JPH0561601B2 - - Google Patents

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JPH0561601B2
JPH0561601B2 JP58222420A JP22242083A JPH0561601B2 JP H0561601 B2 JPH0561601 B2 JP H0561601B2 JP 58222420 A JP58222420 A JP 58222420A JP 22242083 A JP22242083 A JP 22242083A JP H0561601 B2 JPH0561601 B2 JP H0561601B2
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JP
Japan
Prior art keywords
film
refractive index
layer
chalcogenide glass
pbf
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58222420A
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English (en)
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JPS60114801A (ja
Inventor
Takeo Myata
Takuhiro Ono
Takashi Iwabuchi
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は沃化タリウム(TlI)と臭化タリウム
(TlBr)との混晶、たとえばKRS−5と呼ばれ
る材料で作られた赤外用光学部品(ウインドウ、
レンズ、オプテイカルフアイバーなど)用の反射
防止膜に関するものである。 従来例の構成とその問題点 KRS−5は、屈折率が2.37(波長10.6μmにおい
て)と大きいために反射損失が入出力端を合せて
約28%もある。これを減らすには端面に反射防止
膜をコーテイングすることが望ましい。しかし
KRS−5に無反射コートする技術は未だ確立さ
れておらず、文献もほとんど無い。 この様な状況において最近KRS−5が炭酸ガ
スレーザメス用の導光路(オプテイカルフアイバ
ー)として実用化されるに至り、その透過率向上
を目的とした反射防止膜の要望が高まつて来た。 この導光路端面に使用される反射防止膜は炭酸
ガスレーザ光が照射されるという点でまず通常の
赤外用の窓、レンズ等のそれに比べ高い耐光力が
要求される。さらに導光路の場合には一般にレー
ザ光を集光して端面に入射させるため表面でのパ
ワー密度は通常のレーザ用光学部品の場合より2
桁位大きなものとなる。例えば50W出力時には、
導光路入力端でのパワー密度は50KW/cm2にも達
する。従つて導光路端面上の反射防止膜は耐環境
性、耐はく離性のみならず、極度に大きな耐光力
が要求される。 耐光力を向上させるには、まずいかに吸収の少
ない反射防止膜を実現するかにかかつている。 従来、炭酸ガスレーザ用透明光学部品の素材で
あるセレン化亜鉛(ZnSe)、ヒ素化ガリウム
(GaAs)や塩化カリウム(KCl)等の反射防止膜
は、単層膜構造、二層膜構造、三層膜構造等が試
みられている。それ以上の多層でも反射防止膜は
構成出来るが蒸着膜形成時の作業容易性に難点が
生じたり、レーザ光に対する膜厚増加に伴う吸収
増大を招いたりするという問題が生ずるので特殊
な場合を除き反射防止膜の層数は三層が限度とさ
れている。 単層膜構造が最も製作上容易である。光学の理
論によれば、屈折率nが光学部品素材の屈折率ns
の平方根√sに等しいという条件を満足すれば、
光学的厚みnd=λ/4(λ=10.6μmの場合、nd
=2.65μm)で基板上に蒸着した場合の反射率は
零になり単層反射防止膜となる。 自然界には、この様な条件を満足してくれるも
のは非常に限られる。KRS−5素材の屈折率ns
の平方根√s=√2.37≒1.54に近い屈折率の材料
としては第1表の様なものがある。
【表】 第1表より判る様に単層反射防止膜では反射率
を零にすることは出来ず1%程度の反射が残る。
ThF4の場合には耐環境性には優れているが、吸
収が大きい欠点が有る。PbF2の場合吸収は少な
いが耐環境性に欠点がある。すなわち、PbF2
着膜は水に対して弱く、あやまつて表面に水をか
けたりすると膜にひび割れが生じたり、散乱が増
加する。 一方、Schusterの二層膜構造の条件式を満足す
る2種類の誘電体物質の組合せを考えると理論的
に反射率を零にすることが出来る。その様な組合
せをさがすと第2表の様になる。
【表】 第2表から判る様に二層構造の場合、理論的に
反射率を零にすることは出来るが吸収が大きいと
いう欠点を有す。 Mouchratの三層膜構造の条件式を満足する組
合せとして試作されたAs2Se3/PbF2/AS2Se3
る反射防止膜は面当りの吸収率は0.02%のオーダ
ーと低く、単層、二層の反射防止膜より耐光力も
向上する。 しかしながら一般にカルコゲナイドガラスは、
高温に長時間さらされると酸化され吸収が増加す
るという欠点と、機械的にやわらかいために、ク
リーニング時に表面に傷がつきやすいという欠点
を有していた。 このように、反射率が零で、耐環境性にすぐ
れ、長寿命でかつ吸収の少ない耐光力の高い反射
防止膜は従来得られなかつた。 発明の目的 本発明はKRS−5の様な沃化タリウム(TlI)
と具化タリウム(TlBr)からなる混合よりなる
赤外透過材料に対して耐環境性にすぐれ、長寿命
