JPH0554185B2 - - Google Patents
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- JPH0554185B2 JPH0554185B2 JP58139598A JP13959883A JPH0554185B2 JP H0554185 B2 JPH0554185 B2 JP H0554185B2 JP 58139598 A JP58139598 A JP 58139598A JP 13959883 A JP13959883 A JP 13959883A JP H0554185 B2 JPH0554185 B2 JP H0554185B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- recording member
- optical recording
- memory element
- optical
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C65/00—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor
- B29C65/48—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C65/00—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor
- B29C65/48—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding
- B29C65/4805—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding characterised by the type of adhesives
- B29C65/483—Reactive adhesives, e.g. chemically curing adhesives
- B29C65/4845—Radiation curing adhesives, e.g. UV light curing adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C66/00—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts
- B29C66/40—General aspects of joining substantially flat articles, e.g. plates, sheets or web-like materials; Making flat seams in tubular or hollow articles; Joining single elements to substantially flat surfaces
- B29C66/41—Joining substantially flat articles ; Making flat seams in tubular or hollow articles
- B29C66/45—Joining of substantially the whole surface of the articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
- B29L2017/005—CD''s, DVD''s
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜技術分野＞
本発明は、レーザ等の光により情報の記録・再
生・消去等を行う光メモリ素子に関する。
生・消去等を行う光メモリ素子に関する。
＜従来技術＞
近年、大容量、高密度、高速アクセス化の可能
な記憶素子への要望が高まる中で、光メモリ素子
の研究開発が活発に行われている。
な記憶素子への要望が高まる中で、光メモリ素子
の研究開発が活発に行われている。
光メモリ素子においては、ガラスやアクリル樹
脂等の合成樹脂よりなる円盤状の支持基体上に光
記録部材層が形成され、傷、汚れ、ほこりといつ
た外乱からの保護の目的からこの光記録部材層相
互を相対峙する形で貼り合わせ、併せて両面使用
可能な構成をとるのが一般的である。また、片面
記録用として、光記録部材層を形成した支持基体
と、光記録部材層の形成の無い支持基体とを、そ
の光記録部材層を挾むように２枚の支持基体を貼
り合わせることもある。いずれの場合でも、外気
にさらされる周縁部からの光記録部材層の酸化腐
食を避けるために、該周縁部には、光記録部材層
を形成しない記録部材層欠落部を設ける必要があ
る。
脂等の合成樹脂よりなる円盤状の支持基体上に光
