JPH0557605A - 薄板工作物用の両面研摩盤 - Google Patents
薄板工作物用の両面研摩盤Info
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- JPH0557605A JPH0557605A JP3317239A JP31723991A JPH0557605A JP H0557605 A JPH0557605 A JP H0557605A JP 3317239 A JP3317239 A JP 3317239A JP 31723991 A JP31723991 A JP 31723991A JP H0557605 A JPH0557605 A JP H0557605A
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- Japan
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- carrier
- polishing
- polishing machine
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】研摩終了後に上定盤を分離した時、加工物とキ
ャリアが下定盤又は上定磐に吸着していてロボットによ
る加工物の取り出し、供給を可能にする。 【構成】薄板工作物用の両面研摩盤は、それぞれの表面
に研摩パッド３ａ、３ｂを装着した上定盤２と下定盤４
とにより、キャリア６に保持される工作物５を挟んで相
対的に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する。上定
盤２とその表面の研摩パッド３ａとに貫通する流体の吹
付穴１を設け、この吹付穴を研摩盤の停止状態で工作物
５とキャリア６に対向させ、吹付穴１に工作物との分離
用の流体供給源を接続する。吹付穴１は工作物５の中心
に１個にしたり、周辺にほぼ均等に複数個設けたりす
る。研摩盤が停止したら工作物５に対向する吹付穴１に
流体圧を印加して上定盤２を分離する。上定盤２から工
作物５等が落下して損傷することがなく、ロボットによ
る加工物の取り出し、供給ができる。
ャリアが下定盤又は上定磐に吸着していてロボットによ
る加工物の取り出し、供給を可能にする。 【構成】薄板工作物用の両面研摩盤は、それぞれの表面
に研摩パッド３ａ、３ｂを装着した上定盤２と下定盤４
とにより、キャリア６に保持される工作物５を挟んで相
対的に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する。上定
盤２とその表面の研摩パッド３ａとに貫通する流体の吹
付穴１を設け、この吹付穴を研摩盤の停止状態で工作物
５とキャリア６に対向させ、吹付穴１に工作物との分離
用の流体供給源を接続する。吹付穴１は工作物５の中心
に１個にしたり、周辺にほぼ均等に複数個設けたりす
る。研摩盤が停止したら工作物５に対向する吹付穴１に
流体圧を印加して上定盤２を分離する。上定盤２から工
作物５等が落下して損傷することがなく、ロボットによ
る加工物の取り出し、供給ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、薄板工作物用の両面
研摩盤に関し、なかでも例えば磁気記録媒体のように直
径が５０mmから１３０mmぐらいまでで、薄さが０．５mm
から１．５mmぐらいまでの工作物の両面を同時に研摩す
るものに係わる。
研摩盤に関し、なかでも例えば磁気記録媒体のように直
径が５０mmから１３０mmぐらいまでで、薄さが０．５mm
から１．５mmぐらいまでの工作物の両面を同時に研摩す
るものに係わる。
【０００２】
【従来の技術】従来の両面研摩（ラップ）盤としては例
えば、機械工学便覧（日本機械学会、昭和６３年５月１
５日発行）Ｂ２−１５０頁、図３５７に示されたものが
知られている。水、研摩液、潤滑剤等の遊離研摩剤を適
用して薄板を同時に両面研摩する研摩盤においては、研
摩を終了して上定盤と下定盤とを分離して工作物を取り
出そうとする時、工作物や工作物を保持しているキャリ
アが上定盤又は下定盤の研摩パッドに吸着される。しか
し工作物やキャリアが軽いため、これらは上定盤と下定
盤とにばらばらに吸着する。したがって取り出し及び供
給作業は人手によって行っていた。
えば、機械工学便覧（日本機械学会、昭和６３年５月１
５日発行）Ｂ２−１５０頁、図３５７に示されたものが
知られている。水、研摩液、潤滑剤等の遊離研摩剤を適
用して薄板を同時に両面研摩する研摩盤においては、研
摩を終了して上定盤と下定盤とを分離して工作物を取り
出そうとする時、工作物や工作物を保持しているキャリ
アが上定盤又は下定盤の研摩パッドに吸着される。しか
し工作物やキャリアが軽いため、これらは上定盤と下定
盤とにばらばらに吸着する。したがって取り出し及び供
給作業は人手によって行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来の技術で
は、研磨の終了後に上定盤と下定盤とを分離した時に、
工作物やキャリヤが上定盤と下定盤とにばらばらに吸着
しているため、ロボットによる工作物の取り出しが困難
であるばかりでなく、上定盤の研摩パッドに吸着してい
た工作物やキャリアが急に落下することがある。このた
め、鏡面仕上した加工面に傷が付いて不良になったり、
キャリアを研磨盤に再度取り付けなおすこととなる。
は、研磨の終了後に上定盤と下定盤とを分離した時に、
工作物やキャリヤが上定盤と下定盤とにばらばらに吸着
しているため、ロボットによる工作物の取り出しが困難
であるばかりでなく、上定盤の研摩パッドに吸着してい
た工作物やキャリアが急に落下することがある。このた
め、鏡面仕上した加工面に傷が付いて不良になったり、
キャリアを研磨盤に再度取り付けなおすこととなる。
【０００４】この発明の目的は、研摩の終了後に上定盤
と下定盤とを分離した時に、工作物やキャリアが下定盤
又は上定磐の所望の側に吸着していて、ロボットによる
工作物の取り出しと供給を可能にし、あわせて上定盤か
らの落下による工作物の損傷を防止できる薄板工作物用
の両面研摩盤を提供することにある。
と下定盤とを分離した時に、工作物やキャリアが下定盤
又は上定磐の所望の側に吸着していて、ロボットによる
工作物の取り出しと供給を可能にし、あわせて上定盤か
らの落下による工作物の損傷を防止できる薄板工作物用
の両面研摩盤を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】発明１の薄板工作物用の
両面研摩盤は、それぞれの表面に研摩パッドを装着した
上定盤と下定盤とによりキャリアで保持される工作物を
挟んで相対的に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用す
る薄板工作物用の両面研摩盤において、前記上定盤とそ
の表面の研摩パッドとに貫通する流体の吹付穴を設け、
この吹付穴は前記研摩盤の停止状態で前記工作物に対向
し、前記吹付穴に前記工作物の分離用の流体供給源を接
続するものである。
両面研摩盤は、それぞれの表面に研摩パッドを装着した
上定盤と下定盤とによりキャリアで保持される工作物を
挟んで相対的に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用す
る薄板工作物用の両面研摩盤において、前記上定盤とそ
の表面の研摩パッドとに貫通する流体の吹付穴を設け、
この吹付穴は前記研摩盤の停止状態で前記工作物に対向
し、前記吹付穴に前記工作物の分離用の流体供給源を接
続するものである。
【０００６】発明２の薄板工作物用の両面研摩盤は、そ
れぞれの表面に研摩パッドを装着した上定盤と下定盤と
によりキャリアで保持される工作物を挟んで相対的に逆
方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する薄板工作物用の
両面研摩盤において、前記上定盤とその表面の研摩パッ
ドとに貫通する流体の吹付穴を設け、この吹付穴は前記
研摩盤の停止状態で前記キャリアに対向し、前記吹付穴
に前記キャリアの分離用の流体供給源を接続するもので
ある。
れぞれの表面に研摩パッドを装着した上定盤と下定盤と
によりキャリアで保持される工作物を挟んで相対的に逆
方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する薄板工作物用の
両面研摩盤において、前記上定盤とその表面の研摩パッ
ドとに貫通する流体の吹付穴を設け、この吹付穴は前記
研摩盤の停止状態で前記キャリアに対向し、前記吹付穴
に前記キャリアの分離用の流体供給源を接続するもので
ある。
【０００７】発明３の薄板工作物用の両面研摩盤は、そ
れぞれの表面に研摩パッドを装着した上定盤と下定盤と
によりキャリアで保持される工作物を挟んで相対的に逆
方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する薄板工作物用の
両面研摩盤において、前記上定盤とその表面の研摩パッ
ドとに貫通する流体の貫通穴を設け、この貫通穴は前記
研摩盤の停止状態で前記工作物に対向し、前記貫通穴に
前記工作物の吸着用の真空発生源及び分離用の流体供給
源を切替え可能に接続するものである。
れぞれの表面に研摩パッドを装着した上定盤と下定盤と
によりキャリアで保持される工作物を挟んで相対的に逆
方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する薄板工作物用の
両面研摩盤において、前記上定盤とその表面の研摩パッ
ドとに貫通する流体の貫通穴を設け、この貫通穴は前記
研摩盤の停止状態で前記工作物に対向し、前記貫通穴に
前記工作物の吸着用の真空発生源及び分離用の流体供給
源を切替え可能に接続するものである。
【０００８】その際、発明４のように前記吹付穴又は貫
通穴を各工作物又はキャリヤの中心に１個設けるように
したり、発明５のように前記吹付穴又は貫通穴を各工作
物又はキャリヤの周辺にほぼ均等に複数個設けるように
したりする。
通穴を各工作物又はキャリヤの中心に１個設けるように
したり、発明５のように前記吹付穴又は貫通穴を各工作
物又はキャリヤの周辺にほぼ均等に複数個設けるように
したりする。
【０００９】
【作用】発明１又は２において、研摩が終了して研摩盤
が停止したら、工作物又はキャリアに対向する位置にあ
り、上定盤とその研摩パッドとに貫通する吹付穴に流体
供給源から流体圧を印加すれば、工作物又はキャリアは
全て上定盤側から離れ、下定盤側に残る。したがって工
作物のロボットによる取り出しが極めて容易になり、落
下の恐れもない。一般に、両定盤の運動と歯車等で積極
駆動されるキャリアに工作物は保持されているので、研
摩盤が停止の時に工作物やキャリアに対向して吹付穴が
位置するようにするのは極めて容易である。
が停止したら、工作物又はキャリアに対向する位置にあ
り、上定盤とその研摩パッドとに貫通する吹付穴に流体
供給源から流体圧を印加すれば、工作物又はキャリアは
全て上定盤側から離れ、下定盤側に残る。したがって工
作物のロボットによる取り出しが極めて容易になり、落
下の恐れもない。一般に、両定盤の運動と歯車等で積極
駆動されるキャリアに工作物は保持されているので、研
摩盤が停止の時に工作物やキャリアに対向して吹付穴が
位置するようにするのは極めて容易である。
【００１０】発明３において、研摩が終了して研摩盤が
停止したら、初め、工作物に対向する位置にあり、上定
盤とその研摩パッドとに貫通する貫通穴に真空発生源か
ら真空圧を印加すれば、工作物は全て上定盤側に吸着
し、次に、両定磐を離して間に受板を挿入し、流体供給
源から流体圧を印加すれば、工作物は全て前記受板の上
に収容できる。このとき、キャリヤを自重又は発明２に
より下定磐側に残すことは容易である。したがって工作
物のロボットによる取り出しが極めて容易になり、落下
の恐れもない。
停止したら、初め、工作物に対向する位置にあり、上定
盤とその研摩パッドとに貫通する貫通穴に真空発生源か
ら真空圧を印加すれば、工作物は全て上定盤側に吸着
し、次に、両定磐を離して間に受板を挿入し、流体供給
源から流体圧を印加すれば、工作物は全て前記受板の上
に収容できる。このとき、キャリヤを自重又は発明２に
より下定磐側に残すことは容易である。したがって工作
物のロボットによる取り出しが極めて容易になり、落下
の恐れもない。
【００１１】発明４において、工作物又はキャリヤの中
心に１個位置する吹付穴又は貫通穴は工作物又はキャリ
ヤを均等に下定盤側へ押え付けるし、発明５において、
工作物又はキャリヤの周辺にほぼ均等に複数個設けれ
ば、複数個の相対位置が工作物又はキャリヤの中心に対
し多少偏位しても工作物又はキャリヤを均等に下定盤側
へ押え付ける。
心に１個位置する吹付穴又は貫通穴は工作物又はキャリ
ヤを均等に下定盤側へ押え付けるし、発明５において、
工作物又はキャリヤの周辺にほぼ均等に複数個設けれ
ば、複数個の相対位置が工作物又はキャリヤの中心に対
し多少偏位しても工作物又はキャリヤを均等に下定盤側
へ押え付ける。
【００１２】
【実施例】図１は実施例１の正面図であって図２のＡ−
Ａ断面を付記したもの、図２は図１のＢ−Ｂ断面図であ
り、図３は実施例２の正面図であって図４のＣ−Ｃ断面
を付記したもの、図４は図３のＤ−Ｄ断面図である。各
図において、同一符号をつけるものはおよそ同一機能を
持ち、重複説明を省くこともある。図１及び図２におい
て、表面に研摩パッド３ａを装着した上定盤２と、同様
に研摩パッド３ｂを装着した下定盤４とは軸７及び台床
８により図示矢印のように相対的に逆方向に回転する。
工作物５はこれより薄いキャリア６に保持され、前記研
摩パッド３ａと３ｂとの間に挟まれ、図示しない水、研
摩液、潤滑剤等の遊離研摩剤が適用されて両面が同時に
研摩される。
Ａ断面を付記したもの、図２は図１のＢ−Ｂ断面図であ
り、図３は実施例２の正面図であって図４のＣ−Ｃ断面
を付記したもの、図４は図３のＤ−Ｄ断面図である。各
図において、同一符号をつけるものはおよそ同一機能を
持ち、重複説明を省くこともある。図１及び図２におい
て、表面に研摩パッド３ａを装着した上定盤２と、同様
に研摩パッド３ｂを装着した下定盤４とは軸７及び台床
８により図示矢印のように相対的に逆方向に回転する。
工作物５はこれより薄いキャリア６に保持され、前記研
摩パッド３ａと３ｂとの間に挟まれ、図示しない水、研
摩液、潤滑剤等の遊離研摩剤が適用されて両面が同時に
研摩される。
【００１３】前記キャリア６は図示しない外歯が太陽歯
車９の図示しない外歯とかみ合っているほか、上定盤２
や下定盤４の外径より少し大きい図示しない内歯を備え
た図示しない内歯歯車ともかみ合う結果、キャリア６内
の工作物５は自転と太陽歯車９を中心とする公転をする
ほか、太陽歯車９に対し半径を変えたスパイラル状の運
動をする。その結果、各工作物間において、また１の工
作物の全面において、均等に研摩される。前記構造は公
知のものである。
車９の図示しない外歯とかみ合っているほか、上定盤２
や下定盤４の外径より少し大きい図示しない内歯を備え
た図示しない内歯歯車ともかみ合う結果、キャリア６内
の工作物５は自転と太陽歯車９を中心とする公転をする
ほか、太陽歯車９に対し半径を変えたスパイラル状の運
動をする。その結果、各工作物間において、また１の工
作物の全面において、均等に研摩される。前記構造は公
知のものである。
【００１４】実施例１の特徴的な構造として、前記上定
盤２とその表面の研摩パッド３ａとに貫通する吹付穴１
が形成される。そしてこの吹付穴１には空気又は水等の
流体圧を印加可能な図示しない流体供給源が接続され
る。直径１００mm、薄さ１mmの磁気記録媒体でキャリア
の薄さ０．８mmの場合、印加圧力は１気圧、吹付穴直径
が３mm〜５mmのものを各工作物５の周辺にほぼ均等なピ
ッチで複数個設けるとよい。これは工作物の中心に１個
又は同一直径上の同一半径に２個としてもよい。研摩盤
が停止した時に、上定盤２に設けた吹付穴１が工作物に
正しい位置を確保するようにすることは、前記したよう
に前記キャリア６が太陽歯車９等によって滑りなく規則
正しく積極駆動されるので簡単である。
盤２とその表面の研摩パッド３ａとに貫通する吹付穴１
が形成される。そしてこの吹付穴１には空気又は水等の
流体圧を印加可能な図示しない流体供給源が接続され
る。直径１００mm、薄さ１mmの磁気記録媒体でキャリア
の薄さ０．８mmの場合、印加圧力は１気圧、吹付穴直径
が３mm〜５mmのものを各工作物５の周辺にほぼ均等なピ
ッチで複数個設けるとよい。これは工作物の中心に１個
又は同一直径上の同一半径に２個としてもよい。研摩盤
が停止した時に、上定盤２に設けた吹付穴１が工作物に
正しい位置を確保するようにすることは、前記したよう
に前記キャリア６が太陽歯車９等によって滑りなく規則
正しく積極駆動されるので簡単である。
【００１５】前記実施例１の構造によれば、研摩が終了
して研摩盤が停止したら、工作物に対向する位置にあ
り、上定盤とその研摩パッドとに貫通する吹付穴に流体
供給源から流体圧を印加すれば、工作物は全て上定盤側
から離れ、下定盤側に残る。したがってロボットによる
取り出しが極めて容易になり、落下の恐れもない。また
工作物の中心に１個位置する吹付穴は工作物を均等に下
定盤側へ押え付けるし、工作物の周辺にほぼ均等に複数
個設ければ、複数個の相対位置が工作物の中心に対し多
少偏位しても工作物を均等に下定盤側へ押え付ける。
して研摩盤が停止したら、工作物に対向する位置にあ
り、上定盤とその研摩パッドとに貫通する吹付穴に流体
供給源から流体圧を印加すれば、工作物は全て上定盤側
から離れ、下定盤側に残る。したがってロボットによる
取り出しが極めて容易になり、落下の恐れもない。また
工作物の中心に１個位置する吹付穴は工作物を均等に下
定盤側へ押え付けるし、工作物の周辺にほぼ均等に複数
個設ければ、複数個の相対位置が工作物の中心に対し多
少偏位しても工作物を均等に下定盤側へ押え付ける。
【００１６】図３及び図４に示す実施例２が、図１及び
図２に示す実施例１と異なる点は、吹付穴２１がキャリ
ア６にも適用され点と、工作物５のための吹付穴に相当
する貫通穴２２に工作物５の吸着用の真空発生源及び分
離用の流体供給源を切替え可能に接続する点と、キャリ
ア６とかみあう内歯歯車１０とその周辺構造が具体的に
図示されている点である。太陽歯車９と内歯歯車１０と
の間にあってそれらとかみあう外歯を持つ４個のキャリ
ア６は、工作物５を保持したまま、太陽歯車９に対して
半径を変えたスパイラル状の運動をする。太陽歯車９は
太陽軸１２に支持され、内歯歯車１０は固定台１１に固
定される。
図２に示す実施例１と異なる点は、吹付穴２１がキャリ
ア６にも適用され点と、工作物５のための吹付穴に相当
する貫通穴２２に工作物５の吸着用の真空発生源及び分
離用の流体供給源を切替え可能に接続する点と、キャリ
ア６とかみあう内歯歯車１０とその周辺構造が具体的に
図示されている点である。太陽歯車９と内歯歯車１０と
の間にあってそれらとかみあう外歯を持つ４個のキャリ
ア６は、工作物５を保持したまま、太陽歯車９に対して
半径を変えたスパイラル状の運動をする。太陽歯車９は
太陽軸１２に支持され、内歯歯車１０は固定台１１に固
定される。
【００１７】前記実施例２では、研摩が終了して研摩盤
が停止したら、工作物５のための貫通穴２２の他、キャ
リア６に対向する位置にあり、上定盤とその研摩パッド
とに貫通する吹付穴２１にも流体供給源から流体圧を印
加すれば、キャリア６は全て上定盤２側から離れて下定
盤側に残り、工作物はこのキャリア６に保持されている
状態となる。最も良好な使用方法は、研摩が終了して研
摩盤が停止したら、初め、工作物５のための貫通穴２２
に真空発生源から真空圧を印加すれば、工作物５のみが
全て上定盤側に吸着し、次に、吹付穴２１に流体圧を印
加しながら両定磐を離して間に図示しない受板を挿入
し、貫通穴２２に流体供給源から流体圧を印加すれば、
工作物５は全て前記受板の上に収容できる。したがって
ロボットによる工作物５の取り出し及び供給が極めて容
易になり、落下の恐れもない。
が停止したら、工作物５のための貫通穴２２の他、キャ
リア６に対向する位置にあり、上定盤とその研摩パッド
とに貫通する吹付穴２１にも流体供給源から流体圧を印
加すれば、キャリア６は全て上定盤２側から離れて下定
盤側に残り、工作物はこのキャリア６に保持されている
状態となる。最も良好な使用方法は、研摩が終了して研
摩盤が停止したら、初め、工作物５のための貫通穴２２
に真空発生源から真空圧を印加すれば、工作物５のみが
全て上定盤側に吸着し、次に、吹付穴２１に流体圧を印
加しながら両定磐を離して間に図示しない受板を挿入
し、貫通穴２２に流体供給源から流体圧を印加すれば、
工作物５は全て前記受板の上に収容できる。したがって
ロボットによる工作物５の取り出し及び供給が極めて容
易になり、落下の恐れもない。
【００１８】
【発明の効果】この発明群の薄板工作物用の両面研摩盤
はそれぞれの表面に研摩パッドを装着した上定盤と下定
盤とによりキャリアで保持される工作物を挟んで相対的
に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する薄板工作物
用の両面研摩盤において、前記上定盤とその表面の研摩
パッドとに貫通する流体の吹付穴又は貫通穴を設け、こ
の吹付穴又は貫通穴は前記研摩盤の停止状態で前記工作
物又は前記キャリアに対向し、前記吹付穴又は貫通穴に
前記工作物又はキャリアの分離用の流体供給源や工作物
の吸着用の真空発生源を接続するものである。このよう
な構成によれば、研摩の終了後に上定盤と下定盤とを分
離した時に、工作物又はキャリアが全て又は別々に定盤
に吸着していてロボットによる工作物の取り出し及び供
給を可能にし、あわせて上定盤からの落下による工作物
の損傷を防止できるという効果がある。吹付穴又は貫通
穴は工作物又はキャリアの中心に１個でもよいが、周辺
にほぼ均等に複数個設ければ、工作物又はキャリアとの
多少の相対偏位があっても、複数個の吹付穴又は貫通穴
を角とする多角形の中に確実に工作物又はキャリアの中
心が位置して、工作物又はキャリアは定盤から分離する
という効果がある。
はそれぞれの表面に研摩パッドを装着した上定盤と下定
盤とによりキャリアで保持される工作物を挟んで相対的
に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する薄板工作物
用の両面研摩盤において、前記上定盤とその表面の研摩
パッドとに貫通する流体の吹付穴又は貫通穴を設け、こ
の吹付穴又は貫通穴は前記研摩盤の停止状態で前記工作
物又は前記キャリアに対向し、前記吹付穴又は貫通穴に
前記工作物又はキャリアの分離用の流体供給源や工作物
の吸着用の真空発生源を接続するものである。このよう
な構成によれば、研摩の終了後に上定盤と下定盤とを分
離した時に、工作物又はキャリアが全て又は別々に定盤
に吸着していてロボットによる工作物の取り出し及び供
給を可能にし、あわせて上定盤からの落下による工作物
の損傷を防止できるという効果がある。吹付穴又は貫通
穴は工作物又はキャリアの中心に１個でもよいが、周辺
にほぼ均等に複数個設ければ、工作物又はキャリアとの
多少の相対偏位があっても、複数個の吹付穴又は貫通穴
を角とする多角形の中に確実に工作物又はキャリアの中
心が位置して、工作物又はキャリアは定盤から分離する
という効果がある。
【図１】実施例１の正面図であって図２のＡ−Ａ断面を
付記したもの
付記したもの
【図２】図１のＢ−Ｂ断面図
【図３】実施例２の正面図であって図４のＣ−Ｃ断面を
付記したもの
付記したもの
【図４】図３のＤ−Ｄ断面図
１ 吹付穴 ２ 上定盤 ３ａ 研摩パッド ３ｂ 研摩パッド ４ 下定盤 ５ 工作物 ６ キャリア ９ 太陽歯車 １０ 内歯歯車 ２１ 吹付穴 ２２ 貫通穴
Claims (5)
- 【請求項１】それぞれの表面に研摩パッドを装着した上
定盤と下定盤とによりキャリアで保持される工作物を挟
んで相対的に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する
薄板工作物用の両面研摩盤において、前記上定盤とその
表面の研摩パッドとに貫通する流体の吹付穴を設け、こ
の吹付穴は前記研摩盤の停止状態で前記工作物に対向
し、前記吹付穴に前記工作物の分離用の流体供給源を接
続することを特徴とする薄板工作物用の両面研摩盤。 - 【請求項２】それぞれの表面に研摩パッドを装着した上
定盤と下定盤とによりキャリアで保持される工作物を挟
んで相対的に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する
薄板工作物用の両面研摩盤において、前記上定盤とその
表面の研摩パッドとに貫通する流体の吹付穴を設け、こ
の吹付穴は前記研摩盤の停止状態で前記キャリアに対向
し、前記吹付穴に前記キャリアの分離用の流体供給源を
接続することを特徴とする薄板工作物用の両面研摩盤。 - 【請求項３】それぞれの表面に研摩パッドを装着した上
定盤と下定盤とによりキャリアで保持される工作物を挟
んで相対的に逆方向に回転させ、遊離研摩剤を適用する
薄板工作物用の両面研摩盤において、前記上定盤とその
表面の研摩パッドとに貫通する流体の貫通穴を設け、こ
の貫通穴は前記研摩盤の停止状態で前記工作物に対向
し、前記貫通穴に前記工作物の吸着用の真空発生源及び
分離用の流体供給源を切替え可能に接続することを特徴
とする薄板工作物用の両面研摩盤。 - 【請求項４】請求項１、２又は３記載の薄板工作物用の
両面研摩盤において、前記吹付穴又は貫通穴を各工作物
又は前記キャリアの中心に１個設けることを特徴とする
薄板工作物用の両面研摩盤。 - 【請求項５】請求項１、２又は３記載の薄板工作物用の
両面研摩盤において、前記吹付穴又は貫通穴を各工作物
又は前記キャリアの周辺にほぼ均等に複数個設けること
を特徴とする薄板工作物用の両面研摩盤。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1813391 | 1991-02-12 | ||
| JP15723091 | 1991-06-28 | ||
| JP3-18133 | 1991-06-28 | ||
| JP3-157230 | 1991-06-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0557605A true JPH0557605A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=26354761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3317239A Pending JPH0557605A (ja) | 1991-02-12 | 1991-12-02 | 薄板工作物用の両面研摩盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0557605A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7155981B2 (en) | 2001-09-14 | 2007-01-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Strain sensor with fixing members |
| US7520175B2 (en) | 2004-02-23 | 2009-04-21 | Panasonic Corporation | Strain sensor |
| US7997155B2 (en) | 2007-12-27 | 2011-08-16 | Alps Electric Co., Ltd. | Load sensor |
| CN106363500A (zh) * | 2015-07-24 | 2017-02-01 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 一种陶瓷产品的平面抛光方法及陶瓷面板 |
| JP7612933B1 (ja) * | 2024-07-09 | 2025-01-14 | 株式会社レゾナック・ハードディスク | 円盤状基板の製造装置及び円盤状基板の製造方法 |
-
1991
- 1991-12-02 JP JP3317239A patent/JPH0557605A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7155981B2 (en) | 2001-09-14 | 2007-01-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Strain sensor with fixing members |
| US7520175B2 (en) | 2004-02-23 | 2009-04-21 | Panasonic Corporation | Strain sensor |
| US7997155B2 (en) | 2007-12-27 | 2011-08-16 | Alps Electric Co., Ltd. | Load sensor |
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| JP7612933B1 (ja) * | 2024-07-09 | 2025-01-14 | 株式会社レゾナック・ハードディスク | 円盤状基板の製造装置及び円盤状基板の製造方法 |
| WO2026014071A1 (ja) * | 2024-07-09 | 2026-01-15 | 株式会社レゾナック・ハードディスク | 円盤状基板の製造装置及び円盤状基板の製造方法 |
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