で、かつ吸収の少ない従つて耐光力の高い炭酸ガ
スレーザ用にも使用出来る反射防止膜を提供する
ものである。 発明の構成 本発明はKRS−5面にまず吸収の少なくかつ
密着性の良いアモルフアス状態を示す屈折率
(n3)が2.6以上のカルコゲナイドガラスである高
屈折率物質を蒸着し次に吸収の少ない屈折率
(n2)が約1.6なる低屈折率物質であるPbF2を蒸着
し、さらにこれらのカルコゲナイドガラスや
PbF2の耐環境性の悪さを保護する目的で屈折率
(n1)が2.2なる高屈折率物質であるZnSあるいは
屈折率(n1)が2.4なるZnSeを蒸着してなる三層
膜構造の吸収の少ない従つて耐光力のある、かつ
また耐環境性のすぐれた反射防止膜を提供する。 実施例の説明 以下本発明の実施例について詳細に説明する。 第1図はKRS−5面上における本発明による
波長10.6μm用三層反射防止膜の構造図である。
図中1は表面が超精密に光学研磨された屈折率ns
が2.37のKRS−5基板である。2は屈折率n3
2.6以上のカルコゲナイドガラス膜であり、3は
屈折率n2が約1.6なるPbF2膜である。4は屈折率
n1が2.2なるZnSか、n1が2.4なるZnSe膜である。
第2図は代表的な本発明による反射防止膜の反射
率波長依存性を示す図である。 以上の条件で6組の三層反射防止膜のそれぞれ
の膜厚をMouchratの関係式(Applied Optics
vol、16、No.10、P2722)を満足する様に求めた
結果を第3表に示す。
【表】
【表】 いずれの実施例においても、反射防止膜の一面
あたりの吸収は約0.02%であり、単層、二層構造
のうちで一番吸収率の少ないPbF2単層反射防止
膜の0.05%より少ない。 さらに以上の実施例では空気にふれる最外層が
酸化しにくいZnS、あるいはZnSeよりなつてお
り内部のカルコゲナイドガラスやPbF2膜を保護
する役目をはたしているため従来の三層反射防止
膜(As2Se3/PbF2/AS2Se3)より耐環境性にす
ぐれている。 次に本発明における、カルコゲナイドガラスの
屈折率n3を2.6以上と特定した理由について第3
図をもとに説明する。 第3図は本発明による反射防止膜の最外層であ
るZnS又はZnSeの膜厚と最内層であるカルコゲ
ナイドガラスの屈折率の関係を示す図である。図
中、5はGe28Sb12Se60(n10.6〜2.6)、6はAs2Se3
(n10.6〜2.8)、7はGe30As17Te30Se23(n10.6〜3.1)
である。 空気等に直接ふれる最外層のZnS、ZnSe膜は
上で説明したように内部のPbF2、やカルコゲナ
イドガラスを保護する役目をしているので少なく
とも約0.2μm以上(最外層がZnSeの場合は0.172μ
m以上、ZnSの場合は0.199μm以上)の膜厚が必
要となる。第3図の意味するところは三層反射防
止膜の条件を満足してかつ最外層の膜厚が約0.2μ
m以上であるためには一番下のカルコゲナイドガ
ラスの屈折率が2.6以上ないとこれらを満足しな
いことを意味している。 発明の効果 以上のように本発明は屈折率が2.6以上のカル
コゲナイドガラス/PbF2/ZnSあるいはZnSeな
る構成のKRS−5用三層反射防止膜で、次のよ
うな効果を有する。 1 反射防止膜の波長10.6μm炭酸ガスレーザ光
による吸収率は0.02%のオーダーと低く、単層
PbF2反射防止膜の0.05%よりすぐれているた
め耐光力も向上する。 2 最外層がカルコゲナイドガラスで構成される
三層反射防止膜にくらべ、熱的、化学的に安定
でかつ機械的にも強いZnSやZnSeを使用して
いるため内部のカルコゲナイドガラス膜や
PbF2膜を化学的にかつ物理的に保護している
ため、耐環境性にすぐれ、長寿命である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による反射防止膜の実施例を
示す断面図、第2図は本発明による反射防止膜の
代表的な反射率波長依存性を示す図、第3図は本
発明による反射防止膜の最外層の膜厚と最内層の
屈折率の関係を示す特性図である。 1……被蒸着基板、2……カルコゲナイドガラ
ス膜、3……PbF2膜、4……ZnSあるいはZnSe
膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 KRS−5基板上に屈折率が2.6以上のカルコ
    ゲナイドガラス膜を形成し、前記カルコゲナイド
    ガラス膜上に弗化鉛(PbF2)膜を形成し、前記
    弗化鉛膜上に最外層膜として硫化亜鉛(ZnS)膜
    またはセレン化亜鉛(ZnSe)膜を、各々の膜厚
    が0.172μmまたは0.199μm以上として形成したこ
    とを特徴とする反射防止膜。
JP58222420A 1983-11-25 1983-11-25 反射防止膜 Granted JPS60114801A (ja)

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JPS60114801A JPS60114801A (ja) 1985-06-21
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JP7172024B2 (ja) 2017-09-12 2022-11-16 日本電気硝子株式会社 カルコゲナイドガラス材

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JPS60114801A (ja) 1985-06-21

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