JPH0557992B2

JPH0557992B2 -

Info

Publication number: JPH0557992B2
Application number: JP60004825A
Authority: JP
Inventors: Richaadoson Nooman; Horuto Buraian; Kutsuku Barii
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1984-01-13
Filing date: 1985-01-14
Publication date: 1993-08-25
Also published as: CA1328885C; US4681686A; EP0150706A2; ES539486A0; JPS60174793A; EP0150706B1; DE3569932D1; ES8601813A1; GB8400848D0; ZA85263B; EP0150706A3; BR8500141A; AU573300B2; AU3755785A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なコテロマー化合物、その製造方
法並びに水性系に接触した金属の腐食及び／また
は水性系からのスケール沈積の抑制及び／または
水性系中の粒子の分散の促進の為のそれらの使用
法に関する。天然の水の大半、及び通常の水性系はカルシウ
ム、マグネシウム、バリウム及びストロンチウム
の様な金属の溶解性の塩を含有している。この水
もしくは水性系を加熱すると、溶解性の塩が不溶
性の塩に転化し、水もしくは水性系に接している
伝熱表面上にスケールとして付着し得る。水もし
くは水性系を加熱せずに濃縮した場合でも不溶性
塩は沈殿し得る。塩の沈殿並びにスケール沈積は厄介な問題であ
り、水性系を良好な作用状態に維持する為のコス
トを増大させ得る。スケール沈積によりおこる問
題としては流体の流動の妨害、熱交換の妨害、金
属部分の摩滅、装置の使用期間の低下、部分的な
腐食作用、腐食抑制効果の低下並びに予測できな
い装置の操業停止が挙げられる。これらの問題は水溜め、油溜め、給水管、汽力
発電所、海水脱塩所、水溶液を使用する逆浸透装
置、再生用熱交換装置、水性媒体中の生成物と副
生成物（例えば発電の際の石炭の燃焼中に生ずる
フライアツシユ）の移動に関する装置に起こり得
る。これらの方法を実施する際の温度範囲は広
く、例えば冷却水には室温を用い、汽力発電所に
は高温を用いる。スケールの形成に関する障害を克服する為に用
いられる方法の１つは蓄積した付着物を洗浄でき
る様に装置を分解する方法である。この方法は費
用がかかり、再付着を防止することができない。
もう１つの方法は特に硫酸塩スケールを除去する
為の強アルカリ溶液の使用に関する。適当な温度
及び時間の条件下ではアルカリ処理は結局スケー
ルの最初の崩解を起こし、その後そのスケールを
機械的な方法で除去することができると言われて
いる。その様な方法はかなり時間がかかり、処理
に続いて行なうスケールの除去がしばしば困難で
ある。それ故に、当該分野においては、水もしくは水
性系に非常に少量で添加することができ、沈殿し
た不溶性塩の割合を広範囲にわたる温度で引き下
げることができ、そしてまた沈殿した不溶性の塩
を分散させ得る組成物が必要とされている。さら
に、どんなスケールが生じた場合にも簡単な機械
的方法により容易に除去され得ることが望まし
い。この目的で水もしくは水性系に添加される多く
の添加剤、とりわけある種のポリホスフエート及
びポリカルボン酸が提案されてきた。ある種のポリカルボン酸、例えばポリアクリル
酸が固い、付着性の、卵殻様のスケールを供与す
るという点で不利であるのに対し、ポリホスフエ
ートは最終的に容易に表面から除去される軟質の
脆砕性のスケールを供与する点で有利である。しかしながら加熱段階を含む水処理方法を利用
する際には温度は上昇し、ポリホスフエート添加
剤は高温では容易に加水分解するので結果として
不溶性のカルシウムオルトホスフエート及び他の
カルシウムホスフエートの沈殿が増加し、その結
果これらの化合物の有用性は制限される。英国特許第1458235号に、水性系に次式：〔式中、Ｒは水素原子、メチル基またはエチ
ル基を表わし、R′は水素原子、炭素原子数１な
いし18のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシ
クロアルキル基、アリール基、アルアルキル基、
次式：（式中、Ｒは前記の意味を表わし、ｎ及びｍ
はその合計が多くても100である整数を表わす）
で表わされる基を表わすか、またはR′は次式：
−OX（式中、Ｘは水素原子もしくは炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる
基を表わし、そしてR″は次式：−OX（式中、Ｘ
は前記の意味を表わす）で表わされる基を表わ
す〕で表わされるテロマー化合物を添加すること
により水性系からのカルシウム、マグネシウム、
バリウム及びストロンチウムのスケール形成性塩
の沈殿を抑制する非常に効果的な方法が記載され
特許権が請求されている。さらに設備中で使用される水中に発見される
様々な固体物質を懸濁もしくは分散された状態に
維持することが重要である様なかなり多くの産業
設備、例えば工業用ボイラー、冷却水系、ガス洗
浄装置、スラリー装置、例えばチヤイナクレース
ラリー装置がある。その様な固体が液体に懸濁し
やすい場合には装置の汚れが、例えばいわゆる
“ワンスースルー（once−through）”冷却装置の
場合の様におこる。工場設備に非常に近い所に大
量の水の供給源がある場合、水を熱交換装置に通
した後、その水を水源に戻して排出することによ
りしばしば冷却が行なわれる。しかしながら、こ
の装置に使用される大量の水の為に従来技術の様
に水を過することは経済的見地から見て不可能
であると思われる。このため、工場設備内で付着
物の形成は容易におこり、そして通常は洗浄の目
的で定期的に運転を停止する必要がある。さらに
工場設備の腐食は鉄酸化物及び／または鉄塩の析
出をもたらし、これは注意深く処理しなければ設
備の閉塞及び機械的破損を引き起こす。他の問題分野として、船の貯水槽及びバラスト
タンクの底に集まり、そのために維持費及び船の
操行に悪影響を及ぼす沈泥及び泥の堆積が挙げら
れる。さらに、水性系から金属表面への望ましくない
沈積に関する別の問題はアルミニウム上に陽極酸
化により製造された酸化層のシールの際に生じ
る。その様なシールに熱水もしくは沸騰水を使用
するとシールされた酸化被膜に細孔が生じるだけ
でなく、厚いビロードの様なコーテイング（シー
ル汚れ）が全表面を覆つて生成する。従つて改良
されたシール汚れ抑制剤が必要とされる。本発明者らはイギリス特許第1458235号のテロ
マーに匹敵するスケール−抑制作用を持ち、そし
て水性系中で優れた粒子分散性並びに良好な一般
的な腐食抑制作用を有するコテロマー化合物を見
出した。新規なコテロマー化合物はシール汚れ抑
制剤としての使用法も見出されている。従つて本発明は次式：〔式中、Ａは少なくとも１個の次式：で表わされる単位及び少なくとも１個の式の単
位とは異なる次式：で表わされる単位を含有するランダム重合性残基
を表わし、Ｂは水素原子または残基Ａを表わし、ｍ及びｎは、ｍとｎの合計が３ないし100とな
り、ｍ対ｎの比が99ないし１対１ないし99となる
様な整数を表わし、ただし得られたテロマーは水
溶性であり、残基Ａ中のｍ及び／またはｎは残基
Ｂ中のｍ及び／またはｎと同じでも異つていても
よく、Ｒは水素原子、メチル基またはエチル基を表わ
し、 R₁は次式：−OX（式中、Ｘは水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム残基
またはアミン残基を表わす）で表わされる残基を
表わし、 R₂は水素原子、メチル基または次式：−
CO₂R₅（式中、R₅は水素原子または所望により水
酸基で置換された、炭素原子数１ないし８の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基を表わす）で表わさ
れる残基を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし４の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基、ヒドロキシメチル
基または次式：−CO₂R₆｛式中、R₆は水素原子、
次式：

【式】で表わされる基、次式：−〔CH₂−CH（R₉）Ｏ〕zH（式中、R₉は水素
原子、メチル基またはフエニル基を表わし、そし
てｚは１ないし20の整数を表わす）で表わされる
基を表わすか、またはR₆は所望により水酸基も
しくは次式：SO₃M（式中、Ｍは水素原子または
アルカリもしくはアルカリ土類金属原子を表わ
す）で表わされる基で置換された炭素原子数１な
いし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す｝で表わされる残基を表わし、 R₄は次式：−CO₂R₆（R₆は前記で定義した意味
を表わす）で表わされる置換基、所望により１個
もしくは２個のカルボキシル基で置換された炭素
原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基、フエニル基、アセチル基、ヒドロキシメチ
ル基、酢酸メチル基、次式：−SO₃M、−
CH₂SO₃Mもしくは−PO₃M₂（式中、Ｍは水素原
子またはアルカリもしくはアルカリ土類金属原子
を表わす）で表わされる基、−CONR₇R₈｛式中、
R₇及びR₈は同一または異なつて各々水素原子、
炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、ヒドロキシメチル基、または次式：−
CH（OH）CO₂M、−Ｃ（CH₃）₂CH₂SO₃Mもしく
は−Ｃ（CH₃）₂CH₂PO₃M₂（式中、Ｍは前記で定義
した意味を表わす）で表わされる基を表わす｝で
表わされる基、または次式：−Ｎ（R₁₀）COCH₃
（式中、R₁₀は水素原子もしくは炭素原子数１な
いし４の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す）で表わされる基を表わす〕で表わされるコテ
ロマー化合物及びその塩に関する。式のコテロマー化合物の塩は、式の酸性化
合物の酸性水素原子の一部または全部がアルカリ
金属イオン、アンモニウムイオンまたは第四アミ
ン基で置換されている。これらの塩は水溶液から
の不溶性塩の沈澱の抑制に良好な作用を示す。式の化合物、式の化合物を有する反応生成
物及びその塩は水溶液からのスケール沈積及び塩
の沈澱の抑制に有効である。塩形成性スケールは
カルシウム、マグネシウム、バリウムまたはスト
ロンチウム陽イオンと硫酸イオン、炭酸イオン、
水酸化物イオン、リン酸イオンまたはケイ酸イオ
ンの様な陰イオンから誘導される。式の化合物、式の化合物を含有する反応生
成物及びそれらの塩は特に硫酸カルシウム、水酸
化マグネシウム、リン酸カルシウム及び炭酸カル
シウムスケールの沈積の抑制並びにリン酸カルシ
ウムスラツジの分散に特に有効である。炭素原子数１ないし４のアルキル基としての
R₃及びR₁₀は例えばメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基及びｎ−ブチル基であ
る。炭素原子数１ないし８のアルキル基としての
R₄，R₅，R₆，R₇及びR₈は例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基及びｎ
−オクチル基である。水酸基で置換された炭素原子数１ないし８のア
ルキル基としてのR₅またはR₆は例えばヒドロキ
シメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−もし
くは３−ヒドロキシプロピル基、２−もしくは４
−ヒドロキシブチル基、２−もしくは６−ヒドロ
キシヘキシル基及び２−もしくは８−ヒドロキシ
オクチル基であり、カルボキシル基で置換された
炭素原子数１ないし８のアルキル基としてのR₄
は例えばカルボキシメチル基、カルボキシエチル
基、カルボキシプロピル基もしくは１，１−ジカ
ルボキシメチル基である。アルカリ金属原子としてのＸ及び／またはＭは
特にナトリウムもしくはカリウム原子である。そ
してアルカリ土類金属原子としてのＸ及び／また
はＭはカルシウム、バリウム及びストロンチウム
原子である。アミン残基としてのＸは例えばアン
モニウム基、−Ｎ＋Ｈ（CH₃）₃，−Ｎ＋Ｈ（C₂H₅）₃ま
た
は−Ｎ＋Ｈ（CH₂CH₂OH）₃である。好ましくはＢは前記で定義したＡと同一の基を
表わし、そして好ましくはR₁は次式：−OM（式
中、Ｍは前記で定義した意味を表わす）で表わさ
れる基を表わす。式で表わされる化合物は好ましくはＢが残基
Ａを表わし、Ｒが水素原子を表わし、R₂が水素
原子または次式：−COOR₅（式中、R₅は水素原子
または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わ
す）で表わされる基を表わし、R₃は水素原子ま
たは次式：−CO₂R₆（式中、R₆は前記で定義した
意味を表わす）で表わされる基を表わし、R₄は
次式：−COOR₆（式中、R₆は水素原子もしくは所
望により水酸基で置換された炭素原子数１ないし
４のアルキル基を表わす）で表わされる基を表わ
すか、またはR₄は所望により１個もしくは２個
のカルボキシル基で置換された炭素原子数１ない
し８のアルキル基、フエニル基、アセトメチル
基、次式：−SO₃Mもしくは−PO₃M₂（式中、Ｍ
は上記式で定義した意味を表わす）で表わされ
る基、次式：−CONR₇R₈（式中、R₇及びR₈は上
記式で定義した意味を表わす）で表わされる
基、または次式：−Ｎ（R₁₀）COCH₃（式中、R₁₀
は上記式で定義した意味を表わす）で表わされ
る基を表わし、R₁が上記式で定義した意味を
表わし、ｍとｎの合計が３ないし32であるもので
ある。ｍ：ｎの好ましい比は90：10ないし10：90であ
る。部分的なもしくは完全な塩を形成する為に式
の化合物と反応させ得る塩基はナトリウム、カリ
ウム及びアンモニウムの水酸化物並びに炭酸塩で
ある。同様に有機塩基、例えばトリエタノールア
ミンの様な炭素原子の合計が12を越えない第一、
第二及び第三アルキル及び置換アルキルアミンが
使用し得る。本発明はさらに次式： CH₂＝CR−CO₂H () （式中、Ｒは前記式で定義した意味を表わ
す）で表わされる酸ｎモル（ｎは前記式で定義
した意味を表わす）と次式：（式中、R₂，R₃及びR₄は前記式で定義した
意味を表わす）で表わされる化合物ｍモル（ｍは
前記式で定義した意味を表わす）と次式：（式中、R₁は前記式で定義した意味を表わ
す）で表わされる化合物１モルを反応させること
からなる式のコテロマー化合物の製造方法をも
提供するものである。式のコモノマーの例を下記に示す：アクリル
アミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニル−
Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−アリルアセトアミ
ド、Ｎ−アクリルアミドグリコール酸、メタクリ
ル酸、メチルメタクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、マレ
イン酸、２−カルボキシエチルアクリレート、３
−ブテン−１，２，３−トリカルボン酸、ジメチ
ルマレエート、ジエチルマレエート、ジエチルフ
マレート、イタコン酸、ジメチルイタコネート、
ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、４−スチ
レンスルホン酸、３−スルホプロピルアクリル酸
のナトリウムもしくはカリウム塩、アクリルアミ
ドメチルプロパン−２−スルホン酸、ビニルホス
ホン酸、スチレンホスホン酸、アリルアルコー
ル、アリルアセテート、ビニルアセテート、スチ
レン、α−メチルスチレン、ヘキセン、オクテ
ン、Ｎ−アクリルアミドプロパンスルホン酸、グ
リシジルメタクリレート、クロトン酸、エチルク
ロトネート、（メタ）アクリル酸のポリエチレン
グリコールエステル及びポリプロピレングリコー
ルエステル。もしくは、酸性水素の１部もしくは全部が上記
の塩を形成する塩基から誘導される陽イオンで置
換されている式の化合物の塩を使用することも
できる。反応は合衆国特許第2957931号に記載された様
な不活性溶媒中及び反応条件下並びに反応開始剤
の存在下で実施される。適する反応溶媒は例えば
水、水性エタノールまたはジオキサンである。適
する反応開始剤は該反応条件下で分解して遊離ラ
ジカルを生成する物質を含む。その様な物質の例
としてビスアゾイソブチロニトリル、ベンゾイル
パーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサ
イド、ジ第三ブチルパーオキサイド及びモノブチ
ルヒドロパーオキサイドの様な有機パーオキサイ
ド、並びに過酸化水素、過ホウ素酸ナトリウム及
び過硫酸ナトリウムの様な酸化剤が挙げられる。本発明の方法による生成物は溶液として得られ
る。これは減圧下で一部または全部を留去するこ
とができる。未精製の反応生成物はコテロマー生
成物として本発明の方法に使用し得る。反応生成
物は精製してもよい。精製方法を下記に示す。 (i) 反応溶媒を留去し、残渣を水に溶解し、水と
不混和性の有機溶媒、例えばエーテルで洗浄
し、そして水溶液の溶媒を留去する： (ii) 反応溶媒を留去し、残渣をメタノールに溶解
し、そしてエーテルを添加して再沈澱化する。反応生成物を精製せずに使用する場合は、反応
剤の比はそれに応じて生成物の活性が変化すると
いう点で重要である。式の化合物の酸性水素の一部もしくは全部が
前記で定義した塩を生ずる塩基から誘導される陽
イオンで置換されている式の化合物の塩は、式
の化合物の水溶液またはアルコール溶液を必要
な塩基を定量的な要求量の過量、等量もしくはそ
れより少ない量で含有する水溶液またはアルコー
ル溶液と混合することにより製造することができ
る。その後、溶媒は蒸発によつて除去できる。本
発明の抑制剤の有用性が証明されると思われる水
含有系の多くについて、水は中和されるのに充分
アルカリ性であるので本発明の生成物のみを加え
れば良い。本法の生成物の正確な性質は完全には解明され
ていない。しかしながら核磁気共鳴スペクトルに
より、前記の方法による反応生成物が未反応の式
の化合物並びに式の酸と式の化合物から誘
導される重合性化合物に加えて前記で定義した式
の化合物を含有することが示されている。さらに本発明は水性系に上記式で定義したコ
テロマー化合物の作用有効量を添加することから
なる金属表面のスケール形成の抑制及び／または
金属表面の腐食の抑制及び／または水性系への粒
子の分散の促進及び／またはシール汚れの付着の
抑制の為の金属表面に接触した水性系を部分的に
もしくは全体的に処理する方法を提供する。実際に金属の表面を処理、例えば金属表面に接
触した水性系へ化合物を添加する為の式の化合
物の量は、化合物が達成すべき保護機能に依存す
る。所望によりスケール抑制処理を組み合わせた
腐食抑制保護処理の為には、水性系に添加される
式の化合物の量は水性系に対して0.1ないし
50000ppm（0.00001ないし５重量％）、好ましくは
１ないし500ppm（0.0001ないし0.05重量％）の範
囲内が便利である。単に抗スケールの目的の為に
使用される式の化合物の量は水性系に対して１
ないし200ppm、好ましくは１ないし30ppmが便
利である。処理される比較的希薄な分散液のほとんどの場
合は、本発明の方法に分散剤として使用される式
の化合物の量は１ないし200ppmが便利であり、
好ましくは２ないし20ppmである。しかしながら
処理されるべき水性スラリーは極めて大量、例え
ば水性系の70重量％を占め得る固体総量の0.1な
いし５重量％の式の化合物を必要とするこもあ
る。アルミニウム表面に陽極酸化により生成した酸
化層を処理する為のシール汚れ抑制剤として水性
シール溶液に使用する場合、式の化合物の量は
シール過程に使用する水性溶液の0.0005ないし
0.5ｇ／の範囲内が便利である。本発明により処理され得る水性系について、腐
食抑制と抗スケールを併せた処理に関しては冷却
水系、蒸気発生系、海水蒸留系、静水圧力がま、
ガス洗浄系、閉回路加熱系、水性冷却系及び立下
り井戸系（down−well system）に対して特に
有利であり：腐食抑制のみの処理に関して特に有
利な水性系は水性機械加工流体配合物（例えばボ
ーリング、混練、リーマー仕上げ、ブローチン
グ、延伸、紡糸、施削、切断、のこ引き、磨砕、
及びねじ切り、または圧伸もしくは圧延における
非切断成形加工用）、水性精練系、水性グリコー
ル凍結防止系を含むエンジンクーラント、水／グ
リコール油圧系統及び水性ポリマー表面コーチン
グ系、または溶媒性ポリマー系、例えばテトラヒ
ドロフラン、ケトンまたはアルコキシアルカノー
ルを含有するものを包含する。本発明により使用される抑制剤は単独で、また
は水性系の処理に有用であるとして知られている
他の化合物と共に使用することもできる。冷却水系、空気調節系、蒸気発生系、海水蒸留
系、静水圧力がま、及び閉回路加熱または冷却系
の様な完全に水性である系の処理には他の腐食抑
制剤、例えば水溶性の亜鉛塩；ホスフエート；ポ
リホスフエート；ホスホン酸及びそれらの塩、例
えばアセトジホスホン酸、ニトリロトリスメチレ
ンホスホン酸及びメチルアミノジメチレンホスホ
ノカルボン酸及びその塩、例えばドイツ特許公開
公報第2632774号に記載されている化合物、ヒド
ロキシホスホノ酢酸、２−ホスホノブタン−１，
２，４−トリカルボン酸並びにイギリス特許第
1572406号に記載されている化合物；第二クロム
酸塩、例えば第二クロム酸ナトリウム；硝酸塩、
例えば硝酸ナトリウム、亜硝酸塩、例えば亜硝酸
ナトリウム；モリブデン酸塩、例えばモリブデン
酸ナトリウム；タングステン酸塩；ケイ酸塩、例
えばケイ酸ナトリウム；ベンゾトリアゾール、ビ
ス−ベンゾトリアゾールまたは銅不活性化ベンゾ
トリアゾールもしくはトルトリアゾール誘導体も
しくはそのマンニツヒ塩素誘導体；Ｎ−アシルサ
ルコシン；Ｎ−アシルアミノ二酢酸；エタノール
アミン；脂肪アミン；並びにポリカルボン酸、例
えばポリマレイン酸及びポリアクリル酸、並びに
これらのアルカリ金属塩、無水マレイン酸のコポ
リマー、例えば無水マレイン酸とスルホン化スチ
レンとのコポリマー、アクリル酸のコポリマー、
例えばアクリル酸とヒドロキシアルキル化アクリ
ル酸とのコポリマー、並びにポリマレイン酸、ポ
リアクリル酸及びそれらのコポリマーの置換誘導
体を使用し得る。さらに、その様な完全な水性系においては、本
発明により使用される抑制剤は他の分散剤及び／
または限界処理剤、例えば重合したアクリル酸
（またはその塩）、ホスフイノーポリカルボン酸
（イギリス国特許第1458235号に記載されている）、
ポリアクリロニトリル水解物、重合メタクリル酸
及びその塩、ポリアクリルアミド及びアクリル酸
とメタクリル酸から得られるそれらのコポリマ
ー、リグニンスルホン酸及びその塩、タンニン、
ナフタレンスルホン酸／ホルムアルデヒド縮合生
成物、デンプン及びその誘導体、セルロース、ア
クリル酸／低級アルキルヒドロキシアクリレート
コポリマー、例えば合衆国特許第4029577号に記
載されている化合物、スチレン／無水マレイン酸
コポリマー及びスルホン化スチレンホモポリマ
ー、例えば合衆国特許第4374733号に記載されて
いる化合物及びそれらの配合物と共に使用するこ
ともできる。特殊な限界処理剤は例えば２−ホス
ホノブタン−１，２，４−トリ−カルボン酸、ア
セトジホスホン酸、ポリマレイン酸無水物の水解
物及びその塩、アルキルホスホン酸、ヒドロキシ
ホスホノ酢酸１−アミノアルキル−１，１−ジホ
スホン酸及びそれらの塩、並びにアルカリ金属ポ
リホスフエートも使用し得る。アルカリ金属オルトホスフエート、炭酸塩の様
な沈殿剤；アルカリ金属スルフイツト及びヒドラ
ジンの様な酸素除去剤；ニトリロトリ酢酸及びそ
の塩の様な金属イオン封鎖剤；シリコン、例えば
ポリジメチルシロキサン、ジステアリルセバカミ
ド、ジステアリルアジパミド及びエチレンオキサ
イド及び／またはプロピレンオキサイド縮合物か
ら誘導される関連生成物、さらに脂肪アルコー
ル、例えばカプリルアルコール及びそれらのエチ
レンオキサイド縮合物の様な消泡剤；殺生物剤、
例えばアミン、第四アンモニウム化合物、クロロ
フエノール、スルホン、メチレンビスチオシアネ
ート及びカルバメートの様なイオウ含有化合物、
イソチアゾロン、臭化プロピオンアミド、トリア
ジン、リン化合物、塩素及び塩素放出剤並びにト
リブチルスズオキサイドの様な有機金属化合物が
使用し得る。本発明の方法により処理されるべき系が完全に
水性ではない場合、例えば水性機械加工流体配合
物は例えば水で希釈可能な切断もしくは磨砕流体
であり得る。本発明の水性機械加工流体配合物は、たとえば
金属加工配合物であつてもよい。「金属加工」と
いう語は、「リーマ加工、ブローチング、延伸、
スピニング、切削、研削、穿孔、微粉砕、旋削、
のこ引き、非切削造形または圧延」を意味する。
腐蝕抑制組成物を含浸させてもよい。水で希釈さ
れ得る切削または研削流体の例としては下記のも
のを包含する：ａ）本発明による１種以上の腐蝕抑制剤、およ
び所望により１種以上の耐摩耗性添加剤からな
り、通常摩砕流体として１：50ないし１：100
の希釈度で使用される水性濃厚物；ｂ）殺生物剤、本発明による摩蝕抑制剤および
耐摩耗性添加剤を含有し、切削操作用として
１：20ないし１：40の希釈度で、また摩砕用と
して１：60ないし１：80の希釈度で使用される
ポリグリコール；ｃ）上記ｂ）と類似する流体であつて、さら
に、水で希釈すると半透明な生成物となる、充
分な乳化剤を伴なつた10ないし25％油を含有す
る半合成切削用流体；ｄ）たとえば乳化剤、本発明による摩蝕抑制剤
高圧／耐摩耗性添加剤、殺生物剤、消泡剤、カ
ツプリング剤などを含有する乳化性鉱油濃厚
物。これらは通常、水により１：10ないし１：
50の割合で希釈されて不透明な白色エマルジヨ
ンとされる。ｅ）上記ｄ）に類似する生成物であつて、１：
50ないし１：100の範囲の希釈度で切削または
摩砕操作用の透明なエマルジヨンとされる、上
記ｄ）の流体に比してより少ない油およびより
多い乳化剤を含有する生成物。水性系成分が水性機械加工流体配合物である、
これらの部分的水性系において、本発明の抑制剤
は、単独で、または他の添加剤たとえば公知の他
の摩蝕抑制剤および／または極圧添加剤と混合し
て使用し得る。これらの水性系において本発明に係る抑制剤組
成物とともに使用され得る他の摩蝕抑制剤の例と
しては、下記群を包含する：ａ）有機酸、そのエステルまたはアンモニウ
ム、アミン、アルカノールアミンおよび金属
塩、たとえば、安息香酸、ｐ−第三ブチル安息
香酸、セバシン酸二ナトリウム、ラウリン酸ト
リエタノールアミン、イソ−ノナン酸、（ｐ−
トルエンスルホンアミドカプロン酸のトリエ
タノールアミン塩、ベンゼンスルホンアミドカ
プロン酸のトリエタノールアミン塩、欧州特許
出願第41927号に記載された５−ケトカルボン
酸誘導体のトリエタノールアミン塩、Ｎ−ラウ
ロイルサルコシン酸ナトリウムまたはノニルフ
エノキシ酢酸；ｂ）下記種類のような窒素含有物質：脂肪酸ア
ルカノールアミド；イミダゾリン、たとえば１
−ヒドロキシ−エチル−２−オレイル−イミダ
ゾリン；オキサゾリン；トリアゾール、たとえ
ばベンゾトリアゾール；またはそれらのマンニ
ツヒ塩基誘導体；トリエタノールアミン、脂肪
アミン；および無機塩、たとえば硝酸ナトリウ
ム；欧州特許出願第46139号に記載されたカル
ボキシ−トリアジン化合物；ｃ）下記種類のような燐含有物質：燐酸アミ
ン、ホスホン酸または無機塩、たとえば燐酸水
素ナトリウムまたは燐酸亜鉛；ｄ）下記種類のような硫黄含有化合物：石油ス
ルホン酸ナトリウム、カルシウムもしくはバリ
ウム、または複素環式化合物、たとえばナトリ
ウムメルカプトベンゾチアゾール。窒素含有物質、特にトリエタノールアミンが好
ましい。本発明によつて処理される系に浅在させ得る極
圧添加剤の例としては、硫黄および／または燐お
よび／またはハロゲン含有物質、たとえば硫黄化
マツコウ油、硫黄化脂肪、リン酸トリトリル、塩
素化パラフインまたはエトキシル化燐酸エステル
を包含する。トリエタノールアミンを本発明によつて処理さ
れる水性系に存在させる場合、抑制剤組成物とト
リエタノールアミンとの比が２：１ないし１：20
となるような量で存在させることが好ましい。本発明方法によつて処理される部分的水性系は
水性表面塗布組成物、たとえば金属基質用のエマ
ルジヨンペイントおよび水性粉末塗料であり得
る。水性表面塗装組成物は、金属基質を塗装するた
めの、たとえばスチレン−アクリルコポリマーエ
マルジヨンペイントのようなペイント、樹脂、ラ
テツクス、または他の水性ポリマ表面塗装系であ
る。本発明により使用される抑制剤組成物は表面
塗装の施用中における金属基質の流出錆（flash
rusting）を防止するために、そして塗装された
金属の使用中におけるその後の腐蝕を防止するた
めに利用され得る。本発明方法によつて処理される水性表面塗装組
成物において、抑制剤組成物は単独で、または他
の添加剤たとえば公知の摩蝕抑制剤、殺生剤、乳
化剤および／または顔料と混合して使用され得
る。使用され得る他の公知摩蝕抑制剤は、たとえば
前述した類ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）のものであ
る。式の化合物とともに、これらの水性系に使用
され得る殺生剤の例としては、下記のものを包含
する：フエノール、ならびにアルキル−およびハロゲ
ン化フエノール、たとえばペンタクロロフエノー
ル、０−フエニルフエノール、０−フエノキシフ
エノールおよび塩素化０−フエノキシフエノー
ル；サリチルアニリド；ジアミン；トリアジン；
および有機金属化合物、たとえば有機水銀化合物
および有機錫化合物。式の化合物とともに、これらの水性系に使用
され得る顔料の例としては、二酸チタン、クロム
酸亜鉛、酸化鉄およびフタロシアニンのような有
機顔料を包含する。式のコテロマーを含有する生成物はまた一般
的な付着物、例えば鉄酸化物及び／または鉄塩、
カルシウム及びマグネシウム付着物、例えばそれ
らの炭酸塩、硫酸塩、シユウ酸塩及びリン酸塩、
及び沈泥、アルミナ、ケイソウ土並びにその様な
水中に発見される粘土に対する分散剤及び／また
は防汚剤としても作用する。特に本発明の方法は５ないし1500重量ppmのカ
ルシウムイオン並びに分散された固体を含有する
水性系中の沈積物を分散する為に適用され得る。
本発明のこの用途によりチヤイナクレー産業にお
いて、粘土抗から使用者へ輸送する間に目に見え
る程の分離をしないスラリーを得る為に重要であ
る利用法が見出された。これらのスラリー中に固
体を高濃度で懸濁する場合、式のコテロマーが
チヤイナクレーを分散し、“in−process”の分散
剤として、並びに磨砕助剤として価値があること
が見出された。本発明の方法はまた、アルミニウムもしくはそ
の合金に陽極酸化により生成した酸化層のシール
課程で望ましくない水酸化アルミニウム（シール
汚れ）の生成を抑制するためにも適用される。こ
の場合、式の化合物は、アルミニウム（合金）
の表面に陽極酸化により生成した酸化層のシール
に使用される水溶液に、シール汚れ抑制剤として
添加し得る。この溶液はPH４ないし８で、そして
90ないし100℃で使用するのが便利である。下記の実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。実施例１モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が４
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート（84.7：15.3）のコテロマー水70ｇ中の次亜リン酸ナトリウム18.2ｇ
（0.206モル）の溶液を75℃に加熱する。この溶液
にａ）水109ｇ中にの過流酸ナトリウム6.37ｇの
溶液及びｂ）アクリル酸54ｇ（0.75モル）と２−
ヒドロキシプロピルアクリレート9.75ｇ（0.075
モル）の混合物を２時間かけて同時に添加する。
添加完了後に反応混合物を85℃に加熱しこの温度
を90分間維持する。固体含有率32.9％の白色水溶液263ｇが得られ
る。実施例２モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が16
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート（84.7：15.3）のコテロマー水52ｇに溶解した次亜リン酸ナトリウム4.54ｇ
（0.0516モル）を用いること及び過硫酸ナトリウ
ムを水100ｇに溶解すること以外は実施例１の方
法を実施する。固体含有率33.1％の淡黄色溶液221ｇが得られ
る。実施例３モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が４
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート（62.4：37.6）のコテロマー反応剤を下記の量で使用して実施例１の方法を
実施する。水100ｇに溶解する次亜リン酸ナトリウム
17.6ｇ（0.2モル）水90ｇに溶解する過硫酸ナトリウム 6.82ｇアクリル酸 43.2ｇ（0.6モル）２−ヒドロキシプロピルアクリレート
26ｇ（0.2モル）固体含有率32.4％の白色水溶液282ｇが得られ
る。実施例４モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が16
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート（62.4：37.6）のコテロマー反応剤を下記の量で使用して実施例１の方法を
実施する。水63ｇに溶解する次亜リン酸ナトリウム
4.4ｇ（0.05モル）水100ｇに溶解する過硫酸ナトリウム 6.92ｇアクリル酸 43.2ｇ（0.6モル）２−ヒドロキシプロピルアクリレート
26ｇ（0.2モル）固体含有率32.8％の淡黄色溶液241ｇが得られ
る。実施例５モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が16
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸とビニルスルホン酸ナトリウム
（35.6：64.4）のコテロマー水100ｇ中に次亜リン酸ナトリウム5.5ｇ
（0.0625モル）の溶解した溶液を還流温度で加熱
する。この溶液にａ）水100ｇ中に過硫酸ナトリ
ウム10.1ｇを溶解した溶液及びｂ）アクリル酸36
ｇ（0.5モル）と35％のビニルスルホン酸ナトリ
ウム水溶液188ｇ（0.5モル）の混合物を２時間か
けて添加する。添加の完了後、反応混合物を更に
２時間還流温度で加熱する。蒸発の為の装置を付け、固体含有率が51.1％に
なるまで濃縮する。 ³¹P NMR分析によりH₃PO₄を基準として54.3
−47.5の位置のピーク（モノマー−Ｐ−モノマー
による）が得られる。実施例６モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が24
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸とＮ−アクリルアミドプロパンス
ルホン酸（41：59）のコテロマー水100ｇ中に次亜リン酸ナトリウム2.75ｇ
（0.03125モル）を溶解した溶液を還流温度で加熱
する。この溶液にａ）水100ｇ中に過硫酸ナトリ
ウム6.9ｇを溶解した溶液及びｂ）水150ｇ中にア
クリル酸36ｇ（0.5モル）とアクリルアミドプロ
パンスルホン酸51.75ｇ（0.25モル）を溶解した
溶液を２時間かけて同時に添加する。添加完了
後、反応混合物を還流温度でさらに２時間加熱す
る。固体含有率が23.7％であり、³¹P³¹NMRにより
H₃PO₄を基準として54.2（モノマーＰ−モノマー
による）と36.0（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置にピ
ークを示す溶液444.5ｇを得る。実施例７モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が４
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート（86.1：13.9）のコテロマー水70ｇ中の次亜リン酸ナトリウム18.15ｇ
（0.206モル）の溶液を75℃に加熱する。この溶液
にａ）水106.9ｇ中の過硫酸ナトリウム6.27ｇの
溶液及びｂ）アクリル酸54ｇ（0.75モル）と２−
ヒドロキシエチルアクリレート8.7ｇ（0.075モ
ル）の混合物を２時間かけて同時に添加する。添
加完了後に反応混合物を85℃に加熱しこの温度を
２時間維持する。固体含有率33％の淡黄色水溶液260ｇが得られ
る。実施例８モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が16
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート（86.1：13.9）のコテロマー水49ｇ中に次亜リン酸ナトリウム4.54ｇ
（0.0516モル）を溶解した溶液と水100ｇ中に過硫
酸ナトリウム6.27ｇを溶解した溶液を使用するこ
と以外は実施例７の方法に従う。固体含有率33.3％の淡黄色の溶液221ｇが得ら
れる。実施例９モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が４
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシエマルアクリレ
ート（65：35）のコテロマー水80ｇ中に次亜リン酸ナトリウム14.7ｇ
（0.167モル）を溶解した溶液、水73.5ｇ中に過硫
酸ナトリウム5.53ｇを溶解した溶液、アクリル酸
36ｇ（0.5モル）及び２−ヒドロキシエチルアク
リレート19.37ｇ（0.167モル）を用いること以外
は実施例７の方法を実施する。実施例 10 モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が16
対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸と２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート（65：35）のコテロマー反応剤を下記の量で使用して実施例７の方法を
実施する。水40ｇ中に溶解する次亜リン酸ナトリウム
3.67ｇ（0.0418モル）水90ｇに溶解する過硫酸ナトリウム 5.53ｇアクリル酸 36ｇ（0.5モル）２−ヒドロキシエチルアクリレート
19.37ｇ（0.167モル）実施例 11 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有す
るアクリル酸とアクリルアミド（70：30）のコテ
ロマー：還流温度の水150ｇに：ａ）水450ｇ中にアクリル酸151.2ｇ、アクリル
アミド64.8ｇ及び次亜リン酸ナトリウム16.5ｇ
を溶解した溶液及びｂ）水450ｇ中に過硫酸ナトリウム4.44ｇを溶
解した溶液を２時間かけて同時に添加する。添加完了後、反応混合物を還流温度でさらに２
時間加熱する。その後、室温に冷却する。固体含有率が19.9％であり、³¹PNMR分析によ
りH₂PO₄を基準として41.2（モノマー−Ｐ−モノ
マーによる）と26.1（Ｈ−Ｐ−モノマーによる）
の位置にピークを示す白色水溶液1137ｇが得られ
る。実施例 12 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸とアクリルアミドグリコール酸
（83.2：16.8）のコテロマー水50ｇに次亜リン酸ナトリウム4.54ｇを溶解し
た100℃の溶液にａ）水100ｇ中に過硫酸ナトリウム6.37ｇを溶
解した溶液ｂ）アクリル酸54ｇ中にアクリルアミドグリコ
ール酸10.9ｇを溶解した溶液を２時間かけて同時に添加する。添加完了後、反応混合物を還流温度でさらに２
時間加熱した後、室温に冷却する。固体含有率が32.7％であり、³¹PNMR分析によ
り、H₃PO₄を基準として51.2−48.5（モノマー−
ｐ−モノマーによる）及び31.6−24.8（Ｈ−Ｐ−
モノマーによる）にピークを示す琥珀色の溶液
221ｇが得られる。実施例 13 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とスチレン（87.4：12.6）とのコテ
ロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をスチレン7.8ｇに置き変えて実施する。乳濁した分散液219ｇが得られ、これを多孔焼
結漏戸No.４で過すると固体含有率が32.5％であ
り、³¹PNMR分析によりH₃PO₄を基準として53.2
−50.2（モノマー−Ｐ−モノマー）及び33.0−30.3
（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置にピークを示す淡黄
色溶液218ｇが得られる。実施例 14 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とジメチルマレエート（83.3：
16.7）とのコテロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をジメチルマレエート10.8ｇに置き変えて実
施する。固体含有率が32.2％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として53.2−50.2（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び36.5（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位
置にピークを示す淡黄色溶液223.4ｇが得られる。実施例 15 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とクロトン酸（89.3：10.7）とのコ
テロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をクロトン酸6.45ｇに置き変えて実施する。固体含有率が32.1％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として54.4−48.7（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び27.0（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位
置にピークを示す白色水溶液218.7ｇが得られる。実施例 16 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とエチル−α−ヒドロキシメチルア
クリレート（85.4：14.6）とのコテロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をエチル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト9.25ｇに置き変えて実施する。固体含有率が33.0％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として52.2−49.5（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び27.6−25.7（Ｈ−Ｐ−モノマー）
の位置にピークを示す透明溶液222.3ｇが得られ
る。実施例 17 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とメタクリル酸（89.3：10.7）との
コテロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をメタクリル酸5.46ｇに置き変えて実施す
る。固体含有率が32.0％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として51.4−49.8（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び27−25（Ｈ−Ｐ−モノマー）の
位置にピークを示す透明溶液218.8ｇが得られる。実施例 18 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とビニルアセテート（89.3：10.7）
とのコテロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をビニルアセテート6.45ｇに置き変えて実施
する。固体含有率が31.6％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として51−49.9（モノマー−Ｐ−
モノマー）及び26.7−24.6（Ｈ−Ｐ−モノマー）
の位置にピークを示す溶液219.1ｇが得られる。実施例 19 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とアリルアルコール（92.5：7.5）
とのコテロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をアリルアルコール4.35ｇに置き変えて実施
する。固体含有率が31.7％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として54.8−49.9（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び26.9（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位
置にピークを示す溶液215.4ｇが得られる。実施例 20 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とジエチルビニルホスホネート
（81.5：18.5）とのコテロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をジエチルビニルホスホネート12.3ｇに置き
変えて実施する。固体含有率が33.7％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として51.6−50（モノマー−Ｐ−
モノマー）及び34.5−32.5（Ｈ−Ｐ−モノマー）
の位置にピークを示す溶液223.7ｇが得られる。実施例 21 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とＮ−ヒドロキシメチルアクリルア
ミド（87.7：12.3）とのコテロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をＮ−ヒドロキシメチルアクリルアミド7.57
ｇに置き変えて実施する。固体含有率が31.4％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として50.4−47.7（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び26.5−24.5（Ｈ−Ｐ−モノマー）
の位置にピークを示す溶液209.9ｇが得られる。実施例 22 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムの比が16：
１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有する
アクリル酸とイタコン酸（84.6：15.4）とのコ
テロマー実施例12の方法を、アクリルアミド−グリコー
ル酸をイタコン酸9.8ｇに置き変えて実施する。固体含有率が32.7％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として50.9−49.5（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び26.0（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位
置にピークを示す溶液218.5ｇが得られる。実施例 23 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸とビニルスルホン酸ナトリウム
（84.7：15.3）のコテロマー水50ｇ中に次亜リン酸ナトリウム4.54ｇを溶解
した溶液を100℃に加熱する。この溶液にａ）水
70.7ｇに過硫酸ナトリウム6.37ｇを溶解した溶液
及びｂ）アクリル酸54ｇと25％のビニルスルホン
酸ナトリウム水溶液39ｇの混合物を２時間かけて
添加する。添加完了後、反応混合物を還流温度でさらに２
時間加熱した後室温に冷却して水48ｇで希釈す
る。固体含有率が27.3％であり、³¹PNMR分析によ
りH₃PO₄を基準として52.4−49.3（モノマー−Ｐ
−モノマー）及び27.4−25.4（Ｈ−Ｐ−モノマー）
の位置にピークを示す溶液269.7ｇが得る。実施例 24 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16対１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸と３−ブテン−１，２，３−ト
リカルボン酸（79.3：20.7）のコテロマー 100℃の水50ｇにａ） 150ｇの水にアクリル酸64.8ｇ、３−ブテ
ン−１，２，３−トリカルボン酸16.9ｇ及び次
亜リン酸ナトリウム5.44ｇを溶解した溶液及びｂ） 150ｇの水に過硫酸ナトリウム4.1ｇを溶解
した溶液を２時間かけて同時に添加する。添加完了後、反応混合物を還流温度でさらに２
時間加熱した後、室温に冷却する。固体含有率が
30.2％であり、³¹PNMR分析によりH₃PO₄を基準
として48.4（モノマー−Ｐ−モノマー）及び28.3
（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置にピークを有する白
色水溶液503.3ｇが得られる。実施例 25 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16：１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸と（２−カルボキシエチル）ア
クリレート（75：25）のコテロマー溶液ａ）がアクリル酸60ｇ、（２−カルボキシ
エチル）アクリレート20ｇ及び次亜リン酸ナトリ
ウム5.3ｇを含有すること、及び溶液ｂ）が過硫
酸ナトリウム1.4ｇを含有すること以外は実施例
24の方法を実施する。固体含有率が20.3％であり、³¹PNMR分析によ
り各々H₃PO₄を基準として46.0（モノマー−Ｐ−
モノマー）及び27.1（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置
にピークを示す白色水溶液399.3ｇが得られる。実施例 26 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16：１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸とアクリル酸３−スルホプロピ
ルエステルカリウム塩（75.6：24.4）のコテロ
マー溶液ａ）において３−ブテン−１，２，３−ト
リカルボン酸をアクリル酸３−スルホプロピルエ
ステルカリウム塩20.9ｇで置き換えること、及び
溶液ｂ）が過硫酸ナトリウム1.5ｇを含有するこ
と以外は実施例24の方法を実施する。固体含有率が21.8％であり、³¹PNMR分析によ
り各々H₃PO₄を基準として45.5（モノマー−Ｐ−
モノマー）及び27.2（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置
にピークを示す白色水溶液421.6ｇが得られる。実施例 27 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16：１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸とメタクリル酸ポリエチレング
リコールエステル（ポリエチレングリコールの
分子量は90である）との81.8：18.2の比のコテ
ロマーアクリル酸３−スルホプロピルエステルカリウ
ム塩をポリエチレングリコールメタリレート14.4
ｇに置き変えて実施例26の方法を実施する。固体含有率が18.7％であり、³¹PNMR分析によ
り各々H₃PO₄を基準として45.8（モノマー−Ｐ−
モノマー）及び27.0（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置
にピークを示す白色水溶液440.5ｇが得られる。実施例 28 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16：１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸とアクリルアミドメチル−プロ
パン−２−スルホン酸（AMPSモノマー）
（77.7：22.3）のコテロマーアクリル酸３−スルホプロピルエステルカリウ
ム塩をAMPSモノマー18.6ｇで置き換えて実施例
26の方法を実施する。固体含有率が21.8％であり、³¹PNMR分析によ
り各々H₃PO₄を基準として51.5（モノマー−Ｐ−
モノマー）及び32.7（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置
にピークを示す白色水溶液410.5ｇが得られる。実施例 29 総モノマー対次亜リン酸ナトリウムのモル比が
16：１となる様に次亜リン酸ナトリウムを含有
するアクリル酸とＮ−ビニル−Ｎ−メチルアセ
トアミド（87.9：12.1）のコテロマーアクリル酸３−スルホプロピルエステルカリウ
ム塩をＮ−ビニル−Ｎ−メチル−アセトアミド
8.9ｇで置き換えて実施例26の方法を実施する。固体含有率が17.5％であり、³¹PNMR分析によ
り各々H₃PO₄を基準として45.8（モノマー−Ｐ−
モノマー）及び27.0（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置
にピークを示す白色水溶液431.2ｇが得られる。実施例 30 総モノマー対次亜リン酸塩のモル比が16対１と
なる様に次亜リン酸ナトリウムを含有するメタ
クリル酸と２−アクリルアミド−２−メチル−
プロパンスルホン酸（80.6：19.4）のコテロマ
ー還流温度の水50ｇにａ） 50ｇの水にメタクリル酸77.4ｇ、２−アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸
18.6ｇ及び次亜リン酸ナトリウム5.5ｇ及び40
％水酸化ナトリウム水溶液50ｇを溶解した溶液
及びｂ） 10ｇの水に過硫酸ナトリウム３ｇを溶解し
た溶液を２時間かけて同時に添加する。添加完了後、反応混合物を還流温度でさらに２
時間加熱した後、室温に冷却する。固体含有率が
29.5％であり、³¹PNMR分析によりH₃PO₄を基準
として41.2（モノマー−Ｐ−モノマー）及び27.3
−32.8（Ｈ−Ｐ−モノマー）の位置にピークを有
する白色水溶液426.5ｇが得られる。実施例 31及び32 NACE限界試験（Threshold Test）一方解石
相における炭酸カルシウムの沈殿抑制
（NACE＝National Association of
Corrosion Engineers）硝酸カルシウム溶液（Ca（NO₃）₂・4H₂O1.470
ｇ／）及び炭酸ナトリウム溶液（Na₂CO₃0.646
ｇ／）を蒸留水を用いて製造する。溶液Ａとして実施例２及び８の生成物の各々
0.1％（重量／容量）溶液を蒸留水を用いて製造
する。硝酸カルシウム溶液50mlをねじ込キヤツプを付
けた小さなガラスびん（容量112ml）に入れる。
この溶液に最終的な試験溶液の量（100ml）にお
いて所望の試験化合物濃度を達成するのに充分な
量の蒸留水中の試験化合物溶液を添加する。従つ
て試験化合物の0.1％溶液1.0mlを添加することに
より最終溶液中の試験化合物濃度は10ppmとな
る。炭酸ナトリウム溶液50mlを混合する為に振盪で
きるびんに入れる。びんを密封し、恒温の湯浴に
25℃で24時間浸漬する。試験溶液25ml、２ペレツトの水酸化ナトリウム
及び２結晶のパツトンとリーダー（Patton and
Reeder）の試薬〔２−ヒドロキシル−１−（２−
ヒドロキシ−４−スルホ−１−ナフチルアゾ−３
−ナフトン酸〕を取出し、その混合物を固体が溶
解する様に振盪する。溶解したカルシウムはEDTA二ナトリウム
0.01M標準試薬で終点の青色から桃色の根跡が全
く認められなくなるまで滴定する。炭酸カルシウム沈殿の抑制率は下記の式から計
算する。抑制率（％）＝滴定値−空試験の滴定値／7.78−空試
験の滴定値×100／１空試験の滴定値はスケール抑制剤を含まない試
験溶液から得られ、7.78は滴定し得る最大値であ
り、100％の抑制率を示す。得られた結果を第表に示す。

【表】実施例 33ないし41 リン酸カリシウム限界試験塩化カルシウム溶液（CaCl₂・2H₂O36.76ｇ／
）及びリン酸水素二ナトリウム溶液
（Na₂HPO₄・2H₂O0.9367ｇ／）を蒸留水を用
いて製造する。実施例２，４，11，16，18，20，27，28及び29
の生成物の各0.1％（重量／容量）溶液を各々蒸
留水を用いて製造する。あらかじめ熱クロム酸で洗浄した容量２のフ
ラスコ中の蒸留水1800mlに塩化カルシウム溶液20
ml、続いて濃塩酸２滴を添加する。続いてリン酸
水素二ナトリウム溶液40mlを添加する。混合物の
量を蒸留水で２にする。混合溶液の100mlをね
じ込みキヤツプを付けた小ガラスびん（容量112
ml）に入れる。この溶液に最終的な試験溶液の量
（100ml）中で所望の試験化合物濃度を達成するの
に充分な量の試験化合物溶液を添加する。従つて
0.1％の試験化合物溶液を1.0ml添加することによ
り、最終溶液の試験化合物濃度は10ppmとなる。混合溶液のPHを8.0に合わせ、びんを密封した
後水浴中60℃で24時間放置する。試料をとり、0.22μの紙で熱時過する。
液を20℃に冷却し、PH値を記録した後、そのリン
酸塩含量を下記の分光光度法によつて調べる。下記の溶液を製造する。Ａモリブデン酸アンモニウム溶液モリブデン酸アンモニウム25ｇを蒸留水175ml
に溶解する。濃硫酸（比重1.84）280mlを冷却及
び撹拌しながら注意深く蒸留水400mlに添加する。
冷後、モリブデン酸塩溶液を添加し、蒸留水で全
体を1000mlにする。Ｂ塩化第一スズ溶液塩化第１スズ（SnCl₂・2H₂O）2.5ｇをグリセ
ロール100ml（126ｇ）に溶解する。６個のリン酸水素ナトリウムの希釈液のリン酸
塩濃度を示す検量線（6ppmないし1ppmの範囲）
を作成する。続いて、リン酸塩含有量の分光光度分析を下記
の様に行なう。既に製造してある希釈液（検量線用のもの）も
しくは液（上記の実験方法による）2.5mlを蒸
留水40mlを含有する容量50mlの標準容量分析計に
入れる。モリブデン酸アンモニウム溶液2.0mlを
添加し、全体をよく混合する。最後に塩化第１ス
ズ指薬５滴を添加し、全量を50mlにした後、混合
物をよく振盪する。リン酸塩を除いた対照用サンプルは上記の様に
製造される。青色を少なくとも４分間持続させた後４cmのセ
ルを用いて690nmにおける光学的濃度（OD）を
測定する。各々の検体の読みとり光学濃度から対
照用サンプルの値を引く。検量線はPO³ ₄ ^-濃度（ppm）をｘ軸に光学的濃
度の示度をｙ軸にとつて作成し、液のリン含有
量を調べる為に、測定された光学的濃度に対応す
るPO³ ₄ ^-濃度（ppm）を検量線から直接読みとり、
結果を２倍にする。リン酸カルシウムの沈殿の抑制率（％）を下
記の式から計算する。＝ｘ−ｙ／10−ｙ×100／１（％）上記式中、ｘは液のPO³ ₄ ^-濃度（ppm）を表
わし、ｙは添加剤を加えない対照液のPO³ ₄ ^-濃
度（ppm）を表わす。結果を下記の第表に示す。

【表】

【表】実施例 42ないし47 予め沈殿させたリン酸カルシウムの分散試験 CaCl₂・6H₂O18.42ｇ及びNa₃PO₄・
12H₂O32.20ｇを含有する混合物を16の水道水
（イギリス国マンチエスター）中に40℃で２日間
循環させることによりリン酸カルシウム懸濁液を
製造する。この製造された懸濁液のPH値は9.5な
いし10.0であり沈殿しているリン酸カルシウム濃
度は水酸化リン灰石として558ppmである。（これ
はマンチエスターの水道水に既に存在しているカ
ルシウム並びに添加されたカルシウムの量を考慮
している。）上記の懸濁液の100mlをとり、1Mの塩酸溶液を
用いてPHを8.0に調整する。各々の試験化合物の0.1重量／容量％の蒸留水
溶液を製造し、その溶液の1.0mlをねじ込みキヤ
ツプ付ガラスびん中の上記の懸濁液100mlにピペ
ツトで移し、10ppmの濃度の添加剤溶液を得る。その後直ちに４cmのセルを用いて420nmの波長
における蒸留水に対する試験化合物溶液の光学的
濃度を測定する。（時間：ｏ）セル中の懸濁液を動揺を最少限に抑えて静置
し、90分間及び120分間の間隔をあけて再び光学
濃度を測定する。（時間：ｘ）カルシウムの値（Ca²⁺）は222.3mg／（マン
チエスターの水道に既に存在しているカルシウム
及び添加したカルシウムの量を考慮して）であ
り、リン酸塩（PO³ ₄ ^-）の値は503.1mg／であ
る。沈殿の抑制率（％）は下記の式から計算され
る。＝時間(x)におけるサンプルの光学的濃度／時間(o)に
おけるサンプルの光学的濃度×100 上記式中、ｘは90もしくは120（分間）を示す。結果を第表に要約する。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１次式：〔式中、Ａは少なくとも１個の次式：で表わされる単位及び少なくとも１個の式の単
位とは異なる次式：で表わされる単位を含有するランダム重合性残基
を表わし、Ｂは水素原子または残基Ａを表わし、ｍ及びｎは、ｍとｎの合計が３ないし100とな
り、ｍ対ｎの比が99ないし１対１ないし99となる
様な整数を表わし、ただし得られたテロマーは水
溶性であり、残基Ａ中のｍ及び／またはｎは残基
Ｂ中のｍ及び／またはｎと同じでも異つていても
よく、Ｒは水素原子、メチル基またはエチル基を表わ
し、 R₁は次式：−OX（式中、Ｘは水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム残基
またはアミン残基を表わす）で表わされる残基を
表わし、 R₂は水素原子、メチル基または次式：−
CO₂R₅ （式中、R₅は水素原子または所望により水酸
基で置換された、炭素原子数１ないし８の直鎖も
しくは分枝鎖のアルキル基を表わす）で表わされ
る残基を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし４の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基、ヒドロキシメチル
基または次式：−CO₂R₆｛式中、R₆は水素原子、
次式：【式】で表わされる基、次式：−〔CH₂−CH（R₉）Ｏ〕zH（式中、R₉は水素
原子、メチル基またはフエニル基を表わし、そし
てｚは１ないし20の整数を表わす）で表わされる
基を表わすか、またはR₆は所望により水酸基も
しくは次式：SO₃M（式中、Ｍは水素原子または
アルカリもしくはアルカリ土類金属原子を表わ
す）で表わされる基で置換された炭素原子数１な
いし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す｝で表わされる残基を表わし、 R₄は次式：−CO₂R₆（R₆は前記で定義した意味
を表わす）で表わされる置換基、所望により１個
もしくは２個のカルボキシル基で置換された炭素
原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基、フエニル基、アセチル基、ヒドロキシメチ
ル基、酢酸メチル基、次式：−SO₃M、−
CH₂SO₃Mもしくは−PO₃M₂（式中、Ｍは水素原
子またはアルカリもしくはアルカリ土類金属原子
を表わす）で表わされる基、−CONR₇R₈｛式中、
R₇及びR₈は同一または異なつて各々水素原子、
炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、ヒドロキシメチル基、または次式：−
CH（OH）CO₂M、−Ｃ（CH₃）₂CH₂SO₃Mもしく
は−Ｃ（CH₃）₂CH₂PO₃M₂（式中、Ｍは前記で定義
した意味を表わす）で表わされる基を表わす｝で
表わされる基、または次式：−Ｎ（R₁₀）COCH₃
（式中、R₁₀は水素原子もしくは炭素原子数１な
いし４の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す）で表わされる基を表わす〕で表わされるコテ
ロマー化合物及びその塩。２上記式中、Ｒが水素原子を表わす特許請求
の範囲第１項記載の化合物。３上記式中、Ｂが残基Ａを表わす特許請求の
範囲第１項記載の化合物。４上記式中、R₁が次式：−OM（式中、Ｍは
上記式で定義した意味を表わす）の基を表わす
特許請求の範囲第１項記載の化合物。５上記式中、Ｂが残基Ａを表わし、R₂が水
素原子または次式：−COOR₅（式中、R₅は水素原
子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
わす）で表わされる基を表わし、R₃が水素原子
または次式：−CO₂R₆（式中、R₆は前記で定義し
た意味を表わす）で表わされる基を表わし、そし
てR₄は次式：−COOR₆（式中、R₆は水素原子も
しくは所望により水酸基で置換された炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表わす）で表わされる
基を表わすか、またはR₄は所望により１個もし
くは２個のカルボキシル基で置換された炭素原子
数１ないし８のアルキル基、フエニル基、アセト
メチル基、次式：−SO₃Mもしくは−PO₃M₂（式
中、Ｍは上記式で定義した意味を表わす）で表
わされる基、次式：−CONR₇R₈（式中、R₇及び
R₈は上記式で定義した意味を表わす）で表わ
される基、または次式：−Ｎ（R₁₀）COCH₃（式
中、R₁₀は上記式で定義した意味を表わす）で
表わされる基を表わし、R₁が上記式で定義し
た意味を表わし、ｍとｎの合計が３ないし32であ
る特許請求の範囲第２項記載の化合物。６次式： CH₂＝CR−CO₂H () （式中、Ｒは後記式で定義する意味を表わ
す）で表わされる酸ｎモル（ｎは後記式で定義
する意味を表わす）と次式：（式中、R₂，R₃及びR₄は後記式で定義する
意味を表わす）で表わされる化合物ｍモル（ｍは
後記式で定義する意味を表わす）と次式：（式中、R₁は後記式で定義する意味を表わ
す）で表わされる化合物１モルを反応させること
からなる次式：〔式中、Ａは少なくとも１個の次式：で表わされる単位及び少なくとも１個の式の単
位とは異なる次式：で表わされる単位を含有するランダム重合性残基
を表わし、Ｂは水素原子または残基Ａを表わし、ｍ及びｎは、ｍとｎの合計が３ないし100とな
り、ｍ対ｎの比が99ないし１対１ないし99となる
様な整数を表わし、ただし得られたテロマーは水
溶性であり、残基Ａ中のｍ及び／またはｎは残基
Ｂ中のｍ及び／またはｎと同じでも異つていても
よく、Ｒは水素原子、メチル基またはエチル基を表わ
し、 R₁は次式：−OX（式中、Ｘは水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム残基
またはアミン残基を表わす）で表わされる残基を
表わし、 R₂は水素原子、メチル基または次式：−
CO₂R₅（式中、R₅は水素原子または所望により水
酸基で置換された、炭素原子数１ないし８の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基を表わす）で表わさ
れる残基を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし４の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基、ヒドロキシメチル
基または次式：−CO₂R₆｛式中、R₆は水素原子、
次式：【式】で表わされる基、次式：−〔CH₂−CH（R₉）Ｏ〕zH（式中、R₉は水素
原子、メチル基またはフエニル基を表わし、そし
てｚは１ないし20の整数を表わす）で表わされる
基を表わすか、またはR₆は所望により水酸基も
しくは次式：SO₃M（式中、Ｍは水素原子または
アルカリもしくはアルカリ土類金属原子を表わ
す）で表わされる基で置換された炭素原子数１な
いし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す｝で表わされる残基を表わし、 R₄は次式：−CO₂R₆（R₆は前記で定義した意味
を表わす）で表わされる置換基、所望により１個
もしくは２個のカルボキシル基で置換された炭素
原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基、フエニル基、アセチル基、ヒドロキシメチ
ル基、酢酸メチル基、次式：−SO₃M、−
CH₂SO₃Mもしくは−PO₃M₂（式中、Ｍは水素原
子またはアルカリもしくはアルカリ土類金属原子
を表わす）で表わされる基、−CONR₇R₈｛式中、
R₇及びR₈は同一または異なつて各々水素原子、
炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、ヒドロキシメチル基または次式：−
CH（OH）CO₂M、−Ｃ（CH₃）₂CH₂SO₃Mもしく
は−Ｃ（CH₃）₂CH₂PO₃M₂（式中、Ｍは前記で定義
した意味を表わす）で表わされる基を表わす）で
表わされる基、または次式：−Ｎ（R₁₀）COCH₃
（式中、R₁₀は水素原子もしくは炭素原子数１な
いし４の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す）で表わされる基を表わす〕で表わされるコテ
ロマー化合物の製造方法。７次式：〔式中、Ａは少なくとも１個の次式：で表わされる単位及び少なくとも１個の式の単
位とは異なる次式：で表わされる単位を含有するランダム重合性残基
を表わし、Ｂは水素原子または残基Ａを表わし、ｍ及びｎは、ｍとｎの合計が３ないし100とな
り、ｍ対ｎの比が99ないし１対１ないし99となる
様な整数を表わし、ただし得られたテロマーは水
溶性であり、残基Ａ中のｍ及び／またはｎは残基
Ｂ中のｍ及び／またはｎと同じでも異つていても
よく、Ｒは水素原子、メチル基またはエチル基を表わ
し、 R₁は次式：−OX（式中、Ｘは水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム残基
またはアミン残基を表わす）で表わされる残基を
表わし、 R₂は水素原子、メチル基または次式：−
CO₂R₅（式中、R₅は水素原子または所望により水
酸基で置換された、炭素原子数１ないし８の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基を表わす）で表わさ
れる残基を表わし、 R₃は水素原子、炭素原子数１ないし４の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基、ヒドロキシメチル
基または次式：−CO₂R₆｛式中、R₆は水素原子、
次式：【式】で表わされる基、次式：−〔CH₂−CH（R₉）Ｏ〕zH（式中、R₉は水素
原子、メチル基またはフエニル基を表わし、そし
てｚは１ないし20の整数を表わす）で表わされる
基を表わすか、またはR₆は所望により水酸基も
しくは次式：SO₃M（式中、Ｍは水素原子または
アルカリもしくはアルカリ土類金属原子を表わ
す）で表わされる基で置換された炭素原子数１な
いし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す｝で表わされる残基を表わし、 R₄は次式：−CO₂R₆（R₆は前記で定義した意味
を表わす）で表わされる置換基、所望により１個
もしくは２個のカルボキシル基で置換された炭素
原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基、フエニル基、アセチル基、ヒドロキシメチ
ル基、酢酸メチル基、次式：−SO₃M、−
CH₂SO₃Mもしくは−PO₃M₂（式中、Ｍは水素原
子またはアルカリもしくはアルカリ土類金属原子
を表わす）で表わされる基、−CONR₇R₈｛式中、
R₇及びR₈は同一または異なつて各々水素原子、
炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、ヒドロキシメチル基または次式：−
CH（OH）CO₂M、−Ｃ（CH₃）₂CH₂SO₃Mもしく
は−Ｃ（CH₃）₂CH₂PO₃M₂（式中、Ｍは前記で定義
した意味を表わす）で表わされる基を表わす｝で
表わされる基、または次式：−Ｎ（R₁₀）COCH₃
（式中、R₁₀は水素原子もしくは炭素原子数１な
いし４の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
す）で表わされる基を表わす〕で表わされるコテ
ロマー化合物もしくはその塩の作用有効量を水性
系に添加することを特徴とする、金属表面上のス
ケール形成の抑制及び／または金属表面の腐食の
抑制及び／または水性系中の粒子の分散の促進及
び／または水性系からのシール汚れの付着の抑制
のために金属表面に接触した水性系を完全にもし
くは部分的に処理する方法。８上記式中、Ｒが水素原子を表わす特許請求
の範囲第７項記載の方法。９上記式中、残基Ｂが残基Ａを表わす特許請
求の範囲第７項記載の方法。１０上記式中、R₁が−OM（Ｍは上記式で
定義した意味を表わす）の基を表わす特許請求の
範囲第７項記載の方法。１１加熱した水性系が腐食抑制処理のみを必要
とし、式の化合物を0.1ないし50000ppmの量で
添加することを特徴とする特許請求の範囲第７項
記載の方法。１２式の化合物を１ないし500ppmの量で添
加することを特徴とする特許請求の範囲第１１項
記載の方法。１３水性系がスケール抑制処理のみを必要と
し、式の化合物を１ないし200ppmの量で添加
することを特徴とする特許請求の範囲第７項記載
の方法。１４式の化合物を１ないし30ppmの量で添加
することを特徴とする特許請求の範囲第１３項記
載の方法。１５水性系が希釈分散液であり、分散剤として
式の化合物を１ないし200ppmの量で添加する
ことを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の方
法。１６式の化合物を２ないし20ppmの量で添加
することを特徴とする特許請求の範囲第１５項記
載の方法。１７水性系がアルミニウムの表面に陽極酸化に
より製造された酸化層をシールする為に使用さ
れ、そして該水性系がシール汚れの抑制剤として
0.0005ないし0.5ｇ／の式の化合物を含有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の
方法。