記録部材層が形成され、傷、汚れ、ほこりといつ
た外乱からの保護の目的からこの光記録部材層相
互を相対峙する形で貼り合わせ、併せて両面使用
可能な構成をとるのが一般的である。また、片面
記録用として、光記録部材層を形成した支持基体
と、光記録部材層の形成の無い支持基体とを、そ
の光記録部材層を挾むように２枚の支持基体を貼
り合わせることもある。いずれの場合でも、外気
にさらされる周縁部からの光記録部材層の酸化腐
食を避けるために、該周縁部には、光記録部材層
を形成しない記録部材層欠落部を設ける必要があ
る。
ところで、２枚の支持基体の貼り合わせに際し
て２通りの方法が広く知られている。一つは、上
記の記録部材層欠落部においてスペーサを介して
貼り合わせ、２枚の支持基体の間〓には、不活性
ガス等を充填する（エアサンドウイツチ構造）方
法である。しかしこの方法では、貼り合わせ時の
工程が、煩雑になり、又、貼り合わせ後の機械的
強度の確保の必要上接着部面積を或る程度広く確
保せねばならないために光メモリ素子の前記憶容
量が減少する欠点がある。
て２通りの方法が広く知られている。一つは、上
記の記録部材層欠落部においてスペーサを介して
貼り合わせ、２枚の支持基体の間〓には、不活性
ガス等を充填する（エアサンドウイツチ構造）方
法である。しかしこの方法では、貼り合わせ時の
工程が、煩雑になり、又、貼り合わせ後の機械的
強度の確保の必要上接着部面積を或る程度広く確
保せねばならないために光メモリ素子の前記憶容
量が減少する欠点がある。
他の方法は支持基体全面を接着剤にて貼り合わ
せるものであり、この方法であれば前記問題を回
避できる。この場合、接着剤には、一液性で、オ
ープンタイム（接着剤塗布から貼り合わせまでの
時間）が長くとれ、作業性でも有利として、紫外
線硬化型接着剤が広く使用されている。しかし、
主に金属質より成る光記録部材層は、紫外線が透
過しにくいため、一方の支持基体には光記録部材
層を形成できず、そのため両面使用可能な光メモ
リ素子を実現できない。
せるものであり、この方法であれば前記問題を回
避できる。この場合、接着剤には、一液性で、オ
ープンタイム（接着剤塗布から貼り合わせまでの
時間）が長くとれ、作業性でも有利として、紫外
線硬化型接着剤が広く使用されている。しかし、
主に金属質より成る光記録部材層は、紫外線が透
過しにくいため、一方の支持基体には光記録部材
層を形成できず、そのため両面使用可能な光メモ
リ素子を実現できない。
加えて、光メモリ素子の光記録部材層を構成す
る物質には、酸化によつて特性劣化するものが多
く、特に水分の介在によつて急速に腐食が進行し
易いため、素子の耐湿性の向上は実用化にとつて
不可避の問題となつている。ところが、従来の接
着剤に基づく前述の封止技術では、例えば、高
温・多湿下といつた保存環境によつては、接着剤
自体の吸湿、膨潤による基体からの剥離、密着性
低下に伴つて、界面を通しての水分の侵入が加速
され、光記録部材層の腐食の引金となる問題を避
け得なかつた。
る物質には、酸化によつて特性劣化するものが多
く、特に水分の介在によつて急速に腐食が進行し
易いため、素子の耐湿性の向上は実用化にとつて
不可避の問題となつている。ところが、従来の接
着剤に基づく前述の封止技術では、例えば、高
温・多湿下といつた保存環境によつては、接着剤
自体の吸湿、膨潤による基体からの剥離、密着性
低下に伴つて、界面を通しての水分の侵入が加速
され、光記録部材層の腐食の引金となる問題を避
け得なかつた。
＜目的＞
本発明は、以上の不具合を解消するためになさ
れたものであり、主たる領域に光記録部材層を形
成した２枚の支持基体相互を、紫外線硬化性およ
び嫌気性硬化性のいずれでも硬化可能な接着剤で
貼り合わせることで、貼り合わせ工程を簡便とし
た両面使用可能な光メモリ素子を提供することを
目的とし、加えて接着剤に密着性付与剤を添加す
ることにより耐湿性に優れた光メモリ素子を実現
する。
れたものであり、主たる領域に光記録部材層を形
成した２枚の支持基体相互を、紫外線硬化性およ
び嫌気性硬化性のいずれでも硬化可能な接着剤で
貼り合わせることで、貼り合わせ工程を簡便とし
た両面使用可能な光メモリ素子を提供することを
目的とし、加えて接着剤に密着性付与剤を添加す
ることにより耐湿性に優れた光メモリ素子を実現
する。
＜構成＞
本発明は、主たる領域に光記録部材層を形成し
た２枚の支持基体を、前記光記録部材層相互が相
対峙するように接着剤で貼り合わせてなる光メモ
リ素子において、前記接着剤として、紫外線硬化
性および嫌気性硬化性のいずれでも硬化反応が進
む接着剤を使用したものであり、又、耐湿性の改
善のために、撥水性を有するシランカツプリング
剤、又はチタンカツプリング剤等の密着性付与剤
を添加した接着剤を使用したものである。
た２枚の支持基体を、前記光記録部材層相互が相
対峙するように接着剤で貼り合わせてなる光メモ
リ素子において、前記接着剤として、紫外線硬化
性および嫌気性硬化性のいずれでも硬化反応が進
む接着剤を使用したものであり、又、耐湿性の改
善のために、撥水性を有するシランカツプリング
剤、又はチタンカツプリング剤等の密着性付与剤
を添加した接着剤を使用したものである。
本発明の対象となる光記録部材層は、Te薄膜、
Te低級酸化物薄膜、色素薄膜、希土類−遷移金
属合金非晶質薄膜等のように、大気あるいは水分
により腐食されやすい媒体である。希土類−遷移
金属合金非晶質薄膜としては、後に実施例で示す
GdTbFe薄膜のほか、TbDyFe系薄膜などがあ
る。これらの光記録部材層を用いて構成される光
メモリ素子は、貼り合わされた２枚の基体の間に
光メモリ媒体が挟まれた構造になつている。
Te低級酸化物薄膜、色素薄膜、希土類−遷移金
属合金非晶質薄膜等のように、大気あるいは水分
により腐食されやすい媒体である。希土類−遷移
金属合金非晶質薄膜としては、後に実施例で示す
GdTbFe薄膜のほか、TbDyFe系薄膜などがあ
る。これらの光記録部材層を用いて構成される光
メモリ素子は、貼り合わされた２枚の基体の間に
光メモリ媒体が挟まれた構造になつている。
本発明で用いられる接着剤は、前述の如き紫外
線硬化および嫌気硬化のいずれでも硬化可能なも
ので、具体的にその成分を例示すると以下の如く
である。
線硬化および嫌気硬化のいずれでも硬化可能なも
ので、具体的にその成分を例示すると以下の如く
である。
ベースとなるアクリルウレタンオリゴマーとし
ては、ポリエステルウレタンメタクリレート、ポ
リエーテルウレタンメタクリレート、ポリブタジ
エンウレタンメタクリレート等が使用される。
ては、ポリエステルウレタンメタクリレート、ポ
リエーテルウレタンメタクリレート、ポリブタジ
エンウレタンメタクリレート等が使用される。
さらに詳しく述べればポリエステルウレタンメ
タクリレートは、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６
−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等
のポリオールとアジピン酸、フマル酸、フタル
酸、テレフタル酸等のポリカルボン酸を構成成分
とする水酸基価が20から200を有するポリエステ
ルポリオールに、ポリイソシアネート、例えば
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、メチ
レン−ビス−（４−フエニルイソシアネート）、ト
リレンジイソシアネートからなる少なくとも１種
を、ポリエステルポリオールの水酸基１個に対し
ポリイソシアネート１個を反応させ、さらにポリ
イソシアネートに残存するイソシアネート基１個
に水酸基含有メタクリレート、例えば２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート等のうち少なくとも一種、を
１個反応させて得られるものを言い、ポリエーテ
ルウレタンメタクリレートはポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメ
チレンエーテルグリコール等の水酸基価20から
200を有するポリエーテルポリオールの水酸基１
個に前述のポリイソシアネート１個を反応させ、
さらにポリイソシアネートに残存するイソシアネ
ート基１個に前述の水酸基含有メタクリレートを
反応させて得られるものを言い、ポリブタジエン
メタクリレートは、末端に水酸基を有するポリブ
タジエン、エポキシ変性ポリブタジエン、水素添
加したポリブタジエン等の水酸基価20〜200を有
するポリブタジエンの水酸基１個に前述のポリイ
ソシアネート１個を反応させ、さらにポリイソシ
アネートに残存するイソシアネート基１個に前述
の水酸基含有メタクリレート１個を反応させて得
られるものを言う。上記アクリルウレタンオリゴ
マー30から80部に、接着剤を低粘度化し平面作業
性を改善するカツトモノマーとしてヒドロキシア
ルキルメタクリレート、例えば２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等からなる少なくとも１種、とアル
キルメタクリレート、例えば２−エチルヘキシル
メタクリレート、ラウリルメタクリレート、トリ
デシルメタクリレート等からなる少なくとも１
種、とを20部から70部調合添加し、光増感剤とし
てジメチルベンジルケタール、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾフエノン、ベンジル等からなる少なくとも１
種を0.1部から10部、好ましくは１部から３部、
さらに嫌気性付与剤としてハイドロパーオキサイ
ド、例えば１，１，３，３−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオ
キサイド、ターシヤリーブチルハイドロパーオキ
サイド等からなる少なくとも１種、を0.1部から
３部と、３級アミン、例えばＮ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｐ−トルイジン等か
らなる少なくとも１種、を0.01部から１部、また
貯蔵安定剤としてハイドロキノン、メトキノン、
ジターシヤリーブチル−Ｐ−クレゾール等のうち
少なくとも１種を0.01部から0.5部添加する。さ
らに本発明のもう一つの特徴でもある密着性向上
の添加剤として、撥水性のあるシランカツプリン
グ剤またはチタンカツプリング剤のうち少なくと
も１種を接着剤に対し0.5部から10部、好ましく
は２部から５部を使用する。シランカツプリング
剤としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン等があ
り、チタンカツプリング剤としてはジイソプロポ
キシビス（アセチルアセトナト）チタン、ジヒド
ロキシビスラクタトチタン等がある。
タクリレートは、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６
−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等
のポリオールとアジピン酸、フマル酸、フタル
酸、テレフタル酸等のポリカルボン酸を構成成分
とする水酸基価が20から200を有するポリエステ
ルポリオールに、ポリイソシアネート、例えば
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、メチ
レン−ビス−（４−フエニルイソシアネート）、ト
リレンジイソシアネートからなる少なくとも１種
を、ポリエステルポリオールの水酸基１個に対し
ポリイソシアネート１個を反応させ、さらにポリ
イソシアネートに残存するイソシアネート基１個
に水酸基含有メタクリレート、例えば２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート等のうち少なくとも一種、を
１個反応させて得られるものを言い、ポリエーテ
ルウレタンメタクリレートはポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメ
チレンエーテルグリコール等の水酸基価20から
200を有するポリエーテルポリオールの水酸基１
個に前述のポリイソシアネート１個を反応させ、
さらにポリイソシアネートに残存するイソシアネ
ート基１個に前述の水酸基含有メタクリレートを
反応させて得られるものを言い、ポリブタジエン
メタクリレートは、末端に水酸基を有するポリブ
タジエン、エポキシ変性ポリブタジエン、水素添
加したポリブタジエン等の水酸基価20〜200を有
するポリブタジエンの水酸基１個に前述のポリイ
ソシアネート１個を反応させ、さらにポリイソシ
アネートに残存するイソシアネート基１個に前述
の水酸基含有メタクリレート１個を反応させて得
られるものを言う。上記アクリルウレタンオリゴ
マー30から80部に、接着剤を低粘度化し平面作業
性を改善するカツトモノマーとしてヒドロキシア
ルキルメタクリレート、例えば２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等からなる少なくとも１種、とアル
キルメタクリレート、例えば２−エチルヘキシル
メタクリレート、ラウリルメタクリレート、トリ
デシルメタクリレート等からなる少なくとも１
種、とを20部から70部調合添加し、光増感剤とし
てジメチルベンジルケタール、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾフエノン、ベンジル等からなる少なくとも１
種を0.1部から10部、好ましくは１部から３部、
さらに嫌気性付与剤としてハイドロパーオキサイ
ド、例えば１，１，３，３−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオ
キサイド、ターシヤリーブチルハイドロパーオキ
サイド等からなる少なくとも１種、を0.1部から
３部と、３級アミン、例えばＮ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｐ−トルイジン等か
らなる少なくとも１種、を0.01部から１部、また
貯蔵安定剤としてハイドロキノン、メトキノン、
ジターシヤリーブチル−Ｐ−クレゾール等のうち
少なくとも１種を0.01部から0.5部添加する。さ
らに本発明のもう一つの特徴でもある密着性向上
の添加剤として、撥水性のあるシランカツプリン
グ剤またはチタンカツプリング剤のうち少なくと
も１種を接着剤に対し0.5部から10部、好ましく
は２部から５部を使用する。シランカツプリング
剤としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン等があ
り、チタンカツプリング剤としてはジイソプロポ
キシビス（アセチルアセトナト）チタン、ジヒド
ロキシビスラクタトチタン等がある。
この接着剤の使用により、貼り合わせ作業が簡
便で両面使用が可能な光メモリ素子を実現でき
る。加えて、密着性付与剤の添加で接着部の吸
湿、膨潤、剥離といつた問題もなくなり、光メモ
リ素子自体の耐湿性が大幅に向上する。
便で両面使用が可能な光メモリ素子を実現でき
る。加えて、密着性付与剤の添加で接着部の吸
湿、膨潤、剥離といつた問題もなくなり、光メモ
リ素子自体の耐湿性が大幅に向上する。
＜実施例＞
以下、本発明に係る光メモリ素子の一実施例に
ついて、図面を用いて詳細に説明する。
ついて、図面を用いて詳細に説明する。
第１図は、本発明に係わる光メモリ素子の一例
たる光デイスクの外観斜視図、第２図はその要部
側断面図である。１はガラス或いは、アクリル樹
脂等合成樹脂より成る支持基体、２は光記録部材
層、３は接着剤、４は中心孔、５は前記光記録部
材層２を除去した記録部材層欠落部である。
たる光デイスクの外観斜視図、第２図はその要部
側断面図である。１はガラス或いは、アクリル樹
脂等合成樹脂より成る支持基体、２は光記録部材
層、３は接着剤、４は中心孔、５は前記光記録部
材層２を除去した記録部材層欠落部である。
２枚の支持基体１の表面に光記録部材層２を形
成し、それらの光記録部材層２を有する面に接着
剤３を全面塗布した後、２枚の支持基体１を光記
録部材層２相互が相対峙する形で貼り合わせ、一
方の支持基体１側より紫外線を照射して記録部材
層欠落部５を紫外線硬化接着せしめ、光記録部材
層２間の接着剤３は嫌気硬化性にて接着せしめ
る。
成し、それらの光記録部材層２を有する面に接着
剤３を全面塗布した後、２枚の支持基体１を光記
録部材層２相互が相対峙する形で貼り合わせ、一
方の支持基体１側より紫外線を照射して記録部材
層欠落部５を紫外線硬化接着せしめ、光記録部材
層２間の接着剤３は嫌気硬化性にて接着せしめ
る。
このように両面使用可能な光メモリ素子を簡便
な接着工程で実現できる。更に、ここで、密着性
付与剤添加による信頼性向上の効果を、情報の追
加記録及び消去を可能とする磁気光学記憶素子を
例に挙げて示す。
な接着工程で実現できる。更に、ここで、密着性
付与剤添加による信頼性向上の効果を、情報の追
加記録及び消去を可能とする磁気光学記憶素子を
例に挙げて示す。
該磁気光学記憶素子は、ガラス基板上に、非晶
質GdTbFe記憶薄膜、AlN誘電体膜、SUS反射膜
を、順次、スパツタリングにて、積層構造とした
ものを、膜面を相対峙させた形で接着剤にて貼り
合わせた構造をとる。特に、該GdTbFe膜層は酸
化腐食に弱く、この種の記憶素子では確実な封止
接着法が望まれる。本例にても素子周縁部には既
述の記録部欠落部を設けてある。
質GdTbFe記憶薄膜、AlN誘電体膜、SUS反射膜
を、順次、スパツタリングにて、積層構造とした
ものを、膜面を相対峙させた形で接着剤にて貼り
合わせた構造をとる。特に、該GdTbFe膜層は酸
化腐食に弱く、この種の記憶素子では確実な封止
接着法が望まれる。本例にても素子周縁部には既
述の記録部欠落部を設けてある。
ここで、接着剤を各種変えた該記憶素子を用意
し、耐湿環境試験を課した。環境試験条件として
は、温湿度サイクル試験（−20℃と70℃、95％
R.H.の間のサイクルを１日４サイクルの割合で
繰り返す）、恒温、恒湿試験（60℃、95％R.H.）
及び温水浸漬試験（80℃温水）をそれぞれ行なつ
た。
し、耐湿環境試験を課した。環境試験条件として
は、温湿度サイクル試験（−20℃と70℃、95％
R.H.の間のサイクルを１日４サイクルの割合で
繰り返す）、恒温、恒湿試験（60℃、95％R.H.）
及び温水浸漬試験（80℃温水）をそれぞれ行なつ
た。
嫌気性付与紫外線硬化接着剤としては、エチレ
ングリコール、アジピン酸を構成成分とする水酸
基価110を有するポリエステルポリオールとイソ
ホロンジイソシアネート及びヒドロキシエチルメ
タクリレートを前述の割合で反応せしめたベース
としてのポリエステルウレタンメタクリレート55
部に、ヒドロキシプロピルメタクリレート25部と
２−エチルヘキシルメタクリレート20部をカツト
モノマーとして添加し、さらにＮ，Ｎ−ジメチル
−Ｐ−トルイジン0.1部とクメンハイドロパーオ
キサイド0.4部を嫌気性付与剤として、ベンジル
ジメチルケタール２部を光増感剤として、それに
ハイドロキノン0.02部を貯蔵安定剤として添加し
て調合したものを使用した。本発明に係る密着性
付与剤を添加した嫌気性付与紫外線硬化接着剤と
しては、上記の接着剤組成に密着剤付与剤として
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
４部を調合したものを使用した。
ングリコール、アジピン酸を構成成分とする水酸
基価110を有するポリエステルポリオールとイソ
ホロンジイソシアネート及びヒドロキシエチルメ
タクリレートを前述の割合で反応せしめたベース
としてのポリエステルウレタンメタクリレート55
部に、ヒドロキシプロピルメタクリレート25部と
２−エチルヘキシルメタクリレート20部をカツト
モノマーとして添加し、さらにＮ，Ｎ−ジメチル
−Ｐ−トルイジン0.1部とクメンハイドロパーオ
キサイド0.4部を嫌気性付与剤として、ベンジル
ジメチルケタール２部を光増感剤として、それに
ハイドロキノン0.02部を貯蔵安定剤として添加し
て調合したものを使用した。本発明に係る密着性
付与剤を添加した嫌気性付与紫外線硬化接着剤と
しては、上記の接着剤組成に密着剤付与剤として
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
４部を調合したものを使用した。
これらの接着剤を使用した記憶素子の環境試験
結果を比較した結果、前者ではサイクル試験及び
恒温恒湿試験１週間前後で接着面部に膨潤帰因と
思われる皺状の浮き剥がれがみえてきたのに対
し、後者では３週間経過後も何ら異常は認められ
なかつた。また温水浸漬試験でも、浮き剥がれが
見え始める時間が、前者では５時間以内であるの
に対し、後者では25時間以上との結果を得た。さ
らに、接着剤の引張り接着強さを比較してみて
も、温水浸漬テスト（60℃、10時間）を行う前は
共に60Kg／cm2以上の接着強度があるが、温水浸漬
テスト後は前者は８Kg／cm2しかないのに対し、後
者は44Kg／cm2の引張り接着強さを示した。
結果を比較した結果、前者ではサイクル試験及び
恒温恒湿試験１週間前後で接着面部に膨潤帰因と
思われる皺状の浮き剥がれがみえてきたのに対
し、後者では３週間経過後も何ら異常は認められ
なかつた。また温水浸漬試験でも、浮き剥がれが
見え始める時間が、前者では５時間以内であるの
に対し、後者では25時間以上との結果を得た。さ
らに、接着剤の引張り接着強さを比較してみて
も、温水浸漬テスト（60℃、10時間）を行う前は
共に60Kg／cm2以上の接着強度があるが、温水浸漬
テスト後は前者は８Kg／cm2しかないのに対し、後
者は44Kg／cm2の引張り接着強さを示した。
以上の例からも、確実に、記憶素子の耐湿性の
改善が図られていることがわかる。
改善が図られていることがわかる。
＜効果＞
以上説明したように、支持基体を貼り合わせる
接着剤に、紫外線硬化および嫌気性硬化のいずれ
でも硬化するものを用いたので、両面使用可能な
光メモリ素子を簡便に実現でき、又、接着剤に密
着性付与剤を添加することにより、接着部の密着
性が長期にわたつて維持されるので、吸湿、膨
潤、剥離といつた問題がなくなり素子自体の信頼
性が向上する。
接着剤に、紫外線硬化および嫌気性硬化のいずれ
でも硬化するものを用いたので、両面使用可能な
光メモリ素子を簡便に実現でき、又、接着剤に密
着性付与剤を添加することにより、接着部の密着
性が長期にわたつて維持されるので、吸湿、膨
潤、剥離といつた問題がなくなり素子自体の信頼
性が向上する。
第１図は本発明に係わる光メモリ素子の一実施
例たるデイスクを示す外観斜視図、第２図は第１
図の要部を示す側断面図である。 １……ガラス或は合成樹脂より成る支持基体、
２……光記録部材層、３……接着剤、４……中心
孔、５……記録部材層欠落部。
例たるデイスクを示す外観斜視図、第２図は第１
図の要部を示す側断面図である。 １……ガラス或は合成樹脂より成る支持基体、
２……光記録部材層、３……接着剤、４……中心
孔、５……記録部材層欠落部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ２枚の光透過性の支持基体のそれぞれの主た
る領域に紫外線が透過しにくい光記録部材層を形
成し、該光記録部材層相互が相対峙するように前
記２枚の支持基体を接着剤で貼り合わせてなる光
メモリ素子の作成方法において、 紫外線硬化性を与える成分と、嫌気硬化性を与
える成分とを予め含有させた接着剤を用いて前記
２枚の支持基体を貼り合せ、貼り合せた２枚の支
持基体に紫外線を照射して前記光記録部材層が相
対峙していない領域の接着剤を硬化させる一方、
前記光記録部材層が相対峙する領域の接着剤は空
気との接触が遮断されることにより硬化させるこ
とを特徴とする光メモリ素子の作成方法。 ２ 接着時の密着性を高めるために上記接着剤に
シランカツプリング剤またはチタンカツプリング
剤の少なくとも一方を添加した特許請求の範囲第
１項記載の光メモリ素子の作成方法。 ３ 上記光記録部材層が希土類−遷移金属合金薄
膜からなる特許請求の範囲第１項もしくは第２項
記載の光メモリ素子の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58139598A JPS6029951A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 光メモリ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58139598A JPS6029951A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 光メモリ素子 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6138612A Division JP2527534B2 (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 光メモリ素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6029951A JPS6029951A (ja) | 1985-02-15 |
| JPH0554185B2 true JPH0554185B2 (ja) | 1993-08-11 |
Family
ID=15248997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58139598A Granted JPS6029951A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 光メモリ素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029951A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60185234A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-20 | Ricoh Co Ltd | 情報記録媒体 |
| JPH0648547B2 (ja) * | 1985-03-25 | 1994-06-22 | 松下電器産業株式会社 | 情報記録ディスクの接着方法 |
| JPS626448A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-13 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
| JPS6394445A (ja) * | 1986-10-08 | 1988-04-25 | Matsushita Graphic Commun Syst Inc | 光学式情報記録媒体 |
| EP0383015A3 (en) * | 1989-01-13 | 1991-11-06 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Production of laminated film |
| JP2941313B2 (ja) * | 1989-09-28 | 1999-08-25 | 松下電器産業株式会社 | 光ディスクの製造方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS604278Y2 (ja) * | 1976-11-19 | 1985-02-06 | ティーディーケイ株式会社 | 光メモリ装置の記録媒体 |
| JPS54142299A (en) * | 1978-04-28 | 1979-11-06 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Photo-setting composition |
| JPS54133586A (en) * | 1978-04-10 | 1979-10-17 | Hitachi Ltd | Photo-setting adhesive composition |
| JPS57130229A (en) * | 1981-02-04 | 1982-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of magnetic recording material |
-
1983
- 1983-07-29 JP JP58139598A patent/JPS6029951A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6029951A (ja) | 1985-02-15 |
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