JPH055481Y2 - - Google Patents
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- JPH055481Y2 JPH055481Y2 JP14146587U JP14146587U JPH055481Y2 JP H055481 Y2 JPH055481 Y2 JP H055481Y2 JP 14146587 U JP14146587 U JP 14146587U JP 14146587 U JP14146587 U JP 14146587U JP H055481 Y2 JPH055481 Y2 JP H055481Y2
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- sampling
- flue
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- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 39
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 95
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は燃焼ガス、製造工程により排出される
ガス中のたとえば、CO,CO2,NO,NH3,SO2
等のガス濃度を測定するためのガス濃度測定装置
に関するものである。
ガス中のたとえば、CO,CO2,NO,NH3,SO2
等のガス濃度を測定するためのガス濃度測定装置
に関するものである。
[従来の技術]
煙道中のガス濃度を測定する方式として、従来
では、 煙道にサンプリングノズルを取り付け、該サ
ンプリングノズルよりガスサンプリングプロー
ブを挿入し、煙道中のガスのサンプリングをガ
スサンプリングプローブで行い、手分析により
被測定ガスの濃度を測定するようにしたもの、 第3図に示す如く、煙道aの両側に相対向さ
せて発光源bと受光点cを設け、該発光源bと
受光点cとの間を流れるガスに対して発光源b
から赤外、紫外域の波長の光を出し、受光点c
でこの光の強さを測定し、煙道a中で吸収され
た光の量により光路dの平均ガス濃度を計測し
ようとするもので、ランベルトーベール
(Lambert−Beer)の法則を原理とするもの、 等がある。
では、 煙道にサンプリングノズルを取り付け、該サ
ンプリングノズルよりガスサンプリングプロー
ブを挿入し、煙道中のガスのサンプリングをガ
スサンプリングプローブで行い、手分析により
被測定ガスの濃度を測定するようにしたもの、 第3図に示す如く、煙道aの両側に相対向さ
せて発光源bと受光点cを設け、該発光源bと
受光点cとの間を流れるガスに対して発光源b
から赤外、紫外域の波長の光を出し、受光点c
でこの光の強さを測定し、煙道a中で吸収され
た光の量により光路dの平均ガス濃度を計測し
ようとするもので、ランベルトーベール
(Lambert−Beer)の法則を原理とするもの、 等がある。
しかし、上記の方式では、人手と時間がかか
つてコストアツプになると同時に時間による変化
要因がつかめない、という問題がある。又、の
方式では、発光源と受光点間の1パス又は多数の
パスでガス濃度を計測するものであるため、煙道
a中の光路d部分のガスの平均濃度しか計測する
ことができないこと、高ダスト濃度の場合に光が
ダスト等により吸収された誤差が生じ易いこと、
大径の煙道の場合は光軸合わせが難しいこと、等
の問題がある。
つてコストアツプになると同時に時間による変化
要因がつかめない、という問題がある。又、の
方式では、発光源と受光点間の1パス又は多数の
パスでガス濃度を計測するものであるため、煙道
a中の光路d部分のガスの平均濃度しか計測する
ことができないこと、高ダスト濃度の場合に光が
ダスト等により吸収された誤差が生じ易いこと、
大径の煙道の場合は光軸合わせが難しいこと、等
の問題がある。
かかる問題点を解消せんとして、最近、第4図
に示す如く、煙道1の途中に、複数個のサンプリ
ング点2a,2b,2c……を設定し、各サンプ
リング点2a,2b,2c……に接続したサンプ
リング管3a,3b,3c……に、計算機4から
の指令により開閉する電磁弁5a,5b,5c…
…を各々取り付け、上記各サンプリング管3a,
3b,3c……は、サンプリングガス吸引ポンプ
6のサクシヨンライン7にまとめて接続して、該
サクシヨンラインに、サンプリングガスの温度調
節やダスト除去の如き処理を行うガス前処理装置
8と、該ガス前処理装置8で処理されたガスを上
記計算機4による測定タイミングにより赤外線吸
収スペクトル方式等でリアルタイムで分析してガ
ス濃度を測定するガス濃度測定器9を設け、且つ
上記ガス濃度測定器で測定したガス濃度分布を表
示するガス濃度分布表示器10を備えた構成をも
つガス濃度測定装置が考えられている。11はサ
ンプリングされたガスを再び煙道1内に戻す配
管、12はガス濃度を記録するレコーダである。
に示す如く、煙道1の途中に、複数個のサンプリ
ング点2a,2b,2c……を設定し、各サンプ
リング点2a,2b,2c……に接続したサンプ
リング管3a,3b,3c……に、計算機4から
の指令により開閉する電磁弁5a,5b,5c…
…を各々取り付け、上記各サンプリング管3a,
3b,3c……は、サンプリングガス吸引ポンプ
6のサクシヨンライン7にまとめて接続して、該
サクシヨンラインに、サンプリングガスの温度調
節やダスト除去の如き処理を行うガス前処理装置
8と、該ガス前処理装置8で処理されたガスを上
記計算機4による測定タイミングにより赤外線吸
収スペクトル方式等でリアルタイムで分析してガ
ス濃度を測定するガス濃度測定器9を設け、且つ
上記ガス濃度測定器で測定したガス濃度分布を表
示するガス濃度分布表示器10を備えた構成をも
つガス濃度測定装置が考えられている。11はサ
ンプリングされたガスを再び煙道1内に戻す配
管、12はガス濃度を記録するレコーダである。
ところが、上記最近考えられている方式では、
各サンプリング管3a,3b,3c……の途中に
電磁弁5a,5b,5c……が取り付けてあり、
計算機4に予め記憶されたサンプリングタイミン
グに応じて各電磁弁5a,5b,5c……が開閉
操作されるようにしてあるが、任意の電磁弁5
a,5b,5c……を開閉してサンプリング管3
a,3b,3c……を切換えるとき、任意の電磁
弁5a,5b,5c……を開けたときに始めてサ
ンプリング点2a,2b,2c……よりガスがサ
ンプリング管3a,3b,3c……に吸入されて
ガス前処理装置8を経てガス濃度測定器9に導か
れることになるため、時間遅れに伴う測定遅れの
問題がある。
各サンプリング管3a,3b,3c……の途中に
電磁弁5a,5b,5c……が取り付けてあり、
計算機4に予め記憶されたサンプリングタイミン
グに応じて各電磁弁5a,5b,5c……が開閉
操作されるようにしてあるが、任意の電磁弁5
a,5b,5c……を開閉してサンプリング管3
a,3b,3c……を切換えるとき、任意の電磁
弁5a,5b,5c……を開けたときに始めてサ
ンプリング点2a,2b,2c……よりガスがサ
ンプリング管3a,3b,3c……に吸入されて
ガス前処理装置8を経てガス濃度測定器9に導か
れることになるため、時間遅れに伴う測定遅れの
問題がある。
そこで、本考案は、上記の時間遅れがなく煙道
中のガス濃度を測定できるようにしようとするも
のである。
中のガス濃度を測定できるようにしようとするも
のである。
[問題点を解決するための手段]
本考案は、上記目的を達成するために、煙道内
の複数個所にサンプリング点を設定し、各サンプ
リング点に接続した各サンプリグラインの途中
に、各サンプリングガスの温度調節やダスト除去
の如き処理を行うガス前処理装置と、該ガス前処
理装置で前処理後のガス分析を行うガス分析器を
設置し、且つ上記ガス分析器には、少なくとも1
つの発光源からのレーザー光線を複数個のガス分
析器にビームスプリツタを介して導くように、上
記各ガス分析器を通過したレーザー光線を受光す
る受光点を備え、受光点での光の強度でガス濃度
を測定するようにした構成とする。
の複数個所にサンプリング点を設定し、各サンプ
リング点に接続した各サンプリグラインの途中
に、各サンプリングガスの温度調節やダスト除去
の如き処理を行うガス前処理装置と、該ガス前処
理装置で前処理後のガス分析を行うガス分析器を
設置し、且つ上記ガス分析器には、少なくとも1
つの発光源からのレーザー光線を複数個のガス分
析器にビームスプリツタを介して導くように、上
記各ガス分析器を通過したレーザー光線を受光す
る受光点を備え、受光点での光の強度でガス濃度
を測定するようにした構成とする。
[作用]
煙道の複数個所のサンプリング点からサンプリ
ングしたガスは、ガス前処理装置で前処理された
後、ガス分析器で分析してガス濃度を測定する。
各サンプリングラインごとのガス分析器には、少
なくとも1つの発光源からのレーザーが同時にビ
ームスプリツタにより導かれるので、煙道内全面
のガス濃度をほぼ同時に測定することができる。
ングしたガスは、ガス前処理装置で前処理された
後、ガス分析器で分析してガス濃度を測定する。
各サンプリングラインごとのガス分析器には、少
なくとも1つの発光源からのレーザーが同時にビ
ームスプリツタにより導かれるので、煙道内全面
のガス濃度をほぼ同時に測定することができる。
[実施例]
以下、図面に基づき本考案の実施例を説明す
る。
る。
第1図及び第2図に示す如く、煙道1内の複数
個所(実施例では3個所の場合を示すが、3個所
以外でもよい)にサンプリング点2a,2b,2
cを設定し、該各サンプリング点2a,2b,2
cに各々接続したサンプリング管3a,3b,3
cを、ガス吸引ポンプ6に接続し、該ガス吸引ポ
ンプ6の運転により各サンプリング管3a,3
b,3cに煙道1内のガスが採集されるようにす
る。上記各サンプリング管3a,3b,3cの途
中には、サンプリングされたガスの温度調節やダ
スト除去の如き処理を行うガス前処理装置13
a,13b,13cを設置すると共に、該各ガス
前処理装置13a,13b,13cの下流側にガ
ス分析器14a,14b,14c,14dを一体
として設置し、前処理された後のサンプリングガ
スをガス分析器14a,14b,14c,14d
で分析するようにし、分析されてガス濃度が測定
されたガスは、吸引ポンプ6と煙道1との間に配
管された戻り配管11を通り煙道1に戻されるよ
うにする。
個所(実施例では3個所の場合を示すが、3個所
以外でもよい)にサンプリング点2a,2b,2
cを設定し、該各サンプリング点2a,2b,2
cに各々接続したサンプリング管3a,3b,3
cを、ガス吸引ポンプ6に接続し、該ガス吸引ポ
ンプ6の運転により各サンプリング管3a,3
b,3cに煙道1内のガスが採集されるようにす
る。上記各サンプリング管3a,3b,3cの途
中には、サンプリングされたガスの温度調節やダ
スト除去の如き処理を行うガス前処理装置13
a,13b,13cを設置すると共に、該各ガス
前処理装置13a,13b,13cの下流側にガ
ス分析器14a,14b,14c,14dを一体
として設置し、前処理された後のサンプリングガ
スをガス分析器14a,14b,14c,14d
で分析するようにし、分析されてガス濃度が測定
されたガスは、吸引ポンプ6と煙道1との間に配
管された戻り配管11を通り煙道1に戻されるよ
うにする。
上記ガス分析器14a,14b,14c,14
dのうち、14dを除くすべては各サンプリング
管3a,3b,3cの途中に組み込まれ、ガス分
析器14dにはリフアレンスガスを充填した状態
にし、第2図に示す如く、複数のガス分析器14
a,14b,14c,14dに対して1つの発光
源15からのレーザー光線16が通過できるよう
にするため、ミラー17で反射させたレーザー光
線16をガス分析器14a,14b,14cに対
してはビームスプリツタ18a,18b,18c
にて一部を通過、一部を反射させるようにすると
共に、ガス分析器14dにはミラー19で反射さ
せて通過させるようにし、各ガス分析器14a,
14b,14c,14dからのレーザー光線出側
には、孔あきの回転円盤20a,20b,20
c,20dと、該回転円盤20a,20b,20
c,20dを通過したレーザー光線を反射させて
受光点21に導くようにするミラー22a,22
b,22c,22dとを設置する。
dのうち、14dを除くすべては各サンプリング
管3a,3b,3cの途中に組み込まれ、ガス分
析器14dにはリフアレンスガスを充填した状態
にし、第2図に示す如く、複数のガス分析器14
a,14b,14c,14dに対して1つの発光
源15からのレーザー光線16が通過できるよう
にするため、ミラー17で反射させたレーザー光
線16をガス分析器14a,14b,14cに対
してはビームスプリツタ18a,18b,18c
にて一部を通過、一部を反射させるようにすると
共に、ガス分析器14dにはミラー19で反射さ
せて通過させるようにし、各ガス分析器14a,
14b,14c,14dからのレーザー光線出側
には、孔あきの回転円盤20a,20b,20
c,20dと、該回転円盤20a,20b,20
c,20dを通過したレーザー光線を反射させて
受光点21に導くようにするミラー22a,22
b,22c,22dとを設置する。
煙道1内のガス濃度分布を測定する場合は、複
数個所のサンプリング点2a,2b,2cよりサ
ンプリング管3a,3b,3cにてガスを採集
し、この採集したガスはガス前処理装置13a,
13b,13cにてダスト等の不純物がある場合
はダストが除去され、又、ガスの温度調節が行わ
れてガス分析器14a,14b,14cへ送られ
る。ガス分析器14a,14b,14cに送られ
た前処理後のガスは、発光源15からのレーザー
光線16が同時に各分析器14a,14b,14
cにビームスプリツタ18a,18b,18cを
介し反射されて照射されることにより分析され
る。すなわち、1つの発光源15からのレーザー
光線16は、各ビームスプリツタ18a,18
b,18cで順次反射されて各ガス分析器14
a,14b,14c,14d内を通り、回転円盤
20a,20b,20cを経てミラー22a,2
2b,22cにて反射されてほぼ同時に受光点2
1にて受光され、各ガス分析器14a,14b,
14cを通過した光の強度が検知されるので、こ
の光の強度により各サンプリングガスの濃度が測
定され、煙道1内の複数個所のガス濃度がほぼ同
時に測定できることになる。これにより複数個所
のガス濃度を時間遅れを生じさせることがない。
数個所のサンプリング点2a,2b,2cよりサ
ンプリング管3a,3b,3cにてガスを採集
し、この採集したガスはガス前処理装置13a,
13b,13cにてダスト等の不純物がある場合
はダストが除去され、又、ガスの温度調節が行わ
れてガス分析器14a,14b,14cへ送られ
る。ガス分析器14a,14b,14cに送られ
た前処理後のガスは、発光源15からのレーザー
光線16が同時に各分析器14a,14b,14
cにビームスプリツタ18a,18b,18cを
介し反射されて照射されることにより分析され
る。すなわち、1つの発光源15からのレーザー
光線16は、各ビームスプリツタ18a,18
b,18cで順次反射されて各ガス分析器14
a,14b,14c,14d内を通り、回転円盤
20a,20b,20cを経てミラー22a,2
2b,22cにて反射されてほぼ同時に受光点2
1にて受光され、各ガス分析器14a,14b,
14cを通過した光の強度が検知されるので、こ
の光の強度により各サンプリングガスの濃度が測
定され、煙道1内の複数個所のガス濃度がほぼ同
時に測定できることになる。これにより複数個所
のガス濃度を時間遅れを生じさせることがない。
ガス濃度測定のためにサンプリングしたガス
は、ガス濃度測定後にガス吸引ポンプ6より戻り
配管11を通して煙道1内に戻される。
は、ガス濃度測定後にガス吸引ポンプ6より戻り
配管11を通して煙道1内に戻される。
なお、上記実施例では、発光源15を1つとし
て複数個のガス分析器14a,14b,14cに
レーザー光線16を通して同時に複数点のガス分
析を行うようにした場合を示したが、発光源15
は1個に限らず、2個としてもよく、又、発光源
15から発光される光を異なるものにして、煙道
1内の各点で異なるガスの分析ができるようにし
てもよく、その他本考案の要旨を逸脱しない範囲
内で種々変更を加え得ることは勿論である。
て複数個のガス分析器14a,14b,14cに
レーザー光線16を通して同時に複数点のガス分
析を行うようにした場合を示したが、発光源15
は1個に限らず、2個としてもよく、又、発光源
15から発光される光を異なるものにして、煙道
1内の各点で異なるガスの分析ができるようにし
てもよく、その他本考案の要旨を逸脱しない範囲
内で種々変更を加え得ることは勿論である。
[考案の効果]
以上述べた如く、本考案のガス濃度測定装置に
よれば、煙道内の複数個所から採集したサンプリ
ングガスを前処理した後に複数個のガス分析器に
導くようにし、該各ガス分析器に、少なくとも1
つの発光源からのレーザー光線を、ビームスプリ
ツタを介して各々同時に通過させるようにし、各
ガス分析器を通過したレーザー光線をミラーで反
射させて受光点に受光させるようにしてあるの
で、煙道内の全面におけるガス濃度をほぼ同時に
測定することができ、サンプルラインを電磁弁で
切換える方式に比して時間遅れの問題を解消する
ことができ、更に、複数個のガス分析器に対して
少なくとも1つの発光源からレーザー光線をビー
ムスプリツタにて通過させるようにしてあるた
め、高価な発光源を多数用意する必要をなくして
同時に複数個所のガス濃度の測定ができて、高価
なものを測定個所に応じて何台も使用することの
問題を解消でき、経済的に複数個所のガス濃度を
測定できる効果もある。
よれば、煙道内の複数個所から採集したサンプリ
ングガスを前処理した後に複数個のガス分析器に
導くようにし、該各ガス分析器に、少なくとも1
つの発光源からのレーザー光線を、ビームスプリ
ツタを介して各々同時に通過させるようにし、各
ガス分析器を通過したレーザー光線をミラーで反
射させて受光点に受光させるようにしてあるの
で、煙道内の全面におけるガス濃度をほぼ同時に
測定することができ、サンプルラインを電磁弁で
切換える方式に比して時間遅れの問題を解消する
ことができ、更に、複数個のガス分析器に対して
少なくとも1つの発光源からレーザー光線をビー
ムスプリツタにて通過させるようにしてあるた
め、高価な発光源を多数用意する必要をなくして
同時に複数個所のガス濃度の測定ができて、高価
なものを測定個所に応じて何台も使用することの
問題を解消でき、経済的に複数個所のガス濃度を
測定できる効果もある。
第1図は本考案の実施例を示す概略図、第2図
は本考案におけるガス分析器の概略図、第3図は
従来の非接触型ガス濃度測定方式の概略図、第4
図は最近考えられているガス濃度測定方式の概要
図である。 1……煙道、2a,2b,2c……サンプリン
グ点、3a,3b,3c……サンプリング管、6
……ガス吸引ポンプ、13a,13b,13c…
…ガス前処理装置、14a,14b,14c,1
4d……ガス分析器、15……発光源、16……
レーザー光線、18a,18b,18c……ビー
ムスプリツタ、21……受光点、22a,22
b,22c,22d……ミラー。
は本考案におけるガス分析器の概略図、第3図は
従来の非接触型ガス濃度測定方式の概略図、第4
図は最近考えられているガス濃度測定方式の概要
図である。 1……煙道、2a,2b,2c……サンプリン
グ点、3a,3b,3c……サンプリング管、6
……ガス吸引ポンプ、13a,13b,13c…
…ガス前処理装置、14a,14b,14c,1
4d……ガス分析器、15……発光源、16……
レーザー光線、18a,18b,18c……ビー
ムスプリツタ、21……受光点、22a,22
b,22c,22d……ミラー。
Claims (1)
- 煙道内の複数個所にサンプリング点を設定し、
各サンプリング点に接続した各サンプリングライ
ンの途中に、各サンプリングガスの温度調節やダ
スト除去の如き処理を行うガス前処理装置と、該
ガス前処理装置で処理された各ガスの分析器を設
置し、且つ上記各ガス分析器に少なくとも1つの
発光源からのレーザー光線を通すように各々ビー
ムスプリツタを設置し、各ガス分析器を通過した
レーザー光線を受光する受光点を備えてなること
を特徴とするガス濃度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14146587U JPH055481Y2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14146587U JPH055481Y2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6446744U JPS6446744U (ja) | 1989-03-22 |
| JPH055481Y2 true JPH055481Y2 (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=31406547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14146587U Expired - Lifetime JPH055481Y2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH055481Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6203477B2 (ja) * | 2012-04-27 | 2017-09-27 | 三菱重工業株式会社 | 濃度測定装置及び脱硝装置 |
-
1987
- 1987-09-18 JP JP14146587U patent/JPH055481Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6446744U (ja) | 1989-03-22 |
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