JPH0559912B2 - - Google Patents
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- JPH0559912B2 JPH0559912B2 JP59056987A JP5698784A JPH0559912B2 JP H0559912 B2 JPH0559912 B2 JP H0559912B2 JP 59056987 A JP59056987 A JP 59056987A JP 5698784 A JP5698784 A JP 5698784A JP H0559912 B2 JPH0559912 B2 JP H0559912B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学活性な４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンの製造方法に関する。
クロペンテノンの製造方法に関する。
光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンは医・農薬中間体として非常に有用な化合物
であり、たとえば４(R)−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテンノンはPGE2、PGF2-〓などのプロスタン
グランデインの原料として利用されている。
ノンは医・農薬中間体として非常に有用な化合物
であり、たとえば４(R)−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテンノンはPGE2、PGF2-〓などのプロスタン
グランデインの原料として利用されている。
かかる光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノンを得る方法としては、たとえば特開昭
57−159777号公報に記載の方法が知られている。
ペンテノンを得る方法としては、たとえば特開昭
57−159777号公報に記載の方法が知られている。
この方法はラクトン類と４−ヒドロキシ−２−
シクロペンテノンをモル比１：1.2〜1.3で反応さ
せたのち一方の光学活性体を分離し、次いで加水
分解するものである。
シクロペンテノンをモル比１：1.2〜1.3で反応さ
せたのち一方の光学活性体を分離し、次いで加水
分解するものである。
ところで、同公報にはたとえば４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノンと（1R，5S）−６，６−
ジメチル−４−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ
〔３，１，10〕へキサン−２−オンとを反応させ
た場合に得られる（1R，5S）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４−(R)−〔１(R)−４−オキソ−２
−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，
０〕ヘキサン−２−オン（以下〔−ａ〕と呼
ぶ）と（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキ
サ−４(R)−〔１(S)−４−オキソ−２−シクロペン
テニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン
−２−オン（以下〔−ｂ〕と呼ぶ）のシクロペ
ンテノンエーテル類の生成比率に関する記載は全
く見られず、この混合物をカラムクロマトグラフ
イーで分離している実施例から判断しても、この
方法による場合の〔−ａ〕／〔−ｂ〕比はか
なり低いものであり、それ故に、かかる混合物か
らの光学活性体の単離についてはクロマト精製に
たよらざるを得ず、非常に繁雑な操作を必要とす
る。
−２−シクロペンテノンと（1R，5S）−６，６−
ジメチル−４−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ
〔３，１，10〕へキサン−２−オンとを反応させ
た場合に得られる（1R，5S）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４−(R)−〔１(R)−４−オキソ−２
−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，
０〕ヘキサン−２−オン（以下〔−ａ〕と呼
ぶ）と（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキ
サ−４(R)−〔１(S)−４−オキソ−２−シクロペン
テニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン
−２−オン（以下〔−ｂ〕と呼ぶ）のシクロペ
ンテノンエーテル類の生成比率に関する記載は全
く見られず、この混合物をカラムクロマトグラフ
イーで分離している実施例から判断しても、この
方法による場合の〔−ａ〕／〔−ｂ〕比はか
なり低いものであり、それ故に、かかる混合物か
らの光学活性体の単離についてはクロマト精製に
たよらざるを得ず、非常に繁雑な操作を必要とす
る。
また、その後の加水分解反応についても、水−
ジオキサンのように、水と水に可溶性の有機溶媒
との混合溶液で行うため、反応終了後の後処理、
精製についても問題があり、工業的製造として不
満足なものであつた。
ジオキサンのように、水と水に可溶性の有機溶媒
との混合溶液で行うため、反応終了後の後処理、
精製についても問題があり、工業的製造として不
満足なものであつた。
このようなことから、本発明者らは上記方法の
もつ問題を改良し、工業的有利に光学活性な４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを製造すべく
検討の結果、前記のラクトン類と４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノンを特定の反応モル比で、
かつ特定の触媒の存在下に反応させることによ
り、いずれか一方の光学活性体をその対掌体に対
して過剰量含む反応混合物を得ることができ、そ
の結果、晶析法により光学活性体の単離が非常に
容易となり、更にその後の加水分解反応も、有機
溶媒等を何ら必要とすることなく、水のみで容易
に実施することができ、かかる一連のプロセスに
より極めて有利に目的とする光学活性な４−ヒド
ロキシ−２−シクロペンテノンが得られることを
見出し、本発明を完成するに至つた。
もつ問題を改良し、工業的有利に光学活性な４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを製造すべく
検討の結果、前記のラクトン類と４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノンを特定の反応モル比で、
かつ特定の触媒の存在下に反応させることによ
り、いずれか一方の光学活性体をその対掌体に対
して過剰量含む反応混合物を得ることができ、そ
の結果、晶析法により光学活性体の単離が非常に
容易となり、更にその後の加水分解反応も、有機
溶媒等を何ら必要とすることなく、水のみで容易
に実施することができ、かかる一連のプロセスに
より極めて有利に目的とする光学活性な４−ヒド
ロキシ−２−シクロペンテノンが得られることを
見出し、本発明を完成するに至つた。
すなわち本発明は、４−ヒドロキシ−２−シク
ロペンテノンと（1R，5S）−６，６−ジメチル−
４−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンもしくは（1S，5R）−６，６
−ジメチル−４−ヒドロキシ−３−オキサビシク
ロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オンのラクトン
類を、４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを
ラクトン類に対して1.5〜２倍モル使用し、パラ
トルエンスルホン酸もしくはベンゼンスルホン酸
の存在下、共沸溶媒中で共沸脱水しながら反応さ
せて（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ
−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペンテ
ニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−
２−オンもしくは（1S，5R）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４(S)−〔１(S)−４−オキソ−２−
シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，
０〕ヘキサン−２−オンをそれぞれの対掌体に対
して過剰量含むシクロペンテノンエーテル類を
得、これを晶析法により（1R，5S）−６，６−ジ
メチル−３−オキサ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ
−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，
１，０〕ヘキサン−２−オンもしくは（1S，5R）
−６，６−ジメチル−３−オキサ−４(S)−〔１(S)
−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビ
シクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オンを単離
したのち、水溶液中で加水分解することを特徴と
する光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンの製造法を提供するものである。
ロペンテノンと（1R，5S）−６，６−ジメチル−
４−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンもしくは（1S，5R）−６，６
−ジメチル−４−ヒドロキシ−３−オキサビシク
ロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オンのラクトン
類を、４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを
ラクトン類に対して1.5〜２倍モル使用し、パラ
トルエンスルホン酸もしくはベンゼンスルホン酸
の存在下、共沸溶媒中で共沸脱水しながら反応さ
せて（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ
−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペンテ
ニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−
２−オンもしくは（1S，5R）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４(S)−〔１(S)−４−オキソ−２−
シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，
０〕ヘキサン−２−オンをそれぞれの対掌体に対
して過剰量含むシクロペンテノンエーテル類を
得、これを晶析法により（1R，5S）−６，６−ジ
メチル−３−オキサ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ
−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，
１，０〕ヘキサン−２−オンもしくは（1S，5R）
−６，６−ジメチル−３−オキサ−４(S)−〔１(S)
−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビ
シクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オンを単離
したのち、水溶液中で加水分解することを特徴と
する光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンの製造法を提供するものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンとラク
トン類との反応において、両者の反応モル比は非
常に重要であつて、４−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノンはラクトン類に対して1.5〜２倍モル
使用され、最も好ましくは1.7倍モル付近である。
トン類との反応において、両者の反応モル比は非
常に重要であつて、４−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノンはラクトン類に対して1.5〜２倍モル
使用され、最も好ましくは1.7倍モル付近である。
このモル比とたとえば生成した〔／ａ〕／
〔／ｂ〕比の関係は本発明者らが初めて明らか
にしたものであつて、図−１にも示すとおり、４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン／ラクトン
＝1.5〜２／１（モル比）の場合にのみ、〔−
ａ〕／〔−ｂ〕比が特異的に向上し、このモル
比の範囲外では過剰率が低下して好ましくない。
〔／ｂ〕比の関係は本発明者らが初めて明らか
にしたものであつて、図−１にも示すとおり、４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン／ラクトン
＝1.5〜２／１（モル比）の場合にのみ、〔−
ａ〕／〔−ｂ〕比が特異的に向上し、このモル
比の範囲外では過剰率が低下して好ましくない。
触媒としてはパラトルエンスルホン酸またはベ
ンゼンスルホン酸が用いられ、これらのピリジン
塩などはたとえば生成した〔−ａ〕／〔−
ｂ〕比の点が好ましくない。
ンゼンスルホン酸が用いられ、これらのピリジン
塩などはたとえば生成した〔−ａ〕／〔−
ｂ〕比の点が好ましくない。
触媒の使用量はラクトン類に対して0.01〜0.5
倍当量、好ましくは0.05〜0.3倍当量である。
倍当量、好ましくは0.05〜0.3倍当量である。
反応溶媒としては水と共沸するいわゆる共沸溶
媒が用いられ、代表的にはベンゼン、トルエンが
挙げられる。
媒が用いられ、代表的にはベンゼン、トルエンが
挙げられる。
この反応は水を生成する縮合反応であるため、
生成した水を上記共沸溶媒との共沸により反応系
外へ除去しながら進行させることが必要である。
この際、水と共に留去した共沸溶媒は、水と分離
後反応系内へ戻すことができる。
生成した水を上記共沸溶媒との共沸により反応系
外へ除去しながら進行させることが必要である。
この際、水と共に留去した共沸溶媒は、水と分離
後反応系内へ戻すことができる。
反応温度は共沸溶媒が水と共沸し得る温度であ
るが、通常50〜120℃、好ましくは60〜115℃であ
る。
るが、通常50〜120℃、好ましくは60〜115℃であ
る。
反応時間は種々の条件により変わり、何ら制限
されないが、一般的には２〜７時間である。
されないが、一般的には２〜７時間である。
かくして、原料のラクトン類としてたとえば
（1R，5S）−６，６−ジメチル−４−ヒドロキシ
−３−オキサビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−
２−オンを使用した場合には、過剰量の〔−
ａ〕を含む〔−ａ〕と〔−ｂ〕の混合物が得
られ、また（1S，5R）−６，６−ジメチル−４−
ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔３，１，０〕
ヘキサン−２−オンを使用した場合には、過剰量
の（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ−
４(S)−〔１(S)−４−オキソ−２−シクロペンテニ
ルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２
−オン（以下〔−ｄ〕と呼ぶ）を含む〔−
ｄ〕と（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキ
サ−４(S)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペン
テニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン
−２−オン（以下〔−ｃ〕と呼ぶ）の混合物が
得られる。
（1R，5S）−６，６−ジメチル−４−ヒドロキシ
−３−オキサビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−
２−オンを使用した場合には、過剰量の〔−
ａ〕を含む〔−ａ〕と〔−ｂ〕の混合物が得
られ、また（1S，5R）−６，６−ジメチル−４−
ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔３，１，０〕
ヘキサン−２−オンを使用した場合には、過剰量
の（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ−
４(S)−〔１(S)−４−オキソ−２−シクロペンテニ
ルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２
−オン（以下〔−ｄ〕と呼ぶ）を含む〔−
ｄ〕と（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキ
サ−４(S)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペン
テニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン
−２−オン（以下〔−ｃ〕と呼ぶ）の混合物が
得られる。
上記混合物における〔−ａ〕または〔−
ｄ〕の〔−ｂ〕または〔−ｃ〕に対するそれ
ぞれの過剰率は前記特開昭57−159777号公報に具
体的に開示される方法により得られる混合物中の
過剰率よりも高く、〔−ａ〕または〔−ｄ〕
を主目的とする製造法として非常に有利であるの
みならず、非常に容易な分離操作でそれぞれを分
離することができる。
ｄ〕の〔−ｂ〕または〔−ｃ〕に対するそれ
ぞれの過剰率は前記特開昭57−159777号公報に具
体的に開示される方法により得られる混合物中の
過剰率よりも高く、〔−ａ〕または〔−ｄ〕
を主目的とする製造法として非常に有利であるの
みならず、非常に容易な分離操作でそれぞれを分
離することができる。
すなわち、これらの混合物から〔−ａ〕ある
いは〔−ｄ〕をそれぞれ単独に取出すにはもち
ろんカラムクロマトグラフイーで分離することも
できるが、過剰率が高いために、そのような繁雑
な操作を用いなくとも混合物からの晶析という一
般的な分離法によつて容易に〔−ａ〕または
〔−ｄ〕を高純度で分離することができる。
いは〔−ｄ〕をそれぞれ単独に取出すにはもち
ろんカラムクロマトグラフイーで分離することも
できるが、過剰率が高いために、そのような繁雑
な操作を用いなくとも混合物からの晶析という一
般的な分離法によつて容易に〔−ａ〕または
〔−ｄ〕を高純度で分離することができる。
晶析による分離操作は、晶析溶媒としてはトル
エン、酢酸エチル、ヘキサン、イソプロピルエー
テル等の通常の溶媒の単独または混合物が用いら
れる。
エン、酢酸エチル、ヘキサン、イソプロピルエー
テル等の通常の溶媒の単独または混合物が用いら
れる。
晶析方法自体は何ら特別の方法であるを要せ
ず、たとえば晶析溶媒に上記混合物を溶解させ、
必要ならば〔−ａ〕または〔−ｄ〕の種晶を
加え、常法に従つて晶析処理を行えばよい。
ず、たとえば晶析溶媒に上記混合物を溶解させ、
必要ならば〔−ａ〕または〔−ｄ〕の種晶を
加え、常法に従つて晶析処理を行えばよい。
溶媒量についてもそれぞれの条件により適宜選
定され、特に限定されるものではないが、一般的
には混合物に対して0.3〜10倍重量である。
定され、特に限定されるものではないが、一般的
には混合物に対して0.3〜10倍重量である。
晶析温度も使用する溶媒の種類、量などの条件
により適宜決定されるが、一般的には−20℃〜90
℃の範囲である。
により適宜決定されるが、一般的には−20℃〜90
℃の範囲である。
尚、晶析に際しては、それぞれの混合物におけ
る〔−ａ〕または〔−ｄ〕の過剰分に見合つ
た量を晶析させるのが、得られた〔−ａ〕また
は〔−ｄ〕の純度面から好ましい。
る〔−ａ〕または〔−ｄ〕の過剰分に見合つ
た量を晶析させるのが、得られた〔−ａ〕また
は〔−ｄ〕の純度面から好ましい。
必要とあれば、ここで得られた結晶は先に述べ
た溶媒を用いて再結晶を行うなどの方法により精
製することができる。
た溶媒を用いて再結晶を行うなどの方法により精
製することができる。
分離された〔−ａ〕または〔−ｄ〕などの
光学活性体の加水分解は、生成する光学活性４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの安定性を考
え、中性条件下で実施することが好ましい。
光学活性体の加水分解は、生成する光学活性４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの安定性を考
え、中性条件下で実施することが好ましい。
また、加水分解後の後処理、精製を考えると、
できるだけ有機溶媒を使用しないことが好まし
く、通常は〔−ａ〕または〔−ｄ〕を２〜20
倍重量の水中で加熱することにより行われる。
できるだけ有機溶媒を使用しないことが好まし
く、通常は〔−ａ〕または〔−ｄ〕を２〜20
倍重量の水中で加熱することにより行われる。
反応温度は通常50〜100℃、好ましくは60〜100
℃であり、反応時間については特に制限されな
い。
℃であり、反応時間については特に制限されな
い。
かかる方法により、光学活性な４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノンが容易にかつ好収率で得
られる。
−２−シクロペンテノンが容易にかつ好収率で得
られる。
尚、反応終了後、反応混合物からのラクトン類
と光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンの分離は、たとえば反応液はそのまま冷却す
るか、あるいは濃縮後に冷却し、析出するラクト
ン類を別したしたのちの液を濃縮して目的と
する光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペン
テノン類を得ることにより行われる。もし、必要
とあればかかる光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンはクロマトグラフイーあるいは蒸
留等により精製することもできる。
と光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンの分離は、たとえば反応液はそのまま冷却す
るか、あるいは濃縮後に冷却し、析出するラクト
ン類を別したしたのちの液を濃縮して目的と
する光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペン
テノン類を得ることにより行われる。もし、必要
とあればかかる光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンはクロマトグラフイーあるいは蒸
留等により精製することもできる。
かくして、本発明の方法によれば、光学活性な
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを工業的
容易に、好収率で得ることができる。
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを工業的
容易に、好収率で得ることができる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例 １
撹拌装置、温度計および共沸脱水装置を装着し
た４ツ口フラスコに、４−ヒドロキシ−２−シク
ロペンテノン19.62ｇ（200ミリモル）、（1R，5S）
−６，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−３−オミ
サビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オン
16.76ｇ（118ミリモル）、パラトルエンスルホン
酸0.44ｇおよびベンゼン160mlを仕込み、昇温し
て還流させる。
た４ツ口フラスコに、４−ヒドロキシ−２−シク
ロペンテノン19.62ｇ（200ミリモル）、（1R，5S）
−６，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−３−オミ
サビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オン
16.76ｇ（118ミリモル）、パラトルエンスルホン
酸0.44ｇおよびベンゼン160mlを仕込み、昇温し
て還流させる。
生成する水を共沸にて反応系外へ取り出しなが
ら４時間反応させる。反応終了後、水80mlを加
え、有機層を分液する。有機層はさらに３％重ソ
ウ水60mlおよび水70mlにて洗浄する。有機層を減
圧下に濃縮して、（1R，5S）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−
シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，
０〕ヘキサン−２−オン〔−ａ〕と（1R，5S）
−６，６−ジメチル−３−オキサ−４(R)−〔１(S)
−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビ
シクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オン〔−
ｂ〕の混合物25.02ｇを得る。
ら４時間反応させる。反応終了後、水80mlを加
え、有機層を分液する。有機層はさらに３％重ソ
ウ水60mlおよび水70mlにて洗浄する。有機層を減
圧下に濃縮して、（1R，5S）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−
シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，
０〕ヘキサン−２−オン〔−ａ〕と（1R，5S）
−６，６−ジメチル−３−オキサ−４(R)−〔１(S)
−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビ
シクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２−オン〔−
ｂ〕の混合物25.02ｇを得る。
〔−ａ〕／〔−ｂ〕＝18.2
上記混合物15ｇを酢酸エチル10mlに溶解し、50
℃にてヘキサン６mlを加えたのち徐冷し、25℃に
て（1R，5S）６，６−ジメチル−３−オキサ−
４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペンテニ
ルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２
−オン〔−ａ〕10mgを種晶として接種する。さ
らに冷却し、０℃にて８時間にて８時間保温す
る。冷時、過し、〔−ａ〕の結晶3.52ｇを得
る。
℃にてヘキサン６mlを加えたのち徐冷し、25℃に
て（1R，5S）６，６−ジメチル−３−オキサ−
４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペンテニ
ルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２
−オン〔−ａ〕10mgを種晶として接種する。さ
らに冷却し、０℃にて８時間にて８時間保温す
る。冷時、過し、〔−ａ〕の結晶3.52ｇを得
る。
α〕20 D−44.9°（ｃ＝１、メタノール）
m.p. 90℃
次に〔−ａ〕３ｇを水10mlとともに75℃にて
３時間加熱する。反応終了後、反応混合物を減圧
下に濃縮して水約４mlを留去したのち０℃に冷却
し、３時間保持する。析出する結晶（ラクトン）
を別し、液をさらに濃縮する。濃縮残渣をク
ロマトグラフイーにて精製して４(R)−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノン1.25ｇを得る。
３時間加熱する。反応終了後、反応混合物を減圧
下に濃縮して水約４mlを留去したのち０℃に冷却
し、３時間保持する。析出する結晶（ラクトン）
を別し、液をさらに濃縮する。濃縮残渣をク
ロマトグラフイーにて精製して４(R)−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノン1.25ｇを得る。
α〕20 D＋96°（ｃ＝１、メタノール）
実施例 ２
実施例１で用いたと同様の装置に、４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテノン23.15ｇ（236ミリモ
ル）、（1R，5S）−６，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシ−３−オキサビシクロ〔３，１，０〕ヘキサ
ン−２−オン16.76ｇ（118ミリモル）、パラトル
エンスルホン酸0.44ｇおよびトルエン160mlを仕
込み、昇温して還流させる。生成する水を共沸に
て反応系外へ取り出しながら４時間反応させる。
キシ−２−シクロペンテノン23.15ｇ（236ミリモ
ル）、（1R，5S）−６，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシ−３−オキサビシクロ〔３，１，０〕ヘキサ
ン−２−オン16.76ｇ（118ミリモル）、パラトル
エンスルホン酸0.44ｇおよびトルエン160mlを仕
込み、昇温して還流させる。生成する水を共沸に
て反応系外へ取り出しながら４時間反応させる。
反応終了後、実施例１に準じて、後処理、精製
する。（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキ
サ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペン
テニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン
−２−オンと（1R，5S）−６，６−ジメチル−３
−オキサ−４(R)−〔１(S)−４−オキソ−２−シク
ロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘ
キサン−２−オンの混合物25.32ｇを得る。
する。（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキ
サ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペン
テニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン
−２−オンと（1R，5S）−６，６−ジメチル−３
−オキサ−４(R)−〔１(S)−４−オキソ−２−シク
ロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘ
キサン−２−オンの混合物25.32ｇを得る。
〔−ａ〕／〔−ｂ〕比は1.72であつた。
上記混合物15ｇを酢酸エチル15mlに溶解し、45
℃にてヘキサン15mlを加えたのち徐冷し、０℃に
て４時間保温したのち析出晶を過し、〔−ａ〕
の結晶4.1ｇを得る。
℃にてヘキサン15mlを加えたのち徐冷し、０℃に
て４時間保温したのち析出晶を過し、〔−ａ〕
の結晶4.1ｇを得る。
次に、この結晶４ｇを石油エーテル：酢酸エチ
ル＝10：１の混合液30ml中にて加熱溶解する。そ
の後徐冷し、０℃にて２時間保持したのち析出晶
を過し、〔−ａ〕の結晶3.57ｇを得る。
ル＝10：１の混合液30ml中にて加熱溶解する。そ
の後徐冷し、０℃にて２時間保持したのち析出晶
を過し、〔−ａ〕の結晶3.57ｇを得る。
α〕20 D−45.2°（ｃ＝１、メタノール）
m.p. 90〜91℃
次に、この〔−ａ〕３ｇを水10mlとともに70
℃にて４時間加熱する。以下、実施例１に準じて
後処理、精製し、４(R)−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノン1.24ｇを得る。
℃にて４時間加熱する。以下、実施例１に準じて
後処理、精製し、４(R)−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノン1.24ｇを得る。
α〕20 D＋97.5°（ｃ＝１、エタノール）
n20 D 1.5035
実施例 ３
パラトルエンスルホン酸をベンゼンスルホン酸
0.4ｇに変えた以外は、実施例１と同様に反応、
後処理し、（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−
オキサ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロ
ペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキ
サン−２−オン〔−ａ〕と（1R，5S）−６，６
−ジメチル−３−オキサ−４(R)−〔１(S)−４−オ
キソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ
〔３，１，０〕ヘキサン−２−オン〔−ｂ〕の
混合物25.08ｇを得る。
0.4ｇに変えた以外は、実施例１と同様に反応、
後処理し、（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−
オキサ−４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロ
ペンテニルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキ
サン−２−オン〔−ａ〕と（1R，5S）−６，６
−ジメチル−３−オキサ−４(R)−〔１(S)−４−オ
キソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ
〔３，１，０〕ヘキサン−２−オン〔−ｂ〕の
混合物25.08ｇを得る。
〔−ａ〕／〔−ｂ〕比は1.78であつた。
上記混合物15ｇを酢酸エチル18mlに溶解し、50
℃にてヘキサン12mlを加えたのち徐冷し、25℃に
て（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ−
４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペンテニ
ルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２
−オンの結晶10mgを種晶として接種する。さらに
冷却し、10℃にて５時間保温したのち析出晶を
過し、〔−ａ〕の結晶3.06ｇを得る。
℃にてヘキサン12mlを加えたのち徐冷し、25℃に
て（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ−
４(R)−〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペンテニ
ルオキシ〕ビシクロ〔３，１，０〕ヘキサン−２
−オンの結晶10mgを種晶として接種する。さらに
冷却し、10℃にて５時間保温したのち析出晶を
過し、〔−ａ〕の結晶3.06ｇを得る。
次に、この〔−ａ〕３ｇを水10mlとともに80
℃にて１時間加熱する。以下、実施例１に準じて
後処理、精製し、４(R)−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノン1.22ｇを得る。
℃にて１時間加熱する。以下、実施例１に準じて
後処理、精製し、４(R)−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノン1.22ｇを得る。
α〕20 D−96.4℃（ｃ＝１、エタノール）
図−１は、パラトルエンスルホン酸を触媒とし
て反応させた場合の、原料の４−ヒドロキシ−２
−シクロペンテノン／ラクトン類（モル比）と生
成した〔−ａ〕／〔−ｂ〕比との関係を示し
たものである。
て反応させた場合の、原料の４−ヒドロキシ−２
−シクロペンテノン／ラクトン類（モル比）と生
成した〔−ａ〕／〔−ｂ〕比との関係を示し
たものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと
（1R，5S）−６，６−ジメチル−４−ヒドロキシ
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−
オンもしくは（1S，5R）−６，６−ジメチル−４
−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘ
キサン−２−オンのラクトン類を、４−ヒドロキ
シ−２−シクロペンテノンをラクトン類に対して
1.5〜２倍モル使用し、パラトルエンスルホン酸
もしくはベンゼンスルホン酸の存在下、共沸溶媒
中で共沸脱水しながら反応させて（1R，5S）−
６，６−ジメチル−３−オキサ−４(R)−〔１(R)−
４−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシ
クロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンもしくは（1S，
5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４(S)−
〔１(S)−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキ
シ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンをそ
れぞれの対掌体に対して過剰量含むシクロペンテ
ノンエーテル類を得、これを晶析法により（1R，
5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４(R)−
〔１(R)−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキ
シ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンもし
くは（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ
−４(S)−〔１(S)−４−オキソ−２−シクロペンテ
ニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−
オンを単離したのち、水溶液中で加水分解するこ
とを特徴とする光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンの製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5698784A JPS60199848A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製造法 |
| DE8585101494T DE3560714D1 (en) | 1984-02-14 | 1985-02-12 | Process for preparing optically active 4-hydroxy-2-cyclipentenones |
| EP85101494A EP0153653B1 (en) | 1984-02-14 | 1985-02-12 | Process for preparing optically active 4-hydroxy-2-cyclipentenones |
| US06/700,890 US4714782A (en) | 1984-02-14 | 1985-02-12 | Process for preparing optically active 4-hydroxy-2-cyclopentenones |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5698784A JPS60199848A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60199848A JPS60199848A (ja) | 1985-10-09 |
| JPH0559912B2 true JPH0559912B2 (ja) | 1993-09-01 |
Family
ID=13042843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5698784A Granted JPS60199848A (ja) | 1984-02-14 | 1984-03-23 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60199848A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57159777A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-01 | Teijin Ltd | 4-hydroxycyclopentenone compound and its preparation |
-
1984
- 1984-03-23 JP JP5698784A patent/JPS60199848A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60199848A (ja) | 1985-10-09 |
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