JPH10139155A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カセットの搬入・搬出が容易で、しかも、外
部雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰
囲気への薬液雰囲気の流出を確実に防止することができ
るシャッタ構造を備えた基板処理装置を提供する。 【解決手段】 略１／４円筒状に形成されたシャッタ本
体５を横向き姿勢に配備するとともに、その左右の側壁
５ａを外側から横軸心Ｐ周りに回動可能に支持して、シ
ャッタ本体５を内外に回動して開閉するシャッタ構造３
を構成し、シャッタ本体５を閉じた状態では、ステージ
２をシャッタ本体５で覆って外部雰囲気を遮断し、シャ
ッタ本体５を開放した状態では、ステージ２の前方およ
び上方に開放するとともに、内方に回し込み回動した開
放状態のシャッタ本体５によって、ステージ内奥と装置
内部とを遮断する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示器用のガラス基
板、光ディスク用の基板、等の各種の基板に種々の処理
を施す処理部を備えた基板処理装置に係り、特には、基
板を収納したカセットを搬入および搬出するためのステ
ージに備えたシャッタ構造に特徴を有する基板処理装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板処理装置においては、外部
雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰囲
気への薬液雰囲気の流出を防止するために、基板が収納
されたカセットを搬入および搬出するステージにシャッ
タ構造が備えられている。従来のシャッタ構造として
は、図７（ａ）に示すように、偏平板状の２枚のシャッ
タ本体３１を引き違い状に左右に開閉する構造の引き戸
タイプや、図７（ｂ）に示すように、偏平板状のシャ
ッタ本体３１を上下に開閉する構造の上下スライドタイ
プが知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
あった。上記引き戸タイプは、ステージ３０の前面開
口部、つまり基板を収納したカセットＣが出入りする経
路の上方箇所にシャッタ本体３１をスライド案内するガ
イドレール３２が存在するために、このスライド案内に
伴って発生した塵埃が基板上に落下して基板を汚損する
おそれがあった。また、この引き戸タイプではステージ
３０の前面開口部の左右片側部分しか開放されないの
で、カセットＣの搬入搬出に不便なものとなっていた。

【０００４】これに対して、上記上下スライドタイプ
においては、ステージ２の前面開口部を全体的に大きく
開閉できる利点はあるが、シャッタ本体３１を左右から
案内するガイドレール３３がステージ３０の前面開口部
の上部にまで配備される関係から、スライド案内に伴っ
て発生した塵埃が基板上に落下して基板を汚損するおそ
れがあった。

【０００５】また、上記引き戸タイプおよび上下スラ
イドタイプのいずれにおいても、シャッタ本体３１を
開放してカセットＣを搬入および搬出する間は、外部雰
囲気から装置内への塵埃の侵入や、装置内に残留してい
る薬液雰囲気が外部雰囲気へ流出することを防止するこ
とができず、これを防止するためには、ステージ３０の
前後にシャッタ構造を配備して、それぞれを背反的に開
閉作動させる必要があり、構造が複雑で高価になるもの
であった。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板への塵埃の付着させることなく、
ステージを大きく開閉してカセットの搬入および搬出を
容易に行うことができ、しかも、シャッタ閉じ状態はも
ちろんのこと、シャッタ開放状態でも外部雰囲気から装
置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰囲気への薬液雰
囲気の流出を確実に防止することができるシャッタ構造
を備えた基板処理装置を、構造簡単かつ安価に製作でき
るものとして提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために次のような構成をとる。すなわち、請求項
１に係る発明は、基板を収納したカセットを搬入および
搬出するためのステージに、装置内雰囲気と外部雰囲気
とを遮断するためのシャッタ構造を備えた基板処理装置
において、略１／４円筒状に形成されたシャッタ本体を
横向き姿勢に配備するとともに、両側の側壁を横軸心周
りに回動可能に支持して、シャッタ本体を内外に回動し
て開閉するシャッタ構造を構成し、シャッタ本体を前方
外側に回動したシャッタ閉じ状態では、ステージを前方
および上方からシャッタ本体で覆って、装置内雰囲気と
外部雰囲気とを遮断し、シャッタ本体を後方内側に回動
したシャッタ開放状態では、ステージの前方および上方
に開放するとともに、内側に回し込み回動した開放状態
のシャッタ本体によって、ステージ上と装置内部とを遮
断するよう構成したものである。

【０００８】また、請求項２に係る発明は、請求項１に
係る発明において、前記ステージ上にエアーを供給する
エアー供給手段と、前記ステージ上に供給されたエアー
を排出するエアー排出手段と、を備えるものである。

【０００９】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。請求項１に
係る発明の構成によると、シャッタ本体の回動支持部が
シャッタ本体の左右外側部にあるので、例え回動支持部
から塵埃が発生したとしても、ステージ内にまで飛散す
るおそれがない。また、シャッタ閉じ状態で装置内雰囲
気と外部雰囲気とが遮断されるのは当然であるが、シャ
ッタ開放状態でも、内方に回し込んだ閉じ状態のシャッ
タ本体によってステージと装置内処理部とを連通する基
板搬送通路が塞がれて、カセットの搬入および搬出中で
も装置内雰囲気と外部雰囲気とが遮断される。

【００１０】また、請求項２に係る発明の構成による
と、エアー供給手段によりステージ上にエアーを供給
し、供給されたエアーをエアー排出手段によりステージ
上から排出しているので、ステージ上にエアーだまりが
生じない。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は本発明に係る基板処理装置の
基板搬入搬出側の一部を示す斜視図、図２はその側面
図、図３はその縦断側面図、図４はその正面図である。

【００１２】搬入された基板に所定の薬液処理を施す処
理部１の前部には、多数枚の基板を上下多段に差込み収
納したカセットＣを搬入および搬出するためのステージ
２が設けられている。このステージ２にシャッタ構造３
が備えられている。

【００１３】ステージ２は、そのテーブル４の奥側半分
が処理部１に入り込む状態で設けられている。このテー
ブル４上に２個のカセットＣを左右に並べて位置決めセ
ットすることができるようになっている。なお、カセッ
トＣからの基板の取り出し、および処理済み基板のカセ
ットＣへの戻しは、図示しない搬送ロボットによって行
われる。

【００１４】シャッタ構造３は、略１／４円筒状に形成
されたシャッタ本体５を横向き姿勢にして、その左右側
壁部の外側部に備えた回転支持部を介して水平な横軸心
Ｐ周りに開閉回動可能に支持して構成されている。詳述
すると、シャッタ本体５は、厚い樹脂板からなる左右一
対の側壁５ａの外端縁に亘って透明樹脂材板５ｂを接続
して略１／４円筒状に形成されたものである。両側壁５
ａの外側面に取り付けた軸受けプレート６が、ステージ
枠７の左右に立設した軸受けブラケット８に亘って横軸
心Ｐ周りに回動自在に軸支されている。

【００１５】なお、シャッタ本体５を形成する樹脂板
は、例えばアクリル樹脂や塩化ビニール樹脂製である。
また、半導体ウエハを処理する場合には、このような樹
脂板として、静電防止処理が施されたものが好ましい。

【００１６】ステージ枠７の下部左右には、軸受けブラ
ケット９を介して操作軸１０が水平に設けられている。
この操作軸１０の両端近くに取り付けられた操作アーム
１１の両端と、軸受けプレート６とが一対づつのロッド
１２で平行四連リンク状に連動連結されている。また、
フレームの左右中間部に取り付けたエアーシリンダ１３
と、操作軸１０の中間部に固着したアーム１４とが連結
され、エアーシリンダ１３の伸縮によって操作軸が約９
０度の範囲で正逆に回動駆動されるようになっている。

【００１７】図２および図３に示すように、エアーシリ
ンダ１３が収縮すると、シャッタ本体５がステージ２の
前半部を前方および上方から覆うシャッタ閉じ状態にな
る。この状態では、装置内とステージ内とが連通して、
図示しない搬送ロボットが装置内とステージ内とを自由
に移動可能となり、カセットＣと処理部１との間での基
板の搬送が行える。また、この状態では、装置内雰囲気
と外部雰囲気とがシャッタ本体５によって遮断され、外
部雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰
囲気への薬液雰囲気の流出が防止される。

【００１８】なお、シャッタ本体５の外周面には、ステ
ージ２における開口部上縁１５に内方から近接する障壁
５ｃが突設されており、開口部上縁１５と障壁５ｂとの
重複によって開口部上縁１５とシャッタ本体５との隙間
でのシールがなされている。また、シャッタ本体５にお
ける左右側壁５ａの各前端下部には一対の突片１６がス
テージ内方に向けてそれぞれ突設されており、各突片１
６に備えたピン１７がテーブル４に受け止め支持され
て、シャッタ本体５の閉じ方向への回動限界が規制され
ている。

【００１９】図５に示すように、エアーシリンダ１３が
伸長すると、シャッタ本体５が上方内方に向けて略９０
度回動され、ステージ２の前半部を前方および上方に開
放するシャッタ開放状態となる。この状態では、テーブ
ル４上が全幅に亘って大きく開放され、カセットＣの搬
入および搬出が可能となる。また、この状態では、ステ
ージ２の内奥において、内方に回り込み回動されたシャ
ッタ本体５によって装置内雰囲気と外部雰囲気とが遮断
され、外部雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内か
ら外部雰囲気への薬液雰囲気の流出が防止される。

【００２０】なお、シャッタ本体５における左右側壁５
ａの各後端下部には一対の突片１８がステージ内方に向
けてそれぞれ突設されており、各突片１８に備えたピン
１９がテーブル４に受け止め支持されて、シャッタ本体
５の開放方向への回動限界が規制されている。

【００２１】また、テーブル４の上方でシャッタ本体５
の回動範囲外に、エアー吹き出し機構２０が設けられて
おり、シャッタ閉じ状態で、このエアー吹き出し機構２
０がステージ２上にエアーを吹き出し、このエアーはテ
ーブル４の前側のエアー排出口２１から排出される。こ
れにより、ステージ２上にはエアーだまりが生じないの
で、テーブル４上に位置決めされたカセットＣにはクリ
ーンなエアーを常に供給できる。

【００２２】なお、上述の実施例では、エアーシリンダ
１３によってシャッタ本体５を開閉するようにしたが、
シャッタ本体５はモータで開閉してもよい。また、シャ
ッタ本体５をアクチュエータによらず、人手によって開
閉するようにしてもよい。

【００２３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次のような効果を奏する。請求項１に係る発明
の基板処理装置によれば、シャッタ本体を、その両側に
おいて横軸心周りに開閉回動可能に支持したので、回転
支持部で塵埃が発生してもステージ内に飛散流入するこ
とがなく、基板が塵埃で汚染されることことなく、ステ
ージを全幅に亘って大きく開閉してカセットの搬入およ
び搬出を容易に行うことができる。

【００２４】しかも、シャッタ開放状態でもシャッタ本
体がステージ内奥と装置内部との連通を遮断するので、
ステージでのカセットの搬入および搬出中における外部
雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰囲
気への薬液雰囲気の流出を確実に防止することができ
る。

【００２５】一軸心周りで回動するシャッタ本体で、閉
じ状態および開放状態にかかわらず外部雰囲気と装置内
部とを遮断することができるので、内外二重のシャッタ
構造などを採用する必要がなく防塵機能に優れたシャッ
タ構造を構成することができ、構造簡単かつ安価に実施
できる。

【００２６】また、請求項２に係る発明の基板処理装置
によれば、エアー供給手段によりステージ上にエアーを
供給し、供給されたエアーをエアー排出手段により排出
しているので、ステージ上にエアーだまりが生じず、ス
テージ上にクリーンなエアーを常に供給できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】基板処理装置のカセット搬入搬出部位の一部を
切り欠いた斜視図である。

【図２】カセット搬入搬出部位のシャッタ閉じ状態にお
ける側面図である。

【図３】カセット搬入搬出部位のシャッタ閉じ状態にお
ける縦断側面図である。

【図４】カセット搬入搬出部位の一部を切り欠いた正面
図である。

【図５】カセット搬入搬出部位のシャッタ開放状態にお
ける縦断側面図である。

【図６】シャッタ本体の一部を切り欠いた斜視図であ
る。

【図７】従来例の概略斜視図である。

【符号の説明】

２ … ステージ ３ … シャッタ構造 ５ … シャッタ本体 ５ａ… 側壁 ２０… エアー吹き出し機構 ２１… エアー排出口 Ｃ … カセット Ｐ … 横軸心

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を収納したカセットを搬入および搬
   出するためのステージに、装置内雰囲気と外部雰囲気と
   を遮断するためのシャッタ構造を備えた基板処理装置に
   おいて、 略１／４円筒状に形成されたシャッタ本体を横向き姿勢
   に配備するとともに、両側の側壁を横軸心周りに回動可
   能に支持して、シャッタ本体を内外に回動して開閉する
   シャッタ構造を構成し、 シャッタ本体を前方外側に回動したシャッタ閉じ状態で
   は、ステージを前方および上方からシャッタ本体で覆っ
   て、装置内雰囲気と外部雰囲気とを遮断し、 シャッタ本体を後方内側に回動したシャッタ開放状態で
   は、ステージの前方および上方に開放するとともに、内
   側に回し込み回動した開放状態のシャッタ本体によっ
   て、ステージ上と装置内部とを遮断するよう構成してあ
   ることを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、前記ステージ上にエアーを供給するエアー供給手段
   と、前記ステージ上に供給されたエアーを排出するエア
   ー排出手段と、を備える基板処理装置。