JPH0557378B2 - - Google Patents
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- JPH0557378B2 JPH0557378B2 JP59200690A JP20069084A JPH0557378B2 JP H0557378 B2 JPH0557378 B2 JP H0557378B2 JP 59200690 A JP59200690 A JP 59200690A JP 20069084 A JP20069084 A JP 20069084A JP H0557378 B2 JPH0557378 B2 JP H0557378B2
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- Japan
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- valve
- chamber
- tank
- liquid
- diaphragm
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/18—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid actuated by a float
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K21/00—Fluid-delivery valves, e.g. self-closing valves
- F16K21/04—Self-closing valves, i.e. closing automatically after operation
- F16K21/18—Self-closing valves, i.e. closing automatically after operation closed when a rising liquid reaches a predetermined level
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E03—WATER SUPPLY; SEWERAGE
- E03D—WATER-CLOSETS OR URINALS WITH FLUSHING DEVICES; FLUSHING VALVES THEREFOR
- E03D1/00—Water flushing devices with cisterns ; Setting up a range of flushing devices or water-closets; Combinations of several flushing devices
- E03D1/30—Valves for high or low level cisterns; Their arrangement ; Flushing mechanisms in the cistern, optionally with provisions for a pre-or a post- flushing and for cutting off the flushing mechanism in case of leakage
- E03D1/32—Arrangement of inlet valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K47/00—Means in valves for absorbing fluid energy
- F16K47/02—Means in valves for absorbing fluid energy for preventing water-hammer or noise
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/3149—Back flow prevention by vacuum breaking [e.g., anti-siphon devices]
- Y10T137/3185—Air vent in liquid flow line
- Y10T137/3294—Valved
- Y10T137/3331—With co-acting valve in liquid flow path
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T137/7339—By weight of accumulated fluid
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- Y10T137/7358—By float controlled valve
- Y10T137/7368—Servo relay operation of control
- Y10T137/7371—Fluid pressure
- Y10T137/7374—Flexible diaphragm valve
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- Y10T137/7439—Float arm operated valve
- Y10T137/7446—With flow guide or restrictor
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
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- Hydrology & Water Resources (AREA)
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Self-Closing Valves And Venting Or Aerating Valves (AREA)
- Sanitary Device For Flush Toilet (AREA)
- Check Valves (AREA)
- Fluid-Driven Valves (AREA)
- Filling Of Jars Or Cans And Processes For Cleaning And Sealing Jars (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は水洗用タンク(toilet tank)及び類
似のタンクの水位制御のための充填弁
(fillvalve)に関する。
似のタンクの水位制御のための充填弁
(fillvalve)に関する。
従来の技術
充填弁はタンク又は貯槽内の所定の液体レベル
を維持するため作用し、そして水洗用タンク及び
他のタンクに広く使用されている。典型的な充填
弁は加圧された液体供給源へ連結されるようにな
つている入口と、タンクに連絡している出口と、
タンク内への流れを制御するための弁と、タンク
内の液体レベルを検出するための装置と、検出さ
れた液体レベルが所定のレベル以下であるとき弁
を開くための構造体とを含んでいる。過去におい
て、多くの充填弁は弁が浮子によつて制御される
ボールコツク(ball cock)の変種であつた。本
出願人の米国特許第3895645号及び第4180096号は
コンパクトさ及び費用を含めてボールコツクに優
る利点を有している充填弁を開示している。これ
等の充填弁は完全に水中に沈められ、そして液体
レベルを検出するのに液体圧力に応答するダイア
フラムを使用している。
を維持するため作用し、そして水洗用タンク及び
他のタンクに広く使用されている。典型的な充填
弁は加圧された液体供給源へ連結されるようにな
つている入口と、タンクに連絡している出口と、
タンク内への流れを制御するための弁と、タンク
内の液体レベルを検出するための装置と、検出さ
れた液体レベルが所定のレベル以下であるとき弁
を開くための構造体とを含んでいる。過去におい
て、多くの充填弁は弁が浮子によつて制御される
ボールコツク(ball cock)の変種であつた。本
出願人の米国特許第3895645号及び第4180096号は
コンパクトさ及び費用を含めてボールコツクに優
る利点を有している充填弁を開示している。これ
等の充填弁は完全に水中に沈められ、そして液体
レベルを検出するのに液体圧力に応答するダイア
フラムを使用している。
発明が解決しようとする問題点
本出願人の前特許に開示された装置はそれ等の
意図する目的を達成するのに成功したが、いくつ
かの場合に大気への真空破壊器(vaccum
breaker)が液体流路内に含まれることができる
目的のために充填弁が完全に水中に沈められない
ことが望ましいことがある。従つて本発明の1つ
の目的は、弁又はその1部分が液体レベルの上方
にタンク内に取付けられていて、且つ真空破壊能
力が提供されている型式の改良された充填弁を提
供することである。
意図する目的を達成するのに成功したが、いくつ
かの場合に大気への真空破壊器(vaccum
breaker)が液体流路内に含まれることができる
目的のために充填弁が完全に水中に沈められない
ことが望ましいことがある。従つて本発明の1つ
の目的は、弁又はその1部分が液体レベルの上方
にタンク内に取付けられていて、且つ真空破壊能
力が提供されている型式の改良された充填弁を提
供することである。
従来のボールコツク及びその他の充填弁が遭遇
した1つの困難な、水洗タンクの形が種々異なる
ために、かかるボールコツクの如き充填弁はすべ
ての水洗タンクに対して満足に使用できないとい
うことであつた。タンクの高さが異なり、従つて
水位が異なると、異なつた形式の充填弁を必要と
する。従つて、異なつた高さのタンクにおける異
なつた水位に対応して高さが調整可能であるよう
な充填弁が望ましい。本発明の他の目的は確実
な、且つ容易に調節可能であつて、種々のタンク
の深さに適合する充填弁を提供することである。
した1つの困難な、水洗タンクの形が種々異なる
ために、かかるボールコツクの如き充填弁はすべ
ての水洗タンクに対して満足に使用できないとい
うことであつた。タンクの高さが異なり、従つて
水位が異なると、異なつた形式の充填弁を必要と
する。従つて、異なつた高さのタンクにおける異
なつた水位に対応して高さが調整可能であるよう
な充填弁が望ましい。本発明の他の目的は確実
な、且つ容易に調節可能であつて、種々のタンク
の深さに適合する充填弁を提供することである。
上述の本出願人の特許に開示されている充填弁
は、主弁と、タンク内の水位を検出するのに役立
つているダイアフラムによつて制御されるパイロ
ツト弁とを含んでいる非常に信頼性のある、且つ
容易に調整可能な弁システムの使用可能にしてい
る。水中に沈めない充填弁とこの弁システムを協
働するのが望ましい。従つて、本発明のなお他の
目的はタンク内の水位に従つて圧力に応答するダ
イアフラムを制御するための下方に延びているス
タンドパイプ(stand pipe)を含んでいる改良さ
れた構造体を含んでいる充填弁を提供することで
ある。
は、主弁と、タンク内の水位を検出するのに役立
つているダイアフラムによつて制御されるパイロ
ツト弁とを含んでいる非常に信頼性のある、且つ
容易に調整可能な弁システムの使用可能にしてい
る。水中に沈めない充填弁とこの弁システムを協
働するのが望ましい。従つて、本発明のなお他の
目的はタンク内の水位に従つて圧力に応答するダ
イアフラムを制御するための下方に延びているス
タンドパイプ(stand pipe)を含んでいる改良さ
れた構造体を含んでいる充填弁を提供することで
ある。
問題点を解決するための手段
充填弁の作動において、いかなる「ハンチング
(hunt)」の傾向又は部分的に開いた状態をも回
避するため、弁の開閉が確実に行なわれることが
望ましい。本発明の更に他の目的は開閉水位が互
にオフセツト(offset)されているので安定した
作動が達成される充填弁を提供することである。
(hunt)」の傾向又は部分的に開いた状態をも回
避するため、弁の開閉が確実に行なわれることが
望ましい。本発明の更に他の目的は開閉水位が互
にオフセツト(offset)されているので安定した
作動が達成される充填弁を提供することである。
とりわけ本発明の他の重要な目的は過去におい
て使用された充填弁の欠点を克服する充填弁を提
供することであり;即ち使用が安全、且つ容易で
あつて、作動が静かであり、そして簡単、且つ信
頼性のある充填弁を提供することである。
て使用された充填弁の欠点を克服する充填弁を提
供することであり;即ち使用が安全、且つ容易で
あつて、作動が静かであり、そして簡単、且つ信
頼性のある充填弁を提供することである。
簡単に言うと、上記に含まれる本発明の目的及
び利点は入れ子式の立ち管(riser)組立体によ
つて所定の高さ上方のタンク内の選択された水位
に位置づけされている弁ヘツド組立体を含んでい
る充填弁の提供によつて達成される。立ち管組立
体はタンクの壁に固定されたシヤンク(shank)
部分を有しており、且つ入口及び出口部分を含ん
でいる立ち管を含んでいる。入口及び出口流体導
管は弁ヘツド組立体から下方へ延びており、且つ
立ち管の入口及び出口部分に対して入れ子式に調
整可能である。立ち管と関連している調整ナツト
がタンク内の弁組立体の高さの調整のために、且
つ所定の液体レベルの同時調整のための入口及び
出口導管にねじで係合している。
び利点は入れ子式の立ち管(riser)組立体によ
つて所定の高さ上方のタンク内の選択された水位
に位置づけされている弁ヘツド組立体を含んでい
る充填弁の提供によつて達成される。立ち管組立
体はタンクの壁に固定されたシヤンク(shank)
部分を有しており、且つ入口及び出口部分を含ん
でいる立ち管を含んでいる。入口及び出口流体導
管は弁ヘツド組立体から下方へ延びており、且つ
立ち管の入口及び出口部分に対して入れ子式に調
整可能である。立ち管と関連している調整ナツト
がタンク内の弁組立体の高さの調整のために、且
つ所定の液体レベルの同時調整のための入口及び
出口導管にねじで係合している。
弁ヘツド組立体内の主弁は通気室及び制御室に
分離しているダイアフラムの制御下で入口及び出
口導管の間の連絡を開閉する。真空破壊室が主弁
からタンク内部へ延びている出口流路内に配置さ
れている。真空破壊室は主弁に連絡している第1
のポート手段と、通気室と連絡している第2のポ
ート手段と、出口流路に沿つて下流で連絡してい
る第3のポートとを含んでいる。簡単な、ワツシ
ヤー状の、エラストマー部材の形の真空破壊弁は
主弁が閉じているとき第1のポート手段の上にな
り、そして主弁が開いているとき第2のポート手
段の上になる。
分離しているダイアフラムの制御下で入口及び出
口導管の間の連絡を開閉する。真空破壊室が主弁
からタンク内部へ延びている出口流路内に配置さ
れている。真空破壊室は主弁に連絡している第1
のポート手段と、通気室と連絡している第2のポ
ート手段と、出口流路に沿つて下流で連絡してい
る第3のポートとを含んでいる。簡単な、ワツシ
ヤー状の、エラストマー部材の形の真空破壊弁は
主弁が閉じているとき第1のポート手段の上にな
り、そして主弁が開いているとき第2のポート手
段の上になる。
制御室に連絡しているスタンドパイプはタンク
内で下方へ延びており、そして液体レベルの増加
に応答してダイアフラムに圧力を加える。ダイア
フラムは非水平であり、そして主弁が開くと、通
気室はダイアフラムは流体荷重(hydraulic
load)をかけるため部分的に液体で満たされ、そ
の結果、主弁を閉じるのに必要な液体レベルが増
加される。通気室は主弁が閉ざされると排水さ
れ、従つて低い液体レベルが主弁の再開放を生ず
る。
内で下方へ延びており、そして液体レベルの増加
に応答してダイアフラムに圧力を加える。ダイア
フラムは非水平であり、そして主弁が開くと、通
気室はダイアフラムは流体荷重(hydraulic
load)をかけるため部分的に液体で満たされ、そ
の結果、主弁を閉じるのに必要な液体レベルが増
加される。通気室は主弁が閉ざされると排水さ
れ、従つて低い液体レベルが主弁の再開放を生ず
る。
本発明の上述の及び他の目的は図面に例示され
た本発明の実施態様の下記の詳細な説明から最も
よく理解されるであろう。
た本発明の実施態様の下記の詳細な説明から最も
よく理解されるであろう。
実施例
図面を参照して説明すると、本発明の原理によ
つて構成され、且つ参照番号20によつて全体的に
示されている充填弁(fill valve)が例示されて
いる。充填弁20は水洗タンク(toilet water
tank)の如きタンクの壁22に取付けられ、そ
して予め選択されたレベルにタンク内の液体レベ
ルを維持する働きをする。充填弁20はタンクの
底部壁22内の開孔24に例示の如く取付けられ
る意図を有しているが、本発明の原理は側壁入口
の如き入口配置の他の型式を有しているタンクに
も適用可能である。
つて構成され、且つ参照番号20によつて全体的に
示されている充填弁(fill valve)が例示されて
いる。充填弁20は水洗タンク(toilet water
tank)の如きタンクの壁22に取付けられ、そ
して予め選択されたレベルにタンク内の液体レベ
ルを維持する働きをする。充填弁20はタンクの
底部壁22内の開孔24に例示の如く取付けられ
る意図を有しているが、本発明の原理は側壁入口
の如き入口配置の他の型式を有しているタンクに
も適用可能である。
一般的に、充填弁20は全体的に26(第1図
乃至第4図)で示されている立ち管(riser)組
立体を含んでおり、これによつて全体的に28で
示されている弁ヘツド組立体がタンクの異なる高
さに適応して上下されることができる。弁ヘツド
組立体は水位が選択されたレベル以下に下がつた
ときタンクへ水を入れるための32(第4図)で
全体的に示されている水位応答圧力検出システム
によつて制御される30(第4図)で全体的に示
されている主、即ち制御弁組立体を含んでいる。
34(第4図)で全体的に示されている真空破壊
弁組立体が充填弁20を通る逆流に抗していて、
大気真空破壊器を提供しており、且つ以下に説明
する如く、確実なオン及びオフ方式に充填弁20
の作動に貢献する。
乃至第4図)で示されている立ち管(riser)組
立体を含んでおり、これによつて全体的に28で
示されている弁ヘツド組立体がタンクの異なる高
さに適応して上下されることができる。弁ヘツド
組立体は水位が選択されたレベル以下に下がつた
ときタンクへ水を入れるための32(第4図)で
全体的に示されている水位応答圧力検出システム
によつて制御される30(第4図)で全体的に示
されている主、即ち制御弁組立体を含んでいる。
34(第4図)で全体的に示されている真空破壊
弁組立体が充填弁20を通る逆流に抗していて、
大気真空破壊器を提供しており、且つ以下に説明
する如く、確実なオン及びオフ方式に充填弁20
の作動に貢献する。
充填弁20の主構成要素は好ましくは成型プラ
スチツク材料で成形されており、且つヘツド組立
体28の種々の作動部分を形成するように別箇の
フアスナー等を用いずに容易に一緒に組立てられ
る。これ等の主構成要素は立ち管200に対して
調整可能である本体100と、ヘツド組立体28
を形成するため本体100の上部部分に組立てら
れたカバー300、キヤツプ400及びデイフユ
ーザー500を含んでいる。この記述された説明
と添付図面との相互関係の助けとして、弁構成部
材100,200,300,400及び500の
要素はそれぞれ同じ数字1、2、3、4又は5で
始まる3つの数字の参照番号によつて示されてい
る。
スチツク材料で成形されており、且つヘツド組立
体28の種々の作動部分を形成するように別箇の
フアスナー等を用いずに容易に一緒に組立てられ
る。これ等の主構成要素は立ち管200に対して
調整可能である本体100と、ヘツド組立体28
を形成するため本体100の上部部分に組立てら
れたカバー300、キヤツプ400及びデイフユ
ーザー500を含んでいる。この記述された説明
と添付図面との相互関係の助けとして、弁構成部
材100,200,300,400及び500の
要素はそれぞれ同じ数字1、2、3、4又は5で
始まる3つの数字の参照番号によつて示されてい
る。
立ち管200(第1図乃至第4図)はタンク壁
開孔24を通り延びているシヤンク部分202を
含んでいる。このシヤンクは立ち管200を支持
するための取付けナツト35と、スラストワツシ
ヤー37及びシール38と協働するカツプリング
ナツト36とを収容するためねじが切られてい
て、圧力下にある水又は他の液体を充填弁20へ
供給する導管39に立ち管シヤンク202を接続
している。立ち管200の下方フランジ204に
より圧縮されて保持されているガスケツト40が
タンク壁22内の開口22内の開孔24をシール
している。
開孔24を通り延びているシヤンク部分202を
含んでいる。このシヤンクは立ち管200を支持
するための取付けナツト35と、スラストワツシ
ヤー37及びシール38と協働するカツプリング
ナツト36とを収容するためねじが切られてい
て、圧力下にある水又は他の液体を充填弁20へ
供給する導管39に立ち管シヤンク202を接続
している。立ち管200の下方フランジ204に
より圧縮されて保持されているガスケツト40が
タンク壁22内の開口22内の開孔24をシール
している。
タンク内で、立ち管200は互に全体的に平行
に延びている全体的に円形の、円筒状入口部分2
06及び出口部分208を含んでいる。入口部分
はシヤンク202を経て供給導管39に連結して
おり、そして出口部分208は出口部分208の
最下方部分においてベースフランジ204に隣接
する出口孔210を経てタンクの内部に連結して
いる。
に延びている全体的に円形の、円筒状入口部分2
06及び出口部分208を含んでいる。入口部分
はシヤンク202を経て供給導管39に連結して
おり、そして出口部分208は出口部分208の
最下方部分においてベースフランジ204に隣接
する出口孔210を経てタンクの内部に連結して
いる。
入口部分206及び出口部分208はタンク底
部から上方へ互に平行に延びている細長い管状の
構造体である。これ等は底部においてウエブ部分
212によりそして頂部において上部フランジ2
14によつて一緒に接合されている。上部フラン
ジ214は全体的にU形の壁216と結合してい
て、出口部分208の頂部において全体的に長方
形の開口又は窓218を形成している。開口21
8は立ち管200の両側から接近可能であり、そ
して又入口部分206の上部部分へ開放している
(第1図及び第4図参照)。
部から上方へ互に平行に延びている細長い管状の
構造体である。これ等は底部においてウエブ部分
212によりそして頂部において上部フランジ2
14によつて一緒に接合されている。上部フラン
ジ214は全体的にU形の壁216と結合してい
て、出口部分208の頂部において全体的に長方
形の開口又は窓218を形成している。開口21
8は立ち管200の両側から接近可能であり、そ
して又入口部分206の上部部分へ開放している
(第1図及び第4図参照)。
本体100は頂部を開放された全体的にカツプ
形状の上部ヘツド部分102を含んでいる(第1
2図)。入口導管104及び出口導管106がヘ
ツド部分102から下方へ延びており、これ等は
立ち管200と共に立ち管組立体26を構成して
いる。導管104及び106は互に平行に延びて
おり、相互に、且つ多数のウエブ108によつて
ヘツド部分102に対して剛直にされている。本
発明の例示された実施態様においては、入口導管
104及び出口導管106は垂直であるように意
図されており、そしてヘツド部分102は45度の
角度に傾斜されている。ヘツド組立体28及びヘ
ツド部分102の非水平方位が以下に詳細に論述
する如く充填弁20の作動における重要な機能を
提供する。
形状の上部ヘツド部分102を含んでいる(第1
2図)。入口導管104及び出口導管106がヘ
ツド部分102から下方へ延びており、これ等は
立ち管200と共に立ち管組立体26を構成して
いる。導管104及び106は互に平行に延びて
おり、相互に、且つ多数のウエブ108によつて
ヘツド部分102に対して剛直にされている。本
発明の例示された実施態様においては、入口導管
104及び出口導管106は垂直であるように意
図されており、そしてヘツド部分102は45度の
角度に傾斜されている。ヘツド組立体28及びヘ
ツド部分102の非水平方位が以下に詳細に論述
する如く充填弁20の作動における重要な機能を
提供する。
入口導管104及び出口導管106は立ち管の
入口部分206及び出口部分208内に入れ子式
にはめられている。O−リング41が入口部分2
06の内部に対して入口導管104の外部をシー
ルしている。ストレーナー42及び流量制限器4
3が入口導管104の端部に取付けられている。
充填弁20の主弁組立体30が開くと、液体が供
給導管39から入口部分206内へ、それから入
口導管104内へヘツド組立体28の方へ流れ
る。ヘツド組立体28から、流体は出口導管10
6を通り出口部分208内へそれし出口ポート2
10を通りタンク内へ流れる。
入口部分206及び出口部分208内に入れ子式
にはめられている。O−リング41が入口部分2
06の内部に対して入口導管104の外部をシー
ルしている。ストレーナー42及び流量制限器4
3が入口導管104の端部に取付けられている。
充填弁20の主弁組立体30が開くと、液体が供
給導管39から入口部分206内へ、それから入
口導管104内へヘツド組立体28の方へ流れ
る。ヘツド組立体28から、流体は出口導管10
6を通り出口部分208内へそれし出口ポート2
10を通りタンク内へ流れる。
充填弁20は種々の高さのタンク内に取付けら
れることができ、そして本発明によれば充填弁の
高さは容易に調整可能である。立ち管組立体26
は立ち管200及び本体部分100のみならずま
た立ち管200の開口218内に配置されている
調整ナツト44を含んでいる。入口導管104及
び出口導管106の双方はそれ等の長さに沿つて
ある実質的な距離延びている歯110の形のねじ
構造体を含んでいる。歯110は外ねじ44A及
び調整ナツト44の内ねじ44Bによつてねじで
係合されているラツク歯車構造体を形成してお
り、ねじ44A及び44Bは各々完全な1回旋
(convolution)よりも僅かに少い。
れることができ、そして本発明によれば充填弁の
高さは容易に調整可能である。立ち管組立体26
は立ち管200及び本体部分100のみならずま
た立ち管200の開口218内に配置されている
調整ナツト44を含んでいる。入口導管104及
び出口導管106の双方はそれ等の長さに沿つて
ある実質的な距離延びている歯110の形のねじ
構造体を含んでいる。歯110は外ねじ44A及
び調整ナツト44の内ねじ44Bによつてねじで
係合されているラツク歯車構造体を形成してお
り、ねじ44A及び44Bは各々完全な1回旋
(convolution)よりも僅かに少い。
本体100は立ち管200に対して実質的にそ
の最低位置において第1図、第2図及び第4図に
例示されている。充填弁20の高さを調整するた
め、ナツト44が開口218の開放側でつかまれ
て、回転される。ねじ44A及び44Bと歯11
0との係合が本体100を立ち管200に対して
所望の高さな上下せしめる。ねじ及び歯の機械的
な利点及びO−リング41によつて与えられる摩
擦によつて、本体100はそれが調整される任意
の位置を保つ。
の最低位置において第1図、第2図及び第4図に
例示されている。充填弁20の高さを調整するた
め、ナツト44が開口218の開放側でつかまれ
て、回転される。ねじ44A及び44Bと歯11
0との係合が本体100を立ち管200に対して
所望の高さな上下せしめる。ねじ及び歯の機械的
な利点及びO−リング41によつて与えられる摩
擦によつて、本体100はそれが調整される任意
の位置を保つ。
本体100の高さは充填弁20が液体圧力を受
けている間に調整されることができる。本体10
0が最上部位置まで上昇されれば、O−リング4
1の圧力逃げポート213を通過して移動し、そ
して入口液体は直接タンクの内部にバイパスされ
る。これは本体100が上昇しすぎた場合に入口
圧力が立ち管200から本体100を強制的に押
出すのを防止する。
けている間に調整されることができる。本体10
0が最上部位置まで上昇されれば、O−リング4
1の圧力逃げポート213を通過して移動し、そ
して入口液体は直接タンクの内部にバイパスされ
る。これは本体100が上昇しすぎた場合に入口
圧力が立ち管200から本体100を強制的に押
出すのを防止する。
本体100及び立ち管200の相対的位置の調
整は充填弁20の全体の高さを変化し、そしてタ
ンク壁22上方のヘツド組立体28の高さを決定
する。タンク内の充填弁20によつて維持される
水位はヘツド組立体28の位置に対して決定され
たので、ヘツド組立体28の高さの調整がまた水
位を調整する。
整は充填弁20の全体の高さを変化し、そしてタ
ンク壁22上方のヘツド組立体28の高さを決定
する。タンク内の充填弁20によつて維持される
水位はヘツド組立体28の位置に対して決定され
たので、ヘツド組立体28の高さの調整がまた水
位を調整する。
本体100のヘツド部分102に加えて、充填
弁20のヘツド組立体28はカバー300と、キ
ヤツプ400と、デイフユーザー500とを含
む。第4図で明らかな如く、充填弁20が組立て
られると、デイフユーザー500はキヤツプ40
0によつて本体100のカツプ状のヘツド部分1
02内に捕えられる。主弁組立体30及び真空破
壊弁組立体34がキヤツプ400の下方及びデイ
フユーザー500の上方に配置される。カバー3
00が本体ヘツド部分102の開放頂部上方に取
付けられ、且つ本体ヘツド部分102及びキヤツ
プ400と協働して、圧力検出システム32のダ
イアフラム空洞52を提供する。
弁20のヘツド組立体28はカバー300と、キ
ヤツプ400と、デイフユーザー500とを含
む。第4図で明らかな如く、充填弁20が組立て
られると、デイフユーザー500はキヤツプ40
0によつて本体100のカツプ状のヘツド部分1
02内に捕えられる。主弁組立体30及び真空破
壊弁組立体34がキヤツプ400の下方及びデイ
フユーザー500の上方に配置される。カバー3
00が本体ヘツド部分102の開放頂部上方に取
付けられ、且つ本体ヘツド部分102及びキヤツ
プ400と協働して、圧力検出システム32のダ
イアフラム空洞52を提供する。
デイフユーザー500はヘツド部分102内に
あり、且つ主弁組立体30から真空破壊弁組立体
34への液体の流路を提供する。環状の頂部壁5
02が真空破壊室45の底部を形成している。中
央のハブ状要素504が頂部壁502の上方に延
びており、且つ主弁組立体30の弁作用
(volving)面46の周辺の、最外方部分を形成し
ている。本体100はヘツド部分102内に入口
導管104の上方端部により形成された円形の弁
シート114を含んでいる。シート114は複数
の半径方向外方に向けられている壁116によつ
て囲まれており、その間に多数の主弁ポート47
を形成している。シート114及び壁116はデ
イフユーザー500の中央ハブ504内に収容さ
れており、そしてポート47が弁作用46内に配
置されており、且つ半径方向外方へ増加する幅を
有している。
あり、且つ主弁組立体30から真空破壊弁組立体
34への液体の流路を提供する。環状の頂部壁5
02が真空破壊室45の底部を形成している。中
央のハブ状要素504が頂部壁502の上方に延
びており、且つ主弁組立体30の弁作用
(volving)面46の周辺の、最外方部分を形成し
ている。本体100はヘツド部分102内に入口
導管104の上方端部により形成された円形の弁
シート114を含んでいる。シート114は複数
の半径方向外方に向けられている壁116によつ
て囲まれており、その間に多数の主弁ポート47
を形成している。シート114及び壁116はデ
イフユーザー500の中央ハブ504内に収容さ
れており、そしてポート47が弁作用46内に配
置されており、且つ半径方向外方へ増加する幅を
有している。
主弁ポート47を通り主弁組立体30から流れ
る液体は頂部壁502の下方に配置されたデイフ
ユーザー500の半径方向内方の領域506に達
する(第4図及び第9図)。デイフユーザーは連
続の外部スカート、即ち外部壁508を含み、そ
して内方部分506と外部壁508との間の環状
領域は4つの異なる壁構造体510,512,5
14及び516によつて大体において4分の1に
分割されている。更に詳細に明らかである如く、
壁構造体510は真空破壊弁組立体34からの出
口ポート48を収容している。壁構造体512は
1対のデイフユーザー出口流れポートを形成して
いる。壁構造体514はデイフユーザー流路の22
つの4分円の間の分割壁である。
る液体は頂部壁502の下方に配置されたデイフ
ユーザー500の半径方向内方の領域506に達
する(第4図及び第9図)。デイフユーザーは連
続の外部スカート、即ち外部壁508を含み、そ
して内方部分506と外部壁508との間の環状
領域は4つの異なる壁構造体510,512,5
14及び516によつて大体において4分の1に
分割されている。更に詳細に明らかである如く、
壁構造体510は真空破壊弁組立体34からの出
口ポート48を収容している。壁構造体512は
1対のデイフユーザー出口流れポートを形成して
いる。壁構造体514はデイフユーザー流路の22
つの4分円の間の分割壁である。
充填弁20内の流速を消散し、液体圧力を減衰
するため、デイフユーザーは4つの流路4分円の
各々の中に複数のバツフル壁516を含んでい
る。バツフル壁516は反対方向に交互にさし込
まれていて、多数の実質的に直角な転向を有して
いる流路部分を形成しており、その各々が流れる
液体のエネルギー損失を生ずる。繰返された直角
な転向の効果は入口圧力を消散しながら充填弁2
0を通る流速を所望の値まで調節することであ
る。例えば弁作用面46において、充填弁20を
通り流れる液体の他の急激な方向変化、デイフユ
ーザー出口ポート512、及び出口ポート48は
同様な効果を有している。流れ制限器43は充填
弁20の全体の流動特性を調節するのを助けるた
め含まれている。
するため、デイフユーザーは4つの流路4分円の
各々の中に複数のバツフル壁516を含んでい
る。バツフル壁516は反対方向に交互にさし込
まれていて、多数の実質的に直角な転向を有して
いる流路部分を形成しており、その各々が流れる
液体のエネルギー損失を生ずる。繰返された直角
な転向の効果は入口圧力を消散しながら充填弁2
0を通る流速を所望の値まで調節することであ
る。例えば弁作用面46において、充填弁20を
通り流れる液体の他の急激な方向変化、デイフユ
ーザー出口ポート512、及び出口ポート48は
同様な効果を有している。流れ制限器43は充填
弁20の全体の流動特性を調節するのを助けるた
め含まれている。
デイフユーザー500を位置づけし、且つ支持
するため、本体100のヘツド部分102は上方
に向いた一連の凹部120を有している底壁11
8を含んでいる(第4図、第7図、第8図、第1
0図及び第12図)。デイフユーザー500が本
体100内に置かれると、外壁508と、壁構造
体510,512及び514と、バツフル壁51
6とが本体凹部120内に収容されるので、デイ
フユーザーの部分はよく支持され、従つて液体の
流れはデイフユーザーの下方にバイパスされな
い。本体ヘツド部分102は底壁118から上方
に延びている円形側壁122を含み、その中にデ
イフユーザー外壁508がぴつたりと、且つ摺動
可能に収容されている。
するため、本体100のヘツド部分102は上方
に向いた一連の凹部120を有している底壁11
8を含んでいる(第4図、第7図、第8図、第1
0図及び第12図)。デイフユーザー500が本
体100内に置かれると、外壁508と、壁構造
体510,512及び514と、バツフル壁51
6とが本体凹部120内に収容されるので、デイ
フユーザーの部分はよく支持され、従つて液体の
流れはデイフユーザーの下方にバイパスされな
い。本体ヘツド部分102は底壁118から上方
に延びている円形側壁122を含み、その中にデ
イフユーザー外壁508がぴつたりと、且つ摺動
可能に収容されている。
キヤツプ400が本体100内にデイフユーザ
ー500を所定の位置に保持し、そしてバイオネ
ツト(bayonnet)ロツク構造体によつて本体1
00に取付けられている。シール56が本体10
0とキヤツプ400との間に捕えられている。キ
ヤツプは環状の外壁402を含み、これから多数
のバイオネツト突起404が半径方向に延びてい
る。本体100は同様な数のバイオネツトラツチ
レツジ124を含んでいる。キヤツプを本体内に
取付けるため、キヤツプはレツジ(ledge)12
4から変位された突起404により円形側壁12
2内に挿入される。それからキヤツプはインター
ロツク作用を容易にする突起404上のカム表面
と、完全に組立てられた位置でレツジ124の端
部に係合する突起404上のストツプ表面によつ
て図(第6図)に示されたインターロツクされた
位置まで回転される。
ー500を所定の位置に保持し、そしてバイオネ
ツト(bayonnet)ロツク構造体によつて本体1
00に取付けられている。シール56が本体10
0とキヤツプ400との間に捕えられている。キ
ヤツプは環状の外壁402を含み、これから多数
のバイオネツト突起404が半径方向に延びてい
る。本体100は同様な数のバイオネツトラツチ
レツジ124を含んでいる。キヤツプを本体内に
取付けるため、キヤツプはレツジ(ledge)12
4から変位された突起404により円形側壁12
2内に挿入される。それからキヤツプはインター
ロツク作用を容易にする突起404上のカム表面
と、完全に組立てられた位置でレツジ124の端
部に係合する突起404上のストツプ表面によつ
て図(第6図)に示されたインターロツクされた
位置まで回転される。
第4図及び第7図から明らかな如く、キヤツプ
400はデイフユーザー500を本体100内の
所定位置にしつかりと保持する。環状壁402は
デイフユーザー上の円形直立壁518に係合する
部分を含んでいる(第12図も参照)。更に、キ
ヤツプ400はデイフユーザー500の中央ハブ
504の外周辺に係合する中央ハブ状の部分40
6を含んでいる。
400はデイフユーザー500を本体100内の
所定位置にしつかりと保持する。環状壁402は
デイフユーザー上の円形直立壁518に係合する
部分を含んでいる(第12図も参照)。更に、キ
ヤツプ400はデイフユーザー500の中央ハブ
504の外周辺に係合する中央ハブ状の部分40
6を含んでいる。
キヤツプ400の下側は真空破壊室45を形成
しているデイフユーザー500と協働している。
更に、キヤツプの中央ハブ406は主弁組立体3
0のための弁作用表面46の上方に室
(chamber)49を形成している。キヤツプ40
0及びデイフユーザー500が本体100に組立
てられると、真空破壊部材50が真空破壊室45
内に捕えられており、そして主弁部材51が主弁
室49内に捕えられる。
しているデイフユーザー500と協働している。
更に、キヤツプの中央ハブ406は主弁組立体3
0のための弁作用表面46の上方に室
(chamber)49を形成している。キヤツプ40
0及びデイフユーザー500が本体100に組立
てられると、真空破壊部材50が真空破壊室45
内に捕えられており、そして主弁部材51が主弁
室49内に捕えられる。
真空破壊弁部材50は好ましくは真空破壊室4
5内に自由に、且つゆるく捕えられたゴム又は他
のエラストマー材料の簡単なワツシヤー状体であ
る。弁部材50はデイフユーザー出口ポート51
2と協働して充填弁20を通る起り得る逆流を妨
げ、そして又キヤツプ400内の円形列の通気ポ
ート408と協働して充填弁20が閉じたとき真
空破壊弁室45を大気へ通気する。
5内に自由に、且つゆるく捕えられたゴム又は他
のエラストマー材料の簡単なワツシヤー状体であ
る。弁部材50はデイフユーザー出口ポート51
2と協働して充填弁20を通る起り得る逆流を妨
げ、そして又キヤツプ400内の円形列の通気ポ
ート408と協働して充填弁20が閉じたとき真
空破壊弁室45を大気へ通気する。
主弁部材51はキヤツプ部材のハブ部分406
とデイフユーザー500のハブ部分504との間
のその周辺にしつかり捕えられている。主弁部材
51の中央部分はキヤツプハブ部分406から下
方に延びている突起410の周りに摺動可能であ
り、移動可能な開口を含んでいる。突起410は
入口導管104から主弁室49への制限された流
路を提供するノツチ412(第11図)を含んで
いる。
とデイフユーザー500のハブ部分504との間
のその周辺にしつかり捕えられている。主弁部材
51の中央部分はキヤツプハブ部分406から下
方に延びている突起410の周りに摺動可能であ
り、移動可能な開口を含んでいる。突起410は
入口導管104から主弁室49への制限された流
路を提供するノツチ412(第11図)を含んで
いる。
またカバー300がバイオネツトラツチ装置に
よつて本体ヘツド部分102に取付けられてい
る。カバーは本体100の円形側壁122の周り
に取付けられている垂下しているスカート壁30
4を備えた頂部壁302を含んでいる。バイオネ
ツトラツチ突起126が本体100の側壁122
から半径方向外方に延びており、そしてカバーの
スカート壁304から半径方向内方に延びている
ラツチレツジ306に係合している。本体100
上にカバー300を取付けるため、カバーはレツ
ジ306から間隔をへだてた突起126を備えた
本体ヘツド102上に置かれる。カバーはバアイ
オネツトラツチを行なうため回転される。ラツチ
突起126上のカム表面がラツチを行なうのを助
け、そしてストツプ表面が完全に組立てられた位
置を規定する。
よつて本体ヘツド部分102に取付けられてい
る。カバーは本体100の円形側壁122の周り
に取付けられている垂下しているスカート壁30
4を備えた頂部壁302を含んでいる。バイオネ
ツトラツチ突起126が本体100の側壁122
から半径方向外方に延びており、そしてカバーの
スカート壁304から半径方向内方に延びている
ラツチレツジ306に係合している。本体100
上にカバー300を取付けるため、カバーはレツ
ジ306から間隔をへだてた突起126を備えた
本体ヘツド102上に置かれる。カバーはバアイ
オネツトラツチを行なうため回転される。ラツチ
突起126上のカム表面がラツチを行なうのを助
け、そしてストツプ表面が完全に組立てられた位
置を規定する。
圧力検出システム32はキヤツプ400の上方
及びカバー300内に形成されているダイアフラ
ム空洞52を含んでいる。この室はカバー300
と本体100との間に保持されたダイアフラム5
3によつて下方通気室52A及び上方制御室5B
に小区分されている。ダイアフラム53はカバー
と本体との間に密封クランプされたビードされた
(beaded)周辺部を含んでいる。ダイアフラム5
3はゴムの如き適切な可撓性の且つ弾性の材料で
成形されており、そして補強デイスク54は例示
されている如く(第4図及び第13図)ダイアフ
ラム53の材料をデイスク54内の一連の小孔に
充填することによりダイアフラム53と一緒に成
型される。
及びカバー300内に形成されているダイアフラ
ム空洞52を含んでいる。この室はカバー300
と本体100との間に保持されたダイアフラム5
3によつて下方通気室52A及び上方制御室5B
に小区分されている。ダイアフラム53はカバー
と本体との間に密封クランプされたビードされた
(beaded)周辺部を含んでいる。ダイアフラム5
3はゴムの如き適切な可撓性の且つ弾性の材料で
成形されており、そして補強デイスク54は例示
されている如く(第4図及び第13図)ダイアフ
ラム53の材料をデイスク54内の一連の小孔に
充填することによりダイアフラム53と一緒に成
型される。
突起308がカバー頂部壁302から下方へ延
びており、そしてダイアフラムへの好ましくない
ストレスを防止するためダイアフラム53の上方
への運動を制限している。ダイアフラムのパイロ
ツト弁部分53Aはキヤツプ400の中央ハブ部
分406を通り延びている小さい通路によつて通
気室52Aから主弁室49へ延びているキヤツプ
400のパイロツト弁シート414と協働する。
びており、そしてダイアフラムへの好ましくない
ストレスを防止するためダイアフラム53の上方
への運動を制限している。ダイアフラムのパイロ
ツト弁部分53Aはキヤツプ400の中央ハブ部
分406を通り延びている小さい通路によつて通
気室52Aから主弁室49へ延びているキヤツプ
400のパイロツト弁シート414と協働する。
ダイヤフラム空洞52の下方通気室52Aは本
体100の円形側壁122内に形成された通気ポ
ート128によつて水位上方でタンクの内部へ自
由に通気される。カバーのスカート壁304と本
体の側壁122との間の間隙が室52aの無制限
な通気を保証する。
体100の円形側壁122内に形成された通気ポ
ート128によつて水位上方でタンクの内部へ自
由に通気される。カバーのスカート壁304と本
体の側壁122との間の間隙が室52aの無制限
な通気を保証する。
ダイアフラム空洞52の上方制御室52Bは通
路310によつてカバー300の下方に延びてい
るスタンドパイプ部分312の内部と連通してい
る。液体レベルがスタンドバイプの底部端314
の上方に上昇すると、制御室52B内に入つた空
気が圧力を増加し、そしてダイアフラム53に力
を加えてパイロツト弁シート414に対してパイ
ロツト弁部分53Aを接近しようとする。
路310によつてカバー300の下方に延びてい
るスタンドパイプ部分312の内部と連通してい
る。液体レベルがスタンドバイプの底部端314
の上方に上昇すると、制御室52B内に入つた空
気が圧力を増加し、そしてダイアフラム53に力
を加えてパイロツト弁シート414に対してパイ
ロツト弁部分53Aを接近しようとする。
充填弁20の作動について説明する。充填弁は
加圧された液体源と相互に連結されている供給導
管39によつて液体に入つているタンク内に取付
けられる。ヘツド組立体28の高さはタンク内で
維持されるべき液体レベルの高さに適合し、且つ
それを選択するために前述の如く調整ナツト44
の作動によつて調整される。主弁部材51の下方
の入口導管104の内部は連続的に、且つ直接加
圧された液体と連絡されている。充填弁20は所
定の水位を維持し、且つ水位が下降するとタンク
を再び満たす働きをする。
加圧された液体源と相互に連結されている供給導
管39によつて液体に入つているタンク内に取付
けられる。ヘツド組立体28の高さはタンク内で
維持されるべき液体レベルの高さに適合し、且つ
それを選択するために前述の如く調整ナツト44
の作動によつて調整される。主弁部材51の下方
の入口導管104の内部は連続的に、且つ直接加
圧された液体と連絡されている。充填弁20は所
定の水位を維持し、且つ水位が下降するとタンク
を再び満たす働きをする。
タンク内の水位が所定のレベルにあるとき、主
弁部材51は主弁シート114に対して閉じられ
ており、そして液体は主弁ポート47を通つて流
出するのを妨げられている。制御室52B内入り
込み、且つ加圧された空気がダイアフラム53を
作動してパイロツト弁シート414を閉じるの
で、突起410内のノツチ412に沿つて制限さ
れた連絡が主弁室49を加圧する。主弁部材51
は主弁室49内の加圧された上方面積が主弁シー
ト114によつて囲まれた加圧された下方面積よ
りも大きいので確実に閉じてクランプされる。
弁部材51は主弁シート114に対して閉じられ
ており、そして液体は主弁ポート47を通つて流
出するのを妨げられている。制御室52B内入り
込み、且つ加圧された空気がダイアフラム53を
作動してパイロツト弁シート414を閉じるの
で、突起410内のノツチ412に沿つて制限さ
れた連絡が主弁室49を加圧する。主弁部材51
は主弁室49内の加圧された上方面積が主弁シー
ト114によつて囲まれた加圧された下方面積よ
りも大きいので確実に閉じてクランプされる。
タンク内の水位が充分に下降すると、制御室5
2B内の圧力が下がり、そしてダイアフラム53
のパイロツト弁部分53Aはパイロツト弁シート
414から離れる。これが主弁室49内の主弁部
材51上方の圧力を減少し、そして主弁部材51
は弁シート114及び弁作用表面46から離れて
半径方向の離れ(peeling)又はローリング
(rolling)作用によつて開く。その結果として、
液体は入口導管104から弁ポート47を通りデ
イフユーザーの中央内方領域506の方へ流れ
る。
2B内の圧力が下がり、そしてダイアフラム53
のパイロツト弁部分53Aはパイロツト弁シート
414から離れる。これが主弁室49内の主弁部
材51上方の圧力を減少し、そして主弁部材51
は弁シート114及び弁作用表面46から離れて
半径方向の離れ(peeling)又はローリング
(rolling)作用によつて開く。その結果として、
液体は入口導管104から弁ポート47を通りデ
イフユーザーの中央内方領域506の方へ流れ
る。
デイフユーザー内で、液体はバツフル壁516
の中のデイフユーザー流路の4つの4分円を通り
流れる。デイフユーザー500の外周に達する液
体は2つのデイフユーザー出口ポート512で合
流し、それから液体は真空破壊弁部材50の下方
で真空破壊室45内へ上方に流れる。常態では弁
部材50はほぼ第4図に例示されている位置に自
由に室(chamber)内にあり、従つて入口導管1
04と出口導管106との間をヘツド組立体28
を通る流路がキヤツプ通気ポート408及び本体
通気ポート128を径て真空破壊室45内を大気
へ通気される。液体が充填弁20を通り流れる
と、デイフユーザー出口ポート512かの存在す
る液体の力が真空破壊弁部材50をキヤツプ通気
ポート408の上へ上方に駆動し、真空破壊室4
5を通り無制限な流れを許容する。この流れは真
空破壊出口ポート48を通り出口導管106に達
する。ポート48が出口導管106最上方端部に
よつて形成されており、そのこの端部は真空破壊
室内へ僅かに突出している部分を含んでおり、真
空破壊弁部材50の1部分をデイフユーザー50
0の頂部502の僅か上方に保持している。
の中のデイフユーザー流路の4つの4分円を通り
流れる。デイフユーザー500の外周に達する液
体は2つのデイフユーザー出口ポート512で合
流し、それから液体は真空破壊弁部材50の下方
で真空破壊室45内へ上方に流れる。常態では弁
部材50はほぼ第4図に例示されている位置に自
由に室(chamber)内にあり、従つて入口導管1
04と出口導管106との間をヘツド組立体28
を通る流路がキヤツプ通気ポート408及び本体
通気ポート128を径て真空破壊室45内を大気
へ通気される。液体が充填弁20を通り流れる
と、デイフユーザー出口ポート512かの存在す
る液体の力が真空破壊弁部材50をキヤツプ通気
ポート408の上へ上方に駆動し、真空破壊室4
5を通り無制限な流れを許容する。この流れは真
空破壊出口ポート48を通り出口導管106に達
する。ポート48が出口導管106最上方端部に
よつて形成されており、そのこの端部は真空破壊
室内へ僅かに突出している部分を含んでおり、真
空破壊弁部材50の1部分をデイフユーザー50
0の頂部502の僅か上方に保持している。
ポート48を通り真空破壊室45を去る流れは
出口導管106及び立ち管200の出口部分20
8を径て充填弁出口210に達する。この流れの
1部分は出口導管106から延びている再充填通
路130(第8図)を通り分岐されている。充填
弁20が水洗タンクに使用されるとき、再充填通
路130は再充填管55によつて各フラツシング
作動後トイレツトボール(bowl)及びトラツプ
(trap)を再充填のためのトイレツトタンクオー
バフロー管に連絡する。
出口導管106及び立ち管200の出口部分20
8を径て充填弁出口210に達する。この流れの
1部分は出口導管106から延びている再充填通
路130(第8図)を通り分岐されている。充填
弁20が水洗タンクに使用されるとき、再充填通
路130は再充填管55によつて各フラツシング
作動後トイレツトボール(bowl)及びトラツプ
(trap)を再充填のためのトイレツトタンクオー
バフロー管に連絡する。
上述の説明から分るように、デイフユーザーの
出口ポート512は真空破壊室内で弁シート11
4に連絡しているポート(これを第1のポートと
いう)を形成し、キヤツプの通気ポート408は
真空破壊室内で通気室52Aと連絡しているポー
ト(これを第2のポートという)を形成し、そし
て真空破壊弁組立体34の出口ポート48は真空
破壊室内で、弁シート114からタンクの内部に
延びている出口流路に連絡しているポート(これ
を第3のポートという)を形成していることが分
る。
出口ポート512は真空破壊室内で弁シート11
4に連絡しているポート(これを第1のポートと
いう)を形成し、キヤツプの通気ポート408は
真空破壊室内で通気室52Aと連絡しているポー
ト(これを第2のポートという)を形成し、そし
て真空破壊弁組立体34の出口ポート48は真空
破壊室内で、弁シート114からタンクの内部に
延びている出口流路に連絡しているポート(これ
を第3のポートという)を形成していることが分
る。
本発明の重要な特徴によれば、充填弁20の開
作動は、その閉作動とオフセツトしており、閉作
動と同時に生ずることはなく、この開作動はタン
ク内の液体レベルに依存するということである。
これは弁の不安定な開閉作動を防止するラツチン
グ、即ち阻止作動を提供する。この作動のオフセ
ツトは主弁組立体30がタンクを再び満すために
開くときダイアフラム53の流体荷重
(hydraulic loading)によつて非常に確実に、且
つ簡単に自動的に達成される。
作動は、その閉作動とオフセツトしており、閉作
動と同時に生ずることはなく、この開作動はタン
ク内の液体レベルに依存するということである。
これは弁の不安定な開閉作動を防止するラツチン
グ、即ち阻止作動を提供する。この作動のオフセ
ツトは主弁組立体30がタンクを再び満すために
開くときダイアフラム53の流体荷重
(hydraulic loading)によつて非常に確実に、且
つ簡単に自動的に達成される。
液体がタンク充填作動のとき充填弁20を通り
流れるとき、流れの1部はダイアフラム空洞52
の下方の、通気室52Aに分岐される。この分岐
された液体の1部分がキヤツプ突起410におけ
るノツチ412及びパイロツト弁シート414を
通り室52A内へ流れる。分岐された流れの他の
部分を許容するため、キヤツプ400は通気ポー
ト408(第4図及び第11図)に隣接する下方
に延びている突起416を含んでいる。突起41
6は真空破壊弁部材50を通気ポート408に亘
り完全に閉じるのを防止しており、従つて真空破
壊室45を通じ流れる液体の1部分は弁部材50
を通過し、そしてダイヤフラム通気室52A内に
流れる。弁部材50が可撓性の材料で形成されて
いるから、この流れの部分は自動的に補償され、
そして液体入口圧力の変動にも拘らず一定に保た
れる傾向がある。圧力が増加するにつれて、弁部
材50は通気ポート408上によりしつかりと押
される。反対に、圧力が少くなると、弁部材50
はポート408を通り流れる制限を自動的に減少
する。
流れるとき、流れの1部はダイアフラム空洞52
の下方の、通気室52Aに分岐される。この分岐
された液体の1部分がキヤツプ突起410におけ
るノツチ412及びパイロツト弁シート414を
通り室52A内へ流れる。分岐された流れの他の
部分を許容するため、キヤツプ400は通気ポー
ト408(第4図及び第11図)に隣接する下方
に延びている突起416を含んでいる。突起41
6は真空破壊弁部材50を通気ポート408に亘
り完全に閉じるのを防止しており、従つて真空破
壊室45を通じ流れる液体の1部分は弁部材50
を通過し、そしてダイヤフラム通気室52A内に
流れる。弁部材50が可撓性の材料で形成されて
いるから、この流れの部分は自動的に補償され、
そして液体入口圧力の変動にも拘らず一定に保た
れる傾向がある。圧力が増加するにつれて、弁部
材50は通気ポート408上によりしつかりと押
される。反対に、圧力が少くなると、弁部材50
はポート408を通り流れる制限を自動的に減少
する。
ダイアフラム53は非水平であり、そしてタン
クの再充填中室52A内の流体レベルはダイアフ
ラムの下側に対して所定の液体圧力を提供するよ
うに制御される。更に、タンクの再充填後、室5
2Aは充分に液体を空にされるので、ダイアフラ
ム53に対する液体圧力は断たれる。
クの再充填中室52A内の流体レベルはダイアフ
ラムの下側に対して所定の液体圧力を提供するよ
うに制御される。更に、タンクの再充填後、室5
2Aは充分に液体を空にされるので、ダイアフラ
ム53に対する液体圧力は断たれる。
更に詳細には、液体は室52Aから2つの異な
る道内に流れる。ポート408及びパイロツト弁
シート414を通り流れる液体が本体側壁122
内の通気ポート128のレベルに達すると、液体
は比較的無制限な方式で室52Aからオーバーフ
ローし、タンク内に戻される。即ち通気ポート1
28は、比較的無制限なドレイン手段を形成す
る。その結果、本体通気ポート128の高さは室
52A内でほぼ所定の最高液体レベルを確立す
る。
る道内に流れる。ポート408及びパイロツト弁
シート414を通り流れる液体が本体側壁122
内の通気ポート128のレベルに達すると、液体
は比較的無制限な方式で室52Aからオーバーフ
ローし、タンク内に戻される。即ち通気ポート1
28は、比較的無制限なドレイン手段を形成す
る。その結果、本体通気ポート128の高さは室
52A内でほぼ所定の最高液体レベルを確立す
る。
ダイアフラム通気室52Aからポート128を
通るオーバーフローする液体は好ましくないスプ
ラツシユ音もなくタンクの内部に静かに戻され
る。この液体は本体ヘツド部分102の側壁12
2から半径方向外方へ延びているレツジ132の
方へ下降する。このレツジに達する液体は本体側
壁122とカバースカート壁304との間をレツ
ジに沿つてスタンドパイプ312(第6図)の周
りの領域へ流れる。この領域には、レツジ132
は存在しない、そして液体は部分的にスタンドパ
イプ314により、そして部分的に突出するレツ
ジ318によつて形成された表面316に下降す
る。表面316はオーバーフローする流体をスム
ースに立ち管200の入口部分206の方へ案内
し、立ち管200に沿つて液体は非乱流
(nonturbulent)方式にタンク底部の方へ流れる。
通るオーバーフローする液体は好ましくないスプ
ラツシユ音もなくタンクの内部に静かに戻され
る。この液体は本体ヘツド部分102の側壁12
2から半径方向外方へ延びているレツジ132の
方へ下降する。このレツジに達する液体は本体側
壁122とカバースカート壁304との間をレツ
ジに沿つてスタンドパイプ312(第6図)の周
りの領域へ流れる。この領域には、レツジ132
は存在しない、そして液体は部分的にスタンドパ
イプ314により、そして部分的に突出するレツ
ジ318によつて形成された表面316に下降す
る。表面316はオーバーフローする流体をスム
ースに立ち管200の入口部分206の方へ案内
し、立ち管200に沿つて液体は非乱流
(nonturbulent)方式にタンク底部の方へ流れる。
通気ポート128を通りオーバフローによつて
室52A内の所定のレベルに維持された流体はダ
イアフラム53の底部領域の所定の部分を浸して
いる。これはダイアフラムに対して所定の力を加
えてダイアフラムをパイロツト弁シート414か
ら離して保持しようとしている。タンク内の液体
レベルが増加すると、制御室52B内に入つた加
圧された空気がパイロツト弁シート414に対し
てダイアフラムを動かそうとする。室52A内に
流体が存在し、それによつてダイアフラム53
が、パイロツト弁シート414から離れるように
圧力を加えられていると、室52A内に流体が存
在しない場合に比べて、タンク内の液体レベルの
増加の程度ががかなり高く大きくなるまで、パイ
ロツト弁シート414の閉鎖が妨げられる。
室52A内の所定のレベルに維持された流体はダ
イアフラム53の底部領域の所定の部分を浸して
いる。これはダイアフラムに対して所定の力を加
えてダイアフラムをパイロツト弁シート414か
ら離して保持しようとしている。タンク内の液体
レベルが増加すると、制御室52B内に入つた加
圧された空気がパイロツト弁シート414に対し
てダイアフラムを動かそうとする。室52A内に
流体が存在し、それによつてダイアフラム53
が、パイロツト弁シート414から離れるように
圧力を加えられていると、室52A内に流体が存
在しない場合に比べて、タンク内の液体レベルの
増加の程度ががかなり高く大きくなるまで、パイ
ロツト弁シート414の閉鎖が妨げられる。
パイロツト弁シート414がダイアフラムのパ
イロツト弁部分53Aによつて閉じられると、主
弁室49内で圧力が増加しそして弁シート114
上方及び環状に選列した主弁ポートを閉じている
主弁部材51をしつかりクランプし、このように
して充填弁20を通る流れを終る。弁が閉じられ
た後、液体は、ダイアフラム53の流体荷重
(hy draulic loading)を断つため通気室52A
からの流れを許容される。その結果、パイロツト
弁シート414を開放する液体レベルは弁を閉じ
る液体レベルからオフセツトしており、且つそれ
よりも低い。
イロツト弁部分53Aによつて閉じられると、主
弁室49内で圧力が増加しそして弁シート114
上方及び環状に選列した主弁ポートを閉じている
主弁部材51をしつかりクランプし、このように
して充填弁20を通る流れを終る。弁が閉じられ
た後、液体は、ダイアフラム53の流体荷重
(hy draulic loading)を断つため通気室52A
からの流れを許容される。その結果、パイロツト
弁シート414を開放する液体レベルは弁を閉じ
る液体レベルからオフセツトしており、且つそれ
よりも低い。
充填弁20の再充填作動後室52Aを空にする
ため、室52Aからの制限された流路が設けられ
ている。その室(chamber)内の液体は室52A
の最下方領域に設けられた1対の小さな開口13
4を通り制限された方式で流れ、タンクに戻るこ
とができる。即ち開口部134は制限されたドレ
イン手段を形成する(第10図及び第13図参
照)。追加の流体がキヤツプ400のバイオネツ
トラツチ突起404と本体100のバイオネツト
ラツチエツジ124との間に設けられた間隙を通
り流れることができる。制限された流れの結果と
して、室52A内の流体は弁が閉じられた後短時
間でダイアフラム53の下方に下降する。ダイア
フラムの流体荷重を有効に達成するため、室52
Aへ送られる流れは室52Aからの制限された流
れによりも大きく、且つ通気ポート128を通る
制御されたオーバフローを生ずるのに充分でなけ
ればならない。
ため、室52Aからの制限された流路が設けられ
ている。その室(chamber)内の液体は室52A
の最下方領域に設けられた1対の小さな開口13
4を通り制限された方式で流れ、タンクに戻るこ
とができる。即ち開口部134は制限されたドレ
イン手段を形成する(第10図及び第13図参
照)。追加の流体がキヤツプ400のバイオネツ
トラツチ突起404と本体100のバイオネツト
ラツチエツジ124との間に設けられた間隙を通
り流れることができる。制限された流れの結果と
して、室52A内の流体は弁が閉じられた後短時
間でダイアフラム53の下方に下降する。ダイア
フラムの流体荷重を有効に達成するため、室52
Aへ送られる流れは室52Aからの制限された流
れによりも大きく、且つ通気ポート128を通る
制御されたオーバフローを生ずるのに充分でなけ
ればならない。
本発明は例示された実施態様の詳細に関して記
載したが、このように詳細な説明は特許請求の範
囲に規定された如き本発明の範囲に制限された意
図を有していない。
載したが、このように詳細な説明は特許請求の範
囲に規定された如き本発明の範囲に制限された意
図を有していない。
第1図は本発明により構成された充填弁の、1
部を破断している側面図である;第2図は第1図
の2−2線から見た充填弁の他の側面図である。
第3図は第2図の3−3線に沿つて切断したとき
の拡大断面図であり、充填弁の立ち管組立体の部
分を例示している。第4図は第2図の4−4線に
沿つて切断したときのヘツド組立体及び充填弁の
立ち管組立の1部の断面図である;第5図は第4
図の5−5線に沿つて切断したときの断面図であ
る;第6図は第4図の6−6線に沿つて切断した
ときの断面図である;第7図は第4図の7−7線
に沿つて切断したときの断面図である;第8図は
第4図の8−8線に沿つて切断したときの断面図
である;第9図は第4図の9−9線に沿つて切断
したときの断面図である;第10図は第5図の1
0−10線に沿つて切断したときの部分断面図で
ある;第11図は組立前のデイフユーザー、主弁
部材及びキヤツプの部分的断面を含む、分解斜視
図である;第12図は組立前の本体;デイフユー
ザー、シール、真空破壊弁部材及びキヤツプの、
部分的断面を含む、分解解斜視図である;第13
図は組立前の他の関連する構成要素を有する充填
弁の本体及びダイアフラム組立体の本体とカバー
を示している、部分的に断面を含む、分解斜視図
である。 20……充填弁、26……立ち管組立体、28
……弁ヘツド、30……主弁粗立体、32……水
位応答圧力検出システム、34……真空破壊弁組
立体、39……供給導管、44A,44B……ね
じ、47……主弁ポート、51……主弁部材、1
00……本体、200……立ち管、202……シ
ヤンク、400……キヤツプ、500……デイフ
ユーザー。
部を破断している側面図である;第2図は第1図
の2−2線から見た充填弁の他の側面図である。
第3図は第2図の3−3線に沿つて切断したとき
の拡大断面図であり、充填弁の立ち管組立体の部
分を例示している。第4図は第2図の4−4線に
沿つて切断したときのヘツド組立体及び充填弁の
立ち管組立の1部の断面図である;第5図は第4
図の5−5線に沿つて切断したときの断面図であ
る;第6図は第4図の6−6線に沿つて切断した
ときの断面図である;第7図は第4図の7−7線
に沿つて切断したときの断面図である;第8図は
第4図の8−8線に沿つて切断したときの断面図
である;第9図は第4図の9−9線に沿つて切断
したときの断面図である;第10図は第5図の1
0−10線に沿つて切断したときの部分断面図で
ある;第11図は組立前のデイフユーザー、主弁
部材及びキヤツプの部分的断面を含む、分解斜視
図である;第12図は組立前の本体;デイフユー
ザー、シール、真空破壊弁部材及びキヤツプの、
部分的断面を含む、分解解斜視図である;第13
図は組立前の他の関連する構成要素を有する充填
弁の本体及びダイアフラム組立体の本体とカバー
を示している、部分的に断面を含む、分解斜視図
である。 20……充填弁、26……立ち管組立体、28
……弁ヘツド、30……主弁粗立体、32……水
位応答圧力検出システム、34……真空破壊弁組
立体、39……供給導管、44A,44B……ね
じ、47……主弁ポート、51……主弁部材、1
00……本体、200……立ち管、202……シ
ヤンク、400……キヤツプ、500……デイフ
ユーザー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 タンク内の液体レベルを制御するための弁組
立体にして、 弁ヘツド組立体; 該弁ヘツド組立体から離れて互に全体的に平行
に延びている入口及び出口流体導管; 該タンクの壁に取付けられており、且つ液体供
給源と連絡するようになつているシヤンク手段を
含む立ち管; 但し、該立ち管が該シヤンクと連絡している入
口部分と、出口ポートと、該出口ポートと連絡し
ている出口部分とを含み; 該入口及び出口流体導管が該立ち管の該入口及
び出口部分に対して入れ子式に支持されており、
且つタンク内で該弁ヘツド組立体の高さを選択的
に変化するため該立ち管に対して可動であり;及
び 液体レベルが該弁ヘツド組立体の下方の所定の
選択されたレベルに達するとき該入口及び出口流
体導管を互い隔離し、且つ液体レベルが選択され
たレベルの下方に下がるとき該入口及び出口流体
導体を相互に連絡するための該弁ヘツド組立体内
の弁手段、を具備し、 該弁手段は、 該入口導管と連絡している弁シート; 該弁シートを開閉するため可動である主弁部
材; 該タンク内の液体レベルに応答して該弁部材を
制御するための手段; 但し該制御手段は空洞と、該空洞を通気室及び
制御室に分割しているダイアグラムとを含んでい
る; 該弁シートから該タンクの内部へ延びており、
且つ真空破壊室を含んでいる出口流路; 該弁シートと連絡している該真空破壊室内の第
1のポート手段; 該通気室と連絡している該真空破壊室内の第2
のポート手段; 該出口流路に沿つて下流で連絡している該真空
破壊室内の第3のポート手段;及び 該主弁部材が該閉止位置にあるとき該第1のポ
ート手段に重なり、該主弁部材が該開放位置にあ
るとき該第2のポート手段に重なる該真空破壊室
内の真空破壊弁 を具備することを特徴とする弁組立体。 2 更に該立ち管に回転可能に支持されており、
且つ該入口及び出口流体導管と係合している調整
ナツトを具備している特許請求の範囲第1項記載
の弁組立体。 3 該流体導管が長手方向に延びているねじ構造
体を含み、該調整ナツトが該ねじ構造体に係合す
るねじ手段を含んでいる特許請求の範囲第2項記
載の弁組立体。 4 該ねじ手段が該ナツト上に外ねじ及び内ねじ
を含んでおり、該ナツトが該流体導管の1つを囲
んでいる特許請求の範囲第3項記載の弁組立体。 5 該真空破壊室が環状の頂部及び底部壁間で全
体的に環状であり、該第1の及び第2のポート手
段がそれぞれ該底部壁及び頂部壁に配置されてお
り、該真空破壊弁がその中心軸線の周りに全体的
に均一な断面のエラストマーワツシヤー状体であ
る特許請求の範囲第1項記載の弁組立体。 6 該ダイアフラムが非水平であり;更に、該タ
ンク内に液体レベルに従つて該制御室を加圧する
手段と;該主弁部材がその開放位置にあるとき該
通気室に液体を部分的に満たすための手段とを具
備し、該部分的に満たすための手段は該弁手段か
ら該通気室へ延びている流路を含んでいる特許請
求の範囲第1項記載の弁組立体。 7 該部分的に満たす手段が、該真空破壊弁が該
第2のポート手段を完全に閉止するのを防止する
ための該真空破壊室内の阻止手段を含んでいる特
許請求の範囲第6項記載の弁組立体。 8 該部分的に満たす手段が更に該通気室の底部
から間隔をへだてた第1の比較的無制限なドレイ
ン手段と、該通気室の底部における第2の制限さ
れたドレイン手段とを含む特許請求の範囲第7項
記載の弁組立体。 9 該加圧手段が該タンク内の該制御室から下方
に延びているスタンドパイプを含む特許請求の範
囲第6項記載の弁組立体。 10 タンク等内の液体レベルを制御するための
弁にして、 入口及び出口と該入口と該出口との間の開閉連
絡のための弁手段; 空洞を形成する手段; 該空洞を通気室及び制御室に分割している該空
洞内に取付けられたダイアフラム; 但し、該ダイアフラムが非水平位置に該空洞内
に取付けられている; 該タンク内の液体レベルに従つて該制御室内に
圧力を加えるための手段; 該制御室の膨脹及び収縮にそれぞれ応答して該
弁手段を開閉するための弁作動手段; 但し、該弁作動手段は、ダイアグラムに設けら
れたパイロツト弁部分と該弁手段に設けられたパ
イロツト弁シートを含んでいる; 該タンクの充填中該制御室の膨脹を遅らすため
の手段; 但し、該遅らす手段が該弁手段が開いている時
該通気手段を液体で部分的に満たすための手段を
含んでおり、該部分的に満たすための手段は該弁
手段から該通気室へ延びている流路を含んでい
る;とを具備することを特徴とする弁。 11 該通気室が該通気室の底部における制限さ
れたドレインと;該通気室の底部から間隔をへだ
てた比較的無制限なドレインと;該制限されたド
レインの流量よりも大きな流量で該通気室内へ液
体を入れるための該流路内の制限手段とを含んで
いる特許請求の範囲第10項記載の弁。 12 該制限手段が減少する入口液体圧力に応答
して該流量制限を減少するための流量調節手段を
含む特許請求の範囲第11項記載の弁。 13 該加圧手段が該制御室と連絡しており、且
つ該タンク内で下方に延びているスタンドパイプ
手段を含んでいる特許請求の範囲第10項記載の
弁。 14 タンク充填弁を制御するための方法にし
て、 液体レベルがタンク内で上昇するとき、ダイア
フラムの第1の側における制御室へ増加する圧力
を加えること、但し該ダイアフラムは非水平であ
り; 該ダイアフラムの第2の側における通気室を通
気すること; 該ダイアフラムが該制御室から離れて動くとき
弁を閉じること; 該ダイアフラムが該制御室の方へ動くとき該弁
を開くこと; 該弁が開いているとき該ダイアフラムの第2の
側に対して一時的な荷重圧力を加えること; 但し、該一時的な荷重圧力を加えるステツプ
が、該非水平ダイアフラムの第2の側における該
通気室へ液体を入れるステツプを含んでいる; のステツプを含むことを特徴とする方法。 15 該一時的に荷重圧力を加えるステツプが 該弁が開いているとき該通気室内の液体レベル
を所定のレベルに維持すること; 該弁が閉じられているとき該通気室から液体を
空にすること; のステツプを更に含む特許請求の範囲第14項記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/536,778 US4574826A (en) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | Adjustable vacuum breaker fill valve |
| US536778 | 1983-09-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092523A JPS6092523A (ja) | 1985-05-24 |
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