JPH0560835B2 - - Google Patents

Description

請求の範囲 １ 光学活性なペリプラノン−Ｂの製造方法であ
つて、 (a) 式 で示される（1RS，4S，5E）−４−イソプロピ
ル−７−メチレン−５−シクロデセン−１−オ
ールを水酸基の酸化条件に供して（4S，5E）−
４−イソプロピル−７−メチラン−５−シクロ
デセン−１−オンを生成し、 (b) 工程(a)の生成物を位置選択的なエノール化条
件に供し、そのエノール化生成物をスルフエニ
ル化条件に供して（4S，5E）−４−イソプロピ
ル−７−メチレン−10−フエニルチオ−５−シ
クロデセン−１−オンを生成し、 (c) 工程(b)の生成物をフエニルチオ基の酸化条件
に供して（4S，5E）−４−イソプロピル−７−
メチレン−10フエニスルフイニル−５−シクロ
デセン−１−オンを生成し、 (d) 工程(c)の生成物をスルホキシド基の分解条件
に供して（8S，2Z，6E）−８−イソプロピル５
−メチレン−２，６−シクロデカジエン−１−
オンを生成し、 (e) 工程(d)の生成物をエノンの立体選択的エポキ
シ化条件に供して（4S，5E，9E，10R）−９−
エポキシ−４−イソプロピル−７−メチレン−
５−シクロデセン−１−オンを生成し、 (f) 工程(e)の生成物をエノラート生成条件に供
し、得られたエラノートを酸化条件に供して
（4S，5E，9R，10R）−９−エポキシ−４−イ
ソプロピル７−メチレン−２−ヒドロキシ−５
−シクロデセン−１−オンを生成し、 (g) 工程(f)の生成物を水酸基の酸化条件に供して
（3S，4E，8R，9R）−８−エポキシ−３−イソ
プロピル−６−メチレン−10−オキソ−４−シ
クロデセン−１−オンを生成し、および (h) 工程(g)の生成物を10位ケトンの位置および立
体選択的エポキシ化条件に供して式 で示される光学活性なペリプラノン−Ｂを生成
する、 ことからなる方法。 ２ 工程(a)が、式１の化合物を、無水クロム酸
と、ピリジンとの混合物、ピリジニウムクロロメ
ートとモレキユラーシーブスとの混合物、ピリジ
ミウムジクロメート、およびジメチルスルホキシ
ドと塩化オキザリルとの混合物よりなる群の中か
ら選ばれた酸化剤と反応させることからなる請求
の範囲第１項記載の方法。 ３ 工程(b)が、工程(a)の生成物を、リチウムジイ
ソプロピルアミドおよびリチウムビストリメチル
シリルアミドよりなる群の中から選ばれた強塩基
と反応させ、この反応生成物をジフエニルスルフ
イドおよびフエニルチオベンゼンスルホネートよ
りなる群の中から選ばれたスルフエニル化剤と反
応させることからなる請求の範囲第１項記載の方
法。 ４ 工程(c)が、工程(b)の生成物を過ヨウ素酸ナト
リウム、過酸化水素およびｍ−クロロ過安息香酸
よりなる群の中から選ばれた酸化剤と反応させる
ことからなる請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 工程(d)が、工程(c)の生成物を、炭酸カルシウ
ム、ピリジンまたはトリメチルホスフイトの存在
下に加熱することからなる請求の範囲第１項記載
の方法。 ６ 工程(e)が、工程(d)の生成物をアルカリ金属の
ｔ−ブチルペルオキシドと反応させることからな
る請求の範囲第１項記載の方法。 ７ 工程(f)が、工程(e)の生成物をリチウムジイソ
プロピルアミドおよびリチウムビストリメチルシ
リルアミドよりなる群の中から選ばれた塩基と反
応させ、ついでこの反応生成物を五酸化モリブデ
ンのピリジン−ヘキサメチルホスホリツクトリア
ミド錯体と反応させることからなる請求の範囲第
１項記載の方法。 ８ 工程(g)が、工程(f)の生成物を無水クロム酸と
ピリジンとの混合物、ピリジニウムクロロクロメ
ートとモレキユラーシーブスとの混合物、ピリジ
ニウムクロロクロメートと酢酸ナトリウムとの混
合物、ピリジニウムクロロクロメート、およびジ
メチルスルホキシドと塩化オキザリルとの混合物
よりなる群の中から選ばれた酸化剤と反応させる
ことからなる請求の範囲第１項記載の方法。 ９ 工程(h)が、工程(g)の生成物をジメチルスルホ
ニウムメチリドと反応させることからなる請求の
範囲第１項記載の方法。 技術分野 この発明は、ワモンゴキブリの性フエロモンで
ある光学活性なペリプラノン−Ｂの製造方法に関
する。 背景技術 ペリプラノン−Ｂは、ほとんど全世界に分布す
る害虫であるワモンゴキブリ（Periplaneta
americana）のメスの性フエロモンの主成分であ
り、シー・ジエイ・パースーンズらによつて初め
て単離され、その平面構造が決定されており、特
異なゲルマクレン型セスキテルペノイド構造を有
する（C.J.Persoons et al.，Tetrahedoron
Letters，24，2055（1976））。パースーンズらの報
告によれば、ペリプラノン−Ｂは非常に強力な生
理活性を有し、その１ピコグラム（一兆分の一グ
ラム）でワモンゴキブリのオスを誘引し、性的興
奮をおこさせる。その後、ペリプラノン−Ｂはそ
のラセミ体がダブリユー・シー・ステイルによつ
て合成され、その相対的立体配置が決定されてい
る（W.C.Still，J.Am.Chem.Soc.，101，2495
（1979））。さらに、ケイ・ナカニシらは、ステイ
ルの合成したラセミ体を光学分割し、分光学的手
法によりペリプラノン−Ｂの絶対立体配置を決定
している（K.Nakanishiet al.，J.Am.Chem.
Soc.，101，2495（1979））。ペリプラノン−Ｂの他
の合成方法が、エス・エル・シユライバーらによ
つてJ.Am.Chem.Soc.，106，4038（1984）に記載
されている。 上にも述べたように、ペリプラノン−Ｂは、ワ
モンゴキブリの性フエロモンであり、これを用い
て雄ワモンゴキブリを特定の場に誘引・捕殺する
ことができる。しかしながら、ワモンゴキブリを
含めて昆虫は、性フエロモンを極微量にしか産生
しないので、これを抽出によつて獲得すること
は、実用的ではない。したがつて、ペリプラノン
−Ｂを工業的規模で合成できる方法の開発が要望
されている。 上記ステイルの合成方法およびシユライバーら
の合成方法は、いずれも、出発原料として、ラセ
ミ体（前者の方法においては（±）−５−（ヒドロ
キシメチル）シクロヘキセノンのエトキシエチル
エーテル、後者の方法においては（±）−４−イ
ソプロピル−２−シクロヘキセン−１−オン）を
用いており、したがつて最終目的生成物であるペ
リプラノン−Ｂもラセミ体としてしか得らえな
い。これら従来の方法において用いられている出
発原料ラセミ体はこれを光学分割することが非常
に困難であり、複雑な操作を必要とする。加え
て、これらの方法は、ペリプラノン−Ｂの合成に
おける鍵反応である十員環の形成に、大規模化の
困難なオキシスコープ転移を利用しており、効率
的でない。さらに、これらの方法には、有機金属
反応や光反応など反応条件を微妙に調節すること
が必要な工程が多い。 発明の開示 したがつて、この発明の目的は、工業的規模で
光学活性なペリプラノン−Ｂを製造することがで
きる方法を提供することにある。 この発明の光学活性なペリプラノン−Ｂの製造
方法は、式 で示される（1RS，4S，5E）−４−イソプロピル
−７−メチレン−５−シクロデセン−１−オール
から出発する。 すなわち、まず、工程(a)において、式１の化合
物を水酸基の酸化条件に供して（4S，5E）−４−
イソプロピル−７−メチレン−５−シクロデセン
−１−オンを生成する。ついで工程(b)において、
工程(a)の生成物を位置選択的なエノール化条件に
供し、そのエノール化生成物をスルフエニル化条
件に供して（4S，5E）−４−イソプロピル−７−
メチレン−10−フエニルチオ−５−シクロデセン
−１−オンを生成する。工程(c)において、工程(b)
の生成物をフエニルチオ基の酸化条件に供して
（4S，5E）−４−イソプロピル−７−メチレン−
10フエニスルフイニル−５−シクロデセン−１−
オンを生成する。工程(d)において、工程(c)の生成
物をスルホキシド基の分解条件に供して（8S，
2Z，6E）−８−イソプロピル５−メチレン−２，
６−シクロデカジエン−１−オンを生成する。工
程(e)において、工程(d)の生成物をエノンの立体選
択的エポキシ化条件に供して（4S，5E，9R，
10R）−９−エポキシ−４−イソプロピル−７−
メチレン−５−シクロデセン−１−オンを生成す
る。ついで工程(f)において、工程(e)の生成物をエ
ノラート生成条件に供し、得られたエノラートを
酸化条件に供して（4S，5E，9R，10R）−９−エ
ポキシ−４−イソプロピル７−メチレン−２−ヒ
ドロキシ−５−シクロデセン−１−オンを生成す
る。工程(g)において、工程(f)の生成物を水酸基の
酸化条件に供して（3S，4E，8R，9R）−８−エ
ポキシ−３−イソプロピル−６−メチレン−10−
オキソ−４−シクロデセン−１−オンを生成す
る。最後に、工程(g)の生成物を10位ケトンの位置
および立体選択的エポキシ化条件に供して式 で示される光学活性なペリプラノン−Ｂを生成す
る。 発明を実施するための最良の形態 本発明者らは、光学活性なペリプラノン−Ｂの
実用的な合成方法を開発する目的で鋭意研究をお
こなつた。その結果、上記シユライバーらの合成
方法における重要な中間体である（5E）−４−イ
ソプロピル−７−メチレン−５−シクロデセン−
１−オンに着目し、その前駆体として光学活性な
（1RS，4S，5E）−４−イソプロピル−７−メチ
レン−５−シクロデセン−１−オールを工業的規
模で実施し得る方法で提供し、この化合物から出
発する光学活性ペリプラノン−Ｂの製造方法を開
発したものである。 この発明に従うと、光学活性なペリプラノン−
Ｂは式 で示される（1RS，4S，5E）−４−イソプロピル
−７−メチレン−５−シクロデセン−１−オール
から出発して以下のルートに従ってこれを製造す
ることができる。 以下、上記ルートに沿つて、この発明の光学活
性ペリプラノン−Ｂの製造方法を説明する。 (1) まず、段階ａにおいて、式(1)で示される
（1RS，4S，5E）−４−イソプロピル−７−メ
チレン−５−シクロデセン−１−オールを水酸
基の酸化条件に供する。具体的には、式１の化
合物を、塩化メチレンまたはクロロホルム中、
０℃ないし室温の温度で、0.5時間ないし５時
間、酸化剤と反応させる。酸化剤としては、無
水クロム酸とピリジンとの混合物、ピリジニウ
ムクロロクロメートとモレキユラーシーブスと
の混合物、ピリジニウムジクロメート、または
ジメチルスルホキシドと塩化オキザリルとの混
合物を用いることができる。酸化剤は、式１の
化合物１当量に対して２ないし８当量の割合で
用いることが好ましい。 この酸化により式２で示される（4S，5E）−
４−イソプロピル−７−メチレン−５−シクロ
デセン−１−オンが得られる。この化合物は、
ｎ−ヘキサン−酢酸エチルを溶出溶媒として用
いるアルミナカラムクロマトグラフイーで生成
することができる。式２の化合物は、通常、85
ないし90％の収率で得られる。 (2) 段階ｂにおいて、式２の化合物を位置選択的
なエノール化条件に供し、ついでそのエノール
化生成物をスルフエニル化条件に供する。具体
的には、まず、窒素、アルゴン等の不活性ガス
気流下、エーテル系溶媒（例えば、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、好ましくはテトラヒドロフラン）中、式２
の化合物を強塩基（リチウムジイソプロピルア
ミドまたはリチウムビストリメチルシリルアミ
ド）で処理して位置選択的にエノール化する。
強塩基は、式２の化合物１当量に対して1.2な
いし1.5当量の割合で用いる。この塩基による
処理は、−70℃ないし−30℃の温度で、0.5時間
ないし１時間おこなうことができる。 ついでエノール化生成物をジフエニルジスル
フイドまたはフエニルチオベンゼンスルホネー
トでスルフエニル化する。スルフエニル化剤
は、式２の化合物１当量に対して1.2ないし２
当量の割合で用いる。このスルフエニル化は、
−10℃ないし10℃の温度で、５分間ないし１時
間おこなうことができる。こうして式３で示さ
れる（4S，5E）−４−イソプロピル−７−メチ
レン−10−フエニルチオ−５−シクロデセン−
１−オンが得られる。式３においてPhはフエ
ニル基である。 (3) 段階ｃにおいて、式３の化合物を、精製する
ことなく、フエニルチオ基の酸化条件に供す
る。この酸化は、２つの手法によりおこなうこ
とができる。 第１の手法は、室温下、水−アルコール（例
えば、メタノール）溶媒中、過ヨウ素酸ナトリ
ウムまたは過酸化水素で式３の化合物を酸化す
るものである。酸化剤は、式３の化合物１当量
に対して1.5ないし４当量の割合で用いること
が好ましい。 第２の手法は、塩素系溶媒（例えば、塩化メ
チレン）中、−20℃以下の温度で、ｍ−クロロ
過安息香酸で酸化するものである。酸化剤は、
式３の化合物１当量に対して1.5ないし４当量
の割合で用いることが好ましい。 この酸化により式４で示されるスルホキシド
化合物（4S，5E）−４−イソプロピル−７−メ
チレン−10−フエニルスルフイニル−５−シク
ロデセン−１−オンが得られる。この化合物
は、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルを溶出溶媒とし
て用いるアルミナカラムクロマトグラフイーに
よつて精製することができる。式４の化合物
は、式２の化合物から、通常、80ないし90％の
収率で得られる。 (4) 段階ｄにおいて 式４の化合物スルホキシド
基の分解条件に供する。具体的には、式４の化
合物を芳香族溶媒例えばベンゼン、トルエン、
キシレン好ましくはトルエンに溶かし、炭酸カ
ルシウム、ピリジンまたはトリメチルホスフア
イトの存在下に50ないし150℃で加熱する。炭
酸カルシウム、ピリジンまたはトリメチルホス
フフアイトは式４の化合物１当量に対して0.1
ないし0.5当量の割合で用いることが好ましい。
この加熱により、スルホキシド基の分解が生
じ、式５で示される（8S，2Z，6E）−８−イソ
プロピル−５−メチレン−２，６−シクロデカ
ジエン−１−オンが得られる。式５の化合物
は、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルを溶出溶媒とし
て用いるアルミナカラムクロマトグラフイーで
精製することができる。式５の化合物は、通
常、40ないし59％の収率で得られる。 (5) 段階ｅにおいて、式５の化合物を、エノンの
立体選択的エポキシ化条件に供する。具体的に
は、式５の化合物を、窒素、アルゴン等の不活
性ガス気流下、エーテル系溶媒例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、好ましくはテトラヒドロフラン中、アル
カリ金属のｔ−ブチルペルオキシド好ましくは
カリウムｔ−ブチルペルオキシドと０℃ないし
室温で、１時間ないし５時間反応させる。ペル
オキシドは、式５の化合物１当量に対して1.2
ないし４当量の割合で用いる。この反応により
式５の化合物のエノン部位が立体選択的にエポ
キシ化されて式６で示されるエポキシド化合物
（4S，5E，9R，10R）−９−エポキシ−４−イ
ソプロピル−７−メチレン−５−シクロデセン
−１−オンが得られる。この式５の化合物は、
ｎ−ヘキサン−酢酸エチルを溶出溶媒として用
いるアルミナカラムクトマトグラフイーで精製
できる。式５の化合物は、通常、80ないし90％
の収率で得られる。 (6) 段階ｆにおいて、式６の化合物を、エノラー
ト生成条件に供し、ついで得られたエノラート
を酸化条件に供する。具体的には、まず、式６
の化合物をエーテル系溶媒（例えば、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン好ましくはテトラヒドロフラン）中におい
て、−70℃ないし−40℃の温度で、0.5時間ない
し２時間塩基と反応させる。塩基としては、リ
チウムジイソプロピルアミドまたはリチウムビ
ストリメチルシリルアミドを用いることができ
る。塩基は、式６の化合物１当量に対して1.1
ないし1.5当量の割合で用いることが好ましい。
この反応により、エノラートが生成する。 ついで、エノラートを含む反応混合物に酸化
剤として五酸化モリブデンのピジジン−ヘキサ
メチルホスホリツクトリアミド錯体を加え、−
20℃ないし20℃の温度で0.5時間ないし２時間
反応させる。酸化剤は、式６の化合物１当量に
対して１ないし1.5当量の割合で用いることが
好ましい。この酸化により、式７で示されるヒ
ドロキシケトン化合物（4S，5E，9R，10R）−
９−エポキシ−４−イソプロピル−７−メチレ
ン−２−ヒドロキシ−５−シクロデセン−１−
オンが得られる。式７の化合物は、ｎ−ペンタ
ンからの再結晶により精製することができる。
式７の化合物は、通常、90ないし100％の収率
で得られる。 (7) 段階ｇにおいて、式７の化合物を水酸基の酸
化条件に供する。具体的には、塩化メチレンま
たはクロロホルム中において、式７の化合物を
（）無水クロム酸−ピリジン、（）ピリジニ
ウムクロロクロメート−モレキユラーシーブ
ス、（）ピリジニウムクロロクロメート−酢
酸ナトリウム、（）ピリジニウムクロロクロ
メートまたは（）ジメチルスルホキシド−塩
化オキザリルで酸化させる。酸化剤は、式７の
化合物１当量に対して２ないし８当量の割合で
用いることが好ましい。酸化は、０℃ないし室
温の温度で、１時間ないし５時間おこなうこと
ができる。この酸化により、式８で示されるα
−ジケトン化合物（3R，4E，8R，9R）−８−
エポキシ−３−イソプロピル−６−メチレン−
10−オキソ−４−シクロデセン−１−オンが得
られる。式８の化合物は、ｎ−ヘキサン−酢酸
エチルを溶出溶媒として用いるアルミナカラム
クロマトグラフイーによつて精製することがで
きる。式８の化合物は、通常、80ないし90％の
収率で得られる。 (8) 最後に、段階ｈにおいて、式８の化合物を、
10位ケトンの位置および立体選択的エポキシ化
条件に供する。具体的には、式８の化合物を、
窒素、アルゴン等の不活性ガス気流下、エーテ
ル系溶媒例えばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン、好ましくはテト
ラヒドロフランとジメチルスルホキシドとの混
合物中、ジメチルスルホニウムメチリドと反応
させる。ジメチルスルホニウムメチリドは、式
８の化合物１当量に対して１ないし２当量の割
合で用いることが好ましい。このエポキシ化
は、−40℃ないし20℃の温度で、0.5時間ないし
２時間おこなうことができる。この反応により
式８の化合物の10位のケトンのみが位置および
立体選択的にエポキシ化されて式９で示される
結晶性、光学活性ペリプラノン−Ｂが得らえ
る。光学活性ペリプラノン−Ｂは、通常、40な
いし60％の収率で得られる。 ところで、式１で示される化合物は、それ自
体公知でありかつ容易に入手し得るところの光
学活性なｄ−ジヒドロリモネンを出発原料とし
て、以下のルートに従つてこれを製造すること
ができる。 以下、上記ルートに沿つて、式１の化合物の製
造方法を説明する。 (i) 段階１において、式Ａで示されるｄ−ジヒド
ロリモネンをオゾン分解に供し、オゾン分解生
成物をジメチルスルフイドで還元する。オゾン
分解は、ｄ−ジヒドロリモネンをアルコール系
溶媒に懸濁し、０℃以下好ましくは−30℃以下
の温度で、この懸濁液にオゾンを通じることに
よつておこなうことができる。アルコール系溶
媒としては、メタノール、エタノールもしくは
エチレングリコールのようなアルコール、また
はアルコールと塩化メチレンまたはクロロホル
ムとの混合物を用いることができる。好ましい
溶媒は、メタノールと塩化メチレンとの混合物
である。オゾンはこれを１ないし10体積％の濃
度で酸素または空気に含め、上記懸濁液に通じ
る。オゾン分解は、通常、５時間ないし10時間
で終了する。 還元は、オゾン分解反応混合物に、ジメチル
スルフイドを酸触媒例えば塩酸、硫酸またはパ
ラトルエンスルホン酸とともに加え、反応混合
物を−60℃以下の温度で、ついで０℃ないし30
℃で反応させることによつておこなうことがで
きる。通常、ジメチルスルフイドは、ｄ−ジヒ
ドロリモネン１当量に対して２ないし３当量の
割合で、また酸触媒はｄ−ジヒドロニモネン１
当量に対して0.05ないし0.1当量の割合で用い
る。 このオゾン分解および還元により式Ｂで示さ
れる（3R）−３−イソプロピル−６−オキソヘ
プタナールジアルキルアセタールが得られる。
なお、式Ｂにおけるアルキル基R⁰は、オゾン
分解生成物が、溶媒として用いたアルコールと
反応した結果導入される。式Ｂの化合物は、減
圧蒸留によつて精製できる。式Ｂの化合物の収
率は、通常、90ないし95％である。 (ii) 段階２において、窒素、アルゴン等の不活性
ガス気流下、エーテル系溶媒中において、50℃
ないし120℃の温度で、式Ｂの化合物を、水素
化ナトリウムの存在下、炭酸ジアルキルまたは
クロロギ酸アルキルと反応（クライゼン縮合）
させる。炭酸ジアルキルまたはクロロギ酸アル
キルとしては、通常、各アルキル基が１個ない
し３個の炭素原子を有するものを用いることが
でき、好ましくは炭酸ジメチルである。エーテ
ル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン（THF）、ジオキサンおよびジメ
トキシエタン（DME）のようなエーテル類、
またはジオキサンとメタノールとの混合物、ジ
オキサンとメタノールとジメチルスルホルムア
ミド（DMF）との混合物もしくはベンゼンと
ジエチルエーテルとの混合物を用いることがで
きる。水素化ナトリウムは式Ｂの化合物１当量
に対して２当量、および炭酸ジアルキルまたは
クロロギ酸アルキルは式Ｂの化合物１当量に対
して１ないし５当量好ましくは３当量用いる。 この反応により、式Ｃで示される（6R）−ア
ルキル ６−イソプロピル−９，９−ジアルコ
キシ−３−オキソオクタノエートがナトリウム
塩の形態で溶液中に得られる。式Ｃの化合物の
アルコキシカルボニル基−COOR¹は、炭酸ジ
アルキルまたはクロロギ酸アルキルに由来す
る。式Ｃの化合物ナトリウム塩は、これを単離
することなく次の工程に用いる。 式Ｃで示される化合物から式Ｈで示される化
合物を製造するには、２つの手法（−ａ）お
よび（−ｂ）を用いることができる。 （−ａ） まず、段階３において、段階２で得
た式Ｃの化合物のナトリウム塩の溶液に式Ｃの
化合物１当量に対して１〜２当量好ましくは
1.1当量のハロゲン化アリル（例えば、塩化ア
リル、臭化アリル）を加え、50℃ないし120℃
の温度で１時間ないし５時間反応させて式Ｄで
示される（2RS，7R）−アルキル ７−イソプ
ロピル−９，９−ジアルキコキシ−３−アルコ
キシカルボニル−４−オキソノナノエートを得
る。 次に、段階４において、式Ｄの化合物を、精
製することなく、水とアルコールとの混合溶媒
好ましくは水−メタノール混合溶媒中、アルカ
リ金属水酸化物（水酸化リチウム、水酸化ナト
リウムまたは水酸化カリウム）とともに60℃な
いし100℃で１ないし３時間加熱してケン化脱
炭酸をおこなう。アルカリ金属水酸化物は、式
Ｄの化合物１当量に対して３ないし５当量の割
合で用いる。この反応により、式Ｅで示される
（8R）−８−イソプロピル−10，10−ジアルコ
キシ−１−デセン−５−オンが得られる。この
化合物は減圧蒸留によつて精製できる。式Ｅの
化合物の収率は、通常、65ないし85％である。 ついで、段階５において式Ｅの化合物を酸化
し、その酸化生成物を還元して式Ｈで示される
（5R，8RS）−６，９−ジヒドロキシ−３−イ
ソプロピルノナナールジアルキルアセタールを
得る。式Ｅの化合物の酸化は、酸化剤として、
それぞれ式Ｅの化合物１当量に対して、２ない
し５当量好ましくは３当量の過マンガン酸カリ
ウムを用いて、0.01ないし１当量好ましくは
0.1当量の過マンガン酸カリウムと２ないし５
当量好ましくは３当量の過ヨウ素酸ナトリウム
との混合物を用いて、または0.1ないし１当量
好ましくは0.1当量の四酸化オスミウムと２な
いし５当量好ましくは３当量の過ヨウ素酸ナト
リウムとの混合物を用いて、ジエチルエーテル
と水との二相系溶媒中、０℃ないし30℃の温度
で、３時間ないし５時間おこなう。得られた酸
化生成物は、これを精製することなく次の工程
に用いる。 酸化生成物の還元は、還元剤として、酸化生
成物１当量に対して１ないし２当量好ましくは
1.2当量の水素化リチウムアルミニウムを用い、
エーテル系溶媒中０℃ないし10℃の温度で、１
時間ないし３時間おこなう。 （−ｂ） まず、段階６において、段階２で得
た式Ｃの化合物のナトリウム塩溶液に、当該ナ
トリウム塩１当量に対して１ないし２当量好ま
しくは1.1当量のブロモ酢酸アルキル好ましく
はブロモ酢酸メチルを加え、反応混合物を50℃
ないし120℃で１時間ないし５時間反応さて式
Ｆで示される（3RS，7R）−アルキル ７−イ
ソプロピル−９，９−ジアルコキシ−３−アル
コキシカルボニル−４−オキソノナノエートを
得る。式Ｆのアルコキシカルボニル基−
COOR²は、用いたブロモ酢酸アルキルに由来
する。 次に、段階７において、式Ｆの化合物を、精
製することなく、段階４の手法によりケン化脱
炭酸し、ついでジアゾメタンで処理するか、ま
たは酸触媒（例えば、パラトルエンスルホン
酸）の存在下にアルコール（例えば、メタノー
ル）で処理すると式Ｇで示される（7R）−アル
キル ６−イソプロピル−９，９−ジアルコキ
シ−４−オキソノナノエートが得られる。ジア
ゾメタンは式Ｆの化合物１当量に対して１ない
し２当量の割合で用いる。またアルコールおよ
び酸触媒は式Ｆの化合物１当量に対して、それ
ぞれ、３ないし５当量、および0.05ないし０，
１当量の割合で用いる。この方法による化合物
Ｇの収率は、通常、70ないし80％である。 あるいは、式Ｇの化合物は、式Ｆの化合物か
ら、１段で式Ｇの化合物に転化させることがで
きる。すなわち、段階８において、式Ｆの化合
物を、ジメチルスルホキシド（DMSO）と水
との混合溶媒中、脱アルコキシカルボニル剤
（塩化ナトリウム、シアン化ナトリウムまたは
シアン化ナトリウム）とともに100℃ないし150
℃で３時間ないし５時間加熱して脱アルコキシ
カルボニル化（３位の−COOR¹基の離脱）す
る。脱アルコキシカルボニル剤は式Ｆの化合物
１当量に対して0.5ないし１当量の割合で用い
る。この反応によつて、式Ｇの化合物が得られ
る。この方法による化合物Ｇの収率は、通常、
60ないし70％である。 ついで、段階９において、式Ｇの化合物を、
式Ｇの化合物１当量に対し１ないし２当量の水
素化リチウムアルミニウムを用いて、０℃ない
し20℃で、１時間ないし２時間還元して式Ｈの
化合物を得る。 式Ｃの化合物から式Ｈの化合物を製造するた
めには、段階３，４および５を経由することが
好ましい。この手法は式Ｈの化合物を工業的に
生産することにより適している。 (iv) 段階10において、式Ｈの化合物の２つの水酸
基をピリジンまたはトリエチルアミンの存在
下、アシル化剤（カルボン酸無水物好ましくは
無水酢酸、または塩化アシル好ましくは塩化ア
セチル）を用いてアシル化する。アシル化剤は
式Ｈの化合物１当量に対して1.5ないし５当量
の割合で用いる。このアシル化は、20℃ないし
50℃において４時間ないし15時間おこなわれ
る。この反応により、式Ｉの化合物が得られ
る。式Ｉにおいて、各R³はアシル基である。
式Ｉの化合物は、これを単離することなく次の
工程に用いる。 (v) 段階11において、式Ｉの化合物を−10℃ない
し20℃で５分間ないし１時間、強酸例えば塩
酸、硫酸、過塩素酸好ましくは塩酸で処理す
る。強酸は、式Ｉの化合物１当量に対して２な
いし４当量の割合で用いる。この処理によつて
式Ｊで示される化合物が得られる。 (vi) 段階12において、窒素、アルゴンなどの不活
性ガス気流下、エーテル系溶媒例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン中、塩基触媒の存在下、式Ｊの化合物をフ
エニルチオ酢酸アルキル好ましくはフエニルチ
オ酢酸メチルと縮合させる。塩基触媒として
は、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロ
ピルアミドまたは水素化ナトリウムを用いるこ
とができる。好ましい触媒はリチウムジイソプ
ロピルアミドである。塩基触媒は式Ｊの化合物
１当量に対して１ないし1.5当量の割合で用い
る。縮合の温度は−60℃ないし−10℃であり、
縮合時間は10分間ないし１時間である。こうし
て、式Ｋで示される（5R，8RS，2EZ）−アル
キル ８，11−ジアシロキシ−５−イソプロピ
ル−２−フエニルチオ−２−ウンデセノエート
が得られる。式ＫにおいてPhはフエニル基を
示し、またアルコキシカルボニル基−COOR⁴
は、用いたフエニルチオ酢酸アルキルの酢酸ア
ルキル部分に由来する。 (vii) 段階13において、アルコール例えば、メタノ
ール中、室温ないし50℃までの温度で式Ｋの化
合物をアルカリ金属アルコキシドと反応させて
脱アシル化をおこなう。アルカリ金属アルコキ
シドとしては、リチウムアルコキシド、ナトリ
ウムアルコキシドまたはカリウムアルコキシド
を用いることができ、好ましくはナトリウムメ
トキシドである。アルコキシドは式Ｋの化合物
１当量に対して１ないし３当量の割合で用い
る。この脱アシル化によつて式Ｌで示される
（5R，8RS，2EZ）−アルキル ８，11−ジヒド
ロキシ−５−イソプロピル−２−フエニルチオ
−２−ウンデセノエートが得られる。 (viii) 段階14において、塩化メチレンまたはクロロ
ホルム中、０℃以下好ましくは−15℃以下の温
度で、トリエチルアミンもしくはピリジンとジ
メチルアミノピリジンとの存在下、式Ｌの化合
物を塩化パラトルエンスルホニルまたは塩化ア
ルカンスルホニル好ましくは塩化パラトルエン
スルホニルと反応させる。トリエチルアミンま
たはピリジンは式Ｌの化合物１当量に対して２
ないし４の割合で用い、またジメチルアミノピ
リジンは式Ｌの化合物１当量に対して0.1ない
し0.3当量の割合で用いる。塩化パラトルエン
スルホニルまたは塩化アルカンスルホニルは式
Ｌの化合物１当量に対して1.5ないし３当量の
割合で用いる。この反応により式Ｌの化合物の
11位の水酸基が位置選択的にアルキルスルホニ
ル化され、式Ｍで示される化合物が得られる。
式Ｍにおいて、R⁵はアルキル基であり、スル
ホニル化剤に由来する。 (ix) 段階15において、０℃ないし20℃で、塩化メ
チレンまたはクロロホルム中、パラトルエンス
ルホン酸またはピリジニウムパラトルエンスル
ホネートを触媒として用い、式Ｍの化合物をジ
ヒドロピランまたはエチルビニルエーテルと反
応させる。触媒は式Ｍの化合物１当量に対して
0.05ないし0.1当量の割合で用いる。また、ジ
ヒドロピランまたはエチルビニルエーテルは、
式Ｍの化合物１当量に対して1.2ないし５当量
の割合で用いる。この反応は１時間ないし４時
間で完了する。この反応によつて式Ｍの化合物
の８位水酸基がアセタール保護基で保護され、
式Ｎで示される（5R，8RS，2EZ）−アルキル
５−イソプロピル−２−フエニルチオ−８−
アルコキシ−11−アルキルスルホニロキシ−２
−ウンデセノエートが得られる。式Ｎにおい
て、R⁶はアルキル基であり、アセタール保護
基に由来する。 (x) 段階16において、窒素、アルゴンなどの不活
性ガス気流下、エーテル系溶媒例えばテトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエ
タンおよびジグリム、または芳香族溶媒例え
ば、ベンゼンおよびトルエン中、室温ないし
100℃までの温度好ましくは70ないし90℃で、
塩基触媒の存在下に、式Ｎの化合物を加熱して
これを環化させる。用いる溶媒としてはジメト
キシエタンが好ましい。塩基触媒としては、リ
チウム、ナトリウムもしくはカルウムのジイソ
プロピルアミドもしくはビストリメチルシリル
アミド、またはｎ−ブチルリチウムと１，４−
ジアザビシクロ［２，２，２］オクタンを用い
ることができ、好ましくはナトリウムビストリ
メチルシリルアミドである。塩基触媒は、式Ｎ
の化合物１当量に対して1.2ないし1.5当量の割
合で用いる。この環化反応は、30分間ないし１
時間でおこなうことができる。こうして、環内
にトランス二重結合を持つ式Ｏの十員環化合物
（1RS，2E，4S，7RS）−アルキル ４−イソ
プロピル−１−フエニルチオ−７−テトラヒド
ロピラニルオキシ−２−シクロデセンカルボキ
シレートが得られる。この環化反応は、効率が
優れ、環化化合物の収率は60ないし70％であ
る。 （xi） 段階17において、式Ｏの化合物のアルコ
キシカルボニル基−COOR⁴を還元して水酸基
に転化する。具体的には、式Ｏの化合物を、エ
ーテル系溶媒例えばジエチルエーテル中におい
て−10℃ないし10℃の温度で、還元剤水素化リ
チウムアルミニウムと0.5時間ないし２時間反
応させる。還元剤は式Ｏの化合物１当量に対し
て1.2ないし２当量の割合で用いる。この還元
により、式Ｐで示される化合物がほぼ定量的に
得られる。 （xii） 段階18において、まず、式Ｐの化合物
を、テロラヒドロフラン中、ピリジンまたはト
リエチルアミンとジメチルアミノピリジンとの
混合物の存在下に、アシル化剤と反応させる。
アシル化剤としては、塩化ベンゾイル、ｐ−メ
トキシ塩化ベンゾイルまたは無水酢酸を用いる
ことができ、式Ｐの化合物１当量に対して１な
いし５当量の割合で用いる。アシル化は、０℃
ないし30℃の温度で５時間ないし10時間おこな
う。このアシル化によつて式Ｑで示される化合
物が得られる。式Ｑにおいて、R⁷はアシル基
である。 （ｘ） 段階19において、アルコールまたはア
ルコール−水混合溶媒中、20℃ないし50℃の温
度で、式Ｑのアシル化生成物を酸触媒例えば、
酢酸、塩酸、硫酸または酸性イオン交換樹脂
（例えば、ダウケミカル社製Dowex 50W（H⁺
型））で処理してアセタール保護基を除去する。
酸触媒は式Ｑの化合物１当量に対して0.05ない
し0.5当量の割合で用いる。酸触媒による処理
は１時間ないし５時間おこなうことができる。
こうして、式Ｒで示される（1RS，2E，4S，
7RS）−７−ヒドロキシ−４−イソプロピル−
１−フエニルチオ−２−シクロデセン−１−ア
ルカノールカルボン酸エステルが得られる。 （ｘ） 段階20において、窒素、アルゴン等の
不活性ガス気流下で式Ｑの化合物を還元剤と反
応させる。この還元は、３つの手法によつてお
こなうことができる。第１の手法は、還元剤と
してアルカリ金属（金属リチウム、ナトリウム
またはカリウム）とナフタレンとを用い、エー
テル系溶媒例えば、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフランまたはジメトキシエタン中、−70
℃以下の温度でおこなうものである。アルカリ
金属は式Ｑの化合物１当量に対して５ないし10
当量の割合で、またナフタレンは式Ｑの化合物
１当量に対して５ないし10当量の割合で用い
る。 第２の手法は、アルカリ金属（金属リチウ
ム、ナトリウム、カリウム）を用い、液体アン
モニア中−30℃以下の温度でおこなうものであ
る。アルカリ金属は式Ｑの化合物１当量に対し
て５ないし10当量の割合で用いる。 第３の手法は、還元剤としてアルカリ金属
（金属リチウム、ナトリウムまたはカリウム）
と水銀とのアマルガムを用い、テトラヒドロフ
ラン中−０℃以下の温度でおこなうものであ
る。アマルガムは式Ｑの化合物１当量に対して
５ないし10当量の割合で用いる。 好ましい手法は第１の手法であり、この場合
アルカリ金属としてナトリウムを用いることが
最も好ましい。 この還元により、式Ｒの化合物からフエニル
チオ基およびアシルオキシ基が離脱して式１の
化合物が得られる。 実施例 1A（1RS，4S，5E）−４−イソプロピル
−７−メチレン−５−シクロデセン−１−オール
の合成 (1) ｄ−ジヒドロリモネン200グラムをメタノー
ル800ミリリツトルと塩化メチレン200ミリリツ
トルとの混合物に懸濁した。ドライアイス−ア
セトン浴中で温度を−30℃に維持しながら、激
しい攪拌の下で、懸濁液にオゾン５％を含む酸
素ガスを約６時間吹込んでオゾン分解をおこな
つた。オゾン分解後終了後、反応混合物に窒素
ガスを吹き込んで余剰のオゾンを追い出した。 この反応混合物を−60℃に冷却し、これにジ
メチルスルフイド300ミリリツトルとパラトル
エンスルホン酸20グラムとのメタノール100ミ
リリツトル中懸濁液を少しづつ加えた。この反
応混合物を、攪拌下、−60℃で約２時間反応さ
せた後、約２時間かけて温度をほぼ室温まで上
げて一夜攪拌を続けた。しかる後、反応混合物
を飽和炭酸ナトリウム水溶液で中和させ、約
300ミリリツトルまで減圧濃縮した。濃縮物に
水300ミリリツトルを加え、ジエチルエーテル
各400ミリリツトルで３回抽出した。エーテル
層を集め、水各200ミリリツトルで３回、さら
に飽和塩化ナトリウム水溶液100ミリリツトル
で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、
ろ過した。減圧下にろ液からエーテルを除去し
て粗生成物299グラムを得、これを減圧蒸留
（99℃／1.6mmHg）に供して精製された（3R）−
３−イソプロピル−６−オキソヘプタナールジ
メチルアセタール（各R⁰がメチル基である式
Ｂの化合物）288グラムを得た。収率92％。 分析結果： 沸点 99℃／1.6mmHg。 赤外吸収スペクトル（cm^-1）： 2980，2900，2850，1740，1720，1470，
1440，1390，1370，1255，1195，1165，1125，
1055，965，910。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 4.31（ｔ，Ｊ＝5.5Hz，Ｈ−７），3.20（ｓ，
5H，−Ｏ−メチル），2.32（dd，Ｊ＝５，６Hz，
1H，Ｈ−９），2.05（ｓ，3H，Ｈ−１），1.8−
1.0（6H），0.85（ｄ，Ｊ＝6.5Hz，6H、イソプロ
ピル−メチル）。 （２−ａ−１） アルゴン気流下、水素化ナトリ
ウム25グラムを乾燥ジオキサン500ミリリツト
ルに懸濁し、炭酸ジメチル143グラムおよびメ
タノール3.6ミリリツトルを加え、還流下に攪
拌した。この混合物に、工程１の生成物114グ
ラムの乾燥ジオキサン90ミリリツトル中溶液を
４時間かけて加え、さらに還流下に一夜攪拌し
た。この反応により（3R）−３−イソプロピル
−６−オキソヘプタナールジメチルアセタール
はクライゼン縮合生成物である（6R）−メチル
６−イソプロピル−８，８−ジメトキシ−３
−オキソオクタノエートのナトリウム塩に転化
している。 （２−ａ−２） 工程２−ａ−１の反応混合物に
臭化アリル72グラムを30分かけて加え、還流下
に1.5時間反応させた。反応終了後、反応混合
物を室温まで冷却し、氷100グラムに投入し、
そのまま減圧濃縮してジオキサンを除去した。
この濃縮物をジエチルエーテル各200ミリリツ
トルで２回抽出し、減圧下にエーテルを除去し
て粗生成物（2RS，7R）−メチル ７−イソプ
ロピル−９，９−ジメトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−４−オキソノナノエート168グラム
を得た。 この粗生成物を、水酸化カリウム45グラムの
水800ミリリツトルおよびメタノール550ミリリ
ツトル中溶液に加え、還流下に1.5時間反応さ
せた。この反応混合物を室温まで冷却し、ジエ
チルエーテル各200ミリリツトルで６回抽出し、
エーテル相を集め、これを飽和塩化ナトリウム
水溶液100ミリリツトルで洗浄し、蒸発乾固し、
減圧蒸留（128〜130℃／0.35mmHg）した。こ
うして、精製された（8R）−８−イソプロピル
−10，10−ジメトキシ−１−デセン−５−オン
（各R⁰がメチル基である式Ｅの化合物）111グ
ラムを得た。収率82％。 分析結果： 赤外スペクトル（cm^-1）： 3100，2975，2900，2850，1715，1645，
1465，1440，1415，1390，1370，1250，1195，
1125，1075，1050，1000，960，915，820。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 5.7（ｍ，1H，Ｈ−２），4.95（ｍ，2H，Ｈ−
１），4.32（ｔ，Ｊ＝６Hz，1H，Ｈ−10），3.20
（ｓ，6H，−Ｏ− メチル），2.6−2.0（6H，Ｈ
−３，４，６），1.9−1.0（6H），0.85（ｄ，Ｊ＝
6.5Hz，6H、イソプロピル−メチル）。 （２−ａ−３） 四酸化オスミウム6.2グラムお
よび過ヨウ素酸ナトリウム327グラムをジエチ
ルエーテル１リツトルと水1.5リツトルとの混
合物に懸濁させ、工程２−ａ−２の生成物111
グラムを加えて室温で４時間攪拌した。エーテ
ル相を分離し、水相をジエチルエーテル各200
ミリリツトルで３回抽出した後、全てのエーテ
ル相を併せてこれを飽和塩化ナトリウム水溶液
で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、
蒸発乾固して油状生成物160グラムを得た。 油状生成物を乾燥ジエチルエーテル300ミリ
リツトルに溶解し、予め氷冷した水素化リチウ
ムアルミニウム23.5グラムの乾燥ジエチルエー
テル800ミリリツトル中懸濁液に、10℃以下の
温度で、攪拌下に1.5時間かけて滴下した。15
％水酸化ナトリウム水溶液30ミリリツトルを加
えた後、この混合物をセライトをしきつめたブ
フナー漏斗でろ過し、沈殿物をテトラヒドロフ
ランで洗浄した。全てのろ液を合わせ、減圧濃
縮し、粗生成物（5R，8RS）−６，９−ジヒド
ロキシ−３−イソプロピルノナナールジメチル
アセタール（各R⁰がメチル基である式Ｈの化
合物）154グラムを得た。 上記粗生成物を精製することなく、無水酢酸
100ミリリツトルとピリジン300ミリリツトルと
の混合物に溶解し、攪拌下に一夜反応させた。
この反応混合物から減圧下にピリジンを留去
し、残分を濃塩酸100ミリリツトルと氷200グラ
ムとの混合物に投入し、５分間攪拌し、エーテ
ル300ミリリツトルで抽出した。エーテル相を
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾固して各
R³がメチル基である式Ｊの化合物148グラムを
得た。収率80％。 分析結果： 赤外スペクトル（cm^-1）： 3000，2910，2750，1460，1390，1375，
1245，1025，970。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 9.79（brs，1H，Ｈ−１），4.8（ｍ，1H，Ｈ−
６），3.98（ｍ，2H，Ｈ−９），2.25（ｍ，2H，
Ｈ−２），1.98（ｓ，6H、−アセチル−メチル），
1.8−1.2（10H），0.85（2d，Ｊ＝6.5Hz，6H、イ
ソプロピル−メチル）。 （２−ｂ−１−ｉ） アルゴン気流下、水素化ナ
トリウム47グラムを乾燥ジオキサン660ミリリ
ツトルに懸濁し、炭酸ジメチル150ミリリツト
ルを加え、還流下に攪拌した。この混合物に、
工程１の生成物126グラムの乾燥ジオキサン100
ミリリツトル中溶液を４時間かけて加え、さら
に還流下に一夜攪拌した。この反応混合物に、
ブロモ酢酸メチル64ミリリツトルのDMF60ミ
リリツトル中溶液を30分かけて加え、さらに
1.5時間還流下に攪拌した。しかる後、反応混
合物を室温まで冷却し、氷100グラムに投入し、
そのまま減圧濃縮してジオキサンを除去した。
残分をエーテル各300ミリリツトルで２回抽出
し、エーテル相を合わせ、これを水および飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、蒸発乾固して粗生成物
（3RS，7R）−メチル ７−イソプロピル−９，
９−ジメトキシカルボニル−４−オキソノナノ
エート（各R⁰，R¹およびR²がメチル基である
式Ｆの化合物）207グラムを得た。 上記粗生成物を精製することなく、水酸化ナ
トリウムの水900ミリリツトルおよびメタノー
ル600ミリリツトル中溶液に加え、1.5時間還流
下に反応させた。しかる後、反応混合物を室温
まで冷却し、氷冷下、１規定塩酸を用いてpH
を６に調節した後、エーテル各200ミリリツト
ルで６回抽出した。全てのエーテル相を合わ
せ、これを飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し
た後、蒸発乾固し、ベンゼン200ミリリツトル
を加えた後の蒸発乾固を２回繰返した。残分を
乾燥ジエチルエーテル500ミリリツトルに溶解
し、氷冷下に、ジアゾメタンのジエチルエーテ
ル溶液をジアゾメタンの色が消えなくなるまで
加えた。この反応混合物に酢酸をジアゾメタン
の色が消えるまで加えて過剰のジアゾメタンを
分解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、
無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発乾固して
（7R）−メチル ６−イソプロピル−９，９−
ジメトキシ−４−オキソノナノエート（各R⁰
およびR²がメチル基である式Ｇの化合物）121
グラムを得た。収率72％。 分析結果： 赤外スペクトル（cm^-1）： 2980，2900，2850，1745，1725，1670，
1470，1440，1390，1375，1200，1170，1130，
1060，965，910。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 4.30（ｔ，Ｊ＝5.5Hz，Ｈ−９），3.58（ｓ，
3H、エステル−Ｏ−メチル），3.17（ｓ，6H，
アセタール−Ｏ−メチル），2.6−2.1（6H，Ｈ−
２，３，５），1.7−1.1（6H），0.85（ｄ，Ｊ＝6.5
Hz，6H、イソプロピル−メチル）。 （２−ｂ−１−） アルゴン気流下、水素化ナ
トリウム20グラムを乾燥ジオキサン200ミリリ
ツトルに懸濁し、炭酸ジメチル60ミリリツトル
を加え、還流下に攪拌した。この混合物に、工
程１の生成物48グラムの乾燥ジオキサン50ミリ
リツトル中溶液を４時間かけて加え、さらに還
流下に一夜攪拌した。この反応混合物に、ブロ
モ酢酸メチル30ミリリツトルのDMF30ミリリ
ツトル中溶液を30分かけて加え、さらに1.5時
間還流下に攪拌した。しかる後、反応混合物を
室温まで冷却し、氷100グラムに投入し、その
まま減圧濃縮してジオキサンを除去した。残分
をジエチルエーテル各100ミリリツトルで２回
抽出し、エーテル相を合わせ、これを水および
飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾固して粗
生成物（3RS，7R）−メチル ７−イソプロピ
ル−９，９−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−オキソノナノエート37グラムを得
た。 この粗生成物を精製することなく、塩化ナト
リウム６グラム、水５ミリリツトルおよびジメ
チルスルホキシド60ミリリツトルの混合物中に
混合し、還流下に４時間攪拌した。しかる後、
反応混合物を放冷し、水50ミリリツトルを加
え、ジエチルエーテル各100ミリリツトルで２
回抽出し、エーテル相を合わせ、これを３回水
洗し、さらに飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾
固して、（7R）−メチル ６−イソプロピル−
９，９−ジメトキシ−４−オキソノナノエート
42グラムを得た。収率65％。この化合物は、工
程（２−ｂ−１−ｉ）で得た化合物と同一の分
析結果を与えた。 （２−ｂ−２） 上で得た（7R）−メチル ６−
イソプロピル−９，９−ジメトキシ−４−オキ
ソノナノエート120グラムを乾燥ジエチルエー
テル100ミリリツトルに溶解し、予め氷冷した
水素化リチウムアルミニウム18グラムの乾燥ジ
エチルエーテル900ミリリツトル中懸濁液に、
10℃下の温度で、攪拌下に30分かけて滴下し
た。15％水酸化ナトリウム水溶液10ミリリツト
ルを加えた後、セライトをしきつめたブフナー
漏斗でろ過し、沈殿物をテトラヒドロフランで
洗浄した。全てのろ液を合わせ、減圧濃縮し、
粗生成物（5R，8RS）−６，９−ジヒドロキシ
−３−イソプロピルノナナールジメチルアセタ
ール（各R⁰がメチル基である式Ｈの化合物）
93グラムを得た。収率95％ 上記粗生成物を精製することなく、無水酢酸
150ミリリツトルとピリジン1.2リツトルとの混
合物に溶解し、攪拌下に一夜反応させた。この
反応混合物から減圧下にピリジンを留去し、残
分を濃塩酸100ミリリツトルと氷100グラムとの
混合物に投入し、５分間攪拌し、エーテル200
ミリリツトルで２回抽出した。エーテル相を
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発乾固して各
R³基がアセチル基である式Ｊの化合物92グラ
ムを得た。収率95％。この化合物は、工程（２
−ａ−３）の生成物と同一の分析結果を与え
た。 (3) アルゴン気流下、ジイソプロピルアミン41ミ
リリツトルを乾燥テトラヒドロフランに溶解
し、−10℃に冷却した後、1.66規定のｎ−ブチ
ルリチウム溶液173ミリリツトルを滴下してリ
チウムジイソプロリルアミドの溶液を調製し
た。この溶液をドライアイス−アセトン浴中で
−60℃以下に冷却し、フエニルチオ酢酸メチル
52グラムの乾燥テトラヒドロフラン100ミリリ
ツトル中溶液を攪拌下に加えた。この混合物を
１時間攪拌した後、式Ｊの化合物69グラムの乾
燥テトラヒドロフラン200ミリリツトル中溶液
を、−60℃以下の温度で滴下した。この反応混
合物を20分間反応させた。 しかる後、反応混合物に飽和塩化アンモニウ
ム水溶液100ミリリツトル、ついで飽和塩化ナ
トリウム水溶液50ミリリツトルを滴下した後、
約150ミリリツトルまで減圧濃縮した。濃縮物
をジエチルエーテル各200ミリリツトルで２回
抽出し、エーテル相を水および飽和塩化ナトリ
ウムで洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して油状生成物130
グラムを得た。 この油状生成物を精製することなく、無水酢
酸600ミリリツトルおよび無水酢酸ナトリウム
18グラムを混合し、予め140℃に熱した油浴中
で攪拌下に１時間熱した。この反応混合物を放
冷後、氷300グラム上に投入し、ジエチルエー
テル500ミリリツトルを加えた後、攪拌しなが
ら炭酸ナトリウムを少しづつ添加して中和し
た。エーテル相を分離し、水および飽和塩化ナ
トリウムで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、蒸発乾固して（5R，8RS，2EZ）−メ
チル ８，11−ジアセチルオキシ−５−イソプ
ロピル−３−フエニルチオ−２−ウンデセノエ
ート（各R³およびR⁴がメチル基である式Ｋの
化合物）90グラムを得た。収率84％。 分析結果： 赤外スペクトル（cm^-1）： 2970，2950，2880，1740，1720，1615，
1585，1480，1460，1370，1240，1040，1025，
790，760，760，740，690。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 7.20（ｍ，1H，Ｈ−３），7.18（ｓ，5H，−Ｓ
−フエニル），4.75（ｍ，2H，Ｈ−11），3.57
（ｓ，3H、エステル−Ｏ−メチル），2.4（ｍ，
2H，Ｈ−４），１，98（ｓ，6H、アセチル−メ
チル），1.8−1.1（10H），0.87（ｄ，Ｊ＝６Hz，
6H、イソプロピル−メチル）。 (4) 工程３の生成物90グラムを１％ナトリウムメ
チラートのメタノール中溶液１リツトルに溶解
し、１時間還流させた。反応混合物を放冷し、
２規定塩酸で中和した後、約150ミリリツトル
まで減圧濃縮した。濃縮物に水100ミリリツト
ルを加え、ジエチルエーテル各200ミリリツト
ルで３回抽出し、エーテル相を集め、水および
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、蒸発乾固
して粗生成物64グラムを得た。溶出溶媒として
ヘキサン−酢酸エチルを用い、この粗生成物
を、シリカゲル200グラムを用いたクロマトグ
ラフイーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル
（１：２）で溶出した画分を集め、濃縮して精
製された（5R，8RS，2EZ）−メチル ８，11
−ジヒドロキシ−５−イソプロピル−２−フエ
ニルチオ−２−ウンデセノエート（R⁴がメチ
ル基である式Ｌの化合物）49グラムを得た。収
率66％。 分析結果： 赤外スペクトル（cm^-1）： 3375.2975，2900，1730，1720，1610，1590，
1480，1470，1440，1390，1375，1255，1045，
1035，910，745，695。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 7.20（ｍ，1H，Ｈ−３），7.13（ｓ，5H，−Ｓ
−フエニル），4.22（ｍ，1H，Ｈ−８），3.53
（ｓ，3H、エステル−メチル），3.4（ｍ，2H，
Ｈ−11），2.6−2.3（ｍ，2H，Ｈ−４），1.9−1.0
（10H），0.85（ｓ，Ｊ＝6.5Hz，6H、イソプロピ
ル−メチル）。 (5) 工程４の生成物25グラム、トリエチルアミン
23ミリリツトルおよびジメチルアミノピリジン
4.8グラムを乾燥塩化メチレン150ミリリツトル
に溶解した。この溶液をドライアイス−四塩化
炭素浴で−22℃に冷却し、攪拌下に、塩化パラ
トルエンスルホニル20グラムの乾燥塩化メチレ
ン20ミリリツトル中溶液を滴下し、−15℃以下
の温度で2.5時間反応させた。この反応混合物
に、氷20グラムおよび１規定塩酸100ミリリツ
トルを加え、ジエチルエーテル各200ミリリツ
トルで２回抽出した。エーテル相を集め、炭酸
ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
し、ろ過し、蒸発乾固した。 残分をジヒドロピラン30ミリリツトルの乾燥
塩化メチレン120ミリリツトル中溶液に溶解し、
氷冷下に攪拌しつつ、ピリジニウムパラトルエ
ンスルホネート１グラムを加えた。しかる後、
反応混合物の温度を室温まで上昇させ、２時間
反応させた。この反応混合物をフロリジル50グ
ラムを用いてろ過し、フロリジルを塩化メチレ
ンで洗浄した後、ろ液および洗液を合わせ、蒸
発乾固して粗生成物56グラムを得た。溶出溶媒
としてｎ−ヘキサン−酢酸エチルを用い、この
粗生成物をシリカゲル600グラムを用いたカラ
ムクロマトグラフイーにかけた。ｎ−ヘキサン
−酢酸エチル（８：２）で溶出する画分を集
め、蒸発乾固し、精製された（5R，8RS，
2EZ）−メチル ５−イソプロピル−２−フエ
ニルチオ−８−メトキシ−11−メチルスルホニ
ルオキシ−２−ウンデセノエート（R⁴，R⁵お
よびR⁶がそれぞれメチル基である式Ｎの化合
物）33グラムを得た。収率81％。 (6) アルゴン気流下、ナトリウムビストリメチル
シリルアミド4.6グラムを乾燥ジメチトキシエ
タン400ミリリツトルに溶解し、還流させた。
この溶液に、工程５の生成物12.0グラムの乾燥
ジメトキシエタン400ミリリツトル中溶液を40
分かけて還流下に滴下した。滴下後、反応混合
物を直ちに室温まで冷却し、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液５ミリリツトルを加え、100ミリリ
ツトルまで減圧濃縮した。 この濃縮物をジエチルエーテル各150ミリリ
ツトルで２回抽出し、エーテル相を合わせ、水
および飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾固し、
粗環化生成物9.3グラムを得た。溶出溶媒とし
てｎ−ヘキサン−酢酸エチルを用い、この粗生
成物をシリカゲル100グラムを用いたカラムク
ロマトグラフイーにかけた。ｎ−ヘキサン−酢
酸エチル（85：15）で溶出した画分を集め、蒸
発乾固し、精製された（1RS，2E，4S，7RS）
ーメチル ４−イソプロピル−１−フエニルチ
オ−７−テトラヒドロピラニルオキシ−２−シ
クロデセンカルボキシレート（R⁴およびR⁶が
それぞれメチル基である式Ｏの化合物）5.6グ
ラムを得た。収率62％。この一連の操作を３回
繰返し、全部で16.8グラムを生成物を得た。 分析結果： 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 7.30（ｓ，5H，−Ｓ−フエニル），5.50（ｍ，
2H，Ｈ−２，３），4.52（ｍ，1H、テトラヒド
ロピラン−６），2.3−1.0（ｍ，18H），0.9（ｍ，
3H、イソプロピル−メチル）。 (7) 水素化リチウムアルミニウム2.08グラムを乾
燥ジエチルエーテル600ミリリツトルに懸濁し、
氷冷下に攪拌しつつ、工程６の環化生成物16.3
グラムを10分かけて滴下した。１時間攪拌をお
こなつた後、反応混合物に15％水酸化ナトリウ
ム水溶液３ミリリツトルを滴下し、ブフナー漏
斗でろ過し、漏斗上の沈殿をテトラヒドロフラ
ンで洗浄した。ろ液および洗液を合わせ、飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、ろ過し、蒸発乾固し、所
望の生成物（R⁶がメチル基である式Ｐの化合
物）15.6グラムを得た。収率は、定量的であつ
た。 上記生成物をピリジン90ミリリツトル、ジメ
チルアミノピリジン2.3グラムおよび乾燥テト
ラヒドロフラン250ミリリツトルと混合し、氷
冷下に攪拌しつつ、塩化ベンゾイル8.7グラム
のピリジン30ミリリツトル中溶液を20分かけて
滴下した。温度を室温まで上げ、反応混合物を
一夜、攪拌下に反応させた。この反応混合物を
氷水に投入し、エーテル各200ミリリツトルで
２回抽出した。エーテル相を集め、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄した後、減圧濃縮してピ
リジンを除去した。残分に水100ミリリツトル
を加え、エーテル300ミリリツトルで抽出し、
エーテル相を硫酸銅水溶液で３回洗浄し、さら
に水および飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過
し、濃縮して粗生成物約20グラムを得た。 この粗生成物全部にベンゼン50ミリリツトル
を加え、減圧濃縮を２回おこなつた。濃縮物を
メタノール200ミリリツトルに溶解し、Dowex
50W（H⁺型）（ダウケミカル社製酸性イオン交
換樹脂）20グラムを加え、40℃で３時間攪拌し
た。イオン交換樹脂をろ過除去した後、反応混
合物を蒸発乾固して粗生成物16.5グラムを得
た。溶出溶媒としてンｎ−ヘキサン−酢酸エチ
ルを用い、粗生成物をシリカゲル100グラムを
用いたカラムクロマトグラフイーにかけた。ｎ
−ヘキサン−酢酸エチル（８：２）で溶出する
画分を集め、蒸発乾固して所望の化合物（R⁶
がメチル基であり、R⁷がアセチル基である式
Ｑの化合物）12.7グラムを得た。収率81％。 (8) アルゴン気流下、ナフタレン14グラムを乾燥
テトラヒドロフラン400ミリリツトルに溶解し、
細かな金属ナトリウム2.3グラムを加えた。こ
の混合物を室温で４時間反応させてナトリウム
を完全に溶かし、黒緑色のナトリウムナフタレ
ニドの溶液を調製した。この溶液をドライアイ
ス−アセトン浴中で−70℃に冷却した。冷却さ
れた溶液に、攪拌下に、工程７の生成物7.5グ
ラムの乾燥テトラヒドロフラン50ミリリツトル
中溶液を一気に加え、５分間反応させた。この
反応混合物に、その色が消失するまで飽和塩化
アンモニウム水溶液を加えた。 この混合物を減圧濃縮し、水10ミリリツトル
を加え、ジエチルエーテル各50ミリリツトルで
２回抽出した。エーテル相を集め、水および飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、蒸発乾固した。溶出溶
媒としてｎ−ヘキサン−酢酸エチルを用い、残
分をアルミナ（活性度）100グラムを用いた
カラムクロマトグラフイーにかけた。ｎ−ヘキ
サン−酢酸エチル（95：５）でナフタレンを溶
出させた後、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（８：
２）で溶出する画分を集め、蒸発乾固して、精
製された（1RS，4S，5E）−４−イソプロピル
−７−メチレン−５−シクロデセン−１−オー
ル（式１の化合物）12.8グラムを得た。収率80
％。 分析結果： 比旋光度［α］²² _D −253°（ｃ＝1.85，ｎ−ヘキ
サン） 赤外スペクトル（cm^-1）： 3375，3100，2980，2960，1755（Ｗ），1730
（Ｗ），1640，1615，1470，1450，1390，1375，
1315，1240，1180，1060，1040，995，945，
890。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 5.98（ｄ，Ｊ＝16Hz，1H，Ｈ−６），5.50
（dd，Ｊ＝16Hz，10Hz，0.5H，Ｈ−５），5.25
（dd，Ｊ＝16Hz，９Hz，0.5H Ｈ−5′），4.77
（brs，2H、エキソメチレン），3.83（ｍ，0.5H，
Ｈ−１），3.55（ｍ，0.5H，Ｈ−1′），−2.26（ｍ，
3H，Ｈ−４，８），2.0−1.0（10H），−0.88（ｍ，
6H、イソプロピルメチル）。 実施例 1B光学活性なペリプラノン−Ｂの合成 (1) 無水クロム酸6.3グラム、ピリジン9.5ミリリ
ツトルおよびモレキユラーシーブス3A 10グラ
ムの乾燥塩化メチレン160ミリリツトル中懸濁
液に、実施例1Aで得た式１の化合物2.16グラ
ムを溶かし、室温で約30分間攪拌した。しかる
後、反応混合物にジエチルエーテル200ミリリ
ツトルを加え、フロリジル20グラムを用いてろ
過した。フロリジルをジエチルエーテルで洗浄
し、ろ液および洗液を合わせ、蒸発乾固して粗
生成物2.8グラムを得た。溶出溶媒としてｎ−
ヘキサン−酢酸エチルを用い、アルミナ（活性
度）100グラムを用いたカラムクロマトグラ
フイーにかけた。ｎ−ヘキサン−酢酸エチル
（97：３）で溶出する画分を集め、蒸発乾固し
て、精製された（4S，5E）−４−イソプロピル
−７−メチレン−５−シクロデセン−１−オン
（式２の化合物）2.26グラムを得た。収率86％。 分析結果： 比旋光度［α］²² _D −362°（ｃ＝１，ｎ−ヘキサ
ン）。 赤外スペクトル（cm^-1）： 3100，2980，2900，1715，1650（Ｗ），1615，
1465，1430，1390，1370，1330，1260，1215，
1185，1155，1120，1095，1055，1010，985，
880，600 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 5.98（ｄ，Ｊ＝16Hz，1H，Ｈ−６），5.10
（dd，Ｊ＝16Hz，10Hz，1H，Ｈ−５），4.76
（ｓ，2H、エキソメチレン），2.6−1.0（12H），
0.85（ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H），イソプロピル−メ
チル），0.78（ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H、イソプロピ
ル−メチル）。 (2) アルゴン気流下、ヘキサメチルジサラザン
（HMD）2.7ミリリツトルを乾燥テトラヒドロ
フラン50ミリリツトルに溶かし、氷冷下に、
1.72規定のｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン
溶液7.3ミリリツトルを滴下してリチウムビス
トリメチルシリルアミド溶液を調製した。この
溶液を−70℃に冷却し、攪拌下に、工程１の生
成物2.0グラムの乾燥テトラヒドロフラン５ミ
リリツトル中溶液を滴下し、さらに１時間攪拌
した。この反応混合物を、予め氷冷したフエニ
ルチオベンゼンスルホネート3.16グラムの乾燥
テトラヒドロフラン40ミリリツトル中溶液に、
攪拌しながら一気に加えた。10分間攪拌した
後、反応混合物に飽和塩化ナトリウム水溶液５
ミリリツトルを加え、減圧濃縮した。残分に水
50ミリリツトルを加え、ジエチルエーテル各50
ミリリツトルで３回抽出した。エーテル相を集
め、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および
飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾固して
（4S，5E）−４−イソプロピル−７−メチレン
−10−フエニルチオ−５−シクロデセン−１−
オン（式３の化合物）を得た。 得られた生成物を、精製することなく、水35
ミリリツトルおよびメタノール170ミリリツト
ルの混合溶媒中で、過ヨウ素酸ナトリウム3.5
グラムとともに室温下で20時間攪拌した。反応
混合物をろ過し、沈殿をメタノールで洗浄し
た。ろ液と洗液とを合わせ、これを減圧濃縮し
た。この濃縮物に水50ミリリツトルを加え、ジ
エチルエーテル各50ミリリツトルで３回抽出し
た。エーテル相を集め、水、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液
で順次洗浄し、無水炭酸カリウム上で乾燥し、
蒸発乾固して粗生成物3.1グラムを得た。 溶出溶媒としてｎ−ヘキサン−酢酸エチルを
用い、上記粗生成物をアルミナ（活性度）
200グラムを用いたカラムクロマトグラフイー
にかけた。ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：
２）で溶出する画分を集め、蒸発乾固して、精
製された（4S，5E）−４−イソプロピル−７−
メチレン−10−フエニルスルフイニル−５−シ
クロデセン−１−オン（式４の化合物）2.66グ
ラムを得た。収率83％。 (3) 工程２の生成物2.6グラムをトルエン200ミリ
リツトルに溶かし、炭酸カルシウム2.5グラム
を加え、窒素気流下に５時間還流させた。しか
る後、反応混合物をろ過して炭酸カルシウムを
除去し、ろ液を５ミリリツトルまで減圧濃縮し
た。濃縮物にヘキサン10ミリリツトルを加え
た。溶出溶媒としてｎ−ヘキサン−酢酸エチル
を用い、この混合物をアルミナ（活性度）
100グラムを用いたカラムクロマトグラフイー
にかけた。ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（95：
５）で溶出する画分を集め、蒸発乾固して、精
製された（8S，2Z，6E）−８−イソプロピル−
５−メチレン−２，６−ジクロデカジエン−１
−オン（式５の化合物）760ミリグラムを得た。
収率47％。 分析結果： 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm）： 5.88（ｄ，Ｊ＝11Hz，1H，Ｈ−７），5.77（ｄ，
Ｊ＝15Hz，1H，Ｈ−６），5.45（ddd，Ｊ＝11.4
Hz，10.7Hz，７Hz，1H，Ｈ−３），5.32（dd，
Ｊ＝15Hz，11Hz，1H，Ｈ−７），4.87（ｓ，
1H、エキソメチレン），4.80（ｓ，1H、エキソ
メチレン），3.69（dd，Ｊ＝12Hz，11Hz，1H，
Ｈ−４），2.57（dd，Ｊ＝12Hz，７Hz，1H，Ｈ
−4′），2.16（ｍ，1H，Ｈ−10），2.12（ｍ，1H，
Ｈ−８），1.91（dd，Ｊ＝14Hz，５Hz，1H，Ｈ
−10′），1.54（ｍ，2H，Ｈ−９），1.45（ｍ，
1H、イソプロピル−Ｈ），0.89（ｄ，Ｊ＝6.7Hz，
3H、イソプロピル−メチル），0.88（ｄ，Ｊ＝
6.7Hz，3H、イソプロピルーメチル）。 (4) アルゴン気流下、乾燥テトラヒドロフラン
150ミリリツトルに水素化カリウム730ミリグラ
ムを懸濁させ、氷冷下、攪拌しながら、４規定
ｔ−ブチルヒドロペルオキシドのトルエン溶液
９ミリリツトルを加えた15分間攪拌した。この
混合物に、工程３の生成物750ミリグラムの乾
燥テトラヒドロフラン10ミリリツトル中溶液を
滴下した。温度を室温まで上げ、反応混合物を
１時間攪拌した。反応終了後、氷10グラムを加
え、ジエチルエーテル各100ミリリツトルで４
回抽出した。エーテル相を集め、飽和亜硫酸ナ
トリウム水溶液で洗浄し、減圧濃縮した。 この濃縮物に水50ミリリツトルを加え、ジエ
チエルエーテル各100ミリリツトルで２回抽出
した。エーテル相を集め、水、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄し、無水炭酸カリウム上で乾燥
後、蒸発乾固して粗生成物を得た。溶出溶媒と
してｎ−ヘキサン−酢酸エチルを用い、この粗
生成物をアルミナ（活性度）100グラムを用
いたカラムクロマトグラフイーにかけた。ｎ−
ヘキサン−酢酸エチル（９：１）で溶出する画
分を集め、蒸発乾固して、精製された（4S，
5E，9R，10R）−エポキシ−４−イソプロピル
−７−メチレン−５−シクロデセン−１−オン
（式６の化合物）660ミリグラムを得た。収率82
％。 分析結果： 融点 39−41℃． 比旋光度 ［α］²³ _D−347°（ｃ＝1.30，ｎ−ヘキ
サン） 赤外スペクトル（cm^-1）： 3100，2980，2950，2890，1725，1655，
1615，1470，1445，1415，1370，1325，1255，
1205，1185，1120，1085，1065，1025，980，
895，860，815，800。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm，500 ＭHz、
ベンゼン−d₆ 中）： 5.74（ｄ，Ｊ＝16Hz，1H，Ｈ−６），5.08
（dd，Ｊ＝10Hz、16Hz，1H，Ｈ−５），4.84
（ｓ，1H、エキソメチレン），4.82（ｓ，1H、
エキソメチレン），3.11（ｄ，Ｊ＝５Hz，1H，
Ｈ−10），2.86（ddd，Ｊ＝４Hz，５Hz，10Hz，
1H，Ｈ−９），2.60（dd，Ｊ＝３Hz，13Hz，
1H，Ｈ−８），2.44（dd，Ｊ＝10Hz，13Hz，
1H，Ｈ−8′），2.16（ｍ，1H，Ｈ−４），1.93
（dd，Ｊ＝12Hz，16Hz，1H，Ｈ−２），1.72
（dd，Ｊ＝７Hz，1H，Ｈ−2′），1.45（ｍ，1H、
イソプロピル−Ｈ），1.37（ｍ，2H，Ｈ−３），
0.86（ｄ，Ｊ＝６Hz，3H、イソプロピル−メチ
ル），0.83（ｄ，Ｊ＝６Hz，3H、イソプロピル
−メチル）。 (5) アルゴン気流下、HMD0.39ミリリツトルを
乾燥テトラヒドロフラン3.5ミリリツトルに溶
かし、氷冷下、ｎ−ブチルリチウムの1.72規定
ｎ−ヘキサン溶液1.12ミリリツトルを滴下して
リチウムビストリメチルシリルアミド溶液を調
製した。この溶液を−70℃に冷却し、攪拌下
に、工程４の生成物50ミリグラムの乾燥テトラ
ヒドロフラン４ミリリツトル中溶液を滴下し、
さらに30分間攪拌したドライアイス−四塩化炭
素浴を用いて温度を−15℃以下に維持しなが
ら、反応混合物に五酸化モリブデンのピリジン
−ヘキサメチルホルホリツクトリアミド錯体
161ミリグラムを一気に加え、さらに15分間反
応させた。反応混合物に飽和亜硫酸ナトリウム
水溶液0.6ミリリツトルを加え、攪拌しながら
温度を室温まで上げた。反応混合物をジエチル
エーテル各10ミリリツトルで２回抽出した。エ
ーテル相を集め、水および飽和塩化ナトリウム
で洗浄し、無水炭酸カリウム上で乾燥し、蒸発
乾固して粗生成物を得た。この粗生成物をｎ−
ペプタンから再結晶して、精製された（4S，
5E，9R，10R）−９−エポキシ−４−イソプロ
ピル−７−メチレン−２−ヒドロキシ−５−シ
クロデセン−１−オン（式７の化合物）56ミリ
グラムを得た。収率97％。 (6) 乾燥塩化メチレン６ミリリツトルに、ピリジ
ニウムクロロクロメート100ミリグラムとモレ
キユラーシーブス3A 200ミリグラムとを懸濁
させた。この懸濁液に、氷冷下、攪拌しなが
ら、工程５の生成物50ミリグラムの少量の塩化
メチレン中溶液を加えた。温度を室温まで上
げ、反応混合物を激しく攪拌しながら６時間反
応させた。しかる後、反応混合物にエーテル10
ミリリツトルを加え、フロリジル15グラムを用
いてろ過し、沈殿およびフロリジルをエーテル
で充分に洗浄した。ろ液および洗液を合わせ、
蒸発乾固して粗生成物を得た。 溶出溶媒としてｎ−ヘキサン−酢酸エチルを
用い、上記粗生成物をアルミナ（活性度）３
グラムを用いたカラムクロマトグラフイーにか
けた。ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（99：１）で
溶出する画分を集め、蒸発乾固して、精製され
た（3S，4E，8R，9R）−８−エポキシ−３−
イソプロピル−６−メチレン−10−オキソ−４
−シクロデセン−１−オン（式８の化合物）42
ミリグラムを得た。収率85％。 分析結果： 比旋光度 ［α］²³ _D−424°（ｃ＝0.44，ｎ−ヘキ
サン）。 赤外スペクトル（cm^-1）： 3100，2980，2950，2900，1725，1710，
1645，1615，1470，1455，1430，1410，1390，
1375，1305，1260，1245，1170，1115，1075，
1045，1030，1010，985，960，925，905，880，
850，800，755。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm，500 ＭHz、
ベンゼン−d₆ 中）： 5.65（ｄ，Ｊ＝16Hz，1H，Ｈ−５），5.14
（dd，Ｊ＝11Hz，16Hz，1H，Ｈ−４），4.76
（ｓ，1H、エキソメチレン），4.71（ｓ，1H、
エキソメチレン），4.34（ｄ，Ｊ＝５Hz，1H，
Ｈ−９），3.33（dd，Ｊ＝10Hz，11Hz，1H，Ｈ
−７），2.78（ddd，Ｊ＝３Hz，５Hz，10Hz，
1H，Ｈ−８），2.52（dd，Ｊ＝３Hz，11Hz，
1H，Ｈ−7′），2.16（dd，Ｊ＝10Hz，14Hz，1H，
Ｈ−２），2.14（dd，Ｊ＝６Hz，10Hz，1H，Ｈ
−2′），1.84（ｍ，1H，Ｈ−３），1.21（ｍ，1H、
イソプロピル−Ｈ），0.67（ｄ，Ｊ＝７Hz，3H、
イソプロピル−メチル），0.66（ｄ，Ｊ＝６Hz，
3H、イソプロピル−メチル）。 (7) アルゴン気流下、トリメチルスルホニウムア
イオダイド22ミリグラム、ジメチルスルホキシ
１ミリリツトルおよび水素化ナトリウム３ミリ
グラムを攪拌しジメチルスルホニウムメチリド
の溶液を調製した。この溶液を、工程７の生成
物25ミリグラムのテトラヒドロフラン１ミリリ
ツトル中溶液に、氷冷下に滴下し、５分間反応
させた。反応混合物に水１ミリリツトルを加
え、ジエチルエーテル15ミリリツトルで抽出し
た。エーテル相を水で２回洗浄し、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水炭酸カリウム上
で乾燥し、蒸発乾固して粗生成物を得た。 溶出溶媒としてｎ−ヘキサン−酢酸エチルを
用い、この粗生成物をアルミナ（活性度）１
グラムを用いたカラムクロマトグラフイーにか
けた。ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（98：２）で
溶出する画分を集め、蒸発乾固して、精製され
た光学活性ペリプラノン−Ｂ結晶14.0ミリグラ
ムを得た。収率53％。 分析結果： 融点 47−50℃． 比旋光度 ［α］²³ _D−667°（ｃ＝0.13，ｎ−ヘキ
サン）。 赤外スペクトル（cm^-1）： 3075，2950，2925，2870，1705，1695，1655
（Ｗ），1645（Ｗ），1605，1445，1420，1380，
1360，1325，1300，1270，1245，1225，1160，
1110，1100，970，935，905，890，850，835，
815，805，790，720，710，695。 核磁気共鳴スペクトル（δ，ppm，500 ＭHz、
二硫化炭素中）。 5.91（brd，Ｊ＝16Hz，1H，Ｈ−５），5.78
（dd，Ｊ＝16Hz，10Hz，1H，Ｈ−６），5.02
（brs，1H，Ｈ−15），4.87（brs，1H，Ｈ−
15′），3.52（ｄ，Ｊ＝４Hz，1H，Ｈ−１），2.84
（ｄ，Ｊ＝６Hz，1H，Ｈ−14），2.68（ddd，Ｊ
＝８Hz，６Hz，４Hz，1H，Ｈ−２），2.63（ｄ，
Ｊ＝６Hz，1H，Ｈ−14′），2.58（ｄ，Ｊ＝12Hz，
2H，Ｈ−３），2.55（dd，Ｊ＝11.5Hz，10Hz，
1H，Ｈ−８），2.06（ｍ，1H，Ｈ−７），2.04
（dd，Ｊ＝11.5Hz，5.5Hz，1H，Ｈ−8′），1.56
（ｍ，1H，Ｈ−11），0.92（ｄ，Ｊ＝6.5Hz，3H、
イソプロピル−メチル），0.87（ｄ，Ｊ＝6.5Hz，
3H、イソプロピル−メチル）。 産業上の利用性 以上述べたように、この発明によれば、光学活
性なペリプラノン−Ｂを工業的規模の生産に適し
た方法により製造することができ、収率も優れて
いる。しかも、出発原料である（1RS，4S，5E）
−４−イソプロピル−７−メチレン−５−シクロ
デセン−１−オールも工業的規模で生産すること
ができる方法によつて製造することができるの
で、この発明によつて光学活性なペリプラノン−
Ｂを工業的規模で製造することが可能である。