JPH0552019B2 - - Google Patents
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- JPH0552019B2 JPH0552019B2 JP2861184A JP2861184A JPH0552019B2 JP H0552019 B2 JPH0552019 B2 JP H0552019B2 JP 2861184 A JP2861184 A JP 2861184A JP 2861184 A JP2861184 A JP 2861184A JP H0552019 B2 JPH0552019 B2 JP H0552019B2
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 27
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
- H01J29/50—Electron guns two or more guns in a single vacuum space, e.g. for plural-ray tube
- H01J29/503—Three or more guns, the axes of which lay in a common plane
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/48—Electron guns
- H01J2229/4844—Electron guns characterised by beam passing apertures or combinations
- H01J2229/4848—Aperture shape as viewed along beam axis
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- H01J2229/966—Circuit elements other than coils, reactors or the like, associated with the tube associated with the gun structure
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は少なくとも1本、好ましくはそれ以上
の電子ビームを集束するための陰極線管用電子銃
に関し、特にその静電レンズ構体と電極支持構造
に関するものである。
の電子ビームを集束するための陰極線管用電子銃
に関し、特にその静電レンズ構体と電極支持構造
に関するものである。
陰極線管は少なくとも1本の電子銃を具備して
おり、この電子銃によつて所定のターゲツト上に
電子ビームスポツトを形成させるものである。こ
の電子銃に関して陰極線管の性能を決定する極め
て重要な因子の1つに上記ターゲツト上における
電子ビームのスポツト径がある。ターゲツト上で
のスポツト径が小さなもの程望ましいのは当然で
あるが、このスポツト径は電子銃の性能によつて
決定される。一般に電子銃は電子ビームを発生さ
せる部分とこの電子ビームを加速集束させる主レ
ンズ部より成り、電子銃の性能を向上させる有効
な手段の一つは主レンズ部の性能を向上させるこ
とである。
おり、この電子銃によつて所定のターゲツト上に
電子ビームスポツトを形成させるものである。こ
の電子銃に関して陰極線管の性能を決定する極め
て重要な因子の1つに上記ターゲツト上における
電子ビームのスポツト径がある。ターゲツト上で
のスポツト径が小さなもの程望ましいのは当然で
あるが、このスポツト径は電子銃の性能によつて
決定される。一般に電子銃は電子ビームを発生さ
せる部分とこの電子ビームを加速集束させる主レ
ンズ部より成り、電子銃の性能を向上させる有効
な手段の一つは主レンズ部の性能を向上させるこ
とである。
前記主レンズ部の多くは静電レンズで、開孔を
有する複数個の電極を同軸上に配置し所定の電位
を印加することによつて形成される。この様な静
電レンズは電極構成の違いによりいくつかの種類
があるが、基本的には電極開孔径を大きくし大口
径レンズを形成させるか、または電極間距離を長
くして緩やかな電位変化とし長焦点レンズを形成
させることによつてレンズ性能を向上させること
ができる。しかし、陰極線管用電子銃は一般にネ
ツクと称する細いガラス円筒内に封入されて使用
されるため、まず電極の開孔即ちレンズ口径が物
理的に制限され、次いで電極間に形成される集束
電界が他の電界の影響を受けない様にするために
電極間距離が制限される。特にカラー受像管の如
く複数本の電子銃を一列に並べて使用する場合に
は電子銃間隔Sgが小さなもの程複数本ビームを集
中(コンバーゼンス)させ易いし偏向電力的にも
有利である。従つて電極の開孔はさらに小さくせ
ざるを得ない。
有する複数個の電極を同軸上に配置し所定の電位
を印加することによつて形成される。この様な静
電レンズは電極構成の違いによりいくつかの種類
があるが、基本的には電極開孔径を大きくし大口
径レンズを形成させるか、または電極間距離を長
くして緩やかな電位変化とし長焦点レンズを形成
させることによつてレンズ性能を向上させること
ができる。しかし、陰極線管用電子銃は一般にネ
ツクと称する細いガラス円筒内に封入されて使用
されるため、まず電極の開孔即ちレンズ口径が物
理的に制限され、次いで電極間に形成される集束
電界が他の電界の影響を受けない様にするために
電極間距離が制限される。特にカラー受像管の如
く複数本の電子銃を一列に並べて使用する場合に
は電子銃間隔Sgが小さなもの程複数本ビームを集
中(コンバーゼンス)させ易いし偏向電力的にも
有利である。従つて電極の開孔はさらに小さくせ
ざるを得ない。
そこで電子銃間隔Sgは小さくしたまま電極開孔
は製作可能な限り大きくし電極間距離を十分広
げ、その電極間部に補助電極を設け、ネツク内壁
の不所望な電界の影響を遮蔽する構造の電子銃が
考えられる。この様な電子銃では補助電極の電界
の影響をもなくすためには補助電極の開孔径を十
分大きく設定しなければならない。従つて補助電
極の開孔径をネツク内壁と同等程度に大きくして
電極間距離を十分広くし高性能の電子銃としたい
が、実際には補助電極の開孔径はネツク内壁と同
程度に大きくすることができず、このため電極間
距離は十分に広くとれない。これは電極を支持す
るための絶縁支持体が電極と同様にネツク内に封
入されているためで、実際にはこの絶縁支持体間
距離によつて前記補助電極の開孔径は制限されて
しまう。
は製作可能な限り大きくし電極間距離を十分広
げ、その電極間部に補助電極を設け、ネツク内壁
の不所望な電界の影響を遮蔽する構造の電子銃が
考えられる。この様な電子銃では補助電極の電界
の影響をもなくすためには補助電極の開孔径を十
分大きく設定しなければならない。従つて補助電
極の開孔径をネツク内壁と同等程度に大きくして
電極間距離を十分広くし高性能の電子銃としたい
が、実際には補助電極の開孔径はネツク内壁と同
程度に大きくすることができず、このため電極間
距離は十分に広くとれない。これは電極を支持す
るための絶縁支持体が電極と同様にネツク内に封
入されているためで、実際にはこの絶縁支持体間
距離によつて前記補助電極の開孔径は制限されて
しまう。
本発明は前記構造の陰極線管用電子銃におい
て、補助電極の開孔径をネツク内壁によつて制限
される開孔径まで大きくすることができるように
し、従つて電極間距離を十分大きくし主レンズの
レンズ性能を向上させ所定のターゲツト上に集束
されるスポツト径をより小さくすることを目的と
するものである。
て、補助電極の開孔径をネツク内壁によつて制限
される開孔径まで大きくすることができるように
し、従つて電極間距離を十分大きくし主レンズの
レンズ性能を向上させ所定のターゲツト上に集束
されるスポツト径をより小さくすることを目的と
するものである。
本発明の陰極線管用電子銃は前記構造の電子銃
の前記補助電極を境に電極支持用絶縁支持体が二
分された構造とすることによつて上記目的を達成
するものである。
の前記補助電極を境に電極支持用絶縁支持体が二
分された構造とすることによつて上記目的を達成
するものである。
以下図面を参照しつつ本発明を詳細に説明す
る。第1図は本発明を実施したカラー受像管用電
子銃の一例であり、第2図aは第1図のY−Z軸
断面図であり、第2図bはX−Z軸断面図であ
る。
る。第1図は本発明を実施したカラー受像管用電
子銃の一例であり、第2図aは第1図のY−Z軸
断面図であり、第2図bはX−Z軸断面図であ
る。
第1図、第2図a及び第2図bにおいて、電子
銃1は後述する複数個の電極と、これらを支える
複数の絶縁支持体2a,2bを有する。前記複数
個の電極はターゲツトとなる螢光面の赤、緑、青
各色の螢光体層(図示せず)を射突する3本の電
子ビーム3a,3b,3cを発生するための3個
のヒータ6a,6b,6cを内装する一列配設さ
れた陰極9a,9b,9cと、この3個の陰極に
対する位置にそれぞれ所定の電子ビーム通過孔部
が突設され一体化構造を有する第1グリツド1
1、第2グリツド12、第3グリツド13、第4
グリツド14、コンバーゼンス電極15と、前記
第3グリツド13と第4グリツド14の間にあつ
て1個の大きな開孔を有する補助電極16から成
り、前記絶縁支持体2a,2bに植設固定支持さ
れている。第1グリツド11と第2グリツド12
は近設配置された平板状電極であり、第3グリツ
ド13は第2グリツド12に近接配置され接合さ
れた2個のカツプ状電極23a,23bより成
り、第4グリツド14は前記第3グリツド13か
ら所定距離離れて配置され接合された2個のカツ
プ状電極24a,24bより成り、コンバーゼン
ス電極15は第4グリツド14に溶接固定した1
個のカツプ状電極25aより成る。前記各グリツ
ド電極及びコンバーゼンス電極のそれぞれカツプ
状電極の底部面及び平板状電極にはそれぞれ各電
子ビームに整合した3個の円形状の電子ビーム通
過孔部が設けられている。第1グリツド11及び
第2グリツド12の電子ビーム通過孔は比較的小
さく、第3グリツド13の第2グリツド12に面
する側の電子ビーム通過孔33a,33b,33
cはそれより大きく、第3グリツド13の第4グ
リツド14に面する側の電子ビーム通過孔43
a,43b,43c及び第4グリツド14の電子
ビーム通過孔34a,34b,34c,44a,
44b,44cは同径で比較的大きい径であり、
コンバーゼンス電極15の電子ビーム通過孔35
a,35b,35cはそれより小さい。前記補助
電極16は2個の円筒状電極26a,26bより
成り、これらの電極はそれぞれ第3グリツド1
3、第4グリツド14のカツプ状電極23b,2
4aを包含しているこの様な補助電極の1つを第
6図に示す。また前記コンバーゼンス電極15に
は図示しない陽極端子に印加される約25KVの高
電圧を加えるバルプスペーサ17が取付けられて
いる。この様な電子銃は細いガラス円筒のネツク
18内に封入されていて、ネツク下部にはステム
ピン19が配置されている。このステムピン19
は電子銃1を支持固定すると共にコンバーゼンス
電極15、第4グリツト14以外の各電極電位を
ステムピン19を通して外部より供給できるよう
になつている。
銃1は後述する複数個の電極と、これらを支える
複数の絶縁支持体2a,2bを有する。前記複数
個の電極はターゲツトとなる螢光面の赤、緑、青
各色の螢光体層(図示せず)を射突する3本の電
子ビーム3a,3b,3cを発生するための3個
のヒータ6a,6b,6cを内装する一列配設さ
れた陰極9a,9b,9cと、この3個の陰極に
対する位置にそれぞれ所定の電子ビーム通過孔部
が突設され一体化構造を有する第1グリツド1
1、第2グリツド12、第3グリツド13、第4
グリツド14、コンバーゼンス電極15と、前記
第3グリツド13と第4グリツド14の間にあつ
て1個の大きな開孔を有する補助電極16から成
り、前記絶縁支持体2a,2bに植設固定支持さ
れている。第1グリツド11と第2グリツド12
は近設配置された平板状電極であり、第3グリツ
ド13は第2グリツド12に近接配置され接合さ
れた2個のカツプ状電極23a,23bより成
り、第4グリツド14は前記第3グリツド13か
ら所定距離離れて配置され接合された2個のカツ
プ状電極24a,24bより成り、コンバーゼン
ス電極15は第4グリツド14に溶接固定した1
個のカツプ状電極25aより成る。前記各グリツ
ド電極及びコンバーゼンス電極のそれぞれカツプ
状電極の底部面及び平板状電極にはそれぞれ各電
子ビームに整合した3個の円形状の電子ビーム通
過孔部が設けられている。第1グリツド11及び
第2グリツド12の電子ビーム通過孔は比較的小
さく、第3グリツド13の第2グリツド12に面
する側の電子ビーム通過孔33a,33b,33
cはそれより大きく、第3グリツド13の第4グ
リツド14に面する側の電子ビーム通過孔43
a,43b,43c及び第4グリツド14の電子
ビーム通過孔34a,34b,34c,44a,
44b,44cは同径で比較的大きい径であり、
コンバーゼンス電極15の電子ビーム通過孔35
a,35b,35cはそれより小さい。前記補助
電極16は2個の円筒状電極26a,26bより
成り、これらの電極はそれぞれ第3グリツド1
3、第4グリツド14のカツプ状電極23b,2
4aを包含しているこの様な補助電極の1つを第
6図に示す。また前記コンバーゼンス電極15に
は図示しない陽極端子に印加される約25KVの高
電圧を加えるバルプスペーサ17が取付けられて
いる。この様な電子銃は細いガラス円筒のネツク
18内に封入されていて、ネツク下部にはステム
ピン19が配置されている。このステムピン19
は電子銃1を支持固定すると共にコンバーゼンス
電極15、第4グリツト14以外の各電極電位を
ステムピン19を通して外部より供給できるよう
になつている。
以上の電極構成において、ヒーターから第3グ
リツド13及び補助電極の1つの電極26aまで
は1対の絶縁支持体2aに植設固定支持されてお
り、補助電極のもう1つの電極26bと第4グリ
ツド14はもう1対の絶縁支持体2bに植設固定
支持されていて、補助電極の2つの電極26a,
26bはそのフランジ部30a,30bにおいて
接合していて、その接合部は溶接固定され電子銃
1を構成している。従つて第1図に示す様に補助
電極16の径は1対の絶縁支持体の径DBに制限
されることなくネツク18の内壁径DNによつて
制限されるまで最大限に大きくすることが可能と
なる。
リツド13及び補助電極の1つの電極26aまで
は1対の絶縁支持体2aに植設固定支持されてお
り、補助電極のもう1つの電極26bと第4グリ
ツド14はもう1対の絶縁支持体2bに植設固定
支持されていて、補助電極の2つの電極26a,
26bはそのフランジ部30a,30bにおいて
接合していて、その接合部は溶接固定され電子銃
1を構成している。従つて第1図に示す様に補助
電極16の径は1対の絶縁支持体の径DBに制限
されることなくネツク18の内壁径DNによつて
制限されるまで最大限に大きくすることが可能と
なる。
さて上記電子銃の動作は例えば以下の様にな
る。陰極9は約150Vのカツトオフ電圧に保たれ
これにそれぞれ変調信号が加えられる。第1グリ
ツド11は接地電位が、第2グリツド12は約
700Vが印加され、第3グリツド13には約
6.5KVが、第4グリツド14には約25KVの陽極
高電圧が印加され、補助電極16には第3グリツ
ド13電位と第4グリツド14電位の略中間電位
である約16KVが印加される。主レンズ部におい
てこの様な電極構造を有する電子レンズではその
等電位分布が第3図a、第3図bに示す様にな
る。第3図aは第2図aに、第3図bは第2図b
にそれぞれ対応する図で等電位線20を示してお
り、それぞれこの電子銃の主レンズ部を説明する
ために簡略化した電極構造で示している。第3図
a、第3図bから判る様に電子レンズの径を決定
する第3グリツド13、第4グリツド14の開孔
部と略同等の部分では(図中点線内部)電位分布
はほとんど乱れず、第4図に示す様に2個の円筒
電極の電極間距離を単純に大きくしたときの周囲
電界の影響を受けない状態と同等になる。従つて
軸上電位分布は第5図に示す様にかなり緩かなも
のとなり、この電子レンズによる電子光学的倍率
は減少し、且つ球面収差係数も減少するのでレン
ズ性能は著しく向上する。
る。陰極9は約150Vのカツトオフ電圧に保たれ
これにそれぞれ変調信号が加えられる。第1グリ
ツド11は接地電位が、第2グリツド12は約
700Vが印加され、第3グリツド13には約
6.5KVが、第4グリツド14には約25KVの陽極
高電圧が印加され、補助電極16には第3グリツ
ド13電位と第4グリツド14電位の略中間電位
である約16KVが印加される。主レンズ部におい
てこの様な電極構造を有する電子レンズではその
等電位分布が第3図a、第3図bに示す様にな
る。第3図aは第2図aに、第3図bは第2図b
にそれぞれ対応する図で等電位線20を示してお
り、それぞれこの電子銃の主レンズ部を説明する
ために簡略化した電極構造で示している。第3図
a、第3図bから判る様に電子レンズの径を決定
する第3グリツド13、第4グリツド14の開孔
部と略同等の部分では(図中点線内部)電位分布
はほとんど乱れず、第4図に示す様に2個の円筒
電極の電極間距離を単純に大きくしたときの周囲
電界の影響を受けない状態と同等になる。従つて
軸上電位分布は第5図に示す様にかなり緩かなも
のとなり、この電子レンズによる電子光学的倍率
は減少し、且つ球面収差係数も減少するのでレン
ズ性能は著しく向上する。
第4図に示す様に単純に2つの電極の電極間距
離を大きくすることは実際には前述した様にネツ
ク内の他の電界の影響を受け電位分布が乱される
ので実用化することはできないが、本発明の如く
電子レンズ口径よりかなり大きな径を有する少な
くとも1個の補助電極を2つの電極の間に配置さ
せ、この補助電極に2つの電極電位の略中間の電
位を印加することによつて、ネツク内の他の不所
望な電界を遮蔽し且つ必要な電子レンズ部の電界
を乱さない様にできるので、第4図に示す様な単
純に2つの電極間距離を大きくしたときと同等の
高性能の電子レンズを形成させることができる。
このとき補助電極の開孔は1つの大きな開孔とす
れば良く、他の電極の如く3個の電子ビーム通過
孔は必要ないので3個の開孔部を中心間距離は変
えずにそれぞれ大きくできなくとも電極間距離を
大きくすることによつて極めて容易に電子レンズ
の性能を向上させることができる。
離を大きくすることは実際には前述した様にネツ
ク内の他の電界の影響を受け電位分布が乱される
ので実用化することはできないが、本発明の如く
電子レンズ口径よりかなり大きな径を有する少な
くとも1個の補助電極を2つの電極の間に配置さ
せ、この補助電極に2つの電極電位の略中間の電
位を印加することによつて、ネツク内の他の不所
望な電界を遮蔽し且つ必要な電子レンズ部の電界
を乱さない様にできるので、第4図に示す様な単
純に2つの電極間距離を大きくしたときと同等の
高性能の電子レンズを形成させることができる。
このとき補助電極の開孔は1つの大きな開孔とす
れば良く、他の電極の如く3個の電子ビーム通過
孔は必要ないので3個の開孔部を中心間距離は変
えずにそれぞれ大きくできなくとも電極間距離を
大きくすることによつて極めて容易に電子レンズ
の性能を向上させることができる。
前記実施例のカラー受像管用電子銃ではシヤド
ウマスク又はスクリーン(ターゲツト)上の一点
において3本の電子ビームをコンバーゼンスさせ
ねばならないが、このためにはいくつかの方法が
知られている。即ち両側の電子銃自体を傾けて配
置させる方法や、両側の主レンズ又は他の電子レ
ンズを傾けて形成させる方法や、非対称レンズを
形成させる方法などがある。本発明においてもこ
れらの従来の方法はそのまま使用できるが、本発
明では補助電極の構造によつても前記コンバーゼ
ンスを達成できる。即ち、第7図a、第7図bに
示す如く、補助電極の第4グリツド側のX方向径
DX4を第3グリツド側のX方向径DX3より小
さくすることによつて、両側の電子ビームをそれ
ぞれ中央の電子ビーム側へ僅かに偏向させ、コン
バーゼンスを達成するものである。これはX−Z
軸断面において、第4グリツド側の補助電極の電
位が第3グリツド側の補助電極の電位より電子レ
ンズ部へ大きく侵入していき、この電位がその位
置での平均的電位より低いため両側の電子ビーム
3a,3cは内側へ力を受けるからである。或い
は第8図a、第8図bに示す如く、補助電極のフ
ランジ部30a,30bに絶縁体60を接着固定
した2つの補助電極16−1,16−2を用い、
これら補助電極には第3グリツド13電位と第4
グリツド14電位の略中間電位を印加するもの
の、第4グリツド14側の補助電極16−2の電
位を第3グリツド13側の補助電極16−1の電
位より僅かに低くすることによつても同じ理由に
より上記コンバーゼンスは達成できる。このとき
2個の補助電極の電極長も適当に可変させて調整
してもよい。
ウマスク又はスクリーン(ターゲツト)上の一点
において3本の電子ビームをコンバーゼンスさせ
ねばならないが、このためにはいくつかの方法が
知られている。即ち両側の電子銃自体を傾けて配
置させる方法や、両側の主レンズ又は他の電子レ
ンズを傾けて形成させる方法や、非対称レンズを
形成させる方法などがある。本発明においてもこ
れらの従来の方法はそのまま使用できるが、本発
明では補助電極の構造によつても前記コンバーゼ
ンスを達成できる。即ち、第7図a、第7図bに
示す如く、補助電極の第4グリツド側のX方向径
DX4を第3グリツド側のX方向径DX3より小
さくすることによつて、両側の電子ビームをそれ
ぞれ中央の電子ビーム側へ僅かに偏向させ、コン
バーゼンスを達成するものである。これはX−Z
軸断面において、第4グリツド側の補助電極の電
位が第3グリツド側の補助電極の電位より電子レ
ンズ部へ大きく侵入していき、この電位がその位
置での平均的電位より低いため両側の電子ビーム
3a,3cは内側へ力を受けるからである。或い
は第8図a、第8図bに示す如く、補助電極のフ
ランジ部30a,30bに絶縁体60を接着固定
した2つの補助電極16−1,16−2を用い、
これら補助電極には第3グリツド13電位と第4
グリツド14電位の略中間電位を印加するもの
の、第4グリツド14側の補助電極16−2の電
位を第3グリツド13側の補助電極16−1の電
位より僅かに低くすることによつても同じ理由に
より上記コンバーゼンスは達成できる。このとき
2個の補助電極の電極長も適当に可変させて調整
してもよい。
上記絶縁体60としてはセラミツクス板が好適
であり、接着剤としては耐熱性、耐電圧性に優れ
たポリイミド系の接着剤が好適である。尚、第7
図a及び第8図aは第2図と同じくY−Z軸断面
を、第7図b及び第8図bはX−Z軸断面をそれ
ぞれ示す。
であり、接着剤としては耐熱性、耐電圧性に優れ
たポリイミド系の接着剤が好適である。尚、第7
図a及び第8図aは第2図と同じくY−Z軸断面
を、第7図b及び第8図bはX−Z軸断面をそれ
ぞれ示す。
前記実施例では補助電極の電位をステムピンを
通じ外部から供給しているが本発明はこれらに限
らず抵抗分割により供給してもよい。例えば第9
図に示す様に薄板状のセラミツク基板50に抵抗
材51及び接続部52を配置し、ガラスコート5
3した抵抗体54を第10図の如く電子銃1の各
電極を支える絶縁支持体2a,2bの背後にそれ
ぞれ設置し、第4グリツド14側の絶縁支持体2
bの背後に設置した抵抗体54bは一方をコンバ
ーゼンス電極15に接続して陽極高電圧Ebを印
加し、一方を補助電極26b側に接続し、且つ第
3グリツド13側の絶縁支持体2aの背後に設置
した抵抗体54aは一方を補助電極26aに接続
し、一方をステムピン19に接続した外部にて接
地電圧55又は低電圧源56又は抵抗体57に接
続し、適当な位置を補助電極に接続する。この様
な構成にすると電気的には第11図に示す様にな
り補助電極及び第3グリツドには陽極高電圧Eb
の抵抗体による分割電圧が供給される。
通じ外部から供給しているが本発明はこれらに限
らず抵抗分割により供給してもよい。例えば第9
図に示す様に薄板状のセラミツク基板50に抵抗
材51及び接続部52を配置し、ガラスコート5
3した抵抗体54を第10図の如く電子銃1の各
電極を支える絶縁支持体2a,2bの背後にそれ
ぞれ設置し、第4グリツド14側の絶縁支持体2
bの背後に設置した抵抗体54bは一方をコンバ
ーゼンス電極15に接続して陽極高電圧Ebを印
加し、一方を補助電極26b側に接続し、且つ第
3グリツド13側の絶縁支持体2aの背後に設置
した抵抗体54aは一方を補助電極26aに接続
し、一方をステムピン19に接続した外部にて接
地電圧55又は低電圧源56又は抵抗体57に接
続し、適当な位置を補助電極に接続する。この様
な構成にすると電気的には第11図に示す様にな
り補助電極及び第3グリツドには陽極高電圧Eb
の抵抗体による分割電圧が供給される。
この様な抵抗体54a,54bとしてはカラー
受像管において静電コンバーゼンス調整用電極の
電極電位を供給する方法として使用されている抵
抗体が好適である。
受像管において静電コンバーゼンス調整用電極の
電極電位を供給する方法として使用されている抵
抗体が好適である。
第10図に示した実施例では抵抗体を1本の板
状として絶縁支持体の背後に設置しているが、本
発明はこれに限らず絶縁支持体の背後に直接抵抗
材を塗布してもいいし、絶縁支持体自体を抵抗体
として使用してもいいことは言う迄もない。
状として絶縁支持体の背後に設置しているが、本
発明はこれに限らず絶縁支持体の背後に直接抵抗
材を塗布してもいいし、絶縁支持体自体を抵抗体
として使用してもいいことは言う迄もない。
以上の如く補助電極電位を抵抗分割によつて供
給する様にすればステム部において中高圧の補助
電極電位を供給する必要はなくステム部周辺での
耐圧信頼性が向上し、実用性に富んだ陰極線管を
提供できる。さらには第3グリツド電位をも抵抗
分割により供給するようにすればステム部周辺で
の耐圧信頼性はさらに向上するし、第3グリツド
電位をステムピンを介し低電圧でコントロールで
きるので動的に電子レンズの集束状態を調整する
ことが容易となる。
給する様にすればステム部において中高圧の補助
電極電位を供給する必要はなくステム部周辺での
耐圧信頼性が向上し、実用性に富んだ陰極線管を
提供できる。さらには第3グリツド電位をも抵抗
分割により供給するようにすればステム部周辺で
の耐圧信頼性はさらに向上するし、第3グリツド
電位をステムピンを介し低電圧でコントロールで
きるので動的に電子レンズの集束状態を調整する
ことが容易となる。
また上記実施例の主レンズ部では第3グリツド
と第4グリツドの2個の電極から成るバイポテン
シヤル形レンズを基本とし、その電極間に大開孔
を有する補助電極を配置した構成となつている
が、本発明はこれに限らず第12図aに示す様に
ユニポテンシヤル形レンズを基本としてもいい
し、第12図bに示す様にクオドラポテンシヤル
形レンズを基本としてもいいし、第12図cに示
す様にペリオデイツクポテンシヤル形レンズを基
本としてもいいし、その他トライポテンシヤル形
レンズを基本としても本発明の本質が変わるもの
ではない。第12図a〜第12図cは主レンズ部
の概略構成図を示すものであり、それぞれ電子レ
ンズを形成させる部分にすべて補助電極を配し本
発明を適用しているが、主要な電子レンズ部だけ
に本発明を適用してもよいことは言うまでもな
い。特に第12図b、第12図cに示すレンズ系
では第3グリツドG3の電圧を約8〜9KVに設定
できるので物点形成部からの電子ビームの質を最
良の状態で使用でき、総合的な電子銃の性能はさ
らに良くなる。
と第4グリツドの2個の電極から成るバイポテン
シヤル形レンズを基本とし、その電極間に大開孔
を有する補助電極を配置した構成となつている
が、本発明はこれに限らず第12図aに示す様に
ユニポテンシヤル形レンズを基本としてもいい
し、第12図bに示す様にクオドラポテンシヤル
形レンズを基本としてもいいし、第12図cに示
す様にペリオデイツクポテンシヤル形レンズを基
本としてもいいし、その他トライポテンシヤル形
レンズを基本としても本発明の本質が変わるもの
ではない。第12図a〜第12図cは主レンズ部
の概略構成図を示すものであり、それぞれ電子レ
ンズを形成させる部分にすべて補助電極を配し本
発明を適用しているが、主要な電子レンズ部だけ
に本発明を適用してもよいことは言うまでもな
い。特に第12図b、第12図cに示すレンズ系
では第3グリツドG3の電圧を約8〜9KVに設定
できるので物点形成部からの電子ビームの質を最
良の状態で使用でき、総合的な電子銃の性能はさ
らに良くなる。
また前記実施例では3本の電子銃を横方向一列
に一体化した構造となつているが本発明はこれに
限らず正三角形状に3本の電子銃を配置した構造
のものや、その他多数本の電子銃を配置したもの
や、或いは1本の電子銃構造のものでも本発明が
適用できることは言う迄もない。
に一体化した構造となつているが本発明はこれに
限らず正三角形状に3本の電子銃を配置した構造
のものや、その他多数本の電子銃を配置したもの
や、或いは1本の電子銃構造のものでも本発明が
適用できることは言う迄もない。
以上の如く本発明によれば、対向する2つの電
極の間にこれらの電極より大きな1つの補助電極
を配し、補助電極と上記2つの電極はそれぞれ絶
縁支持体により固定保持され、この絶縁支持体は
補助電極部で2分されていて、上記2つの電極は
補助電極を介して固定されている構造の陰極線管
用電子銃とすることによつて、補助電極部の開孔
径をネツク内径によつて制限されるまで十分大き
くすることができる。またこれに対向する2つの
電極の中間電位を印加することによつて上記対向
する2つの電極間距離を十分大きく設定すること
ができ、実質的に電極間距離の長い長焦点レンズ
を実用上問題なく形成させることができる。本発
明の陰極線管用電子銃は構造が簡単なので製造が
容易であり従つて実用性に富んだ高性能の陰極線
管用電子銃を提供することができるものである。
極の間にこれらの電極より大きな1つの補助電極
を配し、補助電極と上記2つの電極はそれぞれ絶
縁支持体により固定保持され、この絶縁支持体は
補助電極部で2分されていて、上記2つの電極は
補助電極を介して固定されている構造の陰極線管
用電子銃とすることによつて、補助電極部の開孔
径をネツク内径によつて制限されるまで十分大き
くすることができる。またこれに対向する2つの
電極の中間電位を印加することによつて上記対向
する2つの電極間距離を十分大きく設定すること
ができ、実質的に電極間距離の長い長焦点レンズ
を実用上問題なく形成させることができる。本発
明の陰極線管用電子銃は構造が簡単なので製造が
容易であり従つて実用性に富んだ高性能の陰極線
管用電子銃を提供することができるものである。
また本発明の電子銃では複数個の電子ビームの
ビーム間隔即ち電子ビーム通過孔間距離を大きく
することなく高性能の電子銃を得ることができる
のでカラー受像管においては偏向電力の少ない且
つコンバーゼンス品位の良好な高性能電子銃とし
て使用することができる。
ビーム間隔即ち電子ビーム通過孔間距離を大きく
することなく高性能の電子銃を得ることができる
のでカラー受像管においては偏向電力の少ない且
つコンバーゼンス品位の良好な高性能電子銃とし
て使用することができる。
第1図は本発明の一実施例を示すものでカラー
受像管用電子銃の側断面図、第2図a及び第2図
bは第1図のY−Z軸及びX−Z軸断面図、第3
図a、第3図b及び第4図は本発明を説明するた
めの等電位分線布図で、第3図a及び第3図bは
第2図a及び第2図bにそれぞれ対応する断面
図、第4図は同軸円筒レンズの断面図、第5図は
第4図における軸上電位分布図、第6図は第1図
の実施例に使用されている電極の斜視図、第7図
a、第7図b及び第8図a、第8図bは本発明の
他の実施例を示すもので第7図a及び第8図a、
第7図b及び第8図bはそれぞれY−Z軸、X−
Z軸での断面図、第9図は抵抗体の一部を示す断
面図、第10図は第9図の抵抗体を使用したとき
の本発明の実施例、第11図は第10図の電気的
構成図、第12図a、第12図b、第12図cは
本発明の他の実施例を示す側断面図である。 1……電子銃、2a,2b……絶縁支持体、3
a,3b,3c……電子ビーム、13……第3グ
リツド、14……第4グリツド、15……コンバ
ーゼンス電極、16……補助電極、54a,54
b……抵抗体。
受像管用電子銃の側断面図、第2図a及び第2図
bは第1図のY−Z軸及びX−Z軸断面図、第3
図a、第3図b及び第4図は本発明を説明するた
めの等電位分線布図で、第3図a及び第3図bは
第2図a及び第2図bにそれぞれ対応する断面
図、第4図は同軸円筒レンズの断面図、第5図は
