JPS61265A - フツ素系被覆剤 - Google Patents
フツ素系被覆剤Info
- Publication number
- JPS61265A JPS61265A JP11910384A JP11910384A JPS61265A JP S61265 A JPS61265 A JP S61265A JP 11910384 A JP11910384 A JP 11910384A JP 11910384 A JP11910384 A JP 11910384A JP S61265 A JPS61265 A JP S61265A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- group
- contg
- compd
- coating
- Prior art date
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- Granted
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- Paints Or Removers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、平滑性、減摩性、防食性に優れたフッ素系被
覆剤に関するものであり、さらに詳しくは金属、磁器、
ガラス、プラスチック等の固体表面に、上記特性に優れ
た塗膜を形成するフッ素系被覆剤に関するものである。
覆剤に関するものであり、さらに詳しくは金属、磁器、
ガラス、プラスチック等の固体表面に、上記特性に優れ
た塗膜を形成するフッ素系被覆剤に関するものである。
従来より、金属、磁器、ガラス、プラスチック等の同体
表面を保護被覆する目的で各種の塗料やコーテイング材
が用いられているが、特に表面の平滑性が要求される場
合には、コーティング相に高級脂肪酸、高級脂肪酸エス
テル、パラフィン系炭化水素、シリコーンオイル例えば
、ジメチルポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン等
の添加剤を含有せしめる事により成されている。
表面を保護被覆する目的で各種の塗料やコーテイング材
が用いられているが、特に表面の平滑性が要求される場
合には、コーティング相に高級脂肪酸、高級脂肪酸エス
テル、パラフィン系炭化水素、シリコーンオイル例えば
、ジメチルポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン等
の添加剤を含有せしめる事により成されている。
又、側鎖に含フツ素末端基を有する含フツ素重合体も固
体表面の平滑性を向上する為にコーテイング材に添加さ
れている(特開昭51−126220号)。更に、塗料
そのものに側鎖に含フツ素末端基を有する含フツ素重合
体を用−・ることも行われている(%開昭54−432
44号)。
体表面の平滑性を向上する為にコーテイング材に添加さ
れている(特開昭51−126220号)。更に、塗料
そのものに側鎖に含フツ素末端基を有する含フツ素重合
体を用−・ることも行われている(%開昭54−432
44号)。
一方、最近の記録材料の進歩は著しく、特に磁気テープ
や磁気fイスク分野においては、高性能化が進み、記録
波長がより短く2μm以下となり特に、ノイズレベルの
低下や信号出力の増大が要求されており、磁性層の組成
は勿論のこと、磁性層表π(1の平滑化並びに摩擦低減
化か特に要求されている。
や磁気fイスク分野においては、高性能化が進み、記録
波長がより短く2μm以下となり特に、ノイズレベルの
低下や信号出力の増大が要求されており、磁性層の組成
は勿論のこと、磁性層表π(1の平滑化並びに摩擦低減
化か特に要求されている。
又、テープの走行性を鳥めたり、ビデオテープにおいて
は静止画像を鮮明にかつ長時間再現する為に、磁性層の
保護用の被覆膜に関しても、平滑化、摩擦低減化、そし
て耐久性が要求されているか、また一方では磁気特性を
より鋭敏に発現さぜる必要性から被覆膜の薄膜化が望ま
れている。
は静止画像を鮮明にかつ長時間再現する為に、磁性層の
保護用の被覆膜に関しても、平滑化、摩擦低減化、そし
て耐久性が要求されているか、また一方では磁気特性を
より鋭敏に発現さぜる必要性から被覆膜の薄膜化が望ま
れている。
しかしt(から、従来の、棹々の平滑性改良剤を添加し
た咎種塗料又はコーテイング材や含フッ素重合体塗木1
では、その塗1μの厚みをま、通常1〜100μm杵度
であり、001み μ扉程度の単分子
11か稈度まで厚みを薄くすることは塗膜の均一性や塗
膜表面の平滑性更に塗膜の強度が著しく低下するなどの
問題点があり非常に困難であった。
た咎種塗料又はコーテイング材や含フッ素重合体塗木1
では、その塗1μの厚みをま、通常1〜100μm杵度
であり、001み μ扉程度の単分子
11か稈度まで厚みを薄くすることは塗膜の均一性や塗
膜表面の平滑性更に塗膜の強度が著しく低下するなどの
問題点があり非常に困難であった。
本発明者等らは、従来の保護被覆膜の問題点を解決すべ
く鋭意研究を行った結果、所謂含フッ素fJi合体では
なく、オリゴエチレンオキシド基の両末端にバー゛フロ
ロアルキル基が導入された含フツ素化合物が、平滑性、
摩擦低減性、さらに金属面に対しては防錆性にも優れ、
かつ薄くて強靭な保護被覆膜を形成することを見い出し
本発明を完成するに至った。
く鋭意研究を行った結果、所謂含フッ素fJi合体では
なく、オリゴエチレンオキシド基の両末端にバー゛フロ
ロアルキル基が導入された含フツ素化合物が、平滑性、
摩擦低減性、さらに金属面に対しては防錆性にも優れ、
かつ薄くて強靭な保護被覆膜を形成することを見い出し
本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は下記一般式(I)にて表わされるフッ素
化合物を含有して成る被覆剤を提供するものである。
化合物を含有して成る被覆剤を提供するものである。
gr−+h入CH2CH20+CH,CH,O入CHz
CH2−(A清Rf・・(I)式中、Rfは炭素数4〜
16のパーフロロアルキル基またはパーフロロアルケニ
ル基でアリ、 Aは酸素ではない2価の連結基であり、aは0または1
であり、 nは0または1〜ろ0までの整数である。
CH2−(A清Rf・・(I)式中、Rfは炭素数4〜
16のパーフロロアルキル基またはパーフロロアルケニ
ル基でアリ、 Aは酸素ではない2価の連結基であり、aは0または1
であり、 nは0または1〜ろ0までの整数である。
尚、これら1分子中に2つずつ存在するRf、A及びa
は、その2つか同一であることを要さないのは勿論であ
る。
は、その2つか同一であることを要さないのは勿論であ
る。
本発明に係るフッ素化合物において、Rf基はパー70
ロアルキル基もしくはパー70ロアルケニル基であり、
直鎖状、分岐状、環状またはそれらを組み合わせたもの
のいずれでも良く、さらに主鎖中に酸素原子が介入した
もの、例えば(CF3)2CFOCF2CF2−等でも
良い。
ロアルキル基もしくはパー70ロアルケニル基であり、
直鎖状、分岐状、環状またはそれらを組み合わせたもの
のいずれでも良く、さらに主鎖中に酸素原子が介入した
もの、例えば(CF3)2CFOCF2CF2−等でも
良い。
nは0または1〜ろ0の整数であるが、その中でも0ま
たは1〜10の整数が特に好ましい。
たは1〜10の整数が特に好ましい。
にl′i3
)。
−CH,CH,5CH2CH,C0N−l−CH2CH
2(J(2N−1−cH,cy、5cH2cH2N−(
但し、Rは水素原子、炭素数1〜18の、アルキル基、
ヒドロキシアルキル基、アルケニル基もしくはエーテル
酸素を1個ないし2個含有するアルキル基、芳香族基ま
たは芳香族基を含む基である。)、−CB、CH□−、
−CH2CI(2CH,0−l−CH2CH2SCH2
CH20−1晶3 l −CH2CH2S CH2CH,CO−等であるが、本
発明に係る含フツ素化合物は一般式(I)に示す如く、
オリゴエチレンオキシド基の両末端にRf基が結合して
いることが特に1要であることから、上記の2価の連結
基によって、本発明が限定されるものでないことは勿論
である。
2(J(2N−1−cH,cy、5cH2cH2N−(
但し、Rは水素原子、炭素数1〜18の、アルキル基、
ヒドロキシアルキル基、アルケニル基もしくはエーテル
酸素を1個ないし2個含有するアルキル基、芳香族基ま
たは芳香族基を含む基である。)、−CB、CH□−、
−CH2CI(2CH,0−l−CH2CH2SCH2
CH20−1晶3 l −CH2CH2S CH2CH,CO−等であるが、本
発明に係る含フツ素化合物は一般式(I)に示す如く、
オリゴエチレンオキシド基の両末端にRf基が結合して
いることが特に1要であることから、上記の2価の連結
基によって、本発明が限定されるものでないことは勿論
である。
本発明に係る含フツ素化合物は、既に公知であ、る方法
(例えば特開昭58−49648号)によって製造され
る。
(例えば特開昭58−49648号)によって製造され
る。
また市販品を購入することもできる。
本発明に係る前記一般式[T)の含フツ素化合物の具体
例として次の如きものが誉げられる。
例として次の如きものが誉げられる。
C,F、7+CH,CH2O1cH2CH2C6F、。
考 C6FIAモ(J(、、CH2O虻CH2CH7
C,F、3C,F、7CM、CH20CH2CH,C5
F17CF3 CF3 ?馬 7H・ C,F、、CI、CH2CH7CH,OんCH2H2C
,F、。
C,F、3C,F、7CM、CH20CH2CH,C5
F17CF3 CF3 ?馬 7H・ C,F、、CI、CH2CH7CH,OんCH2H2C
,F、。
C1ff1F31←CH7升04CH7CH20培CH
2)、 Cl51!’31C7F154CH2人()÷
CH2CH2OCH2CH20斤−lff1F3+c、
F、、−(−CH2号0−←CH2CH2O甲CH2
蛤C9F+9嶌 喀I C+aF27+CHz汗0−+CH2CH2O后旬H2
号CI8”2□C,F、、 CH2CH,S CH2C
H2O−(−CH2CH20% CH,CH25CH,
、0H2C,F、。
2)、 Cl51!’31C7F154CH2人()÷
CH2CH2OCH2CH20斤−lff1F3+c、
F、、−(−CH2号0−←CH2CH2O甲CH2
蛤C9F+9嶌 喀I C+aF27+CHz汗0−+CH2CH2O后旬H2
号CI8”2□C,F、、 CH2CH,S CH2C
H2O−(−CH2CH20% CH,CH25CH,
、0H2C,F、。
C,、F2.CH2CH25CH2CH7O−(CH2
CH,、O垢CH2CH25CH2CH,C,、F2.
。
CH,、O垢CH2CH25CH2CH,C,、F2.
。
C9F+9咀CH25CH2則C匂:l’H2CH,O
垢CCH2CH25CH2CH2C,F、。
垢CCH2CH25CH2CH2C,F、。
本発明において、前記含フツ素化合物を一種類でまたは
二種類以上を混合して用いても良いが、またさらに当業
界公知の含フツ素界面活性剤または特開昭58−213
057号に記載の所謂含フツ素アマイド化合物と併用す
ることが可能である。併用可能な含フツ素界面活性剤ま
たは含フツ素アマイド化合物は棟々のものから選択が可
能であるが、それらを構成成分とする組成物自身が固体
表面に被償用組成物として塗布されることから少なくと
も常幅で、ワックス状又は固体状であるものが好ましく
、融点が高いものがより好ましい。
二種類以上を混合して用いても良いが、またさらに当業
界公知の含フツ素界面活性剤または特開昭58−213
057号に記載の所謂含フツ素アマイド化合物と併用す
ることが可能である。併用可能な含フツ素界面活性剤ま
たは含フツ素アマイド化合物は棟々のものから選択が可
能であるが、それらを構成成分とする組成物自身が固体
表面に被償用組成物として塗布されることから少なくと
も常幅で、ワックス状又は固体状であるものが好ましく
、融点が高いものがより好ましい。
含フッ素系界面活性剤の代表的なものとしては、次のA
−D群の如きものがあげられるが、本発明は、これらの
ものに限定されるものではない。
−D群の如きものがあげられるが、本発明は、これらの
ものに限定されるものではない。
(A群)一般式〔A) R’f−X、−8o3M・・・
[A−1]、R’(Y+ C00M −[A 2
]または、(n、′f−z−)−jp(OM)3− j
・・・[A−3,]、但し、R′fは炭素数4〜20な
るパーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニ
ル基(一部水素原子が残留してもよい)を示し7.X、
は+C1(2九−3、−〇合CH,権−1 または一〇
−〇÷CH,,)−(ここで、pは1〜20なる整数を
表わす。
[A−1]、R’(Y+ C00M −[A 2
]または、(n、′f−z−)−jp(OM)3− j
・・・[A−3,]、但し、R′fは炭素数4〜20な
るパーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニ
ル基(一部水素原子が残留してもよい)を示し7.X、
は+C1(2九−3、−〇合CH,権−1 または一〇
−〇÷CH,,)−(ここで、pは1〜20なる整数を
表わす。
を示し、Mはアルカリ金属、−NHいアミン塩、水素原
子または炭素数1〜20のアルキル基を、Yは+CH→
1、R′ −N+cpr2+(ここで、pは前出と同意、R′は水
素または炭素数1〜6なるアルギル基を表わす。)を示
し、R“ −GCH2−)−,0−eCH2−CH−0+、または
は前出と同意であり、R1ま水素原子または炭素数1〜
4なるアルキル基を、gは1〜50なる整数を表わし、
R″ (−CH,−CH−0)−gの中には、R“ 4CH2CH7”0)g+ 4CH2CHO+g2、(
g+ 十g2= g )も含めるものとする。)なる結
合基であり、jは1.2または3の整数である。
子または炭素数1〜20のアルキル基を、Yは+CH→
1、R′ −N+cpr2+(ここで、pは前出と同意、R′は水
素または炭素数1〜6なるアルギル基を表わす。)を示
し、R“ −GCH2−)−,0−eCH2−CH−0+、または
は前出と同意であり、R1ま水素原子または炭素数1〜
4なるアルキル基を、gは1〜50なる整数を表わし、
R″ (−CH,−CH−0)−gの中には、R“ 4CH2CH7”0)g+ 4CH2CHO+g2、(
g+ 十g2= g )も含めるものとする。)なる結
合基であり、jは1.2または3の整数である。
一般式〔A〕の化合物を具体的に例示すれば、次のよう
なものがある。
なものがある。
C,F、3SO3Li 、 C6F、、So!IK
、 C6F、、SO3’NH,、C8F、7801
Li 、 C,lF、7SO3Na %C8F、7S
O3K 。
、 C6F、、SO3’NH,、C8F、7801
Li 、 C,lF、7SO3Na %C8F、7S
O3K 。
、 5o3NH4、C7澹Coo(CH2)
3SO,に、 C,F、、C00NHいJ H(CF2)IOCOOH,C,1)F’2.(CH,
)、(、COONa 。
3SO,に、 C,F、、C00NHいJ H(CF2)IOCOOH,C,1)F’2.(CH,
)、(、COONa 。
C2H,C3H7
C,F、3SO2N−CH2CH20P C8F、□5
o2NCH2COOK。
o2NCH2COOK。
OC2H,C211゜
I I
C7F、5−C−N−CH2−COONa、cln、F
ll)−N−CH2CH20゜11)I C6F、、CH2CH20P(OI()、、C6F13
CH2CH20P (ONa)2、OO I111 C8F、7CH2CH20P(OH)2、(C8FI?
CH2C)(20)2 P(OH)2、C3H70C
2H。
ll)−N−CH2CH20゜11)I C6F、、CH2CH20P(OI()、、C6F13
CH2CH20P (ONa)2、OO I111 C8F、7CH2CH20P(OH)2、(C8FI?
CH2C)(20)2 P(OH)2、C3H70C
2H。
5o2NCH2CH20P(OH)、、C8F、、 5
o2N4CH2CH2−)−P−L(JK)2、Cnl
′I’l7b02N−CH2CH20(−CH2CH−
0升C8F、7−C−0−(CH2CH20−)、 P
(0−NH4)2、CH,、O C,oF2.CH2−0+CH2CHO)−5P(OK
)2またはc6F13但り、、R’fは前出と同意義で
あり、Uは罰−(D←R′ (−CH2+−−0−C))−8o2−N(−CH2九
、 −0(−CH29% R′ または−802N 4 CH2′)−pO(ニー CH
4(ココテ、R′、R“及びps gは前出と同意義
であり、UとR4、R5またはR6のいずれかとが、環
状になってもよい。)の結合基であり、R4、。
o2N4CH2CH2−)−P−L(JK)2、Cnl
′I’l7b02N−CH2CH20(−CH2CH−
0升C8F、7−C−0−(CH2CH20−)、 P
(0−NH4)2、CH,、O C,oF2.CH2−0+CH2CHO)−5P(OK
)2またはc6F13但り、、R’fは前出と同意義で
あり、Uは罰−(D←R′ (−CH2+−−0−C))−8o2−N(−CH2九
、 −0(−CH29% R′ または−802N 4 CH2′)−pO(ニー CH
4(ココテ、R′、R“及びps gは前出と同意義
であり、UとR4、R5またはR6のいずれかとが、環
状になってもよい。)の結合基であり、R4、。
R3及びR6は水素原子、炭素数1〜1oのアルキル基
、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、または炭
素数7〜15のアラルキル基であり、X2は、ハロゲン
原子、H8O4、−CR3−S O4、−H2PO4,
−QC−CH,、または、−8O3−JC)−CH3で
ある。
、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、または炭
素数7〜15のアラルキル基であり、X2は、ハロゲン
原子、H8O4、−CR3−S O4、−H2PO4,
−QC−CH,、または、−8O3−JC)−CH3で
ある。
一般式〔B〕の化合物を具体的に例示すれば、次のよう
なものがある。
なものがある。
C7゜F、、−o−/C)−cH24cH,)3C5c
、F、□o−(Σ5o2Nll−CI、 Cl2N (
CHs)p C1l s c+o F+a O(’−
CHz CH2O入。CH,CH2N”(CH讐)、T
oi C,F、78−NH−(C1f2)3−N”’N
−(CH,)、 I 、C,F、7So、NH−(−
CH2)”、N (CH,)30.5(ycH,、C6
F、、、5o2NH−(C’H2)0−(CH,)、N
”など R“ (0群)一般式〔C″l R’fV 4 CH2CH2
+gRs CC1〕また但し、R′fは、前出と同種で
あり、■は、単なる結付か、(ここで、R′は前出と同
意義である。)なる結合基であり、R″、gsR3及び
Zは前出と同意義であり、r及びSは、同時に0となる
ことはないが、それぞれ0以上の整数であり、Wは、1
価もしくは、2価以上のイソシアナート化合物残基であ
って、炭素数1〜10なるアルキル基もしくは、シクロ
アルギル基、炭素数7〜15なるアラルキル基、または
少なくとも1個のベンゼン環を含む了り−ル基からなる
上の多価残基を表わし、Lは任意のアルコール性水酸基
を含有する化合物の残基であって、脂肪族、脂環族また
は芳香族のモノアルコールの1価残基ポリアルキレンエ
ーテルクリコール、ブロック化ポリオキシアルキレンエ
ーテ/l/ fリコール、ポリエステルグリコールまた
目ポリメチレングリコール(これらグリコールの片側が
アルキルエーテル化された1価残基でもよい)の2価残
基、トリメチロールプロパンやペンタエリスリトールの
オキジアルキL’7付加物等の6価以上の多価残基を表
わす。
、F、□o−(Σ5o2Nll−CI、 Cl2N (
CHs)p C1l s c+o F+a O(’−
CHz CH2O入。CH,CH2N”(CH讐)、T
oi C,F、78−NH−(C1f2)3−N”’N
−(CH,)、 I 、C,F、7So、NH−(−
CH2)”、N (CH,)30.5(ycH,、C6
F、、、5o2NH−(C’H2)0−(CH,)、N
”など R“ (0群)一般式〔C″l R’fV 4 CH2CH2
+gRs CC1〕また但し、R′fは、前出と同種で
あり、■は、単なる結付か、(ここで、R′は前出と同
意義である。)なる結合基であり、R″、gsR3及び
Zは前出と同意義であり、r及びSは、同時に0となる
ことはないが、それぞれ0以上の整数であり、Wは、1
価もしくは、2価以上のイソシアナート化合物残基であ
って、炭素数1〜10なるアルキル基もしくは、シクロ
アルギル基、炭素数7〜15なるアラルキル基、または
少なくとも1個のベンゼン環を含む了り−ル基からなる
上の多価残基を表わし、Lは任意のアルコール性水酸基
を含有する化合物の残基であって、脂肪族、脂環族また
は芳香族のモノアルコールの1価残基ポリアルキレンエ
ーテルクリコール、ブロック化ポリオキシアルキレンエ
ーテ/l/ fリコール、ポリエステルグリコールまた
目ポリメチレングリコール(これらグリコールの片側が
アルキルエーテル化された1価残基でもよい)の2価残
基、トリメチロールプロパンやペンタエリスリトールの
オキジアルキL’7付加物等の6価以上の多価残基を表
わす。
一般式(C)の化合物を具体的に例示すれば、次のよう
なものがある。
なものがある。
Ca F 13 CH2CH20H、Cn F I?
O(CH2CH20) 、+ CH、!。
O(CH2CH20) 、+ CH、!。
OC2H。
Cl2F2!1−C04CH2CH2−0+8H,C8
F、、5o2N(CH2CH2C3H70 04H%C8F、So2M−(CH,CH2O七IL
c、p’、、c −C2H,C2H。
F、、5o2N(CH2CH2C3H70 04H%C8F、So2M−(CH,CH2O七IL
c、p’、、c −C2H,C2H。
N+CH,CH,O輻I(、C,oF、、 −N−CH
,CH20H。
,CH20H。
CM。
I
NH−C−0−FCH2CH20)CH,、C,、F、
、 −0−OH2CH20−CCH。
、 −0−OH2CH20−CCH。
cH。
CH。
C3H1
CH2CH20H,7C8など
但し、R’f、 U、 R4、R3は前出の通りであり
、kは1〜4e θ e の整数であり、A は−C00又は−So、の如き陰イ
オン性基である。
、kは1〜4e θ e の整数であり、A は−C00又は−So、の如き陰イ
オン性基である。
一般式CD]の化合物を具体的に例示すれば、次のよう
なものがある。
なものがある。
O
c、F、3cNm<CH2)J”(cH,>2cn2c
ooe、 C,F、7CNH(CH2)sN”(CH3
)2 (CH2)3COOe、C8゜F、。OQω
e CH2N (CH,)2CH2Coo % C,F、
70÷CH2CH2O+(CH2)2N (CH3)P
(CH2)2COOe、 CIOFlll−08■ ■ 0 8O7NH(CH7)3N (CH3)2 (CH2)
sSO3,C,F1□ω e So、NH(CH2)3N ((j(3)2(CH2)
3So、 、C,F、、5o2(ト)
■N (CH2CH20H)、
(CH2)2COO、C5FnSO2NH(CH2)s
(ト) e O(CHJ2N ((:HJtCH2COOまたはまた
含フン累アマイド化合物とは、一般式(■)で示される
化合物である。式中、R″fは炭素数4〜2oのハーフ
/l/、+1−0アルキル基マタはパーフルオロアルケ
ニル基であり、好ましくは炭素数4〜16のパーフルオ
ロアルキル基またはパーフルオロアルケニル基である。
ooe、 C,F、7CNH(CH2)sN”(CH3
)2 (CH2)3COOe、C8゜F、。OQω
e CH2N (CH,)2CH2Coo % C,F、
70÷CH2CH2O+(CH2)2N (CH3)P
(CH2)2COOe、 CIOFlll−08■ ■ 0 8O7NH(CH7)3N (CH3)2 (CH2)
sSO3,C,F1□ω e So、NH(CH2)3N ((j(3)2(CH2)
3So、 、C,F、、5o2(ト)
■N (CH2CH20H)、
(CH2)2COO、C5FnSO2NH(CH2)s
(ト) e O(CHJ2N ((:HJtCH2COOまたはまた
含フン累アマイド化合物とは、一般式(■)で示される
化合物である。式中、R″fは炭素数4〜2oのハーフ
/l/、+1−0アルキル基マタはパーフルオロアルケ
ニル基であり、好ましくは炭素数4〜16のパーフルオ
ロアルキル基またはパーフルオロアルケニル基である。
、Qは−co−1+CHiSO2−1+CH4C0−(
但し、iは1〜8の整数である)であり、好ましくは−
co−1−so2− 、である。
但し、iは1〜8の整数である)であり、好ましくは−
co−1−so2− 、である。
R1及びR2は水素原子または炭素数1〜2oなるアル
キこでm及びnは1〜2oなる整数であり% R3は水
素原子または炭素数1〜乙のアルキル基であって% R
I % R2と同一でも異なっても良い。)で示される
ポリオキシアルキレン訪鎮体を示すハ・、好ましくは、
水素原寸、または炭素01〜20のアルキル基が良い。
キこでm及びnは1〜2oなる整数であり% R3は水
素原子または炭素数1〜乙のアルキル基であって% R
I % R2と同一でも異なっても良い。)で示される
ポリオキシアルキレン訪鎮体を示すハ・、好ましくは、
水素原寸、または炭素01〜20のアルキル基が良い。
それらの伏表的な例としては17次の如きものが挙げら
れ石。
れ石。
C,F、7So2NH,、C,F、7So、’NHC,
H,、C,F、7So2NHOCH。
H,、C,F、7So2NHOCH。
C,F、3CNCH2CH,OH,C8F、7So2N
(CH2C)(20H)、、C2H。
(CH2C)(20H)、、C2H。
C,F、3So、N(CH,CH,0H)2、C,F、
、5o2NCH3CH7OH。
、5o2NCH3CH7OH。
C2H。
C8F、、5o2NCH2CH20H,C8F、7CM
2CH,5o2NT(2またはC8F、7CH2CH,
C0NH−C4H11等が挙げられる。
2CH,5o2NT(2またはC8F、7CH2CH,
C0NH−C4H11等が挙げられる。
本発明に係る含フツ素化合物(一般式(I))に対する
上記含フツ素界面活性剤又は含フツ素アマイドの添加量
には何ら制限は無いが、通常該含フッ素化合物に対して
0〜60重情%、好ましくは5〜6OW、量%である。
上記含フツ素界面活性剤又は含フツ素アマイドの添加量
には何ら制限は無いが、通常該含フッ素化合物に対して
0〜60重情%、好ましくは5〜6OW、量%である。
本発明の被覆剤の塗装並びに塗工方法には、何ら制限は
無いが、通常は一般式CI)の化合物を適当な溶媒に濃
度I X 10 ””〜10重景9に溶解し、浸漬法、
スプレー法等で基体に塗布される。又必要に応じて塗布
面を乾燥、加熱したり、またパフ掛けすることにより均
一で薄(・塗装を形成することが可能である。その時の
塗膜の膜厚は、100A 〜100μmである。
無いが、通常は一般式CI)の化合物を適当な溶媒に濃
度I X 10 ””〜10重景9に溶解し、浸漬法、
スプレー法等で基体に塗布される。又必要に応じて塗布
面を乾燥、加熱したり、またパフ掛けすることにより均
一で薄(・塗装を形成することが可能である。その時の
塗膜の膜厚は、100A 〜100μmである。
浸漬法、スプレー法等で塗装する際用いられる有機溶媒
としては、何ら制限は無いが、一般式(I)で示される
含フツ素化合物の内、nが10よりも小さいもの、並び
に一般式(II)にて表わされる含フツ素アマイド化合
物の水溶解性があまり良くないので、有機溶媒の使用が
好ましく、溶媒を単独で用いてもよいが水と有機溶媒と
の混合系または有機溶媒同士の混合系も好ましく使用さ
れる。これら有機溶媒の例としては、メタノール、エタ
ノール、グロパノール、イソプロパツール等のアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のニーデ
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロ
ロメタン、トリクロロエタン、トリクロルフルオロメタ
ン等のハロゲン化炭化水素等カ挙ケラれる。
としては、何ら制限は無いが、一般式(I)で示される
含フツ素化合物の内、nが10よりも小さいもの、並び
に一般式(II)にて表わされる含フツ素アマイド化合
物の水溶解性があまり良くないので、有機溶媒の使用が
好ましく、溶媒を単独で用いてもよいが水と有機溶媒と
の混合系または有機溶媒同士の混合系も好ましく使用さ
れる。これら有機溶媒の例としては、メタノール、エタ
ノール、グロパノール、イソプロパツール等のアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のニーデ
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロ
ロメタン、トリクロロエタン、トリクロルフルオロメタ
ン等のハロゲン化炭化水素等カ挙ケラれる。
本発明の被覆剤は前述した如くに、各種の固体表面の保
護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚剤、潤滑剤、帯
電防止剤、減摩剤、剥離剤、離型剤等として使用できる
が塗膜の薄さと平滑性を生かして特に、記録材料分野に
おける磁気記録製品の磁性層の被覆に好適に用いられる
。
護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚剤、潤滑剤、帯
電防止剤、減摩剤、剥離剤、離型剤等として使用できる
が塗膜の薄さと平滑性を生かして特に、記録材料分野に
おける磁気記録製品の磁性層の被覆に好適に用いられる
。
塗布される固体としては、例えば、銅、アルミニウム、
亜鉛などの非磁性金属やポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル
類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
アセテート等のセルロース誘導体ポリカーボネ−1・等
のプラスチックや、更に、場合によりガラス、磁器及び
陶器のようなセラミックス上に蒸着された強磁性合金(
鉄、コバルト及び/又はニッケルを主成分とし、少量の
アルミニウム、シリコン、クロム、マンガン、モリブデ
ン、チタン、各種重金属用、希土類金属等を含むもの)
または徴メの酸素存在下で鉄またはクロムを蒸着してな
る強磁性台(4酸化物からなる磁性層の保両被覆用塗膜
として用いることにより、それらを含む磁気テープや磁
気ティスフの表面平滑性の向上や薄い塗膜による磁気特
性のより鋭敏な発揮が期待できる。
亜鉛などの非磁性金属やポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル
類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
アセテート等のセルロース誘導体ポリカーボネ−1・等
のプラスチックや、更に、場合によりガラス、磁器及び
陶器のようなセラミックス上に蒸着された強磁性合金(
鉄、コバルト及び/又はニッケルを主成分とし、少量の
アルミニウム、シリコン、クロム、マンガン、モリブデ
ン、チタン、各種重金属用、希土類金属等を含むもの)
または徴メの酸素存在下で鉄またはクロムを蒸着してな
る強磁性台(4酸化物からなる磁性層の保両被覆用塗膜
として用いることにより、それらを含む磁気テープや磁
気ティスフの表面平滑性の向上や薄い塗膜による磁気特
性のより鋭敏な発揮が期待できる。
一方、本発明の被贈剤は、ガラス表面上に透明で平滑な
薄い塗膜を形成できるので、各棹光学機器の油汚れ防止
剤など七して耐油性と耐抜き取り性を必要とする用途に
も使用することがで倣る。
薄い塗膜を形成できるので、各棹光学機器の油汚れ防止
剤など七して耐油性と耐抜き取り性を必要とする用途に
も使用することがで倣る。
次に、本発明の実施例並びに比較例について具体的に説
明l−るが、斯かる説明によって本発明が何ら限定され
るもので/Cいことt′I勿論である。
明l−るが、斯かる説明によって本発明が何ら限定され
るもので/Cいことt′I勿論である。
尚、以下の甚施、91i並ひに比較例((おいて、表面
塗膜の平R酸性は、倍率160倍の光学Y口微鏡で塗膜
表面のブツ等の有無を的、祭し、5段階(5:全くプツ
かない、4:糾にほんの僅かブツあり、3:表面にほん
の僅かブツk・す、2二表面に僅かにブツがある、1:
全てにブツがある、数値が大きい程良好)で評価した。
塗膜の平R酸性は、倍率160倍の光学Y口微鏡で塗膜
表面のブツ等の有無を的、祭し、5段階(5:全くプツ
かない、4:糾にほんの僅かブツあり、3:表面にほん
の僅かブツk・す、2二表面に僅かにブツがある、1:
全てにブツがある、数値が大きい程良好)で評価した。
接触角は、n−デカンを6μl測定表…1に滴下し、エ
ルマ製ゴニオメータ一式接触角測定器を用い、25℃に
て1llli定した。
ルマ製ゴニオメータ一式接触角測定器を用い、25℃に
て1llli定した。
耐塩水試験は、ボIJm化ビニルの密閉箱内で、測’1
l−t4面に人工海水を25μ1滴下し、錆びによる濁
りが生じ始めるまでの時間を観察し、5段階(5:5時
間以上、4:6〜5時間、3:2〜6時間、2:1〜2
時間、1:1時間以下)で評価した。
l−t4面に人工海水を25μ1滴下し、錆びによる濁
りが生じ始めるまでの時間を観察し、5段階(5:5時
間以上、4:6〜5時間、3:2〜6時間、2:1〜2
時間、1:1時間以下)で評価した。
帯電防止性能の試験は、市販ポリエステルフィルム(エ
ピツクフィルム+400:きもと社製商品名)の1oc
rn×107切片に塗布・乾燥した試料について、その
被処理面の表面電位の減少状態を、高静屯場帯′亀測定
法を用いて測定した。試料作成に当っては、ポリエステ
ルフィルム切片を前記溶液に浸漬し、次いで風乾後、相
対湿度40%に調湿した容器中に24時間以上保存する
。得られた試料につき、相対湿度40%に調湿した部屋
に設置されたエレクトロスタティック争ペーパーアナラ
イザー(川し1市1機製作所製5P−428型)を用い
て測定を行った。4111定方法は、印加中;H−−6
KVで試料表面に帯′…;させ、表面(資)位の変化を
1分間連続的に記録した。同一処理の試料を3点用いて
測定を柊り返I−1平均値を求めた。
ピツクフィルム+400:きもと社製商品名)の1oc
rn×107切片に塗布・乾燥した試料について、その
被処理面の表面電位の減少状態を、高静屯場帯′亀測定
法を用いて測定した。試料作成に当っては、ポリエステ
ルフィルム切片を前記溶液に浸漬し、次いで風乾後、相
対湿度40%に調湿した容器中に24時間以上保存する
。得られた試料につき、相対湿度40%に調湿した部屋
に設置されたエレクトロスタティック争ペーパーアナラ
イザー(川し1市1機製作所製5P−428型)を用い
て測定を行った。4111定方法は、印加中;H−−6
KVで試料表面に帯′…;させ、表面(資)位の変化を
1分間連続的に記録した。同一処理の試料を3点用いて
測定を柊り返I−1平均値を求めた。
#拒抵抗11i:譚効朱の評価は、帯電防止性能の場合
と同様にしてポリエステルフィルムの試料を作成し、処
理面相互間の動摩擦除数の比較で行った。誤係数の測定
は、米国劇料試験協会規格1)−1894に準じた方法
により、東洋ボールドウィン社製摩徘試験治具を使用し
て行った(錘重量=2669、引張強度: 100am
/min )。
と同様にしてポリエステルフィルムの試料を作成し、処
理面相互間の動摩擦除数の比較で行った。誤係数の測定
は、米国劇料試験協会規格1)−1894に準じた方法
により、東洋ボールドウィン社製摩徘試験治具を使用し
て行った(錘重量=2669、引張強度: 100am
/min )。
実施例1〜10及び比較例1〜5
表−1に示すA1〜15各試料のイソブピルアルコール
/7レオンー113 (1: I V/V )溶液をミ
クロスライドガラス(76X26mm)に滴下し、3分
間乾燥させた後の表面の平滑性並ひにn−デカンによる
接触角’t Ill定した結果を表−1に示した。
/7レオンー113 (1: I V/V )溶液をミ
クロスライドガラス(76X26mm)に滴下し、3分
間乾燥させた後の表面の平滑性並ひにn−デカンによる
接触角’t Ill定した結果を表−1に示した。
こ/′
/″
実施例11〜20及び比較例6〜10
表−2に、超仕上げの鋼板に461〜15各試料を塗布
し、ろ分間乾繰した試料板を用いた耐塙水試験の結果を
示す。
し、ろ分間乾繰した試料板を用いた耐塙水試験の結果を
示す。
表−2
試料番号は表−1のそれと同じである。
実施例21〜60及び比較例11〜15・ 表−6に試
料/I61〜15の帯電防止性能試験の結果を示す。
料/I61〜15の帯電防止性能試験の結果を示す。
表−6
試料番号は表−1のそれと同じである。
実施例51〜40及び比較例16〜20表−4に試料腐
1〜15の摩擦抵抗低減効果に関する試験結果を示す。
1〜15の摩擦抵抗低減効果に関する試験結果を示す。
表−4
試料番号は表−1のそれと同じである。
実施例41〜45
0である化合物について、前記実施例と同様の方法に従
って、平滑性、接触角、耐塩水性、帯電防止性、摩擦抵
抗低減性に関する試験を行った。その結果を表−59こ
まとめて示す。
って、平滑性、接触角、耐塩水性、帯電防止性、摩擦抵
抗低減性に関する試験を行った。その結果を表−59こ
まとめて示す。
表−5かられかる様にaが1の化合物と同様に、aが0
の化合物も優れた性能を示した。
の化合物も優れた性能を示した。
手続補正書(自発)
昭和59年7月ノ・6日
特許庁長官 志 賀 学 殿
1 事件の表示
昭和59年特許願第119103号
2、発明の名称
フッ素系被覆剤
6 補止をする者
事件との関1糸 特許出願人
〒174 東京都板橋区坂下三丁目35番58号(28
8) 犬日本インキ化学工業株式会社代表者 川
村 茂 邦 4、代理人 〒103 東京都中央区日本橋三丁目7番20号大日本
インキ化学工業株式会社内 明細書の発明の詳細な説明?欄 、:ひ(・ :’
、j:’、 l。
8) 犬日本インキ化学工業株式会社代表者 川
村 茂 邦 4、代理人 〒103 東京都中央区日本橋三丁目7番20号大日本
インキ化学工業株式会社内 明細書の発明の詳細な説明?欄 、:ひ(・ :’
、j:’、 l。
6 補正の内容
(11明細書第12頁第3行の
[”c、p、、cH2cH2scH7cH2d O+C
H2CH2籍CCH)C1(7SCH7CH2C7F、
、]と訂正する。
H2CH2籍CCH)C1(7SCH7CH2C7F、
、]と訂正する。
(2)同第12頁第4行の
[”C,F、、CH2CH25CI(2CH2C−0+
CH2CH7O村。ccn2cH2sca2cH7c、
F、Jと訂正する。
CH2CH7O村。ccn2cH2sca2cH7c、
F、Jと訂正する。
(3)同第18頁下から第2行〜第1行をrnso4、
−CH3−8o4、Oll0 −H2PO,、−CH3Co またはCH,、Os
o 、Qである。」と訂正する。
−CH3−8o4、Oll0 −H2PO,、−CH3Co またはCH,、Os
o 、Qである。」と訂正する。
(4)同第65頁の実施例1の含フツ素化合物の欄を(
以上)
以上)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式〔 I 〕 Rf−(A)−_aCH_2CH_2O−(CH_2C
H_2O)−_nCH_2CH_2−(A)−_aRf
・・・〔 I 〕〔式中、Rfは炭素数4〜16のパーフ
ロロアルキル基またはパーフロロアルケニル基であり、 Aは酸素ではない2価の連結基であり、 aは0または1であり、 nは0または1〜30までの整数である。〕にて表わさ
れるフッ素系化合物を含有して成る被覆剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11910384A JPS61265A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | フツ素系被覆剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11910384A JPS61265A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | フツ素系被覆剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61265A true JPS61265A (ja) | 1986-01-06 |
| JPH0559948B2 JPH0559948B2 (ja) | 1993-09-01 |
Family
ID=14752977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11910384A Granted JPS61265A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | フツ素系被覆剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61265A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5910517A (en) * | 1991-07-09 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical recording medium with antistatic hard coating |
-
1984
- 1984-06-12 JP JP11910384A patent/JPS61265A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5910517A (en) * | 1991-07-09 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical recording medium with antistatic hard coating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0559948B2 (ja) | 1993-09-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |