
ゾーン22のそれぞれの上部には、２個の配管11、８個の
配管25および３個の配管26によって、図示しない無酸化
性または還元性ガス発生装置から、無酸化性または還元
性ガスが供給されて、予備室10と熱処理室20はこのガス
で充満されている。なお、予熱ゾーン21には、昇降可能
な予熱コイル23が、また、本加熱焼入ゾーン22にはほぼ
環状の加熱コイル24が設けられている。24a は加熱コイ
ル24に高周波電流を供給する高周波電源である。
【０００６】本加熱焼入ゾーン22には、上部半閉鎖下部
開放で、図示しない昇降装置によって昇降される本加熱
用雰囲気ケース50が設けられている。雰囲気ケース50の
側壁には環状の高周波加熱コイル24が取り付けられてお
り、この高周波加熱コイル24は高周波電源24a にリード
24b を介して接続されている。前記配管26は可撓性であ
って、先端は、本加熱用雰囲気ケース50内に開口してい
る。
開放で、図示しない昇降装置によって昇降される本加熱
用雰囲気ケース50が設けられている。雰囲気ケース50の
側壁には環状の高周波加熱コイル24が取り付けられてお
り、この高周波加熱コイル24は高周波電源24a にリード
24b を介して接続されている。前記配管26は可撓性であ
って、先端は、本加熱用雰囲気ケース50内に開口してい
る。
【０００７】次に、上記の無酸化高周波焼入装置を使用
して焼入する動作を説明する。ターンテーブル90を矢印
Ｐの方向にステップ状に回転させ、予備室10のシャッタ
S1の手前のワーク載置台91にコンセントリング41、42と
共に歯車Ｗを載置する。シャッタS1を開き、ターンテー
ブル90を１ステップ回転させると、歯車Ｗは予備室10内
に入る。と同時にシャッタS1を閉じる。次に、シャッタ
S2を開いてからターンテーブル90を１ステップ回転させ
ると、歯車Ｗは予熱ゾーン21に入り、シャッタS2を閉じ
る。
して焼入する動作を説明する。ターンテーブル90を矢印
Ｐの方向にステップ状に回転させ、予備室10のシャッタ
S1の手前のワーク載置台91にコンセントリング41、42と
共に歯車Ｗを載置する。シャッタS1を開き、ターンテー
ブル90を１ステップ回転させると、歯車Ｗは予備室10内
に入る。と同時にシャッタS1を閉じる。次に、シャッタ
S2を開いてからターンテーブル90を１ステップ回転させ
ると、歯車Ｗは予熱ゾーン21に入り、シャッタS2を閉じ
る。
【０００８】次の１ステップ後、予熱コイル23が降下し
て歯車Ｗを囲み、歯車Ｗの予熱が始まる。次のステップ
が始まる前に、予熱コイルが上昇し、１ステップ後、再
び予熱コイルが降下して歯車Ｗを予熱する。ターンテー
ブル90の回転が進んで歯車Ｗが本加熱焼入ゾーン22に至
ると、雰囲気ケース50が降下して歯車Ｗの歯面が加熱さ
れる。シャッタS1、S2はターンテーブル90の１ステップ
の回転の開始前に１ステップおきに開き、開始後に閉じ
る。
て歯車Ｗを囲み、歯車Ｗの予熱が始まる。次のステップ
が始まる前に、予熱コイルが上昇し、１ステップ後、再
び予熱コイルが降下して歯車Ｗを予熱する。ターンテー
ブル90の回転が進んで歯車Ｗが本加熱焼入ゾーン22に至
ると、雰囲気ケース50が降下して歯車Ｗの歯面が加熱さ
れる。シャッタS1、S2はターンテーブル90の１ステップ
の回転の開始前に１ステップおきに開き、開始後に閉じ
る。
【０００９】歯車Ｗの本加熱が終わると、ワーク受け93
が降下してから、雰囲気ケース50が上昇する。ワーク受
け93の降下によって歯車Ｗは冷却液中に浸漬されて焼入
が完了する。次いでターンテーブル90が１ステップ進ん
でから、ワーク受け93を上昇させると、焼入された歯車
Ｗが冷却液面上に現れるので、歯車Ｗを取り出す。２番
目の歯車Ｗは、１番目の歯車Ｗが予備室10に入ったとき
に、シャッタS1の手前のワーク載置台91に載置され、１
番目の歯車Ｗと同様に焼入される。３番目以下の歯車Ｗ
についても同様である。
が降下してから、雰囲気ケース50が上昇する。ワーク受
け93の降下によって歯車Ｗは冷却液中に浸漬されて焼入
が完了する。次いでターンテーブル90が１ステップ進ん
でから、ワーク受け93を上昇させると、焼入された歯車
Ｗが冷却液面上に現れるので、歯車Ｗを取り出す。２番
目の歯車Ｗは、１番目の歯車Ｗが予備室10に入ったとき
に、シャッタS1の手前のワーク載置台91に載置され、１
番目の歯車Ｗと同様に焼入される。３番目以下の歯車Ｗ
についても同様である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記のように無酸化焼
入を行った場合、歯車の歯面に所望の深さおよび硬度を
有する硬化層を形成することができるけれども、硬化層
が若干着色することが多く、従って、ワークを無酸化焼
入しても、焼入されたワークの美観的な見地では、顧客
に十分な満足感を与えることができなかった。このよう
に、硬化層が着色することは、ワークを高周波加熱後、
直ちに冷却液中に降下浸漬させても、なお、ワークの冷
却開始が遅いというのが、原因と考えられている。
入を行った場合、歯車の歯面に所望の深さおよび硬度を
有する硬化層を形成することができるけれども、硬化層
が若干着色することが多く、従って、ワークを無酸化焼
入しても、焼入されたワークの美観的な見地では、顧客
に十分な満足感を与えることができなかった。このよう
に、硬化層が着色することは、ワークを高周波加熱後、
直ちに冷却液中に降下浸漬させても、なお、ワークの冷
却開始が遅いというのが、原因と考えられている。
【００１１】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
であって、形成された硬化層が、硬化層が形成されてい
ない部分と同様な光沢を有するように焼入をすることが
できる無酸化高周波焼入方法および装置を提供すること
を目的としている。
であって、形成された硬化層が、硬化層が形成されてい
ない部分と同様な光沢を有するように焼入をすることが
できる無酸化高周波焼入方法および装置を提供すること
を目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に、請求項１記載の無酸化高周波焼入方法は、上部開放
下部半閉鎖の箱状であって下部が冷却液に浸漬されてお
り且つ無酸化性または還元性ガス中に設置された冷却液
受けの底面を貫通したワーク受けの頂部にワークを載置
後、無酸化性または還元性ガスが充満しており且つ下部
開放上部半閉鎖の箱状であって高周波加熱コイルを設け
た雰囲気ケースの下部を前記冷却液受け内の冷却液に浸
漬し、次いで冷却液受けに冷却液を供給して雰囲気ケー
ス内の冷却液面をワークの下端近辺まで上昇させてか
ら、高周波加熱コイルによってワークを加熱直後、冷却
液受けに更に冷却液を供給してワークを冷却液に浸漬さ
せる。
に、請求項１記載の無酸化高周波焼入方法は、上部開放
下部半閉鎖の箱状であって下部が冷却液に浸漬されてお
り且つ無酸化性または還元性ガス中に設置された冷却液
受けの底面を貫通したワーク受けの頂部にワークを載置
後、無酸化性または還元性ガスが充満しており且つ下部
開放上部半閉鎖の箱状であって高周波加熱コイルを設け
た雰囲気ケースの下部を前記冷却液受け内の冷却液に浸
漬し、次いで冷却液受けに冷却液を供給して雰囲気ケー
ス内の冷却液面をワークの下端近辺まで上昇させてか
ら、高周波加熱コイルによってワークを加熱直後、冷却
液受けに更に冷却液を供給してワークを冷却液に浸漬さ
せる。
【００１３】請求項２記載の無酸化高周波焼入装置は、
ワークが載置される複数の垂直なワーク受けが周辺を等
間隔に且つ昇降自在に貫通している水平なターンテーブ
ルと、このターンテーブルをステップ状に回転させてワ
ークを公転させる手段と、ターンテーブルを浸漬させた
冷却液を収容した冷却液タンクと、ワーク受けを昇降し
てワークを冷却液面の上下に昇降させる手段と、冷却液
面上で公転するワークの経路に下部が冷却液に浸漬する
ように設けた下部開放ほぼトンネル状で無酸化性または
還元性ガスが充満している熱処理室と、この熱処理室内
に昇降可能に設けられ無酸化性または還元性ガスが充満
している下部開放上部半閉鎖の箱状の雰囲気ケースと、
この雰囲気ケースに設けた高周波加熱コイルとを備えた
無酸化高周波焼入装置において、降下されて下部が冷却
液に浸漬された前記雰囲気ケースを取り囲み且つ前記ワ
ーク受けに底面中央部分が貫通固定されており下部が冷
却液中に浸漬するように設けられた上部開放下部半閉鎖
の箱状の冷却液受けと、冷却液受けに冷却液を供給する
第１手段と、第１手段より大量の冷却液を冷却液受けに
供給する第２手段とを備え、前記雰囲気ケースがワーク
受けに載置されたワークを囲むように且つ雰囲気ケース
の下部が冷却液受け内の冷却液に浸漬されるように前記
雰囲気ケースを降下させた後、前記第１手段によって雰
囲気ケース内の冷却液をワークの下端近辺まで上昇させ
てから、高周波加熱コイルによってワークを加熱直後、
前記第２手段によって雰囲気ケース内の冷却液の液面を
更に上昇させてワークを冷却液に浸漬させる。
ワークが載置される複数の垂直なワーク受けが周辺を等
間隔に且つ昇降自在に貫通している水平なターンテーブ
ルと、このターンテーブルをステップ状に回転させてワ
ークを公転させる手段と、ターンテーブルを浸漬させた
冷却液を収容した冷却液タンクと、ワーク受けを昇降し
てワークを冷却液面の上下に昇降させる手段と、冷却液
面上で公転するワークの経路に下部が冷却液に浸漬する
ように設けた下部開放ほぼトンネル状で無酸化性または
還元性ガスが充満している熱処理室と、この熱処理室内
に昇降可能に設けられ無酸化性または還元性ガスが充満
している下部開放上部半閉鎖の箱状の雰囲気ケースと、
この雰囲気ケースに設けた高周波加熱コイルとを備えた
無酸化高周波焼入装置において、降下されて下部が冷却
液に浸漬された前記雰囲気ケースを取り囲み且つ前記ワ
ーク受けに底面中央部分が貫通固定されており下部が冷
却液中に浸漬するように設けられた上部開放下部半閉鎖
の箱状の冷却液受けと、冷却液受けに冷却液を供給する
第１手段と、第１手段より大量の冷却液を冷却液受けに
供給する第２手段とを備え、前記雰囲気ケースがワーク
受けに載置されたワークを囲むように且つ雰囲気ケース
の下部が冷却液受け内の冷却液に浸漬されるように前記
雰囲気ケースを降下させた後、前記第１手段によって雰
囲気ケース内の冷却液をワークの下端近辺まで上昇させ
てから、高周波加熱コイルによってワークを加熱直後、
前記第２手段によって雰囲気ケース内の冷却液の液面を
更に上昇させてワークを冷却液に浸漬させる。
【００１４】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１〜４は本発明の無酸化高周波焼入方法を実
現することができる無酸化高周波焼入装置の一実施例を
説明するための図面であって、図５のＢ−Ｂ線矢視断面
に相当し、図１はワークが本加熱焼入ゾーンに到着した
状態、図２はワークの加熱直前の状態、図３はワークの
加熱直後の状態、図４はワークが冷却液中に浸漬された
状態を示す。
明する。図１〜４は本発明の無酸化高周波焼入方法を実
現することができる無酸化高周波焼入装置の一実施例を
説明するための図面であって、図５のＢ−Ｂ線矢視断面
に相当し、図１はワークが本加熱焼入ゾーンに到着した
状態、図２はワークの加熱直前の状態、図３はワークの
加熱直後の状態、図４はワークが冷却液中に浸漬された
状態を示す。
【００１５】本実施例においては、ワークとしては、従
来の技術の説明におけると同様に、歯車Ｗを採り上げ
た。本実施例の無酸化高周波焼入装置は、以下に述べる
点のみが従来の無酸化高周波焼入装置と異なっている。
従って、従来の無酸化高周波焼入装置と同じ点の説明は
省略する。なお、雰囲気ケース50の頂面には従来の装置
と同様に（但し、従来の装置を示す図５、６では図示し
ていない) 、無酸化性または還元性ガスの排出口51が設
けられている。
来の技術の説明におけると同様に、歯車Ｗを採り上げ
た。本実施例の無酸化高周波焼入装置は、以下に述べる
点のみが従来の無酸化高周波焼入装置と異なっている。
従って、従来の無酸化高周波焼入装置と同じ点の説明は
省略する。なお、雰囲気ケース50の頂面には従来の装置
と同様に（但し、従来の装置を示す図５、６では図示し
ていない) 、無酸化性または還元性ガスの排出口51が設
けられている。
【００１６】図１に示すように、本実施例の無酸化高周
波焼入装置のワーク受け93のワーク支持杆92には、上部
開放下部半閉鎖で円筒箱状の冷却液受け95が設けられて
いる。即ち、ワーク支持杆92が冷却液受けの底面97の中
央部分を貫通し、この貫通部においてワーク支持杆92に
冷却液受けが固定されている。冷却液受け95の底面97に
は冷却液Ｌの流入口96が設けられており、また、冷却液
受け95の側面99には開孔98が設けられている。この開孔
98は、ワーク受け93に載置された歯車Ｗの下面より低い
位置に設定されている。
波焼入装置のワーク受け93のワーク支持杆92には、上部
開放下部半閉鎖で円筒箱状の冷却液受け95が設けられて
いる。即ち、ワーク支持杆92が冷却液受けの底面97の中
央部分を貫通し、この貫通部においてワーク支持杆92に
冷却液受けが固定されている。冷却液受け95の底面97に
は冷却液Ｌの流入口96が設けられており、また、冷却液
受け95の側面99には開孔98が設けられている。この開孔
98は、ワーク受け93に載置された歯車Ｗの下面より低い
位置に設定されている。
【００１７】熱処理室20の本加熱焼入ゾーン22の天井に
は、配管62a と、配管62a より大きな径の配管62b が貫
通導入されている。配管62a には電磁弁64が、また、配
管62b には電磁弁64より径が大きい電磁弁65が取り付け
られている。一端が冷却液タンク70内の冷却液Ｌ中に浸
漬され、他端が配管62a 、62b に接続された配管61の途
中には、ポンプ63が設けられている。
は、配管62a と、配管62a より大きな径の配管62b が貫
通導入されている。配管62a には電磁弁64が、また、配
管62b には電磁弁64より径が大きい電磁弁65が取り付け
られている。一端が冷却液タンク70内の冷却液Ｌ中に浸
漬され、他端が配管62a 、62b に接続された配管61の途
中には、ポンプ63が設けられている。
【００１８】次に、この装置の動作の内、従来の無酸化
高周波焼入装置の動作と異なっている点のみを主として
説明する。まず、ポンプ63の運転を開始する。予熱コイ
ル23によって予熱された歯車Ｗが本加熱焼入ゾーン22に
到着すると、図１に示すように、図示しない昇降装置に
よって雰囲気ケース50が降下され、雰囲気ケース50の下
部が冷却液受け95内の冷却液Ｌに浸漬される。
高周波焼入装置の動作と異なっている点のみを主として
説明する。まず、ポンプ63の運転を開始する。予熱コイ
ル23によって予熱された歯車Ｗが本加熱焼入ゾーン22に
到着すると、図１に示すように、図示しない昇降装置に
よって雰囲気ケース50が降下され、雰囲気ケース50の下
部が冷却液受け95内の冷却液Ｌに浸漬される。
【００１９】配管26から雰囲気ケース50内に噴出される
無酸化性または還元性ガスＧの圧力は、大気圧より１万
分の10気圧以上高くしてあり、また、配管25から熱処理
室20内に噴出される無酸化性または還元性ガスＧの圧力
は、大気圧より１万分の４気圧以上で１万分の10気圧未
満の範囲で高くしてあるので、雰囲気ケース50内の冷却
液Ｌの液面は、冷却液受け95内の液面より少し低くな
る。
無酸化性または還元性ガスＧの圧力は、大気圧より１万
分の10気圧以上高くしてあり、また、配管25から熱処理
室20内に噴出される無酸化性または還元性ガスＧの圧力
は、大気圧より１万分の４気圧以上で１万分の10気圧未
満の範囲で高くしてあるので、雰囲気ケース50内の冷却
液Ｌの液面は、冷却液受け95内の液面より少し低くな
る。
【００２０】この状態で、電磁弁64を開くと、図２に示
すように、ポンプ63によって吸い上げられた冷却液Ｌ
は、冷却液受け95内に落下し、雰囲気ケース50内と冷却
液受け95内の液面は上昇する。液面が歯車Ｗの下端の近
くに至ったときに、電磁弁64を閉じる。なお、この際、
冷却液受け95の側面に設けた開孔98から冷却液Ｌが落下
して、雰囲気ケース50内および冷却液受け95内の冷却液
面の高さが一定に保たれる。
すように、ポンプ63によって吸い上げられた冷却液Ｌ
は、冷却液受け95内に落下し、雰囲気ケース50内と冷却
液受け95内の液面は上昇する。液面が歯車Ｗの下端の近
くに至ったときに、電磁弁64を閉じる。なお、この際、
冷却液受け95の側面に設けた開孔98から冷却液Ｌが落下
して、雰囲気ケース50内および冷却液受け95内の冷却液
面の高さが一定に保たれる。
【００２１】次いで、高周波電源24a から、リード24b
を介して高周波電流を高周波加熱コイル24に、所定時間
供給して歯車Ｗを加熱する。加熱後、直ちに電磁弁65を
開くと、大量の冷却液Ｌが配管62b の先端から冷却液受
け95内へ落下し、図３に示すように、歯車Ｗは、雰囲気
ケース50内において、冷却液Ｌに浸漬される。開孔98か
ら冷却液Ｌの落下が続くとともに、ワーク受け93の上端
から冷却液Ｌが溢れて落下する。
を介して高周波電流を高周波加熱コイル24に、所定時間
供給して歯車Ｗを加熱する。加熱後、直ちに電磁弁65を
開くと、大量の冷却液Ｌが配管62b の先端から冷却液受
け95内へ落下し、図３に示すように、歯車Ｗは、雰囲気
ケース50内において、冷却液Ｌに浸漬される。開孔98か
ら冷却液Ｌの落下が続くとともに、ワーク受け93の上端
から冷却液Ｌが溢れて落下する。
【００２２】この後、図４に示すように、ワーク受け93
を降下させて、歯車Ｗを、冷却液受け95と共に、冷却液
タンク70内の冷却液Ｌ内に浸漬させて歯車Ｗの冷却を続
行する。ワーク受け93を降下させてから、雰囲気ケース
50を上昇させる。ターンテーブルの次の１ステップ後、
歯車Ｗは液面上に移動されてワーク載置台91から取り外
される。
を降下させて、歯車Ｗを、冷却液受け95と共に、冷却液
タンク70内の冷却液Ｌ内に浸漬させて歯車Ｗの冷却を続
行する。ワーク受け93を降下させてから、雰囲気ケース
50を上昇させる。ターンテーブルの次の１ステップ後、
歯車Ｗは液面上に移動されてワーク載置台91から取り外
される。
【００２３】上記のように、本装置で無酸化高周波焼入
を行うと、歯車Ｗを加熱後、冷却液受け95内に冷却液Ｌ
を大量に注ぐので、しかも、雰囲気ケース50内の液面
は、歯車Ｗの下端近くまで上昇しているから、雰囲気ケ
ース50内の冷却液Ｌの液面が極めて急速に上昇して歯車
Ｗを浸漬する。故に、歯車Ｗの加熱後における冷却の開
始遅れが、従来のように、歯車Ｗを冷却液Ｌ中に降下す
る場合に比べて、大変少ない。従って、歯車Ｗに形成さ
れた硬化層が発色しない利点がある。
を行うと、歯車Ｗを加熱後、冷却液受け95内に冷却液Ｌ
を大量に注ぐので、しかも、雰囲気ケース50内の液面
は、歯車Ｗの下端近くまで上昇しているから、雰囲気ケ
ース50内の冷却液Ｌの液面が極めて急速に上昇して歯車
Ｗを浸漬する。故に、歯車Ｗの加熱後における冷却の開
始遅れが、従来のように、歯車Ｗを冷却液Ｌ中に降下す
る場合に比べて、大変少ない。従って、歯車Ｗに形成さ
れた硬化層が発色しない利点がある。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の無酸化高
周波焼入方法および装置では、上部開放下部半閉鎖の箱
状であって下部が冷却液に浸漬されており且つ無酸化性
または還元性ガス中に設置された冷却液受けの底面を貫
通したワーク受けの頂部にワークを載置後、無酸化性ま
たは還元性ガスが充満しており且つ下部開放上部半閉鎖
の箱状であって高周波加熱コイルを設けた雰囲気ケース
の下部を前記冷却液受け内の冷却液に浸漬し、次いで冷
却液受けに冷却液を供給して雰囲気ケース内の冷却液面
をワークの下端近辺まで上昇させてから、高周波加熱コ
イルによってワークを加熱直後、冷却液受けに更に冷却
液を供給してワークを冷却液に浸漬させる。
周波焼入方法および装置では、上部開放下部半閉鎖の箱
状であって下部が冷却液に浸漬されており且つ無酸化性
または還元性ガス中に設置された冷却液受けの底面を貫
通したワーク受けの頂部にワークを載置後、無酸化性ま
たは還元性ガスが充満しており且つ下部開放上部半閉鎖
の箱状であって高周波加熱コイルを設けた雰囲気ケース
の下部を前記冷却液受け内の冷却液に浸漬し、次いで冷
却液受けに冷却液を供給して雰囲気ケース内の冷却液面
をワークの下端近辺まで上昇させてから、高周波加熱コ
イルによってワークを加熱直後、冷却液受けに更に冷却
液を供給してワークを冷却液に浸漬させる。
【００２５】従って、本発明の無酸化高周波焼入方法お
よび装置によれば、ワークが無酸化性または還元性ガス
中において加熱された後、従来より少ない時間遅れでも
って冷却が開始されるので、形成された硬化層が着色さ
れることがない。
よび装置によれば、ワークが無酸化性または還元性ガス
中において加熱された後、従来より少ない時間遅れでも
って冷却が開始されるので、形成された硬化層が着色さ
れることがない。
【図１】本発明の無酸化高周波焼入方法を実現すること
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
が本加熱焼入ゾーンに到着した状態を示す。
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
が本加熱焼入ゾーンに到着した状態を示す。
【図２】本発明の無酸化高周波焼入方法を実現すること
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
の加熱直前の状態を示す。
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
の加熱直前の状態を示す。
【図３】本発明の無酸化高周波焼入方法を実現すること
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
の加熱直後の状態を示す。
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
の加熱直後の状態を示す。
【図４】本発明の無酸化高周波焼入方法を実現すること
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
が冷却液中に浸漬された状態を示す。
ができる装置の一実施例の断面説明図であって、ワーク
が冷却液中に浸漬された状態を示す。
【図５】従来の無酸化高周波焼入装置の平面説明図であ
る。
る。
【図６】図５のＡ−Ａ線矢視断面説明図である。
20 熱処理室 24 高周波加熱コイル 50 雰囲気ケース 61、62a 、62b 配管 63 ポンプ 64、65 電磁弁 70 冷却液タンク 90 ターンテーブル 93 ワーク受け 95 冷却液受け Ｇ 無酸化性または還元性ガス Ｌ 冷却液 Ｗ 歯車
Claims (3)
- 【請求項１】 上部開放下部半閉鎖の箱状であって下部
が冷却液に浸漬されており且つ無酸化性または還元性ガ
ス中に設置された冷却液受けの底面を貫通したワーク受
けの頂部にワークを載置後、無酸化性または還元性ガス
が充満しており且つ下部開放上部半閉鎖の箱状であって
高周波加熱コイルを設けた雰囲気ケースの下部を前記冷
却液受け内の冷却液に浸漬し、次いで冷却液受けに冷却
液を供給して雰囲気ケース内の冷却液面をワークの下端
近辺まで上昇させてから、高周波加熱コイルによってワ
ークを加熱直後、冷却液受けに更に冷却液を供給してワ
ークを冷却液に浸漬させることを特徴とする無酸化高周
波焼入方法。 - 【請求項２】 ワークが載置される複数の垂直なワーク
受けが周辺を等間隔に且つ昇降自在に貫通している水平
なターンテーブルと、このターンテーブルをステップ状
に回転させてワークを公転させる手段と、ターンテーブ
ルを浸漬させた冷却液を収容した冷却液タンクと、ワー
ク受けを昇降してワークを冷却液面の上下に昇降させる
手段と、冷却液面上で公転するワークの経路に下部が冷
却液に浸漬するように設けた下部開放ほぼトンネル状で
無酸化性または還元性ガスが充満している熱処理室と、
この熱処理室内に昇降可能に設けられ無酸化性または還
元性ガスが充満している下部開放上部半閉鎖の箱状の雰
囲気ケースと、この雰囲気ケースに設けた高周波加熱コ
イルとを備えた無酸化高周波焼入装置において、降下さ
れて下部が冷却液に浸漬された前記雰囲気ケースを取り
囲み且つ前記ワーク受けに底面中央部分が貫通固定され
ており下部が冷却液中に浸漬するように設けられた上部
開放下部半閉鎖の箱状の冷却液受けと、冷却液受けに冷
却液を供給する第１手段と、第１手段より大量の冷却液
を冷却液受けに供給する第２手段とを備え、前記雰囲気
ケースがワーク受けに載置されたワークを囲むように且
つ雰囲気ケースの下部が冷却液受け内の冷却液に浸漬さ
れるように前記雰囲気ケースを降下させた後、前記第１
手段によって雰囲気ケース内の冷却液をワークの下端近
辺まで上昇させてから、高周波加熱コイルによってワー
クを加熱直後、前記第２手段によって雰囲気ケース内の
冷却液の液面を更に上昇させてワークを冷却液に浸漬さ
せることを特徴とする無酸化高周波焼入装置。 - 【請求項３】 雰囲気ケース内の無酸化性または還元性
ガスの圧力を大気圧より１万分の10気圧以上高くし、熱
処理室内の無酸化性または還元性ガスの圧力を大気圧よ
り１万分の４気圧以上で１万分の10気圧未満の範囲で高
くしてある請求項２記載の無酸化高周波焼入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3240376A JP2654875B2 (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 無酸化高周波焼入方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3240376A JP2654875B2 (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 無酸化高周波焼入方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0551631A true JPH0551631A (ja) | 1993-03-02 |
| JP2654875B2 JP2654875B2 (ja) | 1997-09-17 |
Family
ID=17058574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3240376A Expired - Lifetime JP2654875B2 (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 無酸化高周波焼入方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2654875B2 (ja) |
-
1991
- 1991-08-26 JP JP3240376A patent/JP2654875B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2654875B2 (ja) | 1997-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6814573B2 (en) | Vacuum heat-treatment apparatus | |
| JP2013087359A (ja) | 被処理物の焼入装置 | |
| JPH07224327A (ja) | ほぼ筒状ワークの高周波焼入方法および高周波焼入装置 | |
| JP2019090076A (ja) | ワークの焼入処理装置 | |
| JP2010024516A (ja) | 高周波焼入装置の浸漬冷却装置 | |
| US5372293A (en) | Apparatus for degolding or tinning conductive portions of a microelectronic device | |
| US3972751A (en) | Method of heat treating ferrous workpieces | |
| JPH0551631A (ja) | 無酸化高周波焼入方法および装置 | |
| TW202248426A (zh) | 淬火裝置 | |
| US3522357A (en) | Vacuum furnace having a liquid quench and a vertically movable work holder | |
| JPS5855526A (ja) | 雰囲気熱処理装置 | |
| JP3368341B2 (ja) | 鋼の焼入れ方法及びその装置 | |
| CN220520572U (zh) | 一种轧辊加工淬火冷却机构 | |
| JP4537522B2 (ja) | 間欠駆動式真空浸炭炉 | |
| JP2897946B2 (ja) | 鋼の焼入れ方法及びその装置 | |
| JPH0739604B2 (ja) | 高周波無酸化焼入方法および装置 | |
| JPH0721565Y2 (ja) | 高周波焼入装置 | |
| KR100330862B1 (ko) | 강철의열처리경화방법및그의장치 | |
| JPH0211727A (ja) | 歯車の雰囲気ガス中における高周波コンターハードニング方法およびその装置 | |
| EP0518337B1 (en) | Apparatus and method for improved hot dip metallic coating of metal objects | |
| US2681874A (en) | Method of preferentially heat treating steel articles | |
| CN1962893A (zh) | 工件悬挂方式喷液、浸液和空冷组合控制淬火冷却方法 | |
| JPH0748662Y2 (ja) | 内周面焼入装置 | |
| JPH06346136A (ja) | 液中焼入れ装置 | |
| JPS6039128B2 (ja) | 金属材の急速焼入方法 |