JPH0561122A - 紫外線照射装置 - Google Patents

紫外線照射装置

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Publication number
JPH0561122A
JPH0561122A JP22058291A JP22058291A JPH0561122A JP H0561122 A JPH0561122 A JP H0561122A JP 22058291 A JP22058291 A JP 22058291A JP 22058291 A JP22058291 A JP 22058291A JP H0561122 A JPH0561122 A JP H0561122A
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JP
Japan
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irradiation
unit
ultraviolet
ultraviolet rays
substrate
Prior art date
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JP22058291A
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English (en)
Inventor
Yoshinori Sunazaka
義則 砂坂
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 照射部2の後部に光源部1を配設するととも
に、照射部2の両側に搬入部3および搬出部4を配設す
る。照射部2は、光源部1から導かれる紫外線を、反射
板で上方の照射開口に向けて反射し、照射開口を通じて
被照射物に照射する。照射部2の上面には、搬入部3か
ら照射部2へ、照射部2から搬出部4へ被照射物を搬送
する搬送手段を設ける。 【効果】 被照射物の流れが直線的になって、連続処理
が可能となり、自動化に適した構成にできる。照射部2
が前側に位置し、この照射部2の上面で紫外線の照射処
理を行うため、照射部2の清掃や、搬送手段の保守点検
を容易に行える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被照射物として例えば
基板に紫外線を照射してLCD等の電極印刷、IC、L
SIなどの回路素子等の露光を行う紫外線照射装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】この種の紫外線照射装置においては、装
置内部に紫外線の照射部が設けられている。そして、基
板に紫外線照射を行うには、装置前部にセットされる基
板を装置内部の照射部に搬送し、照射部で基板に紫外線
を照射した後、装置前部に基板を搬送するようになって
いる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の紫
外線照射装置では、基板の搬入場所と搬出場所とが同じ
であり、照射部に対して基板を往復動させなければなら
ないため、照射処理に時間がかかるとともに、基板の自
動搬入および自動搬出等の自動化への対応が困難であ
る。
【0004】また、装置内部に照射部が設けられている
ため、照射部の清掃や照射部に基板を搬送する搬送手段
等の保守点検が容易でない。
【0005】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、自動化に適した構造にすることができ、また、
照射部の清掃や搬送手段等の保守点検を容易に行うこと
ができる紫外線照射装置を提供することを目的とするも
のである。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、紫外
線を放射するランプを有する光源部と、この光源部の前
部に配設され、上面に被照射物に対して紫外線を照射す
る照射開口を有するとともに、この照射開口の下方に前
記光源部から導かれる紫外線を照射開口に向けて反射す
る反射板を有する照射部と、この照射部の一側に配設さ
れ、紫外線を照射する前記被照射物を搬入する搬入部
と、前記照射部の他側に配設され、紫外線を照射された
前記被照射物を搬出する搬出部と、前記照射部の上面に
配設され、前記搬入部に搬入される被照射物を照射部の
照射開口上に搬送するとともにこの照射部から前記搬出
部に搬送する搬送手段とを備えたものである。
【0007】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、搬送手段によって搬送される被照射物の搬送位置を
検知するセンサを備えるとともに、このセンサによる検
知に基づいて紫外線を照射する被照射物を照射開口上の
所定位置に一時停止するように搬送手段を制御する搬送
制御手段を備えたものである。
【0008】請求項3の発明は、請求項1の発明におい
て、照射部の上面を覆うカバーを備えたものである。
【0009】請求項4の発明は、請求項3の発明におい
て、カバーは、紫外線を遮断するとともに可視光を透過
するものである。
【0010】
【作用】請求項1の発明では、搬入部に搬入された被照
射物を搬送手段により照射部上に搬送し、照射部で光源
部から導かれる紫外線を反射板および照射開口を通じて
被照射物に下方から照射し、照明部から被照射物を搬送
手段により搬出部に搬送する。そして、照射部の後部に
実作業には関係のない光源部を配設するとともに、照射
部の両側に搬入部および搬出部をそれぞれ配設するた
め、被照射物の流れが直線的になって、連続処理が可能
となり、自動化に適した構成となっている。しかも、照
射部が前側に位置し、この照射部の上面で紫外線の照射
処理が行われるため、照射部の清掃や、搬送手段の保守
点検を容易に行える。
【0011】請求項2の発明では、請求項1の発明にお
いて、搬送手段で搬送される被照射物を照射部の照射開
口上の所定位置で一時停止させて紫外線を照射し、被照
射物に対する紫外線の照射が確実にする。
【0012】請求項3の発明では、請求項1の発明にお
いて、照射部の上面をカバーで覆い、照射部への塵埃等
の侵入を防止するとともに、照射部上面の搬送手段から
作業員を保護する。
【0013】請求項4の発明では、請求項3の発明にお
いて、カバーは紫外線を遮断し、作業員への紫外線の照
射を防止する。また、カバーは可視光を透過し、被照射
物への紫外線照射状態を観察可能とする。
【0014】
【実施例】以下、本発明の一実施例の構成を図面を参照
して説明する。
【0015】図1は紫外線照射装置の全体を示し、紫外
線を放射するランプなどを含む光学系を内蔵した光源部
1と、この光源部1の前部に配設され被照射物に紫外線
を照射する照射部2と、この照射部2の一側に配設され
紫外線を照射する被照射物を搬入する搬入部3と、照射
部2の他側に配設され紫外線を照射された被照射物を搬
出する搬出部4と、被照射物の搬送方向と直交する両側
縁部に紫外線を照射する補助照射部5とから構成されて
いる。
【0016】なお、本実施例の被照射物としては、紫外
線を照射してIC、LSIなどの回路素子を形成する基
板Pとする。
【0017】図2および図3は光源部1および照射部2
の構造を示し、光源部1の機体11の内部には、上部に、
紫外線を放射するランプ12、このランプ12から上方に放
射される紫外線を下方に集光反射させる反射板13、ラン
プ12に送風あるいはランプ12の周囲の暖められた空気を
排気してランプ12を冷却する送風機14がそれぞれ配設さ
れている。
【0018】また、機体11の内部の中間部に、反射板13
の集光点に位置してフライアイレンズ15およびその下方
にレンズ16が配設され、かつ、フライアイレンズ15に入
射する紫外線を遮断可能とするシャッター17およびこの
シャッター17を選択的に開閉させるモータ18が配設され
ている。さらに、下部に、レンズ16を通過した紫外線を
照射部2に向けて反射する反射板19が配設されている。
【0019】前記照射部2の機体21の内部には、光源部
1の反射板19で反射してくる紫外線を上方に反射する反
射板22が配設されている。また、機体21の上面板23に
は、図4に示すように、反射板22で反射する紫外線を基
板Pに照射する照射開口24が開口形成されている。この
照射開口24は、処理可能とする最も大きな基板Pに対応
した寸法の長方形に形成され、図5に示すように、紫外
線が透過可能とするガラス板25が嵌め込まれている。
【0020】また、図2に示すように、機体21の上面板
23の上側には基板Pを搬送する搬送手段31が配設され、
下側には照射開口24の開口幅を可変する開口幅可変手段
32が配設されている。
【0021】まず、搬送手段31は、図4および図5に示
すように、照射開口24の両側つまり基板Pの搬送方向
(Y方向)と直交した両側に沿って、断面ほぼL字状の
可動枠33が幅方向(X方向)に平行に摺動可能にそれぞ
れ配置され、手動または図示しない駆動手段でそれぞれ
平行移動されるようになっている。
【0022】各可動枠33には軸受34が所定間隔毎に設け
られ、この各軸受34に回転軸35を介してガイドローラ36
が回転自在に支持されている。このガイドローラ36に
は、内端側に基板Pの縁部を載せるだけの間隔を空けて
基板Pの縁部をガイドするガイド環37が設けられてい
る。また、各ガイドローラ36の回転軸35の外端にはプー
リ38が固定され、隣接するガイドローラ36間のプーリ38
間にベルト39が張設されている。したがって、各可動枠
33に設けられた複数のガイドローラ36は一体的に回転す
る。
【0023】そして、搬送方向始端側において、両可動
枠33のガイドローラ36間に連動軸40で連結され、この連
動軸40の一端の回転受部41と図示しないモータの回転部
とがベルトなどで連結されており、モータの回転により
ガイドローラ36が一体的に同方向に回転して基板Pが搬
送される。なお、連動軸40は、ガイドローラ36、軸受34
およびプーリ38を貫通し、ブラケット42で上面板23上に
回転自在に支持されており、そのガイドローラ36、軸受
34およびプーリ38に対しては軸方向にスライド可能で可
動枠33の移動を可能とし、回転方向にはガイドローラ36
およびプーリ38と結合して回転伝達するようになってい
る。
【0024】次に、前記開口幅可変手段32は、図5に示
すように、照射開口24の下方において、照射開口24の幅
方向両側にそれぞれ配置される幅方向(X方向)の絞り
板45と、搬送方向両側にそれぞれ配置される搬送方向
(Y方向)の絞り板46とを備え、幅方向の絞り板45を下
側に、搬送方向の絞り板46を上側に配置している。
【0025】そして、各絞り板45は、図示しないモータ
の駆動により、幅方向に相対して平行移動される。各絞
り板46は、図示しないモータの駆動により、搬送方向に
相対して平行移動される。
【0026】前記補助照射部5は、図3に示すように、
機体11の搬送方向側の側部の支持台51上に配設されてい
る。機体52内には、図示しないが、紫外線を放射するラ
ンプ、紫外線の出射を遮断可能とするシャッターおよび
このシャッターを選択的に開閉させるモータ等が配設さ
れている。
【0027】また、機体52には、紫外線を基板Pの両側
縁部に導くための一対の光導体53が接続されている。こ
の各光導体53は、フレキシブルチューブ内に複数の光フ
ァイバー素線を収納しており、先端に紫外線を出射する
出射部54が設けられている。そして、搬送手段31の可動
枠33に立設されたホルダ55によって、基板Pの両側縁部
に対して位置決め保持される。なお、各光導体53による
紫外線の照射位置Aを、図4に示す。
【0028】また、図4には、搬送手段31によって搬送
される基板Pの搬送位置を検知するための複数のセンサ
S1 ,S2 ,S3 が搬送方向に沿って設けられている。
【0029】また、図2に示すように、照射開口24上へ
の塵埃の落下を防止するための蓋体61が搬送手段31の上
方に載置され、さらに、照射部2の上面を全体的に覆う
カバー62が取付けられている。なお、蓋体61およびカバ
ー62は、紫外線を遮断するとともに可視光を透過する。
また、カバー62を挿通して各光導体53がホルダ55に取付
けられる。
【0030】前記搬入部3および搬出部4は、同一構造
に形成され、左右対称状態で照射部2の両側に配設され
る。その構造は、図6および図7に示すように、機体71
の上面にカセット装着開口72が形成されているととも
に、照射部2側の側面上部に基板通過開口73が形成され
ている。
【0031】この機体71の中仕切板74に設けた一対の軸
受部75に各スライド軸76が上下動自在に嵌合し、スライ
ド軸76の上端に載置台77が連結されているとともに、ス
ライド軸76の下端に連結板78が連結されている。連結板
78には、スライド軸76と平行に回動可能に支軸したねじ
軸79に螺合するねじ受部80が設けられている。ねじ軸79
は、モータ81の駆動軸にベルト81a で連結され、モータ
81の駆動によって正逆回転駆動される。
【0032】載置台77の上面には基板Pを収納するカセ
ット82が着脱可能に載置される。このカセット82は、基
板Pの搬送方向に開口されているとともに下面が開口さ
れており、内壁面には複数の基板Pを上下方向に平行に
支持する段部83が形成されている。
【0033】また、機体71のカセット装着開口72には、
搬送手段84が設けられており、この駆動手段84は、照射
部2のガイドローラ36に対応して連続するように複数の
ローラ85が支持され、図示しないモータで駆動される。
なお、この搬送手段84のローラ85は、着脱されるカセッ
ト82の下面開口を通じて内側に侵入可能とするように、
中央域に沿って設けられている。
【0034】図8は光源部1および照射部2の搬送手段
31についての制御構成を示している。照射制御手段91
は、光源部1のランプ12の点灯、シャッター17を開閉す
るモータ18の駆動を制御する。搬送制御手段92は、セン
サS1 ,S2 ,S3 からの検知信号を入力し、搬送手段
31のモータ31a の駆動を制御する。
【0035】次に、本実施例の作用を説明する。
【0036】まず、複数の基板Pを収容したカセット82
を搬入部3にセットするとともに、空のカセット82を搬
出部4にセットする。
【0037】そして、紫外線照射装置で紫外線照射処理
される基板Pの全体的な流れは、搬入部3にセットされ
たカセット82内の基板Pを照射部2に搬入し、この照射
部2で基板Pに紫外線を照射し、照射部2から基板Pを
搬出する際に補助照射部5で基板Pの両側縁部に紫外線
を照射し、基板Pを搬出部4のカセット82内に収容す
る。
【0038】次に、紫外線照射処理について具体的に説
明する。なお、前記照射制御手段91および搬送制御手段
92による制御を簡単なフローチャートとして図9に示
す。
【0039】搬入部3において、カセット82内に収納さ
れた基板Pの供給時に、カセット82内に収納された最下
位の基板Pがローラ85上に載るように所定量下降され、
この基板Pがローラ85の回転によってカセット82内から
照射部2に向けて搬送される。以降の供給時において
も、同様に、カセット82が所定量ずつ下降され、下段の
基板Pから順にローラ85上に載り移らされて照射部2に
順次搬送される。
【0040】搬入部3から照射部2に搬入される基板P
は、搬送手段31の両側のガイドローラ36間上に載せら
れ、このガイドローラ36の回転により照射開口24上に搬
送される(ステップ1)。
【0041】そして、基板Pの搬送先端位置がセンサS
1 で検知されると(ステップ2)、搬送制御手段92によ
る制御により、基板Pの搬送速度が減速される(ステッ
プ3)。さらに、センサS2 で検知されると(ステップ
4)、搬送制御手段92による制御により、照射開口24の
上方の所定位置で基板Pが一時停止される(ステップ
5)。
【0042】このとき、紫外線の放射を安定させるため
に照射部2のランプ12は点灯されているが、シャッター
17が閉じられているので、照射開口24から紫外線は出て
いない。同様に、補助照射部5のランプも点灯されてい
るが、シャッターが閉じられているので、各光導体53か
ら紫外線は出ていない。
【0043】基板Pの一時停止後、シャッター17が所定
時間開放され(ステップ6,7,8)、ランプ12から放
射された紫外線がレンズ15,16および反射板19,22から
なる光学系を通じて照射開口24から基板Pに照射され
る。
【0044】ところで、照射開口24は、開口幅可変手段
32により、基板Pの大きさに応じた開口幅に調整されて
いる。すなわち、図5に示すように、幅方向の絞り板45
の内端部がガイドローラ36の先端部位置よりわずかに内
方に突出した位置に位置されている。そのため、絞り板
45でガイドローラ36に照射される紫外線が遮光され、ガ
イドローラ36で紫外線の乱反射が生じて基板Pに紫外線
の照射むらが生じるのが防止される。なお、搬送方向の
絞り板46も同様に調整され、基板Pへの紫外線の露光量
が適性に保たれる。
【0045】したがって、照射部2では、基板Pのガイ
ドローラ36で支持された両側縁部を除く部分に紫外線が
照射され、その基板Pの両側縁部に未露光部分ができ
る。
【0046】照射部2での紫外線の照射が完了すると、
再び搬送手段31のガイドローラ36が回転され(ステップ
9)、基板Pの搬出部4への搬出が開始される。
【0047】そして、センサS3 が基板Pの搬送方向先
端部を検知すると、補助照射部5のシャッターが開放さ
れ、ランプから放射された紫外線が各光導体53を通じて
各出射部54から出射され、搬送中の基板Pの両側縁部に
紫外線が照射される。
【0048】このようにして、基板Pは搬出部4に搬出
され、センサS3 が基板Pを検知しなくなってから所定
時間後に、補助照射部5からの紫外線の照射が停止され
るとともに、搬送手段31が停止される(ステップ10,1
1)。
【0049】そして、搬出部4においては、カセット82
の基板Pを支持していない最上位の段部83がローラ85の
上部よりもやや低い高さで待機しており、この待機位置
で、ローラ85の回転により照射部2から搬送されてくる
基板Pがカセット82内に収容される。この収容後、カセ
ット82が所定量上昇され、ローラ85上の基板Pが段部83
に載り移るとともに、下段の段部83がローラ85の上部よ
りやや低い高さの待機位置に位置し、次回の収納に待機
する。
【0050】このようにして、搬入部3のカセット82内
に収容された基板Pが照射部2に順次搬送され、この照
射部2で紫外線が照射された基板Pが搬出部4のカセッ
ト82内に順次収容される。
【0051】以上のように、照射部2の後部に実作業に
は関係のない光源部1が配設されるとともに、照射部2
の両側に搬入部3および搬出部4がそれぞれ配設される
ため、基板Pの流れが直線的になって、連続処理が可能
となり、自動化に適した構成にできる。しかも、照射部
2が前側に位置し、この照射部2の上面で紫外線の照射
処理が行われるため、照射部2のガラス板25面の清掃
や、搬送手段31の保守点検を容易に行うことができる。
【0052】また、照射部2では基板Pを一時停止させ
て紫外線を照射するため、基板Pに対する紫外線の照射
が確実にできる。
【0053】また、照射部2の上面の搬送手段31等をカ
バー62で覆うため、作業員の安全性を確保することがで
きる。
【0054】また、カバー62は紫外線を遮断するため、
作業員への紫外線の照射を防止することができ、安全性
を確保することができる。また、カバー62は可視光を透
過させるため、基板Pへの紫外線照射状態を観察するこ
とができる。
【0055】なお、大きさの異なる基板Pの紫外線照射
処理を行う場合には、搬送手段31の両側の可動枠33を移
動し、両側のガイドローラ36間を基板Pの幅方向寸法に
対応した寸法に調整する。さらに、開口幅可変手段32に
よって照射開口24の開口幅が基板Pの大きさに応じて調
整される。すなわち、幅方向の各絞り板45が移動され、
絞り板45の内端部が基板Pの幅方向位置つまりガイドロ
ーラ36の先端部位置に対応した位置に調整される。ま
た、搬送方向の各絞り板46が移動され、絞り板46の先端
部が基板Pの搬送方向寸法に対応した位置に調整され
る。
【0056】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、照射部の後部
に実作業には関係のない光源部を配設するとともに、照
射部の両側に搬入部および搬出部をそれぞれ配設するた
め、被照射物の流れが直線的になって、連続処理が可能
となり、自動化に適した構成にすることができる。しか
も、照射部が前側に位置し、この照射部の上面で紫外線
の照射処理が行われるため、照射部の清掃や、搬送手段
の保守点検を容易に行うことができる。
【0057】請求項2の発明によれば、請求項1の発明
において、搬送手段で搬送される被照射物を照射部の照
射開口上の所定位置で一時停止させて紫外線を照射する
ため、被照射物に対する紫外線の照射を確実にすること
ができる。
【0058】請求項3の発明によれば、請求項1の発明
において、照射部の上面をカバーで覆い、照射部への塵
埃等の侵入を防止するとともに、照射部上面の搬送手段
から作業員を保護することができる。
【0059】請求項4の発明によれば、請求項3の発明
において、カバーは紫外線を遮断するため、作業員への
紫外線の照射を防止することができ、また、カバーは可
視光を透過するため、被照射物への紫外線照射状態を観
察することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の紫外線照射装置の一実施例を示す斜視
図である。
【図2】光源部および照射部の断面図である。
【図3】光源部および照射部の正面図である。
【図4】搬送手段の平面図である。
【図5】搬送手段の一部の断面図である。
【図6】搬入部および搬出部の前後方向から見た断面図
である。
【図7】搬入部および搬出部の側面方向から見た断面図
である。
【図8】制御ブロック図である。
【図9】フローチャート図である。
【符号の説明】
1 光源部 2 照射部 3 搬入部 4 搬出部 12 ランプ 22 反射板 31 搬送手段 62 カバー 92 搬送制御手段 P 被照射物 S1 ,S2 ,S3 センサ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 紫外線を放射するランプを有する光源部
    と、この光源部の前部に配設され、上面に被照射物に対
    して紫外線を照射する照射開口を有するとともに、この
    照射開口の下方に前記光源部から導かれる紫外線を照射
    開口に向けて反射する反射板を有する照射部と、 この照射部の一側に配設され、紫外線を照射する前記被
    照射物を搬入する搬入部と、 前記照射部の他側に配設され、紫外線を照射された前記
    被照射物を搬出する搬出部と、 前記照射部の上面に配設され、前記搬入部に搬入される
    被照射物を照射部の照射開口上に搬送するとともにこの
    照射部から前記搬出部に搬送する搬送手段とを備えたこ
    とを特徴とする紫外線照射装置。
  2. 【請求項2】 搬送手段によって搬送される被照射物の
    搬送位置を検知するセンサを備えるとともに、このセン
    サによる検知に基づいて紫外線を照射する被照射物を照
    射開口上の所定位置に一時停止するように搬送手段を制
    御する搬送制御手段を備えたことを特徴とする請求項1
    記載の紫外線照射装置。
  3. 【請求項3】 照射部の上面を覆うカバーを備えたこと
    を特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。
  4. 【請求項4】 カバーは、紫外線を遮断するとともに可
    視光を透過することを特徴とする請求項3記載の紫外線
    照射装置。
JP22058291A 1991-08-30 1991-08-30 紫外線照射装置 Pending JPH0561122A (ja)

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JP22058291A JPH0561122A (ja) 1991-08-30 1991-08-30 紫外線照射装置

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JP22058291A Pending JPH0561122A (ja) 1991-08-30 1991-08-30 紫外線照射装置

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JP (1) JPH0561122A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011158680A1 (ja) * 2010-06-14 2011-12-22 ウシオ電機株式会社 人工歯根の有機汚染物除去装置
JP2012000118A (ja) * 2010-06-14 2012-01-05 Ushio Inc 人工歯根の有機汚染物除去装置
JP2012000119A (ja) * 2010-06-14 2012-01-05 Ushio Inc 人工歯根の有機汚染物除去装置

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