第4図における軸上電位分布図、第6図は第1図
の実施例に使用されている電極の斜視図、第7図
a、第7図b及び第8図a、第8図bは本発明の
他の実施例を示すもので第7図a及び第8図a、
第7図b及び第8図bはそれぞれY−Z軸、X−
Z軸での断面図、第9図は抵抗体の一部を示す断
面図、第10図は第9図の抵抗体を使用したとき
の本発明の実施例、第11図は第10図の電気的
構成図、第12図a、第12図b、第12図cは
本発明の他の実施例を示す側断面図である。 1……電子銃、2a,2b……絶縁支持体、3
a,3b,3c……電子ビーム、13……第3グ
リツド、14……第4グリツド、15……コンバ
ーゼンス電極、16……補助電極、54a,54
b……抵抗体。
Claims (1)
- 1 少なくとも電子ビーム発生部とこの電子ビー
ムを所定のターゲツト上に集束させる主レンズ部
より成る電子銃であつて、前記主レンズ部がそれ
ぞれ電子ビーム通過孔を有する少なくとも対向す
る2つの電極と少なくとも一部がこれらの電極の
間に位置してこれらの電極が有する電子ビーム通
過孔より大きな開孔を有した少なくとも1つの補
助電極を具備し、前記各電極は絶縁支持体によつ
て固定保持されていて、前記対向する2つの電極
には相対的に低位の電位と相対的に高位の電位が
印加され、前記補助電極には相対的に中位の電位
が印加された構造の主レンズ部からなり、前記絶
縁支持体が電子ビームの進行方向に沿つて前記補
助電極を境に二分されていることを特徴とする陰
極線管用電子銃。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2861184A JPS60175342A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 陰極線管用電子銃 |
| DE8585101706T DE3561781D1 (en) | 1984-02-20 | 1985-02-15 | Electron gun |
| EP85101706A EP0152933B1 (en) | 1984-02-20 | 1985-02-15 | Electron gun |
| US06/702,725 US4712043A (en) | 1984-02-20 | 1985-02-19 | Electron gun with large aperture auxiliary electrode |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2861184A JPS60175342A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 陰極線管用電子銃 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60175342A JPS60175342A (ja) | 1985-09-09 |
| JPH0552019B2 true JPH0552019B2 (ja) | 1993-08-04 |
Family
ID=12253361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2861184A Granted JPS60175342A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 陰極線管用電子銃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60175342A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150072059A (ko) * | 2013-12-19 | 2015-06-29 | 한국세라믹기술원 | 폴리카보실란 섬유의 습식 불융화 방법 및 이를 포함하는 탄화규소섬유의 제조방법 |
-
1984
- 1984-02-20 JP JP2861184A patent/JPS60175342A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150072059A (ko) * | 2013-12-19 | 2015-06-29 | 한국세라믹기술원 | 폴리카보실란 섬유의 습식 불융화 방법 및 이를 포함하는 탄화규소섬유의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60175342A (ja) | 1985-09-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |