JPH0559948B2 - - Google Patents
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- JPH0559948B2 JPH0559948B2 JP11910384A JP11910384A JPH0559948B2 JP H0559948 B2 JPH0559948 B2 JP H0559948B2 JP 11910384 A JP11910384 A JP 11910384A JP 11910384 A JP11910384 A JP 11910384A JP H0559948 B2 JPH0559948 B2 JP H0559948B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- fluorine
- group
- coating
- examples
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- Expired - Lifetime
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Description
本発明は、平滑性、減摩性、防食性に優れたフ
ツ素系被覆剤に関するものであり、さらに詳しく
は金属、磁器、ガラス、プラスチツク等の固体表
面に、上記特性に優れた塗膜を形成するフツ素系
被覆剤に関するものである。 従来より、金属、磁器、ガラス、プラスチツク
等の固体表面を保護被覆する目的で各種の塗料や
コーテイング材が用いられているが、特に表面の
平滑性が要求される場合には、コーテイング材に
高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフイン系
炭化水素、シリコーンオイル例えば、ジメチルポ
リシロキサン、ジフエニルポリシロキサン等の添
加剤を含有せしめる事により成されている。 又、側鎖に含フツ素末端基を有する含フツ素重
合体も固体表面の平滑性を向上する為にコーテイ
ング材に添加されている（特開昭51−126220号）。
更に、塗料そのものに側鎖に含フツ素末端基を有
する含フツ素重合体を用いることも行われている
（特開昭54−43244号）。 一方、最近の記録材料の進歩は著しく、特に磁
気テープや磁気デイスク分野においては、高性能
化が進み、記録波長がより短く2μm以下となり特
に、ノイズレベルの低下や信号出力の増大が要求
されており、磁性層の組成は勿論のこと、磁性層
表面の平滑化並びに摩擦低減化が特に要求されて
いる。 又、テープの走行性を高めたり、ビデオテープ
においては静止画像を鮮明にかつ長時間再現する
為に、磁性層の保護用の被覆膜に関しても、平滑
化、摩擦低減化、そして耐久性が要求されている
が、また一方では磁気特性をより鋭敏に発現させ
る必要性から被覆膜の薄膜化が望まれている。 しかしながら、従来の、種々の平滑性改良剤を
添加した各種塗料又はコーテイング材や含フツ素
重合体塗料では、その塗膜の厚みは、通常１〜
100μm程度であり、0.01μm程度の単分子膜程度
まで厚みを薄くすることは塗膜の均一性や塗膜表
面の平滑性更に塗膜の強度が著しく低下するなど
の問題点があり非常に困難であつた。 本発明者等らは、従来の保護被覆膜の問題点を
解決すべく鋭意研究を行つた結果、所謂含フツ素
重合体ではなく、オリゴエチレンオキシド基の両
末端にパーフロロアルキル基が導入された含フツ
素化合物が、平滑性、摩擦低減性、さらに金属面
に対しては防錆性にも優れ、かつ薄くて強靭な保
護被覆膜を形成することを見い出し本発明を完成
するに至つた。 即ち、本発明は下記一般式〔〕にて表わされ
るフツ素系化合物と、含フツ素界面活性剤又は含
フツ素アマイド化合物とからなるフツ素系被覆剤
を提供するものである。 Rf―（Ａ）a――CH2CH2O―（CH2CH2O）o――CH2CH2―（
Ａ）a――Rf…（） 式中、Rfは炭素数４〜16のパーフロロアルキ
ル基またはパーフロロアルケニル基であり、 Ａは酸素ではない２価の連結基であり、 ａは０または１であり、 ｎは０または１〜30までの整数である。 尚、これら１分子中に２つずつ存在するRf、
Ａ及びａは、その２つが同一であることを要さな
いのは勿論である。 本発明に係るフツ素化合物において、Rf基は
パーフロロアルキル基もしくはパーフロロアルケ
ニル基であり、直鎖状、分岐状、環状またはそれ
らを組み合わせたもののいずれでも良く、さらに
主鎖中に酸素原子が介入したもの、例えば
（CF3）2CFOCF2CF2−等でも良い。 ｎは０または１〜30の整数であるが、その中で
も０または１〜10の整数が特に好ましい。 ２価の連結基Ａは、
ツ素系被覆剤に関するものであり、さらに詳しく
は金属、磁器、ガラス、プラスチツク等の固体表
面に、上記特性に優れた塗膜を形成するフツ素系
被覆剤に関するものである。 従来より、金属、磁器、ガラス、プラスチツク
等の固体表面を保護被覆する目的で各種の塗料や
コーテイング材が用いられているが、特に表面の
平滑性が要求される場合には、コーテイング材に
高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフイン系
炭化水素、シリコーンオイル例えば、ジメチルポ
リシロキサン、ジフエニルポリシロキサン等の添
加剤を含有せしめる事により成されている。 又、側鎖に含フツ素末端基を有する含フツ素重
合体も固体表面の平滑性を向上する為にコーテイ
ング材に添加されている（特開昭51−126220号）。
更に、塗料そのものに側鎖に含フツ素末端基を有
する含フツ素重合体を用いることも行われている
（特開昭54−43244号）。 一方、最近の記録材料の進歩は著しく、特に磁
気テープや磁気デイスク分野においては、高性能
化が進み、記録波長がより短く2μm以下となり特
に、ノイズレベルの低下や信号出力の増大が要求
されており、磁性層の組成は勿論のこと、磁性層
表面の平滑化並びに摩擦低減化が特に要求されて
いる。 又、テープの走行性を高めたり、ビデオテープ
においては静止画像を鮮明にかつ長時間再現する
為に、磁性層の保護用の被覆膜に関しても、平滑
化、摩擦低減化、そして耐久性が要求されている
が、また一方では磁気特性をより鋭敏に発現させ
る必要性から被覆膜の薄膜化が望まれている。 しかしながら、従来の、種々の平滑性改良剤を
添加した各種塗料又はコーテイング材や含フツ素
重合体塗料では、その塗膜の厚みは、通常１〜
100μm程度であり、0.01μm程度の単分子膜程度
まで厚みを薄くすることは塗膜の均一性や塗膜表
面の平滑性更に塗膜の強度が著しく低下するなど
の問題点があり非常に困難であつた。 本発明者等らは、従来の保護被覆膜の問題点を
解決すべく鋭意研究を行つた結果、所謂含フツ素
重合体ではなく、オリゴエチレンオキシド基の両
末端にパーフロロアルキル基が導入された含フツ
素化合物が、平滑性、摩擦低減性、さらに金属面
に対しては防錆性にも優れ、かつ薄くて強靭な保
護被覆膜を形成することを見い出し本発明を完成
するに至つた。 即ち、本発明は下記一般式〔〕にて表わされ
るフツ素系化合物と、含フツ素界面活性剤又は含
フツ素アマイド化合物とからなるフツ素系被覆剤
を提供するものである。 Rf―（Ａ）a――CH2CH2O―（CH2CH2O）o――CH2CH2―（
Ａ）a――Rf…（） 式中、Rfは炭素数４〜16のパーフロロアルキ
ル基またはパーフロロアルケニル基であり、 Ａは酸素ではない２価の連結基であり、 ａは０または１であり、 ｎは０または１〜30までの整数である。 尚、これら１分子中に２つずつ存在するRf、
Ａ及びａは、その２つが同一であることを要さな
いのは勿論である。 本発明に係るフツ素化合物において、Rf基は
パーフロロアルキル基もしくはパーフロロアルケ
ニル基であり、直鎖状、分岐状、環状またはそれ
らを組み合わせたもののいずれでも良く、さらに
主鎖中に酸素原子が介入したもの、例えば
（CF3）2CFOCF2CF2−等でも良い。 ｎは０または１〜30の整数であるが、その中で
も０または１〜10の整数が特に好ましい。 ２価の連結基Ａは、
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】（但し、Ｒは水素
原子、炭素数１〜18の、アルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、アルケニル基もしくはエーテル酸素
を１個ないし２個含有するアルキル基、芳香族基
または芳香族基を含む基である。）、
アルキル基、アルケニル基もしくはエーテル酸素
を１個ないし２個含有するアルキル基、芳香族基
または芳香族基を含む基である。）、
【式】
【式】
【式】−CH2CH2CH2O−、−
CH2CH2SCH2CH2O−、
【式】等であるが、本発
明に係る合フツ素化合物は一般式（）に示す如
く、オリゴエチレンオキシド基の両末端にRf基
が結合していることが特に重要であることから、
上記の２価の連結基によつて、本発明が限定され
るものでないことは勿論である。 本発明に係る含フツ素化合物は、既既に公知で
ある方法（例えば特開昭58−49348号）によつて
製造される。また市販品を購入することもでき
る。 本発明に係る前記一般式〔〕の含フツ素化合
物の具体例として次の如きものが挙げられる。 C8F17―（CH2CH2O）2――CH2CH2C6F13 C6F13―（CH2CH2O）4――CH2CH2C6F13 C8F17CH2CH2OCH2CH2C8F17 C15F31―（CH2）3――Ｏ―（CH2CH2O）6―――（CH2）3
――C15F31 C7F15―（CH2）3――Ｏ―（CH2CH2O）8――（―CH2）―
3――C15F31 C9F19―（CH2）2――Ｏ―（CH2CH2O）4――（―CH2）2
――C9F19 C18F27―（CH2）2――Ｏ―（CH2CH2O）11――（―CH2）
2――C18F27 C5F11CH2CH2SCH2CH2O―（CH2CH2O）4――CH2CH2SCH2CH2
C5F11 C11F23CH2CH2SCH2CH2O―（CH2CH2O）12――CH2CH2CH2SC
H2C11F23 本発明において、前記含フツ素化合物を一種類
でまたは二種類以上を混合して用いても良いが、
またさらに当業界公知の含フツ素界面活性剤また
は特開昭58−213057号に記載の所謂含フツ素アマ
イド化合物と併用することが可能である。併用可
な含フツ素界面活性剤または含フツ素アマイド化
合物は種々のものから選択が可能であるが、それ
らを構成成分とする組成物自身が固体表面に被覆
用組成物として塗布されることから少なくとも常
温で、ワツクス状又は固体状であるものが好まし
く、融点が高いものがより好ましい。 含フツ素界面活性剤の代表的なものとしては、
次のＡ〜Ｄ群の如きものがあげられるが、本発明
は、これらのものに限定されるものではない。 （Ａ群） 一般式〔Ａ〕R′f−X1−SO3M…〔Ａ−１〕、
R′f−Y1−COOM…〔Ａ−２〕または、
く、オリゴエチレンオキシド基の両末端にRf基
が結合していることが特に重要であることから、
上記の２価の連結基によつて、本発明が限定され
るものでないことは勿論である。 本発明に係る含フツ素化合物は、既既に公知で
ある方法（例えば特開昭58−49348号）によつて
製造される。また市販品を購入することもでき
る。 本発明に係る前記一般式〔〕の含フツ素化合
物の具体例として次の如きものが挙げられる。 C8F17―（CH2CH2O）2――CH2CH2C6F13 C6F13―（CH2CH2O）4――CH2CH2C6F13 C8F17CH2CH2OCH2CH2C8F17 C15F31―（CH2）3――Ｏ―（CH2CH2O）6―――（CH2）3
――C15F31 C7F15―（CH2）3――Ｏ―（CH2CH2O）8――（―CH2）―
3――C15F31 C9F19―（CH2）2――Ｏ―（CH2CH2O）4――（―CH2）2
――C9F19 C18F27―（CH2）2――Ｏ―（CH2CH2O）11――（―CH2）
2――C18F27 C5F11CH2CH2SCH2CH2O―（CH2CH2O）4――CH2CH2SCH2CH2
C5F11 C11F23CH2CH2SCH2CH2O―（CH2CH2O）12――CH2CH2CH2SC
H2C11F23 本発明において、前記含フツ素化合物を一種類
でまたは二種類以上を混合して用いても良いが、
またさらに当業界公知の含フツ素界面活性剤また
は特開昭58−213057号に記載の所謂含フツ素アマ
イド化合物と併用することが可能である。併用可
な含フツ素界面活性剤または含フツ素アマイド化
合物は種々のものから選択が可能であるが、それ
らを構成成分とする組成物自身が固体表面に被覆
用組成物として塗布されることから少なくとも常
温で、ワツクス状又は固体状であるものが好まし
く、融点が高いものがより好ましい。 含フツ素界面活性剤の代表的なものとしては、
次のＡ〜Ｄ群の如きものがあげられるが、本発明
は、これらのものに限定されるものではない。 （Ａ群） 一般式〔Ａ〕R′f−X1−SO3M…〔Ａ−１〕、
R′f−Y1−COOM…〔Ａ−２〕または、
【式】但し、R′f
は炭素数４〜20なるパーフルオロアルキル基また
はパーフルオロアルケニル基（一部水素原子が残
留してもよい）を示し、X1は―（CH2）―p-1、
はパーフルオロアルケニル基（一部水素原子が残
留してもよい）を示し、X1は―（CH2）―p-1、
【式】または
【式】（ここで、ｐは１〜20なる
整数を表わす。）を示し、Ｍはアルカリ金属、−
NH4、アミン塩、水素原子または炭素数１〜20
のアルキル基を、Ｙは―（CH2）―p―、
NH4、アミン塩、水素原子または炭素数１〜20
のアルキル基を、Ｙは―（CH2）―p―、
【式】
【式】または
【式】（ここで、ｐは前出と同意、
R′は水素または炭素数１〜６なるアルキル基を
表わす。）を示し、 Ｚは―（CH2）p――Ｏ−、
表わす。）を示し、 Ｚは―（CH2）p――Ｏ−、
【式】
【式】または
【式】（ここで、
ｐ及びR′は前出と同意であり、R″は水素原子ま
たは炭素数１〜４なるアルキル基を、ｇは１〜50
なる整数を表わし、
たは炭素数１〜４なるアルキル基を、ｇは１〜50
なる整数を表わし、
【式】の中には、
（g1＋g2＝ｇ）
も含めるものとする。）なる結合基であり、ｊは
１、２または３の整数である。 一般式〔Ａ〕の化合物を具体に例示すれば、次
のようなものがある。 C6F13SO3Li、C6F13SO3K、C6F13SO2NH4、
C8F17SO3Li、C8F17SO3Na、C8F17SO3K、
C8F17SO3NH4、C8F17SO3N（C2H5）4、 C7F15COO（CH2）3O3K、C6F13COONH4、Ｈ
（CF2）10COOH、C10F21（CH2）10COONa、 または （Ｂ群） 一般式〔Ｂ〕
１、２または３の整数である。 一般式〔Ａ〕の化合物を具体に例示すれば、次
のようなものがある。 C6F13SO3Li、C6F13SO3K、C6F13SO2NH4、
C8F17SO3Li、C8F17SO3Na、C8F17SO3K、
C8F17SO3NH4、C8F17SO3N（C2H5）4、 C7F15COO（CH2）3O3K、C6F13COONH4、Ｈ
（CF2）10COOH、C10F21（CH2）10COONa、 または （Ｂ群） 一般式〔Ｂ〕
【式】
但し、R′fは前出と同意義であり、Ｕは
【式】
または
【式】（こ
こで、R′、R″及びｐ、ｇは前出と同意義であり、
ＵとR4、R5またはR6のいずれかとが、環状にな
つてもよい。）の結合基であり、R4、R5及びR6は
水素原子、炭素数１〜10のアルキル基、ヒドロキ
シアルキル基、シクロアルキル基、または炭素数
７〜15のアラルキル基であり、X2 は、ハロゲ
ン原子、HSO4 、−CH3−SO4 、−H2PO4 、
ＵとR4、R5またはR6のいずれかとが、環状にな
つてもよい。）の結合基であり、R4、R5及びR6は
水素原子、炭素数１〜10のアルキル基、ヒドロキ
シアルキル基、シクロアルキル基、または炭素数
７〜15のアラルキル基であり、X2 は、ハロゲ
ン原子、HSO4 、−CH3−SO4 、−H2PO4 、
【式】または
【式】
である。
一般式〔Ｂ〕の化合物を具体的に例示すれば、
次のようなものがある。 C10F19−Ｏ―（CH2CH2O）10――CH2CH2N （CH3））
3I 、 C6F13SO2NH―（CH2）3――Ｏ―（CH2）2N （CH3）3I
、 または、 など （Ｃ群） 一般式〔Ｃ〕
次のようなものがある。 C10F19−Ｏ―（CH2CH2O）10――CH2CH2N （CH3））
3I 、 C6F13SO2NH―（CH2）3――Ｏ―（CH2）2N （CH3）3I
、 または、 など （Ｃ群） 一般式〔Ｃ〕
【式】または、
但し、R′fは、前出と同様であり、Ｖは、単なる
結合か、−Ｏ−、
結合か、−Ｏ−、
【式】
【式】
【式】または
【式】
（ここで、R′は前出と同意義である。）なる結合
基であり、R″、ｇ、R3及びＺは前出と同意義で
あり、ｒ及びｓは、同時に０となることはない
が、それぞれ０以上の整数であり、Ｗは、１価も
しくは、２価以上のイソシアナート化合物残基で
あつて、炭素数１〜10なるアルキル基もしくは、
シクロアルキル基、炭素数７〜15なるアラルキル
基、または少なくとも１個のベンゼン環を含むア
リール基からなる１価の残基、―（CH2）―p、
基であり、R″、ｇ、R3及びＺは前出と同意義で
あり、ｒ及びｓは、同時に０となることはない
が、それぞれ０以上の整数であり、Ｗは、１価も
しくは、２価以上のイソシアナート化合物残基で
あつて、炭素数１〜10なるアルキル基もしくは、
シクロアルキル基、炭素数７〜15なるアラルキル
基、または少なくとも１個のベンゼン環を含むア
リール基からなる１価の残基、―（CH2）―p、
【式】もしくは
【式】（ここ
で、Ｐ及びR′は前出と同意である。）なる２価の
残基、または
残基、または
【式】
【式】もしくは
（ここで、ｇは前出と同意である。）なる３価以
上の多価残基を表わし、Ｌは任意のアルコール性
水酸基を含有する化合物の残基であつて、脂肪
族、脂環族または芳香族のモノアルコールの１価
残基ポリアルキレンエーテルグリコール、ブロツ
ク化ポリオキシアルキレンエーテルグリコール、
ポリエステルグリコールまたはポリメチレングリ
コール（これらグリコールの片側がアルキルエー
テル化された１価残基でもよい）の２価残基、ト
リメチロールプロパンやペンタエリスリトールの
オキシアルキレン付加物等の３価以上の多価残基
を表わす。 一般式〔Ｃ〕の化合物を具体的に例示すれば、
次のようなものがある。 C6F13CH2CH2OH、C9F17O（CH2CH2O）11CH3、
C10F19O（CH2CH2O）21H、 または など（Ｄ群） 一般式〔Ｄ〕
上の多価残基を表わし、Ｌは任意のアルコール性
水酸基を含有する化合物の残基であつて、脂肪
族、脂環族または芳香族のモノアルコールの１価
残基ポリアルキレンエーテルグリコール、ブロツ
ク化ポリオキシアルキレンエーテルグリコール、
ポリエステルグリコールまたはポリメチレングリ
コール（これらグリコールの片側がアルキルエー
テル化された１価残基でもよい）の２価残基、ト
リメチロールプロパンやペンタエリスリトールの
オキシアルキレン付加物等の３価以上の多価残基
を表わす。 一般式〔Ｃ〕の化合物を具体的に例示すれば、
次のようなものがある。 C6F13CH2CH2OH、C9F17O（CH2CH2O）11CH3、
C10F19O（CH2CH2O）21H、 または など（Ｄ群） 一般式〔Ｄ〕
【式】
但し、R′f、Ｕ、R4、R5は前出の通りであり、
ｋは１〜４の整数であり、Ａ は−COO 又は
−SO3 の如き陰イオン性基である。 一般式〔Ｄ〕の化合物を具体的に例示すれば、
次のようなものがある。 C9F17O―（CH2CH2O）11――（CH2）2N （CH3）2
（CH2）2COO 、 C8F17SO2NH（CH2）3N （CH3）2（CH2）3SO3 、 C8F17SO2NH（CH2）3O（CH2）2N
（CH3）2CH2COO または など また含フツ素アマイド化合物とは、一般式
（） で示される化合物である。式中、R″fは炭素数４
〜20のパーフルオロアルキル基またはパーフルオ
ロアルケニル基であり、好ましくは炭素数４〜16
のパーフルオロアルキル基またはパーフルオロア
ルケニル基である。Ｑは−CO−、−SO2−、
ｋは１〜４の整数であり、Ａ は−COO 又は
−SO3 の如き陰イオン性基である。 一般式〔Ｄ〕の化合物を具体的に例示すれば、
次のようなものがある。 C9F17O―（CH2CH2O）11――（CH2）2N （CH3）2
（CH2）2COO 、 C8F17SO2NH（CH2）3N （CH3）2（CH2）3SO3 、 C8F17SO2NH（CH2）3O（CH2）2N
（CH3）2CH2COO または など また含フツ素アマイド化合物とは、一般式
（） で示される化合物である。式中、R″fは炭素数４
〜20のパーフルオロアルキル基またはパーフルオ
ロアルケニル基であり、好ましくは炭素数４〜16
のパーフルオロアルキル基またはパーフルオロア
ルケニル基である。Ｑは−CO−、−SO2−、
【式】
【式】
―（CH2）1――SO2−、―（CH2）1――CO−（但し、ｉ
は
１〜８の整数である）であり、好ましくは−CO
−、−SO2−、
は
１〜８の整数である）であり、好ましくは−CO
−、−SO2−、
【式】
【式】―（CH2）1――SO2−であ
る。
R1及びR2は水素原子または炭素数１〜20なる
アルキル基、―（CH2CH2O）n――R3または
アルキル基、―（CH2CH2O）n――R3または
【式】（ここでｍ及びｎは１〜20
なる整数であり、R3は水素原子または炭素数１
〜６のアルキル基であつて、R1、R2と同一でも
異なつても良い。）で示されるポリオキシアルキ
レン誘導体を示すが、好ましくは、水素原子、ま
たは炭素数１〜20のアルキル基が良い。 それらの代表的な例としては、次の如きものが
挙げられる。
〜６のアルキル基であつて、R1、R2と同一でも
異なつても良い。）で示されるポリオキシアルキ
レン誘導体を示すが、好ましくは、水素原子、ま
たは炭素数１〜20のアルキル基が良い。 それらの代表的な例としては、次の如きものが
挙げられる。
【式】
【式】C6F13SO2NH2、
C8F17SO2NH2、C8F17SO2NHC3H7、
C8F17SO2NHC2H5、
C8F17SO2NHC2H5、
【式】
【式】
【式】C8F17SO2N
（CH2CH2OH）2、C6F13SO2N（CH2CH2OH）2、
【式】
【式】
C8F17CH2CH2SO2NH2または
C8F17CH2CH2CONH−C4H9等が挙げられる。 本発明に係る含フツ素化合物（一般式（）〕
に対する上記含フツ素界面活性剤又は含フツ素ア
マイド添加量には何ら制限は無いが、通常該含フ
ツ素化合物に対して０〜30重量％、好ましくは５
〜30重量％である。 本発明の被覆剤の塗装並びに塗工方法には、何
ら制限は無いが、通常は一般式〔〕ノ化合物を
適当な溶媒に濃度１×10-3〜10重量％に溶解し、
浸漬法、スプレー法等で基体に塗布される。又必
要に応じて塗布面を乾燥、加熱したり、またバフ
掛けすることにより均一で薄い塗面を形成するこ
とが可能である。その時の塗膜の膜厚は、100Å
〜100μmである。 浸漬法、スプレー法等で塗装する際用られる有
機溶媒としては、何ら制限は無いが、一般式
（）で示される含フツ素化合物の内、ｎが10よ
りも小さいもの、並びに一般式（）にて表わさ
れる含フツ素アマイド化合物の水溶解性があまり
良くないので、有機溶媒の使用が好ましく、溶媒
を単独で用いてもよいが水と有機溶媒との混合系
または有機溶媒同士の混合系も好ましく使用され
る。これら有機溶媒の例としては、メタノール、
エタノール、プロパノール、イソプロパノール等
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、エチ
ルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタ
ン、トリクロロエタン、トリクロルフルオロメタ
ン等のハロロゲン化炭化水素等が挙げられる。 本発明の被覆剤は前述した如くに、各種の固体
表面の保護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚
剤、潤滑剤、帯電防止剤、減摩剤、剥離剤、離型
剤等として使用できるが塗膜の薄さと平滑性を生
かして特に、記録材料分野における磁気記録製品
の磁性層の被覆に好適に用いられる。 塗布される固体としては、例えば、銅、アルミ
ニウム、亜鉛などの非磁性金属やポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフイン類、セルロースアセテート等のセル
ロース誘導体ポリカーボネート等のプラスチツク
や、更に、場合よりガラス、磁気及び陶器のよう
なセラミツクス上に蒸着された強磁性合金（鉄、
コバルト及び／又はニツケルを主成分とし、少量
のアルミニウム、シリコン、クロム、マンガン、
モリブデン、チタン、各種重金属類、希土類金属
等を含むもの）または微量の酸素存在下で鉄また
はクロムを蒸着してなる強磁性金属酸化物からな
る磁性層の保護被覆用塗膜として用いることによ
り、それらを含む磁気テープや磁気デイスクの表
面平滑性の向上や薄い塗膜による磁気特性のより
鋭敏な発揮が期待できる。 一方、本発明の被覆剤は、ガラス表面上に透明
で平滑な薄い塗膜を形成できるので、各種光学機
器の油汚れ防止剤などとして耐油性と耐抜き取り
性を必要とする用途にも使用することができる。 次に、本発明の実施例並びに比較例について具
体的に説明するが、斯かる説明によつて本発明が
何ら限定されるものでないことは勿論である。 尚、以下の実施例並びに比較例において、表面
塗膜の平滑性は、倍率160倍の光学顕微鏡で塗膜
表面のブツ等の有無を観察し、５段階（５：全く
ブツがない、４：縁にほんの僅かブツあり、３：
表面のほんの僅かブツあり、２：表面に僅かにブ
ツがある、１：全てにブツがある、数値が大きい
程良好）で評価した。 接触角は、ｎ−デカンを6μ測定表面に滴下
し、エルマ製ゴニオメーター式接触角測定器を用
い、25℃にて測定した。 耐塩水試験は、ポリ塩化ビニルの密閉箱内で、
測定表面に人工海水を25μ滴下し、錆びによる
濁りが生じ始めるまでの時間を観察し、５段階
（５：５時間以上、４：３〜５時間、３：２〜３
時間、２：１〜２時間、１：１時間以下）で評価
した。 帯電防止性能の試験は、市販ポリエステルフイ
ルム（エピツクフイルム＃400：きもと社製商品）
の10cm×10cm切片に塗布・乾燥した試料につい
て、その被処理面の表面電位の減少状態を、高静
電場帯電測定法を用いて測定した。試料作成に当
つては、ポリエステルフイルム切片を前記溶液に
浸漬し、次いで風乾後、相対湿度40％に調湿した
容器中に24時間以上保存する。得られた試料につ
き、相対湿度40％に調湿した部屋に設置されたエ
レクトロスタテイツク・ペーパーアナライザー
（川口電機製作所製SP−428型）を用いて測定を
行つた。測定方法は、印加電圧−6KVで試料表
面に帯電させ、表面電位の変化を１分間連続的に
記録した。同一処理の試料を３点用いて測定を繰
り返し、平均値を求めた。 摩擦抵抗低減効果の評価は、帯電防止性能の場
合と同様にしてポリエステルフイルムの試料を作
成し、処理面相互間の動摩擦係数の比較で行つ
た。誤係数の測定は、米国材料試験協会規格Ｄ−
1894に準じた方法により、東洋ボールドウイン社
製摩擦試験治具を使用して行つた（錘重量：236
ｇ、引張強度：100mm／min）。 実施例１〜10及び比較例１〜５ 表−１に示すNo.１〜15各試料のイソプピルアル
コール／フレオン−113（（１：1V／Ｖ）溶液をミ
クロスライドガラス（76×26mm）に滴下し、３分
間乾燥させた後の表面の平滑性並びにｎ−デカン
による接触角を測定した結果を表−１に示した。
C8F17CH2CH2CONH−C4H9等が挙げられる。 本発明に係る含フツ素化合物（一般式（）〕
に対する上記含フツ素界面活性剤又は含フツ素ア
マイド添加量には何ら制限は無いが、通常該含フ
ツ素化合物に対して０〜30重量％、好ましくは５
〜30重量％である。 本発明の被覆剤の塗装並びに塗工方法には、何
ら制限は無いが、通常は一般式〔〕ノ化合物を
適当な溶媒に濃度１×10-3〜10重量％に溶解し、
浸漬法、スプレー法等で基体に塗布される。又必
要に応じて塗布面を乾燥、加熱したり、またバフ
掛けすることにより均一で薄い塗面を形成するこ
とが可能である。その時の塗膜の膜厚は、100Å
〜100μmである。 浸漬法、スプレー法等で塗装する際用られる有
機溶媒としては、何ら制限は無いが、一般式
（）で示される含フツ素化合物の内、ｎが10よ
りも小さいもの、並びに一般式（）にて表わさ
れる含フツ素アマイド化合物の水溶解性があまり
良くないので、有機溶媒の使用が好ましく、溶媒
を単独で用いてもよいが水と有機溶媒との混合系
または有機溶媒同士の混合系も好ましく使用され
る。これら有機溶媒の例としては、メタノール、
エタノール、プロパノール、イソプロパノール等
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、エチ
ルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタ
ン、トリクロロエタン、トリクロルフルオロメタ
ン等のハロロゲン化炭化水素等が挙げられる。 本発明の被覆剤は前述した如くに、各種の固体
表面の保護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚
剤、潤滑剤、帯電防止剤、減摩剤、剥離剤、離型
剤等として使用できるが塗膜の薄さと平滑性を生
かして特に、記録材料分野における磁気記録製品
の磁性層の被覆に好適に用いられる。 塗布される固体としては、例えば、銅、アルミ
ニウム、亜鉛などの非磁性金属やポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフイン類、セルロースアセテート等のセル
ロース誘導体ポリカーボネート等のプラスチツク
や、更に、場合よりガラス、磁気及び陶器のよう
なセラミツクス上に蒸着された強磁性合金（鉄、
コバルト及び／又はニツケルを主成分とし、少量
のアルミニウム、シリコン、クロム、マンガン、
モリブデン、チタン、各種重金属類、希土類金属
等を含むもの）または微量の酸素存在下で鉄また
はクロムを蒸着してなる強磁性金属酸化物からな
る磁性層の保護被覆用塗膜として用いることによ
り、それらを含む磁気テープや磁気デイスクの表
面平滑性の向上や薄い塗膜による磁気特性のより
鋭敏な発揮が期待できる。 一方、本発明の被覆剤は、ガラス表面上に透明
で平滑な薄い塗膜を形成できるので、各種光学機
器の油汚れ防止剤などとして耐油性と耐抜き取り
性を必要とする用途にも使用することができる。 次に、本発明の実施例並びに比較例について具
体的に説明するが、斯かる説明によつて本発明が
何ら限定されるものでないことは勿論である。 尚、以下の実施例並びに比較例において、表面
塗膜の平滑性は、倍率160倍の光学顕微鏡で塗膜
表面のブツ等の有無を観察し、５段階（５：全く
ブツがない、４：縁にほんの僅かブツあり、３：
表面のほんの僅かブツあり、２：表面に僅かにブ
ツがある、１：全てにブツがある、数値が大きい
程良好）で評価した。 接触角は、ｎ−デカンを6μ測定表面に滴下
し、エルマ製ゴニオメーター式接触角測定器を用
い、25℃にて測定した。 耐塩水試験は、ポリ塩化ビニルの密閉箱内で、
測定表面に人工海水を25μ滴下し、錆びによる
濁りが生じ始めるまでの時間を観察し、５段階
（５：５時間以上、４：３〜５時間、３：２〜３
時間、２：１〜２時間、１：１時間以下）で評価
した。 帯電防止性能の試験は、市販ポリエステルフイ
ルム（エピツクフイルム＃400：きもと社製商品）
の10cm×10cm切片に塗布・乾燥した試料につい
て、その被処理面の表面電位の減少状態を、高静
電場帯電測定法を用いて測定した。試料作成に当
つては、ポリエステルフイルム切片を前記溶液に
浸漬し、次いで風乾後、相対湿度40％に調湿した
容器中に24時間以上保存する。得られた試料につ
き、相対湿度40％に調湿した部屋に設置されたエ
レクトロスタテイツク・ペーパーアナライザー
（川口電機製作所製SP−428型）を用いて測定を
行つた。測定方法は、印加電圧−6KVで試料表
面に帯電させ、表面電位の変化を１分間連続的に
記録した。同一処理の試料を３点用いて測定を繰
り返し、平均値を求めた。 摩擦抵抗低減効果の評価は、帯電防止性能の場
合と同様にしてポリエステルフイルムの試料を作
成し、処理面相互間の動摩擦係数の比較で行つ
た。誤係数の測定は、米国材料試験協会規格Ｄ−
1894に準じた方法により、東洋ボールドウイン社
製摩擦試験治具を使用して行つた（錘重量：236
ｇ、引張強度：100mm／min）。 実施例１〜10及び比較例１〜５ 表−１に示すNo.１〜15各試料のイソプピルアル
コール／フレオン−113（（１：1V／Ｖ）溶液をミ
クロスライドガラス（76×26mm）に滴下し、３分
間乾燥させた後の表面の平滑性並びにｎ−デカン
による接触角を測定した結果を表−１に示した。
【表】
【表】
【表】
実施例11〜20及び比較例６〜10
表−２に、超仕上げの鋼板にNo.１〜15各試料を
塗布し、３分間乾燥した試料板を用いた耐塩水試
験の結果を示す。
塗布し、３分間乾燥した試料板を用いた耐塩水試
験の結果を示す。
【表】
試料番号は表−１のそれと同じである。
実施例21〜30及び比較例11〜15
表−３に試料No.１〜15の帯電防止性能試験の結
果を示す。
果を示す。
【表】
【表】
試料番号は表−１のそれと同じである。
実施例31〜40及び比較例16〜20
表−４に試料No.１〜15の摩擦抵抗低減効果に関
する試験結果を示す。
する試験結果を示す。
【表】
試料番号は表−１のそれと同じである。
実施例 41〜45
本発明に係る含フツ素化合物（（）式））にお
いて、ａが０である化合物について、前記実施例
と同様の方法に従つて、平滑性、接触角、耐塩水
性、帯電防止性、摩擦抵抗低減性に関する試験を
行つた。その結果を表−５にまとめて示す。 表−５からわかる様にａが１の化合物と同様
に、ａが０の化合物も優れた性能を示した。
いて、ａが０である化合物について、前記実施例
と同様の方法に従つて、平滑性、接触角、耐塩水
性、帯電防止性、摩擦抵抗低減性に関する試験を
行つた。その結果を表−５にまとめて示す。 表−５からわかる様にａが１の化合物と同様
に、ａが０の化合物も優れた性能を示した。
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式〔〕 Rf―（Ａ）a――CH2CH2O―（CH2CH2O）o――CH2CH2
―（Ａ）a――Rf …〔〕 〔式中、Rfは炭素数４〜16のパーフロロアル
キル基またはパーフロロアルケニル基であり、 Ａは酸素ではない２価の連結基であり、 ａは０または１であり、 ｎは０または１〜30までの整数である。〕 にて表わされるフツ素系化合物と、含フツ素界面
活性剤又は含フツ素アマイド化合物とからなるフ
ツ素系被覆剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11910384A JPS61265A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | フツ素系被覆剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11910384A JPS61265A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | フツ素系被覆剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61265A JPS61265A (ja) | 1986-01-06 |
| JPH0559948B2 true JPH0559948B2 (ja) | 1993-09-01 |
Family
ID=14752977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11910384A Granted JPS61265A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | フツ素系被覆剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61265A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5176943A (en) * | 1991-07-09 | 1993-01-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical recording medium with antistatic hard coating |
-
1984
- 1984-06-12 JP JP11910384A patent/JPS61265A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61265A (ja) | 1986-01-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |