JPH06191920A - 陶磁器の製造方法 - Google Patents
陶磁器の製造方法Info
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- JPH06191920A JPH06191920A JP35760292A JP35760292A JPH06191920A JP H06191920 A JPH06191920 A JP H06191920A JP 35760292 A JP35760292 A JP 35760292A JP 35760292 A JP35760292 A JP 35760292A JP H06191920 A JPH06191920 A JP H06191920A
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Landscapes
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 迅速な焼成を経るだけで陶磁器表面を艶消し
状態とするとともに表面のきめを細かく仕上げる。 【構成】 Al2O3,長石,珪石,CaCO3 ,ZnO
の各成分を含む迅速焼成用マット釉薬を施釉装置により
陶磁器素地(タイル素地)の表面に施釉する。その後、
燐酸アルミガラス懸濁液を迅速焼成用マット釉薬の施釉
表面にスクリーン印刷する。これにより、迅速焼成用マ
ット釉薬の施釉表面に燐酸アルミガラスの薄膜を形成す
る。次いで、1100℃×60分の焼成条件で焼成す
る。この焼成過程で、燐酸アルミガラスから分離した一
部のアルミナ結晶が陶磁器表面に析出する。
状態とするとともに表面のきめを細かく仕上げる。 【構成】 Al2O3,長石,珪石,CaCO3 ,ZnO
の各成分を含む迅速焼成用マット釉薬を施釉装置により
陶磁器素地(タイル素地)の表面に施釉する。その後、
燐酸アルミガラス懸濁液を迅速焼成用マット釉薬の施釉
表面にスクリーン印刷する。これにより、迅速焼成用マ
ット釉薬の施釉表面に燐酸アルミガラスの薄膜を形成す
る。次いで、1100℃×60分の焼成条件で焼成す
る。この焼成過程で、燐酸アルミガラスから分離した一
部のアルミナ結晶が陶磁器表面に析出する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面を艶消し状態にし
て陶磁器を焼成する陶磁器の製造方法に関する。
て陶磁器を焼成する陶磁器の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】陶磁器の表面を艶消し状態にする方法
は、陶磁器の素地にマット釉薬を施釉して焼成する方法
と焼成後の陶磁器表面を改変する方法とに大別される。
前者の方法では、焼成過程においてマット釉薬から種々
の長石等の結晶を析出させることで陶磁器の表面を艶消
し状態にする。後者の方法では、焼成後の陶磁器表面に
Al2O3,SiO2 を主成分としフリットで溶融度を調
整したもの等の艶消し剤、いわゆるマット剤を転写コー
トし800℃前後の温度で熱処理して陶磁器表面を艶消
し状態に改質したり、焼成後の陶磁器表面に微細な固体
粒子を吹き付けるサンドブラスト処理を施して陶磁器表
面を微細な凹凸の表面とし陶磁器表面を艶消し状態とす
る。
は、陶磁器の素地にマット釉薬を施釉して焼成する方法
と焼成後の陶磁器表面を改変する方法とに大別される。
前者の方法では、焼成過程においてマット釉薬から種々
の長石等の結晶を析出させることで陶磁器の表面を艶消
し状態にする。後者の方法では、焼成後の陶磁器表面に
Al2O3,SiO2 を主成分としフリットで溶融度を調
整したもの等の艶消し剤、いわゆるマット剤を転写コー
トし800℃前後の温度で熱処理して陶磁器表面を艶消
し状態に改質したり、焼成後の陶磁器表面に微細な固体
粒子を吹き付けるサンドブラスト処理を施して陶磁器表
面を微細な凹凸の表面とし陶磁器表面を艶消し状態とす
る。
【0003】このうち、マット剤を用いたりサンドブラ
スト処理を施したりする方法では、陶磁器の焼成とは別
個の工程を必要とするとともに、焼成後の陶磁器を対象
とするので破損等に注意して慎重に扱う必要があり生産
性に欠ける。よって、一般的には、陶磁器の素地にマッ
ト釉薬を施釉して焼成する方法が採られている。
スト処理を施したりする方法では、陶磁器の焼成とは別
個の工程を必要とするとともに、焼成後の陶磁器を対象
とするので破損等に注意して慎重に扱う必要があり生産
性に欠ける。よって、一般的には、陶磁器の素地にマッ
ト釉薬を施釉して焼成する方法が採られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の陶磁器の製造方法では、種々の長石等の結晶析
出が不十分であると艶消しが不均一となるので、陶磁器
の焼成に比較的長時間を要し効率が悪かった。このよう
な欠点は、カオリン等の粘土鉱物や酸化アルミニウムを
マット形成助剤として釉薬に配合すればやや改善される
ものの、長時間をかけた種々の長石等の結晶析出により
結晶が大きくなるため、艶消し状態の陶磁器表面のきめ
が粗くなり製品意匠上好ましくない。
た従来の陶磁器の製造方法では、種々の長石等の結晶析
出が不十分であると艶消しが不均一となるので、陶磁器
の焼成に比較的長時間を要し効率が悪かった。このよう
な欠点は、カオリン等の粘土鉱物や酸化アルミニウムを
マット形成助剤として釉薬に配合すればやや改善される
ものの、長時間をかけた種々の長石等の結晶析出により
結晶が大きくなるため、艶消し状態の陶磁器表面のきめ
が粗くなり製品意匠上好ましくない。
【0005】本発明は、上記問題点を解決するためにな
され、迅速な焼成を経るだけで陶磁器表面を艶消し状態
とするとともに表面のきめを細かく仕上げることを目的
とする。
され、迅速な焼成を経るだけで陶磁器表面を艶消し状態
とするとともに表面のきめを細かく仕上げることを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに本発明の採用した手順は、表面を艶消し状態にして
陶磁器を焼成する陶磁器の製造方法であって、5〜15
重量部の酸化アルミニウム,25〜35重量部の長石,
10〜20重量部の珪石,15〜25重量部の炭酸カル
シウム,5〜15重量部の酸化亜鉛を含有する迅速焼成
用マット釉薬を陶磁器の素地表面に施釉する施釉工程
と、前記迅速焼成用マット釉薬の施釉表面に、燐酸アル
ミニウム又は燐酸アルミニウム化合物の懸濁液を付着さ
せて燐酸アルミニウム又は燐酸アルミニウム化合物の薄
膜を形成する懸濁液付着工程と、前記施釉工程と懸濁液
付着工程の後に、所定条件で焼成する焼成工程とを備え
ることをその要旨とする。
めに本発明の採用した手順は、表面を艶消し状態にして
陶磁器を焼成する陶磁器の製造方法であって、5〜15
重量部の酸化アルミニウム,25〜35重量部の長石,
10〜20重量部の珪石,15〜25重量部の炭酸カル
シウム,5〜15重量部の酸化亜鉛を含有する迅速焼成
用マット釉薬を陶磁器の素地表面に施釉する施釉工程
と、前記迅速焼成用マット釉薬の施釉表面に、燐酸アル
ミニウム又は燐酸アルミニウム化合物の懸濁液を付着さ
せて燐酸アルミニウム又は燐酸アルミニウム化合物の薄
膜を形成する懸濁液付着工程と、前記施釉工程と懸濁液
付着工程の後に、所定条件で焼成する焼成工程とを備え
ることをその要旨とする。
【0007】
【作用】上記構成を有する陶磁器の製造方法では、その
焼成過程において次のような反応が進行すると考えられ
る。組成およびその配分が特有の迅速焼成用マット釉薬
が焼成過程中で溶融し、当該釉薬成分中のアルカリ土類
金属やアルカリ金属を含むケイ酸塩が生成する。そし
て、このケイ酸塩と釉薬表面に付着させた燐酸アルミニ
ウム又は燐酸アルミニウム化合物における燐酸とが相溶
拡散を起こし、燐酸アルミニウム又は燐酸アルミニウム
化合物からのアルミナの分離をもたらす。よって、この
分離した一部のアルミナ結晶が陶磁器表面に析出すると
思われる。この際、ケイ酸塩と上記燐酸アルミニウム又
は燐酸アルミニウム化合物における燐酸との相溶の速さ
やスムーズさがアルミナの分離およびアルミナ結晶の析
出に寄与すると思われる。
焼成過程において次のような反応が進行すると考えられ
る。組成およびその配分が特有の迅速焼成用マット釉薬
が焼成過程中で溶融し、当該釉薬成分中のアルカリ土類
金属やアルカリ金属を含むケイ酸塩が生成する。そし
て、このケイ酸塩と釉薬表面に付着させた燐酸アルミニ
ウム又は燐酸アルミニウム化合物における燐酸とが相溶
拡散を起こし、燐酸アルミニウム又は燐酸アルミニウム
化合物からのアルミナの分離をもたらす。よって、この
分離した一部のアルミナ結晶が陶磁器表面に析出すると
思われる。この際、ケイ酸塩と上記燐酸アルミニウム又
は燐酸アルミニウム化合物における燐酸との相溶の速さ
やスムーズさがアルミナの分離およびアルミナ結晶の析
出に寄与すると思われる。
【0008】このようにアルミナ結晶の析出が焼成過程
中に速やかに進行するので、焼成に長時間を要すること
がない。そして、この間に迅速焼成用マット釉薬により
迅速に陶磁器表面が艶消し状態となる。また、析出する
アルミナの結晶粒子が小さく、陶磁器表面のきめを細か
くする。
中に速やかに進行するので、焼成に長時間を要すること
がない。そして、この間に迅速焼成用マット釉薬により
迅速に陶磁器表面が艶消し状態となる。また、析出する
アルミナの結晶粒子が小さく、陶磁器表面のきめを細か
くする。
【0009】
【実施例】次に、本発明に係る陶磁器の製造方法の好適
な実施例について説明する。まず、使用する迅速焼成用
マット釉薬について説明する。本実施例では、表1に記
載した各成分からなる迅速焼成用マット釉薬を用いた。
な実施例について説明する。まず、使用する迅速焼成用
マット釉薬について説明する。本実施例では、表1に記
載した各成分からなる迅速焼成用マット釉薬を用いた。
【表1】
【0010】この迅速焼成用マット釉薬におけるAl2
O3,長石,珪石,CaCO3 ,ZnOの各成分は、表
1における配合比の数値を中心に−5〜+5重量部の範
囲で増減することができる。しかし、この増減を加味し
た適用可能範囲を逸脱すると、次のような不都合があ
る。
O3,長石,珪石,CaCO3 ,ZnOの各成分は、表
1における配合比の数値を中心に−5〜+5重量部の範
囲で増減することができる。しかし、この増減を加味し
た適用可能範囲を逸脱すると、次のような不都合があ
る。
【0011】Al2O3が適用可能範囲を当該範囲より配
合比が少ない側に逸脱すると、焼成時に釉薬が熔けすぎ
てブライトになるといった不都合がある。また、配合比
が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けず半溶融傾向となり
汚れるといった不都合がある。
合比が少ない側に逸脱すると、焼成時に釉薬が熔けすぎ
てブライトになるといった不都合がある。また、配合比
が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けず半溶融傾向となり
汚れるといった不都合がある。
【0012】長石が適用可能範囲を当該範囲より配合比
が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくなり、配合
比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎるといった不
都合がある。
が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくなり、配合
比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎるといった不
都合がある。
【0013】珪石が適用可能範囲を当該範囲より配合比
が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎとなり、配合
比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくなるといっ
た不都合がある。
が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎとなり、配合
比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくなるといっ
た不都合がある。
【0014】CaCO3 が適用可能範囲を当該範囲より
配合比が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくな
り、配合比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎると
いった不都合がある。
配合比が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくな
り、配合比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎると
いった不都合がある。
【0015】ZnOが適用可能範囲を当該範囲より配合
比が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくなり、配
合比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎるといった
不都合がある。
比が少ない側に逸脱すると、釉薬が熔けにくくなり、配
合比が多い側に逸脱すると、釉薬が熔けすぎるといった
不都合がある。
【0016】また、ジルコンは、陶磁器表面を乳濁する
ために用いるのであり、陶磁器の色合いの要求に応じて
適宜増減させたり、配合を省略することができる。
ために用いるのであり、陶磁器の色合いの要求に応じて
適宜増減させたり、配合を省略することができる。
【0017】次に、上記した迅速焼成用マット釉薬の施
釉後にその表面に付着させる懸濁液について説明する。
本実施例では、表2に記載した各成分からなる燐酸アル
ミガラス(実施例品1,2)をエチレングルコールに加
えて懸濁させたものを用いた。
釉後にその表面に付着させる懸濁液について説明する。
本実施例では、表2に記載した各成分からなる燐酸アル
ミガラス(実施例品1,2)をエチレングルコールに加
えて懸濁させたものを用いた。
【表2】
【0018】この燐酸アルミガラスにおけるAl2O
3は、15〜35重量部の範囲でその配合比を増減可能
であり、この増減に併せて他の成分の配合比を調整す
る。そして、燐酸アルミガラスにおけるAl2O3が15
〜35重量部の範囲を逸脱すると、次のような不都合が
ある。
3は、15〜35重量部の範囲でその配合比を増減可能
であり、この増減に併せて他の成分の配合比を調整す
る。そして、燐酸アルミガラスにおけるAl2O3が15
〜35重量部の範囲を逸脱すると、次のような不都合が
ある。
【0019】Al2O3が上記範囲より配合比が少ない側
に逸脱すると、表面が不熔状態になるといった不都合が
ある。また、配合比が多い側に逸脱すると、過熔状態に
なるといった不都合がある。
に逸脱すると、表面が不熔状態になるといった不都合が
ある。また、配合比が多い側に逸脱すると、過熔状態に
なるといった不都合がある。
【0020】次に、上記した迅速焼成用マット釉薬およ
び燐酸アルミガラスを用いる陶磁器の製造方法について
説明する。まず、所定の施釉装置により上記迅速焼成用
マット釉薬を陶磁器素地、例えばタイル素地の表面に施
釉する。その後、上記燐酸アルミガラス(実施例品1,
2)をエチレングルコールに加えて懸濁して調製した懸
濁液を、200メッシュのスクリーンを用いて迅速焼成
用マット釉薬の施釉表面にスクリーン印刷する。これに
より、迅速焼成用マット釉薬の施釉表面に燐酸アルミガ
ラスの薄膜が形成される。なお、懸濁液は、実施例品1
と実施例品2の燐酸アルミガラスについて調製し、個々
のタイル素地に対して用いた。
び燐酸アルミガラスを用いる陶磁器の製造方法について
説明する。まず、所定の施釉装置により上記迅速焼成用
マット釉薬を陶磁器素地、例えばタイル素地の表面に施
釉する。その後、上記燐酸アルミガラス(実施例品1,
2)をエチレングルコールに加えて懸濁して調製した懸
濁液を、200メッシュのスクリーンを用いて迅速焼成
用マット釉薬の施釉表面にスクリーン印刷する。これに
より、迅速焼成用マット釉薬の施釉表面に燐酸アルミガ
ラスの薄膜が形成される。なお、懸濁液は、実施例品1
と実施例品2の燐酸アルミガラスについて調製し、個々
のタイル素地に対して用いた。
【0021】この際、迅速焼成用マット釉薬の施釉表面
における燐酸アルミガラスの薄膜厚さは、5〜40μm
(好ましくは10〜20μm)に調整される。この範囲
より薄膜が厚いと荒目のマット状となり、また薄いとき
め細かいマット表面が形成できなくなるため好ましくな
い。つまり、このように燐酸アルミガラスの薄膜厚さを
調整することで、上記焼成条件における燐酸アルミガラ
ス中のアルミナ絶対量をコントロールする。
における燐酸アルミガラスの薄膜厚さは、5〜40μm
(好ましくは10〜20μm)に調整される。この範囲
より薄膜が厚いと荒目のマット状となり、また薄いとき
め細かいマット表面が形成できなくなるため好ましくな
い。つまり、このように燐酸アルミガラスの薄膜厚さを
調整することで、上記焼成条件における燐酸アルミガラ
ス中のアルミナ絶対量をコントロールする。
【0022】また、燐酸アルミガラス(実施例品1,
2)の懸濁液を調製するに当たっては、ボールミル等に
より予め燐酸アルミガラスの粒度調整を行なうことが好
ましい。この際、3μm以下の粒度に調整することがよ
り好ましい。
2)の懸濁液を調製するに当たっては、ボールミル等に
より予め燐酸アルミガラスの粒度調整を行なうことが好
ましい。この際、3μm以下の粒度に調整することがよ
り好ましい。
【0023】その後、上記処理を経たタイル素地を11
00℃×60分の焼成条件で焼成し、実施例品1の燐酸
アルミガラスを用いた実施例タイル1と実施例品2の燐
酸アルミガラスを用いた実施例タイル2とを製造した。
00℃×60分の焼成条件で焼成し、実施例品1の燐酸
アルミガラスを用いた実施例タイル1と実施例品2の燐
酸アルミガラスを用いた実施例タイル2とを製造した。
【0024】この各実施例タイルと比較するために、タ
イル素地表面に上記迅速焼成用マット釉薬を施釉しただ
けのものを同一の焼成条件(1100℃×60分)で焼
成し、比較例タイルを製造した。
イル素地表面に上記迅速焼成用マット釉薬を施釉しただ
けのものを同一の焼成条件(1100℃×60分)で焼
成し、比較例タイルを製造した。
【0025】各実施例タイル1,2と比較例タイルとを
比較したところ、各実施例タイル1,2は、60分とい
う短時間の焼成に拘らず良好な艶消し状態の表面を備
え、その表面はきめ細かく仕上がっている。これにたい
して、比較例タイルでは、艶消しが認められるものの表
面のきめは粗かった。
比較したところ、各実施例タイル1,2は、60分とい
う短時間の焼成に拘らず良好な艶消し状態の表面を備
え、その表面はきめ細かく仕上がっている。これにたい
して、比較例タイルでは、艶消しが認められるものの表
面のきめは粗かった。
【0026】このきめの粗さの程度について測定した。
その結果を表3に示す。なお、測定はJIS B 06
02に準拠して行ない、表面粗さ形状測定機(東京精密
株式会社製のサーコム570A)を用いた。この際、
2.5mmの測定距離に亘って0.3mm/secの速
さで測定子をタイル表面上で移動させ、中心線平均粗さ
(Ra),最大山高さ(Rmax),十点平均粗さ(R
z),平均山間隔(Sm)の測定項目について測定し
た。
その結果を表3に示す。なお、測定はJIS B 06
02に準拠して行ない、表面粗さ形状測定機(東京精密
株式会社製のサーコム570A)を用いた。この際、
2.5mmの測定距離に亘って0.3mm/secの速
さで測定子をタイル表面上で移動させ、中心線平均粗さ
(Ra),最大山高さ(Rmax),十点平均粗さ(R
z),平均山間隔(Sm)の測定項目について測定し
た。
【表3】
【0027】表3から明らかなように、各実施例タイル
1,2とも、きめの粗さの程度に関する各測定項目につ
いて比較例タイルより優れていることが、判明した。
1,2とも、きめの粗さの程度に関する各測定項目につ
いて比較例タイルより優れていることが、判明した。
【0028】以上説明したように、本実施例の陶磁器の
製造方法によれば、60分という迅速な焼成を経るだけ
で陶磁器表面を艶消し状態とするとともに、表面のきめ
を細かく仕上げることができる。
製造方法によれば、60分という迅速な焼成を経るだけ
で陶磁器表面を艶消し状態とするとともに、表面のきめ
を細かく仕上げることができる。
【0029】以上本発明の一実施例について説明した
が、本発明はこの様な実施例になんら限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々な
る態様で実施し得ることは勿論である。
が、本発明はこの様な実施例になんら限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々な
る態様で実施し得ることは勿論である。
【0030】例えば、迅速焼成用マット釉薬の施釉表面
に燐酸アルミガラスの薄膜を形成するに当たり、スクリ
ーン印刷を行なったがスプレーガン,刷毛等により燐酸
アルミガラスの懸濁液を付着させ薄膜を形成することも
できる。
に燐酸アルミガラスの薄膜を形成するに当たり、スクリ
ーン印刷を行なったがスプレーガン,刷毛等により燐酸
アルミガラスの懸濁液を付着させ薄膜を形成することも
できる。
【0031】また、燐酸アルミガラスの懸濁液を調製す
る際に、硼硅酸鉛等のフラックスや一般的な陶磁器装飾
用の窯業原料、例えば長石,粘土等を燐酸アルミガラス
に加えて懸濁液を調製することもできる。
る際に、硼硅酸鉛等のフラックスや一般的な陶磁器装飾
用の窯業原料、例えば長石,粘土等を燐酸アルミガラス
に加えて懸濁液を調製することもできる。
【0032】
【発明の効果】以上詳述したように本発明の陶磁器の製
造方法によれば、迅速な焼成を経るだけで陶磁器表面を
艶消し状態とするとともに、表面のきめを細かく仕上げ
ることができる。
造方法によれば、迅速な焼成を経るだけで陶磁器表面を
艶消し状態とするとともに、表面のきめを細かく仕上げ
ることができる。
【0033】また、燐酸アルミガラスを用いることで、
水に不熔性となり作業取扱いが容易となるという利点が
ある。
水に不熔性となり作業取扱いが容易となるという利点が
ある。
Claims (2)
- 【請求項1】 表面を艶消し状態にして陶磁器を焼成す
る陶磁器の製造方法であって、 5〜15重量部の酸化アルミニウム,25〜35重量部
の長石,10〜20重量部の珪石,15〜25重量部の
炭酸カルシウム,5〜15重量部の酸化亜鉛を含有する
迅速焼成用マット釉薬を陶磁器の素地表面に施釉する施
釉工程と、 前記迅速焼成用マット釉薬の施釉表面に、燐酸アルミニ
ウム又は燐酸アルミニウム化合物の懸濁液を付着させて
燐酸アルミニウム又は燐酸アルミニウム化合物の薄膜を
形成する懸濁液付着工程と、 前記施釉工程と懸濁液付着工程の後に、所定条件で焼成
する焼成工程とを備えることを特徴とする陶磁器の製造
方法。 - 【請求項2】 前記懸濁液は15〜35重量部の酸化ア
ルミニウムを組成成分として含有する燐酸アルミガラス
の懸濁液である請求項1記載の陶磁器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35760292A JP3211442B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 陶磁器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35760292A JP3211442B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 陶磁器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06191920A true JPH06191920A (ja) | 1994-07-12 |
| JP3211442B2 JP3211442B2 (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=18454967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35760292A Expired - Fee Related JP3211442B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 陶磁器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3211442B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012046364A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-03-08 | Toto Ltd | 防汚性マット調表面を有した衛生陶器 |
| EP3339271A1 (en) | 2016-12-22 | 2018-06-27 | Toto Ltd. | Antifouling matted object |
| CN108975703A (zh) * | 2018-10-31 | 2018-12-11 | 江苏脒诺甫纳米材料有限公司 | 通体陶板用无光抗污釉料 |
| CN116082030A (zh) * | 2022-12-26 | 2023-05-09 | 广西产研院新型功能材料研究所有限公司 | 一种利用未净化湿法磷酸生产的磷酸铝陶瓷及其方法与应用 |
| JP2023522783A (ja) * | 2020-06-24 | 2023-05-31 | 蒙娜麗莎集団股▲ふん▼有限公司 | 高硬度、高耐摩耗性の完全研磨釉薬セラミックタイル及びその製造方法 |
| JP2023530827A (ja) * | 2020-05-19 | 2023-07-20 | 蒙娜麗莎集団股▲ふん▼有限公司 | 高耐摩耗性の遠赤外線セラミック研磨釉薬タイル及びその製造方法 |
| CN117383964A (zh) * | 2023-10-09 | 2024-01-12 | 广东家美陶瓷有限公司 | 基于轻烧工艺的哑光数码功能墨水及其制备方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100953797B1 (ko) * | 2008-08-06 | 2010-04-21 | 이구원 | 도자기 제조방법 및 그 제조방법으로 제조된 도자기 |
-
1992
- 1992-12-24 JP JP35760292A patent/JP3211442B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN116082030B (zh) * | 2022-12-26 | 2024-06-07 | 广西产研院新型功能材料研究所有限公司 | 一种利用未净化湿法磷酸生产的磷酸铝陶瓷及其方法与应用 |
| CN117383964A (zh) * | 2023-10-09 | 2024-01-12 | 广东家美陶瓷有限公司 | 基于轻烧工艺的哑光数码功能墨水及其制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3211442B2 (ja) | 2001-09-25 |
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