JPH0556313B2

JPH0556313B2 -

Info

Publication number: JPH0556313B2
Application number: JP63166494A
Authority: JP
Inventors: Kimiki Hatanaka; Akira Sugiura; Tooru Oonuki
Original assignee: Inax Corp
Current assignee: Inax Corp
Priority date: 1987-08-10
Filing date: 1988-07-04
Publication date: 1993-08-19
Also published as: JPH01133990A

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］本発明はタイルの釉掛け方法に係り、特に内装
用タイルを１回の焼成のみで製造する、所謂一度
焼きに採用されるタイルの釉掛け方法に関する。［従来の技術］従来より、内装用タイルは２回焼成過程を経
る、所謂二度焼により製造されている。即ち、従
来の内装用タイルは、坏土の成形及び乾燥の後、
第１回目の焼成（素焼き）を行ない、冷却後、こ
の素焼きタイルに釉掛けし、第２回目の焼成を行
うことにより製造されている。このように内装用タイルの場合に二度焼きする
理由は次の通りである。外装用タイルに比べ、内
装用タイルは厚く釉掛けする（即ち、釉薬を多量
に掛け、釉の厚さを大きくする）必要があるので
あるが、仮に一度焼きするために坏土成形体（圧
粉体）に厚く釉掛けすると、焼成過程において坏
土から発生するガスが釉層を通過しにくくなり、
半溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破り、
釉層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ピンホー
ル、亀裂等が生じてしまうのである（いわゆる、
泡吹き現象）。即ち、坏土成形体（素地）を焼成するプロセス
においては、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の
熱分解や有機物質の燃焼に伴つてガスが発生す
る。このガス発生は、極めてゆつくりと昇温する
場合には700〜800℃程度で完了するのであるが、
ローラーハースキルン等を採用する高生産効率製
造法の下では昇温速度が大であり、上記ガス発生
反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超える領域に
までずれ込むようになる。殊に、成形体内部にお
いては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲
温度が1100℃になつてもガス発生反応が継続して
いる場合すらある。従来のタイル用釉薬においては、1000℃前後程
度から急速に軟化を開始し、溶融状態となつてタ
イル素地表面を覆うようになるのであるが、この
ように溶けた釉が表面を覆つた後でも前記の如く
素地内部からガスが発生してくることになると前
記の泡吹き現象が生じてしまうのである。二度焼き方式によれば、素地は素焼品となつて
おり、２度目の焼成時には素地からのガス発生は
無く、厚く釉掛けしても泡吹き現象が発生せず、
光沢に富み奇麗な平坦施釉面を有する内装用タイ
ルが製造される。本発明者らは、このような実情に鑑み、一度焼
きにて内装用タイルを製造する場合の釉の泡吹き
を解消しうるフリツト及び釉薬を開発した。この
ような釉薬は、幕掛け法と称される方法により坏
土成形体の表面に装着される。この幕掛け法は、
第２図に示す如く、坏土成形体１を連続的に搬送
するコンベア２の該搬送方向と交叉する方向に泥
漿釉の水幕（カーテン）３を形成し、坏土成形体
１をこの水幕３の下をくぐらせて該成形体の上面
に釉層４を厚く形成するものである。上記水幕を
形成するために、コンベア２の搬送面の上側には
搬送方向と交叉する方向に延在するスリツト状開
口５を底面に有する流出函６が設置され、泥漿釉
７はこの流出函６内において一定レベルとなるよ
うに供給される。［発明が解決しようとする問題点］叙上の如く、釉の泡吹き現象はフリツト及び釉
薬の改良により解決されたのであるが、幕掛け法
により釉掛けを行うと釉に気泡が巻き込まれたり
して釉の厚さにムラができ、釉面の表面に凹凸が
生じ、仕上りを損うことが見出された。［問題点を解決するための手段］本発明は、かかる気泡巻き込み等がなく、きわ
めて平坦な釉面が得られる、坏土成形体への幕掛
け法による釉掛け方法を提供することを目的とす
るものであつて、坏土をタイル形状に成形した後
乾燥し、次いで乾燥した該成形体の一方の表面に
水を0.002〜0.015ｇ／cm²の割合で１Kg／cm²以上の
高圧にて噴霧させた後、泥漿釉を幕掛け法により
釉掛けすることを特徴とするタイルの釉掛け方法
を要旨とするものである。［作用］かかる本発明方法によると、幕掛け法による釉
掛けに際し、気泡が全く巻き込まれないことが判
明した。その理由については、水を高圧にて適量
噴霧することにより、坏土成形体表面がきわめて
均一に、しかも適度に濡れ、泥漿水幕と坏土成形
体表面との親和性が高められるためであると推察
される。また、本発明によると、微細な水粒子が坏土成
形体表面に付着し、原料粒子の分布（ムラ）、プ
レス圧のムラ等に起因する局所的な吸水率分布の
ムラが解消され、これによつても釉面の平坦化が
促進されるものと推察される。以下、本発明の方法における水噴霧の作用を、
図面を参照してその好ましい態様と共に詳細に説
明する。第１図は本発明のタイルの釉掛け方法の一実施
例を説明する断面図である。なお、第１図におい
て、第２図と同一の機能を有する部材は同一符号
をもつて示す。本発明の方法においては、まず、坏土をタイル
形状に成形した後乾燥する。乾燥により成形体の
強度を向上させ、また釉掛けによる成形体の反り
を防止すると共に、釉掛け後の乾燥を容易にする
ことができる。次いで、乾燥工程からコンベア２
で搬送される坏土成形体１の表面に水噴霧ノズル
１０により、水を0.002〜0.15ｇ／cm²の割合（即
ち、10cm×10cmの成形体表面当り0.2〜1.5ｇの
水）で、１Kg／cm²以上の高圧にて噴霧する。噴霧する水の量が0.002ｇ／cm²未満では、成形
体表面の吸水性を均一にし、釉掛けによる厚みム
ラを改善する本発明の効果が十分に得られない。
逆に、噴霧する水の量が0.015ｇ／cm²を超えると
水の量が多過ぎて良好な釉掛けを行なうことがで
きない。従つて、本発明においては、噴霧水量は
0.002〜0.015ｇ／cm²とする。また、水を噴霧する圧力が１Kg／cm²未満の低圧
であると水滴粒径が大きくなり、平滑な釉面が得
られない。従つて、本発明においては、１Kg／cm²
以上、好ましくは２〜６Kg／cm²程度の高圧水を噴
霧する。なお、噴霧する水滴の粒径はあまりに大
きいと、成形体表面に均一に分を噴きかけること
ができないことから、10μm前後、あるいはそれ
以下とするのが好ましい。このようにして所定量の高圧水を成形体１の表
面に噴霧した後、コンベア２により成形体１を更
に搬送し、コンベア２の該搬送方向と交叉する方
向に形成された泥漿釉の水幕（カーテン）３の下
をくぐらせて、該成形体１の上面に釉層４を厚く
形成する。この際、釉掛けは成形体１の上表面に付着した
噴霧による水滴が完全には浸み込んだり蒸発した
りせず、少なくとも一部が残留しているうちに行
なうのが好ましい。従つて、コンベア速度及びノ
ズル１０とスリツト状開口の位置を適宜調整す
る。また、このように、ノズル１０から噴霧され
た水の少なくとも一部が、釉掛けに際して成形体
１の上表面に乾燥蒸発することなく残留するため
に、水を噴霧する時の成形体１の温度は50℃以下
であることが好ましい。従つて、乾燥後の成形体
１の温度が50℃以下に低下したものとなるよう
に、乾燥工程と水噴霧ノズル１０との距離、コン
ベア速度等を調整する。次に、本発明の方法に用いるに好適な釉薬につ
いて説明する。前述の如く、一度焼きにて内装用タイルを製造
する場合、従来の釉薬では、釉の泡吹き現象が生
じる。本発明者らはこのような釉の泡吹き現象を
解決するフリツトとして、 SiO₂ 55〜65重量％ Al₂O₃ 10〜18重量％ CaO 18〜25重量％アルカリ金属の酸化物 0.5〜４重量％ ZrO₂ ０〜10重量％ B₂O₃ ０〜２重量％ MgO、BaO、SrO及びZnOの１種又は２種以上
合計で０〜10重量％を含むものを開発した。また、上記フリツトを用いた釉薬として、合計
で100重量部の下記〜、即ち、上記フリツト： 50〜80重量部長石： 10〜25重量部粘土： 0.5〜10重量部ジルコン：０〜20重量部珪砂：０〜10重量部アルミナ：０〜５重量部酸化チタン：０〜10重量部炭酸バリウム：０〜10重量部酸化亜鉛：０〜５重量部と、この100重量部に対して０〜15重量部の顔料
を含むタイル用釉薬を開発した。前記組成のフリツトにおいては、アルカリ金属
の酸化物及びB₂O₃成分が微量であり、軟化開始
点よりも高い温度に加熱しても粘性低下が緩慢で
あり、軟化開始温度よりも相当高温にならないと
素地表面を全面的に、所謂べたつと覆うようには
ならない。即ち、素地内部からガスが発生して
も、このガスはフリツト粒子の間を通り抜けて外
部に容易に抜け出すことができるようになり、泡
吹き現象が防止される。ところで、従来の釉薬を用いて、一度焼きにて
厚く釉掛けを行なつた場合、釉薬に含まれる水分
が坏土成形体に少しでも過剰に吸収されると、該
坏土成形体が膨潤して変形してしまうことがあ
る。また、坏土成形体は吸水量も少ないので、多
量の泥漿釉を該成形体の上に掛けても流れ落ちて
しまい、釉固形分を必要な量だけ成形体表面上に
残留させることができない。この場合、釉薬の水
分を少なくすれば、厚く釉掛けしても坏土成形体
への吸収水量が少なくなり、成形体の膨潤はある
程度押えられ、また成形体表面上への釉固形分の
残留量も多くなるものの、従来の釉薬において水
分を少なくして高比重としたものは同時に粘性も
高くなり、均一厚に施釉することが著しく困難に
なつていた。このような問題を解決するものとして、本発明
者らは、フリツトを含有する泥漿状のタイル用釉
薬であつて、比重が1.7〜2.0、25℃における粘度
が５〜100cp（センチ・ポアズ）のものを開発し
た。このようなタイル用釉薬であれば、比重が1.7
〜2.0と比較的大きいため、厚く釉掛けを行なつ
た場合でも、坏土成形体への吸収水量が少なく、
従つて、坏土成形体が膨潤して変形することがな
く、また、成形体表面上への釉固形分の残留量も
多く、一度に多量の釉掛けをすることが可能であ
る。しかも、粘度が５〜100cpと比較的低粘性で
あるため、容易に均一厚に施釉することができ
る。このような釉薬は、適当な組成のフリツト、そ
の他長石、粘土、ジルコン（珪酸ジルコニウム）
等の釉薬成分を水、アルコール、その他適宜の液
体に分散させて釉薬を調製する際に、適当な分散
剤を用いて比重、粘度を調整することにより、容
易に得ることができる。［実施例］以下、本発明を実施例及び比較例に基いてさら
に詳細に説明する。なお、以下の実施例及び比較例において、タイ
ル用の坏土成形体としては次のものを用いた。即
ち、ろう石45重量部、粘土40重量部、石灰石10重
量部、シヤモツト５重量部をボールミルで粉砕、
混合し、水分を加え、350Kg／cm²で成形し、これ
を乾燥したものである。この成形体（素地）の大
きさは10cm×10cm×0.5cmである。また、この成形体を焼成するには全長25mのロ
ーラーハースキルンを用い、走行速度1.0m／分、
焼成帯最高温度1190℃とした。実施例１〜３、比較例１〜３原料として長石、珪石、石灰石を採用し、これ
らを乾燥、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中
で1300℃にて１時間溶融した後急冷し、粉砕して
フリツトとした。このフリツトの化学組成を第１
表に示す。

【表】このフリツト70重量部に対し長石15重量部、粘
土２重量部、ジルコン13重量部を加え、ボールミ
ルにて混合した。これに水33重量部とカルボン酸
系分散剤0.2重量部を加え、さらにボールミル中
で混合し、泥漿釉とした。この泥漿釉を、第１図に示す方法により、前記
成形体表面に乾燥後の厚さが0.6mm程度となるよ
うに塗布した。即ち、水噴霧ノズル１０より第２
表に示す噴霧量及び圧力で、水を噴霧し、その
後、付着した水が成形体に完全には浸み込まない
うちに、幕掛け法により釉掛けした。なお、噴霧
水の霧の粒径は10μm程度とし、また水噴霧を行
なう際の成形体の温度は40℃となるようにした。釉掛け後、成形体を乾燥、焼成し、釉面の平滑
度を表面粗さ計にて測定した。結果を第２表に示
す。比較例３水噴霧を行なわなかつたこと以外は実施例１と
同様にして釉掛けを行ない、得られた釉面の平滑
度を測定した。結果を第２表に示す。

【表】ル表面の最も高い凸部と最も低い凹部
との差)
第２表より、本発明の方法によれば、均一な厚
さに釉掛けすることができ、釉面の平滑度の高い
製品が得られることが認められる。［発明の効果］以上の実施例及び比較例からも明らかな通り、
本発明の方法によれば、均一厚さで、平滑度が高
く美麗な厚掛け釉薬層を有するタイルが一度焼き
にして製造される。従つて、本発明の方法を採用
することにより内装用タイルの製造コストが大幅
に低減される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のタイルの釉掛け方法の一例を
説明する断面図、第２図は従来の幕掛け法を説明
する断面図である。１……坏土成形体、２……コンベア、３……水
膜、４……釉層、１０……水噴霧ノズル。

Claims

【特許請求の範囲】

１坏土をタイル形状に成形した後乾燥し、次い
で乾燥した該成形体の一方の表面に水を0.002〜
0.015ｇ／cm²の割合で１Kg／cm²以上の高圧にて噴
霧させた後、泥漿釉を幕掛け法により釉掛けする
ことを特徴とするタイルの釉掛け方法。