JPH0557680B2 - - Google Patents

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JPH0557680B2
JPH0557680B2 JP58065331A JP6533183A JPH0557680B2 JP H0557680 B2 JPH0557680 B2 JP H0557680B2 JP 58065331 A JP58065331 A JP 58065331A JP 6533183 A JP6533183 A JP 6533183A JP H0557680 B2 JPH0557680 B2 JP H0557680B2
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JP
Japan
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pulse
writing
time
write
erasing
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58065331A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS59191196A (en
Inventor
Shinji Nabeya
Nobuyuki Sato
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH0557680B2 publication Critical patent/JPH0557680B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は例えばEEPROMのような書込およ
び消去が可能な不揮発性半導体記憶装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a writeable and erasable nonvolatile semiconductor memory device such as an EEPROM.

〔背景技術〕[Background technology]

例えばEPROM(erasable and programmabe
ROM)においては、メモリセルを形成するフロ
ーテイングゲート構造のMOSトランジスタのフ
ローテイングゲートに電荷を蓄積させることによ
り記憶情報を電気的に書込むことができるが、そ
の書込時間が適正でないと種々の障害が生じる。
例えば、書込時間が長すぎた場合は、電荷の蓄積
が過剰に行なわれて、その後の消去が困難にな
る。また、場合にようてはセルが破壊あるいは劣
化することもある。反対に、書込時間が短かすぎ
ると、ゲートへの電荷が蓄積が十分に行なわれ
ず、いわゆる書込不良となる。
For example, EPROM (erasable and programmable)
In ROM), stored information can be electrically written by accumulating charge in the floating gate of a MOS transistor with a floating gate structure that forms a memory cell, but if the writing time is not appropriate, various problems may occur. failure will occur.
For example, if the write time is too long, charge will accumulate excessively, making subsequent erasing difficult. Furthermore, in some cases, the cell may be destroyed or deteriorated. On the other hand, if the write time is too short, charge will not be sufficiently accumulated on the gate, resulting in what is called a write failure.

また、EEPROM(electrically erasable and
programmable ROM)の場合は、書込のみなら
ず消去も電気的に行なうことができるが、この場
合はその消去の時間も適正に管理しなければなら
ない。EEPROMのメモリセルを構成するMOSト
ランジスタの構造には、フローテイングゲート構
造のものと、MNOS(Metal−Nitride−oxide−
Semiconductor)の2種類があるが両者ともその
消去時間が長すぎると、書込の場合と同様に、そ
の後に通常より長い書込時間をかけなければ正常
な書込が行なえなくなつてしまうようになる。ま
た、場合によつてはセルが破壊あるいは劣化する
こともある。反対に、消去時間が短かすぎると、
蓄積された電荷が十分に逃げきらず、いわゆる消
去不足の状態となつてしまう。
In addition, EEPROM (electrically erasable and
In the case of a programmable ROM, not only writing but also erasing can be performed electrically, but in this case, the erasing time must also be properly managed. The structures of the MOS transistors that make up EEPROM memory cells include floating gate structures and MNOS (Metal-Nitride-oxide-
There are two types (Semiconductor), but for both of them, if the erasing time is too long, normal writing will not be possible unless a longer writing time is taken than usual, just like in the case of writing. Become. Further, depending on the case, the cell may be destroyed or deteriorated. On the other hand, if the erasing time is too short,
The accumulated charges cannot be sufficiently released, resulting in what is called a state of insufficient erasing.

従つて、この種のROMを使用する場合は、そ
の書込あるいは消去の時間をそれぞれ適正に管理
しなければならないという面倒をともなう。ま
た、この種のROMでは、その用途に応じて書込
あるいは消去の時間を加減することもある。例え
ば、記憶情報の保存年数の方を優先させたい場合
は、書込時間を長めにし、また書込速度の方を優
先させたい場合は書込時間を短めにすることが行
われる。このとき、その書込を行なう前の消去時
間が短かすぎると、その後の書込時間が長すぎた
ときに、書込過ぎになる恐れが生じる。また、消
去時間が長すぎたあとは、通常よりも長い書込時
間が必要になるため、書込を高速で行なうことが
できなくなつてしまう。このように、書込および
消去が可能な不揮発性半導体記憶装置において
は、その書込あるいは消去の時間管理は非常に重
要であるが、その時間管理は書込と消去の相互の
関係をも考慮しなければならず、従つて非常に面
倒なものであつた。
Therefore, when using this type of ROM, the writing and erasing times must be properly managed, which is a hassle. Furthermore, in this type of ROM, the writing or erasing time may be adjusted depending on the application. For example, if it is desired to give priority to the number of years the stored information is stored, the writing time is made longer, and if it is desired to give priority to the writing speed, the writing time is made shorter. At this time, if the erasing time before writing is too short, there is a risk of overwriting if the subsequent writing time is too long. Furthermore, after the erasing time is too long, a longer writing time than usual is required, making it impossible to write at high speed. In this way, in a nonvolatile semiconductor memory device that can be written and erased, time management for writing or erasing is very important, but time management also takes into account the mutual relationship between writing and erasing. had to be done, and was therefore extremely troublesome.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は以上のような問題を鑑みてなされた
もので、その主な目的とするところは、書込およ
び消去が可能な不揮発性半導体記憶装置におい
て、使用者側に面倒な時間管理を強いることな
く、常に適正な書込あるいは消去の時間を各メモ
リセルにおいて実現できるようにし、これにより
時間管理の面倒から解放されて非常に使いやすく
することができるようにした不揮発半導体記憶装
置を提供することにある。
This invention was made in view of the above problems, and its main purpose is to force the user to perform troublesome time management in a writable and erasable nonvolatile semiconductor memory device. To provide a non-volatile semiconductor memory device which can always achieve an appropriate writing or erasing time in each memory cell, thereby freeing it from the trouble of time management and making it extremely easy to use. It is in.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規
な特徴については、本明細書の記述および添附図
面か明らかになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なも
のの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、書込および消去が可能な不揮発性半
導体記憶装置において、一定の時間幅を有するパ
ルス信号を発するパルス発生回路を内蔵し、書込
あるいは消去のための外部から与えられる制御信
号によつて上記パルス発生回路を起動させるよう
になすとともに、該パルス発生回路からの一定幅
パルスを記憶装置内部における書込あるいは消去
のための制御信号とするようにしたことにより、
使用者側に面倒な時間管理を強いることなく、常
に適正な書込あるは消去の時間をメモリセルにお
いて実現できるようにし、これにより時間管理の
面倒から開放されて非常に使いやすくすることが
できるという目的を達成するものである。
In other words, a nonvolatile semiconductor memory device that can be written to and erased has a built-in pulse generation circuit that generates a pulse signal having a fixed time width, and the above-mentioned data is generated by a control signal applied from the outside for writing or erasing. By activating the pulse generation circuit and using a constant width pulse from the pulse generation circuit as a control signal for writing or erasing inside the storage device,
It is possible to always achieve an appropriate writing or erasing time in a memory cell without forcing the user to perform troublesome time management, and this frees the user from the trouble of time management, making it extremely easy to use. This goal is achieved.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の代表的な実施例を図面を参照
しながら説明する。
Hereinafter, typical embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、図面において同一あるいは相当する部分
は同一符号で示す。
In addition, the same or corresponding parts are indicated by the same reference numerals in the drawings.

第1図は、この発明による不揮発性半導体記憶
装置の一実施例を示す。同図に示す不発揮性半導
体記憶装置は、前述したEEPROMとして構成さ
れたものであつて、電気的な書込および消去を行
なうことができる。同図に示すROMは、先ず、
メモリマトリツクス10、XYデコーダ12、ア
ドレバツフア14、読出し回路16、書込回路1
8、出力バツフア20、および入力バツフア22
を有する。そして、電源電圧Vccにより動作し、
アドレスデータA0〜Anによつて選択されるメ
モリセルに記憶されたデータが、記憶データ入出
力端子I/Oから読出されるようになつている。
さらに、各メモリセルの記憶データは、ゲート書
込回路24、消去回路26、書込・消去電圧発生
回路28、インバータ30、およびパルス発生回
路32により、書込および消去を行なうことがで
きるようになつている。パルス発生回路32は、
外部から書込あるいは消去のために与えられる制
御信号すなわちプログラム信号Poによつて起動
されて一定時間幅のパルス信号Piを発するように
構成されている。このパルス発生回路32は、具
体的には単安定マルチバイブレータMMを用いて
構成することができる。
FIG. 1 shows an embodiment of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention. The nonvolatile semiconductor memory device shown in the figure is configured as the aforementioned EEPROM, and can be electrically written and erased. The ROM shown in the figure is, first of all,
Memory matrix 10, XY decoder 12, address buffer 14, read circuit 16, write circuit 1
8, output buffer 20, and input buffer 22
has. Then, it operates with the power supply voltage Vcc,
Data stored in a memory cell selected by address data A0 to An is read out from a storage data input/output terminal I/O.
Furthermore, data stored in each memory cell can be written and erased by a gate write circuit 24, an erase circuit 26, a write/erase voltage generation circuit 28, an inverter 30, and a pulse generation circuit 32. It's summery. The pulse generation circuit 32 is
It is configured to be activated by a control signal, ie, a program signal Po, given from the outside for writing or erasing, and to emit a pulse signal Pi having a constant time width. Specifically, this pulse generation circuit 32 can be constructed using a monostable multivibrator MM.

メモリマトリツクス10を構成する各メモリセ
ルはそれぞれMOSトランジスタにより構成され
る。このMOSトランシスタとしてはフローテイ
ングゲート構造のもの又は窒化膜に電荷を蓄積す
るMNOS構造のものが使用可能である。本実施
例ではフローテイングゲート構造のMOSトラン
ジスタが用いられる。フローテイングゲート構造
の場合は、記憶データの書込は、そのゲートへの
電荷の蓄積によつて行なわれる。また、その消去
はゲート蓄積電荷を放出させることにより行なわ
れる。ゲートへの電荷の蓄積あるいはゲートから
の電荷の放出は、書込・消去電圧発生回路28に
て発生される高電圧を用いて、ゲート書込回路2
4あるいは消去回路26により行なわれる。
Each memory cell making up memory matrix 10 is made up of a MOS transistor. As this MOS transistor, a floating gate structure or an MNOS structure in which charge is accumulated in a nitride film can be used. In this embodiment, a MOS transistor with a floating gate structure is used. In the case of a floating gate structure, writing of storage data is performed by accumulating charge on the gate. Moreover, the erasure is performed by releasing the gate accumulated charge. Accumulation of charge in the gate or release of charge from the gate is performed by the gate write circuit 2 using a high voltage generated by the write/erase voltage generation circuit 28.
4 or by the erase circuit 26.

第2図は第1図のROMの動作タイミングの一
例を示す。同図において、先ず、書込を行なう場
合は、アドレスデータA0〜Anによりメモリセ
ルを選択するとともに、入出力端子I/Oに書込
むべきデータを与える。さらに、チツプアセレク
ト信号をHレベルに設定して書込の状態とす
る。そして、外部からプログラム信号Poを与え
る。このとき、その外部プログラム信号Poは直
接には書込制御信号とはならず、上記パルス発生
回路32の起動信号となる。これにより、そのパ
ルス発生回路32は一定時間幅wiのパルス信号
Piを発する。この信号Piが内部における書込・消
去信号すなわち内部プログラク信号として上記ゲ
ート書込回路24に与えられる。こりにより、メ
モリセルへの書込時間は、外部から与えられるプ
ログラム信号Poの時間幅Woに拘らず、内部にて
作り出される上記プログラム信号Piの時間幅Wi
によつて常に一定となる。従つて、外部から与え
るプログラム信号Poの時間幅が長すぎても、あ
るいは反対に短かすぎても、常に適正な書込状態
を得ることができる。これにより、使用者を時間
管理の面倒から解放して非常に使いやすい不揮発
性半導体記憶装置とすることができる。
FIG. 2 shows an example of the operation timing of the ROM shown in FIG. In the figure, when writing is first performed, a memory cell is selected using address data A0 to An, and data to be written is applied to the input/output terminal I/O. Furthermore, the chipper select signal is set to H level to enter the write state. Then, a program signal Po is given from the outside. At this time, the external program signal Po does not directly become a write control signal, but becomes an activation signal for the pulse generation circuit 32. As a result, the pulse generation circuit 32 generates a pulse signal with a constant time width wi.
Emit Pi. This signal Pi is applied to the gate write circuit 24 as an internal write/erase signal, that is, an internal program signal. Due to this, the writing time to the memory cell is determined by the time width Wi of the program signal Pi generated internally, regardless of the time width Wo of the externally applied program signal Po.
is always constant. Therefore, even if the time width of the externally applied program signal Po is too long or, conversely, too short, a proper write state can always be obtained. This frees the user from the hassle of time management, making it possible to provide a nonvolatile semiconductor memory device that is extremely easy to use.

消去の場合は、チツプセレクト信号をLレ
ベルにして行なう。この場合も、消去時間は、外
部プログラム信号Poの時間幅Woに拘らず、上記
パルス発生回路32から発せられる内部プログラ
ム信号Piの時間幅Wiによつて一定に保たれるの
で、、消去しすぎ、あるいは消去不足となる心配
はない。もちろん、書込過ぎあるいは消去し過ぎ
によるセルの破壊あるいは劣化の恐れも全くなく
なる。
In the case of erasing, the chip select signal is set to L level. In this case as well, the erasing time is kept constant by the time width Wi of the internal program signal Pi generated from the pulse generation circuit 32, regardless of the time width Wo of the external program signal Po. , or there is no need to worry about insufficient erasure. Of course, there is no fear of cell destruction or deterioration due to excessive writing or erasing.

なお、消去は、メモリセル単位で行なつてもよ
いが、コラム単位あるいは全メモリセルを対象に
して一挙に行なうようにしてもよい。また、書込
あるいは消去のための高電圧は、外部から供給す
るようにしてもよい。
Note that erasing may be performed in memory cell units, or may be performed in column units or all memory cells at once. Further, the high voltage for writing or erasing may be supplied from outside.

また、上記内部プログラム信号Piを時間幅Wi
はROMの用途に応じて任意に設定することがで
きる。例えば、記憶の保存年数を優先させたい場
合は、その時間幅Wiを長めに設定する。また、
書込時間の高速化を優先させたい場合は短めに設
定する。この場合、実施例において注目すべきこ
とは、上記パルス発生回路32を書込と消去の両
方にて共用されるようにしたことにより、書込時
間と消去時間とが互いに同じ長さにバランスよく
設定されるようになつていることである。これに
より、書込時間を長めにしても、あるいは短かめ
にしても、消去と書込が過不足なく常に最適な状
態で行なわれるようになる。
In addition, the above internal program signal Pi is set to the time width Wi
can be set arbitrarily depending on the purpose of the ROM. For example, if you want to give priority to the number of years the memory can be stored, set the time width Wi to a longer value. Also,
If you want to give priority to faster writing time, set it shorter. In this case, what should be noted in this embodiment is that the pulse generation circuit 32 is shared for both writing and erasing, so that the writing time and the erasing time are the same length and well balanced. This is something that is now being set. As a result, even if the writing time is made longer or shorter, erasing and writing can always be performed in an optimal state without excess or deficiency.

〔効果〕〔effect〕

以上のように、この発明による不揮発性記憶装
置では、例えばプロセスのばらつきによりパルス
発生回路で発生されるパルスの幅が変動したとし
ても、書込時間と消去時間とが互いに同じ長さに
バランスよく設定されるようになるとともに、使
用者が外部で正確なパルス幅のプログラム信号を
作つてやらなくても内部で一定のパルス幅の信号
が形成されるので、使用者側に面倒な時間管理を
強いることなく、常に適正な書込あるいは消去の
時間を各メモリセルにおいて実現できるように
し、これにより時間管理の面倒から解放されて非
常に使いやすくすることができる。
As described above, in the nonvolatile memory device according to the present invention, even if the width of the pulse generated by the pulse generation circuit changes due to, for example, process variations, the writing time and erasing time can be maintained at the same length in a well-balanced manner. With this, a signal with a constant pulse width is generated internally without the user having to create a program signal with an accurate pulse width externally, eliminating the troublesome time management on the user's side. It is possible to always achieve an appropriate write or erase time in each memory cell without forcing it, and this makes it possible to be freed from the trouble of time management and to make it extremely easy to use.

以上本発明者によつてなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、この発明は上記実施
例に限定されるものでなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々の変更が可能であることはいうまで
もない。例えば、上記パルス発生回路32は、単
安定マルチパイプレータMM以外のもの、例えば
外部クロツクを利用して一定時間幅のパルスを発
生させるようにしたものでもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples, and various changes can be made without departing from the gist thereof. Needless to say. For example, the pulse generating circuit 32 may be of a type other than the monostable multipipulator MM, such as one that generates pulses of a constant time width using an external clock.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本発明者によつてなさ
れた発明をその背景となつた利用分野である
EEPROMについて説明したが、それに限定され
るものではなく、例えばEAROM(electrcally
alterable ROM)や紫外線消去型のEPROMな
どにも適用できる。
The above explanation mainly describes the invention made by the present inventor and the field of application that is its background.
Although EEPROM has been explained, it is not limited to it. For example, EAROM (electrcally
alterable ROM) and ultraviolet erasable EPROM.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明による不揮発性半導体記憶装
置の一実施例を示すブロツク図である。第2図は
その動作タイミングの一例を示すチヤートであ
る。 10……メモリマトリツクス、12……XYデ
コーダ、14……アドレスバツフア、16……読
出回路、18……書込回路、20……出力バツフ
ア、22……入力バツフア、24……ゲート書込
回路、26……消去回路、28……書込・消去電
圧発生回路、30……インバータ、32……パル
ス発生回路(単安定マルチバイブレータMM)、
Vcc……電源電圧、A0〜An……アドレスデー
タ、I/O……記憶データ入出力端子、CS……
チツプセレクト信号、Po……外部からの書込・
消去制御信号(外部プログラム信号)、Pi……内
部における書込・消去信号(内部プログラム信
号)、Wo……外部プログラム信号の時間幅、Wi
……内部プログラム信号の時間幅。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention. FIG. 2 is a chart showing an example of the operation timing. 10... Memory matrix, 12... XY decoder, 14... Address buffer, 16... Read circuit, 18... Write circuit, 20... Output buffer, 22... Input buffer, 24... Gate write programming circuit, 26... erase circuit, 28... write/erase voltage generating circuit, 30... inverter, 32... pulse generating circuit (monostable multivibrator MM),
Vcc...power supply voltage, A0~An...address data, I/O...memory data input/output terminal, CS...
Chip select signal, Po... External writing/
Erase control signal (external program signal), Pi...internal write/erase signal (internal program signal), Wo...time width of external program signal, Wi
...Time width of internal program signal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 メモリセルに対する書込みパルスを発生する
書込み回路と、メモリセルに対する消去パルスを
発生する消去回路とを備え、電気的に書込みおよ
び消去が可能な不揮発性半導体記憶装置におい
て、外部から書込み・消去のタイミングを与える
トリガ信号が入力される入力端子と、上記トリガ
信号を受けて起動され、一定の時間幅を有するパ
ルス信号を発生するパルス発生回路とを設け、該
パルス発生回路で発生されたパルス信号を上記書
込み回路および消去回路に供給して、書込みパル
スのパルス幅と消去パルスのパルス幅が同一にな
るようにしたことを特徴とする不揮発性半導体記
憶装置。
1. In a non-volatile semiconductor memory device that is equipped with a write circuit that generates a write pulse to a memory cell and an erase circuit that generates an erase pulse to a memory cell and that can be electrically written to and erased, the timing of writing and erasing can be determined from the outside. an input terminal into which a trigger signal is input, and a pulse generation circuit that is activated in response to the trigger signal and generates a pulse signal having a fixed time width, and the pulse signal generated by the pulse generation circuit is A nonvolatile semiconductor memory device, characterized in that the pulse width of a write pulse and the pulse width of an erase pulse are supplied to the write circuit and the erase circuit so as to be the same.
JP58065331A 1983-04-15 1983-04-15 Non-volatile semiconductor memory device Granted JPS59191196A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
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JPS59191196A JPS59191196A (en) 1984-10-30
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