JPH0562719B2 - - Google Patents
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- JPH0562719B2 JPH0562719B2 JP60005509A JP550985A JPH0562719B2 JP H0562719 B2 JPH0562719 B2 JP H0562719B2 JP 60005509 A JP60005509 A JP 60005509A JP 550985 A JP550985 A JP 550985A JP H0562719 B2 JPH0562719 B2 JP H0562719B2
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Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変
換方法に用いられる放射線像変換パネルに関する
ものである。
換方法に用いられる放射線像変換パネルに関する
ものである。
［発明の技術的背景］
放射線像を画像として得る方法として、従来よ
り銀塩感光材料からなる乳剤層を有する放射線写
真フイルムと増感紙との組合わせを用いる、いわ
ゆる放射線写真法が利用されている。最近、上記
放射線写真法に代る方法の一つとして、たとえば
特開昭55−12145号公報などに記載されているよ
うな、輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が
注目されるようになつた。この放射線像変換方法
は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル
（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写
体を透過した放射線、あるいは被検体から発せら
れた放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収さ
せ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線
などの電磁波（励起光）で時系列的に励起するこ
とにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放
射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）として放出さ
せ、この蛍光を光電的に読み取つて電気信号を
得、得られた電気信号を画像化するものである。
り銀塩感光材料からなる乳剤層を有する放射線写
真フイルムと増感紙との組合わせを用いる、いわ
ゆる放射線写真法が利用されている。最近、上記
放射線写真法に代る方法の一つとして、たとえば
特開昭55−12145号公報などに記載されているよ
うな、輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が
注目されるようになつた。この放射線像変換方法
は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル
（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写
体を透過した放射線、あるいは被検体から発せら
れた放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収さ
せ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線
などの電磁波（励起光）で時系列的に励起するこ
とにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放
射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）として放出さ
せ、この蛍光を光電的に読み取つて電気信号を
得、得られた電気信号を画像化するものである。
上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射
線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ること
ができるという利点がある。従つて、この放射線
像変換方法は、特に医療診断を目的とするＸ線撮
影等の直接医療用放射線撮影において利用価値の
非常に高いものである。
線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ること
ができるという利点がある。従つて、この放射線
像変換方法は、特に医療診断を目的とするＸ線撮
影等の直接医療用放射線撮影において利用価値の
非常に高いものである。
上記の放射線像変換方法に用いる放射線像変換
パネルは、基本構造として、支持体と、その片面
に設けられた蛍光体層とからなるものである。な
お、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面（支
持体に面していない側の表面）には一般に、高分
子物質からなる透明な保護膜が設けられていて、
蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃か
ら保護している。
パネルは、基本構造として、支持体と、その片面
に設けられた蛍光体層とからなるものである。な
お、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面（支
持体に面していない側の表面）には一般に、高分
子物質からなる透明な保護膜が設けられていて、
蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃か
ら保護している。
蛍光体層は、通常、輝尽性蛍光体と、これを分
散状態で含有支持する結合剤とからなるものであ
り、この輝尽性蛍光体は、Ｘ線などの放射線を吸
収したのち、可視光線および赤外線などの電磁上
（励起光）の照射を受けると発光（輝尽発光）を
示す性質を有するものである。従つて、被写体を
透過した、あるいは被検体から発せられた放射線
は、その放射線量に比例して放射線像変換パネル
の蛍光体層に吸収され、放射線像変換パネル上に
は被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネ
ルギーの蓄積像として形成される。この蓄積像
は、上記電磁波で時系列的に励起することにより
輝尽発光として放射させることができ、この輝尽
発光を光電的に読み取つて電気信号に変換するこ
とにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化する
ことが可能となる。
散状態で含有支持する結合剤とからなるものであ
り、この輝尽性蛍光体は、Ｘ線などの放射線を吸
収したのち、可視光線および赤外線などの電磁上
（励起光）の照射を受けると発光（輝尽発光）を
示す性質を有するものである。従つて、被写体を
透過した、あるいは被検体から発せられた放射線
は、その放射線量に比例して放射線像変換パネル
の蛍光体層に吸収され、放射線像変換パネル上に
は被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネ
ルギーの蓄積像として形成される。この蓄積像
は、上記電磁波で時系列的に励起することにより
輝尽発光として放射させることができ、この輝尽
発光を光電的に読み取つて電気信号に変換するこ
とにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化する
ことが可能となる。
上記放射線像変換方法は、上述のように非常に
有利な画像形成方法であるが、この方法に用いら
れる放射線像変換パネルも従来の放射線写真法に
用いられる増感紙と同様に、高感度であつて、か
つ画質（鮮鋭度、粒状性など）の優れた画像を与
えるものであることが望まれる。特に、放射線像
変換方法を医療用放射線撮影に適用するに際して
は、人体の被曝線量を軽減させ、かつより多くの
情報を得る必要から、該方法に用いられる放射線
像変換パネルは感度ができるだけ高いものである
のが望ましい。
有利な画像形成方法であるが、この方法に用いら
れる放射線像変換パネルも従来の放射線写真法に
用いられる増感紙と同様に、高感度であつて、か
つ画質（鮮鋭度、粒状性など）の優れた画像を与
えるものであることが望まれる。特に、放射線像
変換方法を医療用放射線撮影に適用するに際して
は、人体の被曝線量を軽減させ、かつより多くの
情報を得る必要から、該方法に用いられる放射線
像変換パネルは感度ができるだけ高いものである
のが望ましい。
放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネ
ルに含有される輝尽性蛍光体の輝尽発光量によつ
て決まり、この発光量は蛍光体自体の発光特性に
依存するのみならず、輝尽発光させるための励起
光が充分な強度を有しない場合においてはその強
度によつても異なるものである。
ルに含有される輝尽性蛍光体の輝尽発光量によつ
て決まり、この発光量は蛍光体自体の発光特性に
依存するのみならず、輝尽発光させるための励起
光が充分な強度を有しない場合においてはその強
度によつても異なるものである。
放射線像変換方法において放射線像変換パネル
の読出しは、たとえばレーザー光などの励起光で
パネルを走査することにより行なわれているが、
励起光の一部はパネル表面で反射されるために蛍
光体層まで達せず、励起光の利用効率が充分でな
いという問題があつた。特に、励起光の光源とし
て実用化が考えられている半導体レーザー等を用
いる場合には、レーザー光の出力が小さいことか
ら、励起光の利用効率を高めてパネルの感度を向
上させることが望まれる。
の読出しは、たとえばレーザー光などの励起光で
パネルを走査することにより行なわれているが、
励起光の一部はパネル表面で反射されるために蛍
光体層まで達せず、励起光の利用効率が充分でな
いという問題があつた。特に、励起光の光源とし
て実用化が考えられている半導体レーザー等を用
いる場合には、レーザー光の出力が小さいことか
ら、励起光の利用効率を高めてパネルの感度を向
上させることが望まれる。
また、パネル表面の光反射が大きい場合には、
パネル表面で反射された励起光が読出し系などで
再反射されてパネルに入射するために照射目標以
外の部分をも励起することになる（フレア現象）。
その結果、他の部分の画像情報までも一緒に読み
出されることになるために、得られる画像情報は
不正確なものとなる。この点からも、パネルの表
面反射をできる限り小さくすることが望まれてい
る。
パネル表面で反射された励起光が読出し系などで
再反射されてパネルに入射するために照射目標以
外の部分をも励起することになる（フレア現象）。
その結果、他の部分の画像情報までも一緒に読み
出されることになるために、得られる画像情報は
不正確なものとなる。この点からも、パネルの表
面反射をできる限り小さくすることが望まれてい
る。
［発明の要旨］
本発明は、感度の向上した放射線像変換パネル
を提供することをその目的とするものである。
を提供することをその目的とするものである。
また、本発明は、高感度であつて、かつ画質の
優れた画像を与える放射線像変換パネルを提供す
ることもその目的とするものである。
優れた画像を与える放射線像変換パネルを提供す
ることもその目的とするものである。
本発明は、支持体、輝尽性蛍光体を含有する蛍
光体層および保護膜をこの順序で有する放射線像
変換パネルにおいて、該パネル表面に、400〜
900nｍの範囲にある励起光の波長の1/4の奇数倍
（nλ／４：ｎ＝１、３、５、〜〜〜、λ＝励起光
の波長）に相当する光学的膜厚を有する無機物か
らなる励起光反射防止膜が設けられていることを
特徴とする放射線像変換パネルにある。
光体層および保護膜をこの順序で有する放射線像
変換パネルにおいて、該パネル表面に、400〜
900nｍの範囲にある励起光の波長の1/4の奇数倍
（nλ／４：ｎ＝１、３、５、〜〜〜、λ＝励起光
の波長）に相当する光学的膜厚を有する無機物か
らなる励起光反射防止膜が設けられていることを
特徴とする放射線像変換パネルにある。
なお、本発明において『パネル表面』とは励起
光の照射を受ける側の表面を意味する。一般に、
放射線像変換パネルを使用する放射線像変換方法
の実施において励起光の照射は保護膜側から行な
われており、パネル表面とは通常は保護膜表面を
指す。
光の照射を受ける側の表面を意味する。一般に、
放射線像変換パネルを使用する放射線像変換方法
の実施において励起光の照射は保護膜側から行な
われており、パネル表面とは通常は保護膜表面を
指す。
本発明は、放射線像変換パネルの励起光照射側
の表面に反射防止膜を設けることにより、励起光
に対する利用効率を高めてパネルの感度の向上を
実現するものである。すなわち、放射線像変換パ
ネルに含有される輝尽性蛍光体を輝尽発光させる
ための励起光に対して反射率の小さな材料からな
る層をパネル表面に好適な厚さで設けることによ
り、パネル表面での励起光の反射を低減して蛍光
体層における励起光の吸収を高めることができ
る。これにより、強度の弱い励起光の照射でも蛍
光体層中の蛍光体の輝尽発光量を高く保つことが
でき、パネルの感度を高めることが可能となる。
の表面に反射防止膜を設けることにより、励起光
に対する利用効率を高めてパネルの感度の向上を
実現するものである。すなわち、放射線像変換パ
ネルに含有される輝尽性蛍光体を輝尽発光させる
ための励起光に対して反射率の小さな材料からな
る層をパネル表面に好適な厚さで設けることによ
り、パネル表面での励起光の反射を低減して蛍光
体層における励起光の吸収を高めることができ
る。これにより、強度の弱い励起光の照射でも蛍
光体層中の蛍光体の輝尽発光量を高く保つことが
でき、パネルの感度を高めることが可能となる。
特に、励起光が半導体レーザー光などの出力の
小さなものである場合、あるいは読出しの設定条
件等から励起光の強度を高めることができない場
合において、放射線像変換パネルの励起光に対す
る利用効率が増大することは大きな利点といえ
る。
小さなものである場合、あるいは読出しの設定条
件等から励起光の強度を高めることができない場
合において、放射線像変換パネルの励起光に対す
る利用効率が増大することは大きな利点といえ
る。
また、上述したようなパネル表面で反射された
励起光が別の物体で再反射されることに起因する
フレア現象を防ぐことができ、これにより正確な
画像情報を得ることができる。
励起光が別の物体で再反射されることに起因する
フレア現象を防ぐことができ、これにより正確な
画像情報を得ることができる。
従つて、本発明のパネルを使用することによつ
て励起光源および読出し系についての制約を緩和
することができるから、パネルの読出しに用いら
れる放射線像変換装置について小型化、高速化な
どの改良が容易となり、ひいては放射線像変換方
法の適用範囲を広げることが可能となる。
て励起光源および読出し系についての制約を緩和
することができるから、パネルの読出しに用いら
れる放射線像変換装置について小型化、高速化な
どの改良が容易となり、ひいては放射線像変換方
法の適用範囲を広げることが可能となる。
さらに、反射防止膜の材料として弗化マグネシ
ウムなどの弗化物を用いた場合には、同時にパネ
ル表面の硬度を高めることができ、その防傷性を
向上させることができる。通常、放射線像変換パ
ネルから放射される蛍光（すなわち、画像情報）
の読出しは励起光の照射と同じ側から行なわれて
おり、従つてパネル表面の防傷性の向上によりパ
ネル表面の傷による画像の劣化を防ぐことが可能
となる。
ウムなどの弗化物を用いた場合には、同時にパネ
ル表面の硬度を高めることができ、その防傷性を
向上させることができる。通常、放射線像変換パ
ネルから放射される蛍光（すなわち、画像情報）
の読出しは励起光の照射と同じ側から行なわれて
おり、従つてパネル表面の防傷性の向上によりパ
ネル表面の傷による画像の劣化を防ぐことが可能
となる。
［発明の構成］
以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
の放射線像変換パネルは、たとえば、次に述べる
ような方法により製造することができる。
の放射線像変換パネルは、たとえば、次に述べる
ような方法により製造することができる。
本発明において使用する支持体は、従来の放射
線写真法における増感紙の支持体として用いられ
ている各種の材料あるいは放射線像変換パネルの
支持体として公知の各種の材料から任意に選ぶこ
とができる。そのような材料の例としては、セル
ロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリ
アセテート、ポリカーボネートなどのプラスチツ
ク物質のフイルム、アルミニウム箔、アルミニウ
ム合金箔などの金属シート、通常の紙、パライタ
紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を
含有するピグメント紙、ポリビニルアルコールな
どをサイイジングした紙などを挙げることができ
る。ただし、放射線像変換パネルの情報記録材料
としての特性および取扱いなどを考慮した場合、
本発明において特に好ましい支持体の材料はプラ
スチツクフイルムである。このプラスチツクフイ
ルムにはカーボンブラツクなどの光吸収性物質が
練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質が練り込まれていてもよい。
前者は高鮮鋭度タイプの放射線像変換パネルに適
した支持体であり、後者は高感度タイプの放射線
像変換パネルに適した支持体である。
線写真法における増感紙の支持体として用いられ
ている各種の材料あるいは放射線像変換パネルの
支持体として公知の各種の材料から任意に選ぶこ
とができる。そのような材料の例としては、セル
ロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリ
アセテート、ポリカーボネートなどのプラスチツ
ク物質のフイルム、アルミニウム箔、アルミニウ
ム合金箔などの金属シート、通常の紙、パライタ
紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を
含有するピグメント紙、ポリビニルアルコールな
どをサイイジングした紙などを挙げることができ
る。ただし、放射線像変換パネルの情報記録材料
としての特性および取扱いなどを考慮した場合、
本発明において特に好ましい支持体の材料はプラ
スチツクフイルムである。このプラスチツクフイ
ルムにはカーボンブラツクなどの光吸収性物質が
練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質が練り込まれていてもよい。
前者は高鮮鋭度タイプの放射線像変換パネルに適
した支持体であり、後者は高感度タイプの放射線
像変換パネルに適した支持体である。
公知の放射線像変換パネルにおいては、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルとしての感度もしくは画質（鮮鋭
度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層、もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設けることができる。
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルとしての感度もしくは画質（鮮鋭
度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層、もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設けることができる。
さらに、特開昭58−200200号公報に記載されて
いるように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
目的で、支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍
光体層側の表面に接着性付与層、光反射層あるい
は光吸収層などが設けられている場合には、その
表面を意味する）には、微細な凹凸が均質に形成
されていてもよい。
いるように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
目的で、支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍
光体層側の表面に接着性付与層、光反射層あるい
は光吸収層などが設けられている場合には、その
表面を意味する）には、微細な凹凸が均質に形成
されていてもよい。
次に、支持体の上には蛍光体層が形成される。
蛍光体層は、基本的には輝尽性蛍光体の粒子を分
散状態で含有支持する結合剤からなる層である。
蛍光体層は、基本的には輝尽性蛍光体の粒子を分
散状態で含有支持する結合剤からなる層である。
輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な面からは波形が400〜
900nｍの範囲にある励起光によつて300〜500nm
の波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが
望ましい。本発明の放射線像変換パネルに用いら
れる輝尽性蛍光体の例としては、 米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS：Ce、Sm、SrS：Eu、Sm、ThO2：Er、お
よびLa2O2S：Eu、Sm、 特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS：Cu、Pb、BaO・xAl2O3：Eu（ただし、0.8
＜ｘ≦10）、および、M〓Ｏ・xSiO2：Ａ（ただし、
M〓はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、またはBaであり、
ＡはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、または
Mnであり、ｘは0.5≦ｘ≦2.5である）、 特開昭55−12143号公報に記載されている
（Ba1-X-y、Mgx、Cay）FX：aEu2+（ただし、Ｘ
はClおよびBrのうちの少なくとも一つであり、
ｘおよびＹは、０＜ｘ＋ｙ≦0.6、かつxy≠０で
あり、ａは、10-6≦ａ≦５×10-2である）、 特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX：xA（ただし、LnはLa、Ｙ、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、ＸはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、ＡはCeおよびTbのうち
の少なくとも一つ、そして、ｘは、０＜ｘ＜0.1
である）、 特開昭55−12145号公報に記載されている
（Ba1-x、M2+ x）FX：yA（ただし、M2+はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一
つ、又はCl、Br、およびＩのうちの少なくとも
一つ、ＡはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してｘは、０≦ｘ≦0.6、ｙは、０≦ｙ≦0.2であ
る）、 特開昭55−160078号公報に記載されているM〓
FX・xA：yLn［ただし、M〓はBa、Ca、Sr、
Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、Ａ
はBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、
Al2O3、Y2O3、La2O3、In2O3、SiO2、TlO2、
ZrO2、GeO2、SnO2、Nb2O5、Ta2O5、および
ThO2のうちの少なくとも一種、LnはEu、Tb、
Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Sm、
およびGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl、
Br、およびＩのうちの少なくとも一種であり、
ｘおよびｙはそれぞれ５×10-5≦ｘ≦0.5、およ
び０＜ｙ≦0.2である］の組成式で表わされる蛍
光体、 特開昭56−116777号公報に記載されている
（Ba1-x、M〓ｘ（F2・aBaX2：yEu、zA［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよ
びスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、
ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1、および０＜ｚ
≦10-2である］の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23673号公報に記載されている
（Ba1-x、M〓ｘ）F2・aBaX2：yEu、zB［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、お
よびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、
10-6≦ｙ≦２×10-1、および０＜ｚ≦２×10-1で
ある］の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23675号公報に記載されている
（Ba1-x、M〓ｘ）F2・aBaX2：yEu、zA［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素の
うちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およ
びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10-6
≦ｙ≦２×10-1、および０＜ｙ≦５×101である］
の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−69281号公報に記載されている
MOX：xCe［ただし、M〓はPr、Nd、Pm、Sm、
Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびBiか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
であり、ＸはClおよびBrのうちのいずれか一方
あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜0.1であ
る］の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−206678号公報に記載されている
Ba1-xMx/2Lx/2FX：yEu2+［ただし、ＭはLi、Na、
Ｋ、Rb、およびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属を表わし；Ｌは、Sc、
Ｙ、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In、お
よびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属を表わし；Ｘは、Cl、Br、およびＩ
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンを表わし；そして、ｘは10-2≦ｘ≦0.5、ｙは
０＜ｙ≦0.1である］の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−27980号公報に記載されている
BaFX・xA：yEu2+［ただし、Ｘは、Cl、Br、お
よびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり；Ａは、テトラフルオロホウ酸化
合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6≦ｘ≦
0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1である］の組成式で表わさ
れる性蛍光体、 特開昭59−47289号公報に記載されている
BaFX・xA：yEu2+［ただし、Ｘは、Cl、Br、お
よびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり；Ａは、ヘキサフルオロケイ酸、
ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジ
ルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からな
るヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは
10-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1である］の組成
式で表わされる蛍光体、 特開昭59−56479号公報に記載されている
BaFX・xNaX′：aEu2+［ただし、ＸおよびX′は、
それぞれCl、Br、およびＩのうちの少なくと一
種であり、ｘおよびａはそれぞれ０＜ｘ≦２、お
よび０＜ａ≦0.2である］の組成式で表わされる
蛍光体、 特開昭59−56480号公報に記載されているM〓
FX・xNaX′：yEu2+：zA［ただし、M〓は、Ba、
Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり；Ｘおよび
X′は、それぞれCl、Br、およびＩからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａ
は、Ｖ、Cr、Mn、Fe、Co、およびNiより選ば
れる少なくとも一種の遷移金属であり；そして、
ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦0.2、およびｚは
０＜ｚ≦10-2である］の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM〓
FX・aM〓X′・bM′〓X″2・cM〓Ｘ3・xA：
yEu2+［ただし、M〓はBa、Sr、およびCaからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類
金属であり；M〓はLi、Na、Ｋ、Rb、およびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり；M′〓はBeおよびMgからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の二価金属であり；
M〓はAl、Ga、In、およびTlからなる群より選
ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ａは金
属酸化物であり；ＸはCl、Br、およびＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；X′、X″、およびX″は、Ｆ、Cl、Br、および
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦
ｂ≦10-2、ｃは０≦ｃ≦10-2、かつａ＋ｂ＋ｃ≧
10-6であり；ｘは０＜ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.2
である］の組成式で表わされる蛍光体、 本出願人による特願昭58−193161号明細書に記
載されているM〓X2・aM〓X′2：xEu2+［ただし、
M〓はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘお
よびX′はCl、BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであつて、かつＸ≠
X′であり；そしてａは0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜
ｘ＜0.2である］の組成式で表わされる蛍光体、 などを挙げることができる。
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な面からは波形が400〜
900nｍの範囲にある励起光によつて300〜500nm
の波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが
望ましい。本発明の放射線像変換パネルに用いら
れる輝尽性蛍光体の例としては、 米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS：Ce、Sm、SrS：Eu、Sm、ThO2：Er、お
よびLa2O2S：Eu、Sm、 特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS：Cu、Pb、BaO・xAl2O3：Eu（ただし、0.8
＜ｘ≦10）、および、M〓Ｏ・xSiO2：Ａ（ただし、
M〓はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、またはBaであり、
ＡはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、または
Mnであり、ｘは0.5≦ｘ≦2.5である）、 特開昭55−12143号公報に記載されている
（Ba1-X-y、Mgx、Cay）FX：aEu2+（ただし、Ｘ
はClおよびBrのうちの少なくとも一つであり、
ｘおよびＹは、０＜ｘ＋ｙ≦0.6、かつxy≠０で
あり、ａは、10-6≦ａ≦５×10-2である）、 特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX：xA（ただし、LnはLa、Ｙ、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、ＸはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、ＡはCeおよびTbのうち
の少なくとも一つ、そして、ｘは、０＜ｘ＜0.1
である）、 特開昭55−12145号公報に記載されている
（Ba1-x、M2+ x）FX：yA（ただし、M2+はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一
つ、又はCl、Br、およびＩのうちの少なくとも
一つ、ＡはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してｘは、０≦ｘ≦0.6、ｙは、０≦ｙ≦0.2であ
る）、 特開昭55−160078号公報に記載されているM〓
FX・xA：yLn［ただし、M〓はBa、Ca、Sr、
Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、Ａ
はBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、
Al2O3、Y2O3、La2O3、In2O3、SiO2、TlO2、
ZrO2、GeO2、SnO2、Nb2O5、Ta2O5、および
ThO2のうちの少なくとも一種、LnはEu、Tb、
Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Sm、
およびGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl、
Br、およびＩのうちの少なくとも一種であり、
ｘおよびｙはそれぞれ５×10-5≦ｘ≦0.5、およ
び０＜ｙ≦0.2である］の組成式で表わされる蛍
光体、 特開昭56−116777号公報に記載されている
（Ba1-x、M〓ｘ（F2・aBaX2：yEu、zA［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよ
びスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、
ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1、および０＜ｚ
≦10-2である］の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23673号公報に記載されている
（Ba1-x、M〓ｘ）F2・aBaX2：yEu、zB［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、お
よびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、
10-6≦ｙ≦２×10-1、および０＜ｚ≦２×10-1で
ある］の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23675号公報に記載されている
（Ba1-x、M〓ｘ）F2・aBaX2：yEu、zA［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素の
うちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およ
びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10-6
≦ｙ≦２×10-1、および０＜ｙ≦５×101である］
の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−69281号公報に記載されている
MOX：xCe［ただし、M〓はPr、Nd、Pm、Sm、
Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびBiか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
であり、ＸはClおよびBrのうちのいずれか一方
あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜0.1であ
る］の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−206678号公報に記載されている
Ba1-xMx/2Lx/2FX：yEu2+［ただし、ＭはLi、Na、
Ｋ、Rb、およびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属を表わし；Ｌは、Sc、
Ｙ、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In、お
よびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属を表わし；Ｘは、Cl、Br、およびＩ
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンを表わし；そして、ｘは10-2≦ｘ≦0.5、ｙは
０＜ｙ≦0.1である］の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−27980号公報に記載されている
BaFX・xA：yEu2+［ただし、Ｘは、Cl、Br、お
よびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり；Ａは、テトラフルオロホウ酸化
合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6≦ｘ≦
0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1である］の組成式で表わさ
れる性蛍光体、 特開昭59−47289号公報に記載されている
BaFX・xA：yEu2+［ただし、Ｘは、Cl、Br、お
よびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり；Ａは、ヘキサフルオロケイ酸、
ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジ
ルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からな
るヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは
10-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1である］の組成
式で表わされる蛍光体、 特開昭59−56479号公報に記載されている
BaFX・xNaX′：aEu2+［ただし、ＸおよびX′は、
それぞれCl、Br、およびＩのうちの少なくと一
種であり、ｘおよびａはそれぞれ０＜ｘ≦２、お
よび０＜ａ≦0.2である］の組成式で表わされる
蛍光体、 特開昭59−56480号公報に記載されているM〓
FX・xNaX′：yEu2+：zA［ただし、M〓は、Ba、
Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり；Ｘおよび
X′は、それぞれCl、Br、およびＩからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａ
は、Ｖ、Cr、Mn、Fe、Co、およびNiより選ば
れる少なくとも一種の遷移金属であり；そして、
ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦0.2、およびｚは
０＜ｚ≦10-2である］の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM〓
FX・aM〓X′・bM′〓X″2・cM〓Ｘ3・xA：
yEu2+［ただし、M〓はBa、Sr、およびCaからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類
金属であり；M〓はLi、Na、Ｋ、Rb、およびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり；M′〓はBeおよびMgからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の二価金属であり；
M〓はAl、Ga、In、およびTlからなる群より選
ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ａは金
属酸化物であり；ＸはCl、Br、およびＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；X′、X″、およびX″は、Ｆ、Cl、Br、および
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦
ｂ≦10-2、ｃは０≦ｃ≦10-2、かつａ＋ｂ＋ｃ≧
10-6であり；ｘは０＜ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.2
である］の組成式で表わされる蛍光体、 本出願人による特願昭58−193161号明細書に記
載されているM〓X2・aM〓X′2：xEu2+［ただし、
M〓はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘお
よびX′はCl、BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであつて、かつＸ≠
X′であり；そしてａは0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜
ｘ＜0.2である］の組成式で表わされる蛍光体、 などを挙げることができる。
また、上記特願昭58−193161号明細書に記載さ
れているM〓X2・aM〓X′2：xEu2 +蛍光体には、以
下に示すような添加物がM〓X2・aM〓X′21モル当
り以下の割合で含まれていてもよい。
れているM〓X2・aM〓X′2：xEu2 +蛍光体には、以
下に示すような添加物がM〓X2・aM〓X′21モル当
り以下の割合で含まれていてもよい。
本出願人による特願町59−22169号明細書に記
載されているbM〓X″（ただし、M〓はRbおよびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり、X″はＦ、Cl、BrおよびＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてｂは０＜ｂ≦10.0である）；特願昭59
−77225号明細書に記載されているbKX″・cMgX
2・dM〓Ｘ′′′′3（ただし、M〓はSc、Ｙ、La、Gd
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一
種の三価金属であり、X″、ＸおよびＸ′′′′はい
ずれもＦ、Cl、BrおよびＩからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり、そして
ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦2.0、０≦
ｃ≦2.0、０≦ｄ≦2.0であつて、かつ２×10-5≦
ｂ＋ｃ＋ｄである）；特願昭59−84356号明細書に
記載されているyB（ただし、ｙは２×10-4≦ｙ≦
２×10-1である）；および特願昭59−84358号明細
書に記載されているbA（ただし、ＡはSiO2および
P2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の
酸化物であり、そしてｂは10-4≦ｂ≦２×10-1で
ある） 上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウ
ム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光
体、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロ
ゲン化物系蛍光体および希土類元素賦活希土類オ
キシハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を
示すので特に好ましい。ただし、本発明に用いら
れる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるもの
ではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射
した場合に、輝尽発光を示す蛍光体であればいか
なるものであつてもよい。
載されているbM〓X″（ただし、M〓はRbおよびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり、X″はＦ、Cl、BrおよびＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてｂは０＜ｂ≦10.0である）；特願昭59
−77225号明細書に記載されているbKX″・cMgX
2・dM〓Ｘ′′′′3（ただし、M〓はSc、Ｙ、La、Gd
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一
種の三価金属であり、X″、ＸおよびＸ′′′′はい
ずれもＦ、Cl、BrおよびＩからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり、そして
ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦2.0、０≦
ｃ≦2.0、０≦ｄ≦2.0であつて、かつ２×10-5≦
ｂ＋ｃ＋ｄである）；特願昭59−84356号明細書に
記載されているyB（ただし、ｙは２×10-4≦ｙ≦
２×10-1である）；および特願昭59−84358号明細
書に記載されているbA（ただし、ＡはSiO2および
P2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の
酸化物であり、そしてｂは10-4≦ｂ≦２×10-1で
ある） 上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウ
ム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光
体、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロ
ゲン化物系蛍光体および希土類元素賦活希土類オ
キシハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を
示すので特に好ましい。ただし、本発明に用いら
れる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるもの
ではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射
した場合に、輝尽発光を示す蛍光体であればいか
なるものであつてもよい。
蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の
蛋白質、デキストラン等のポリサツカライド、ま
たはアラビアゴムのような天然高分子物質；およ
び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニ
トロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリ
デン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メ
タ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、ポリアルキル（メタ）
アクリレート、ニトロセルロースと線状ポリエス
テルとの混合物およびニトロセルロースとポリア
ルキル（メタ）アクリレートとの混合物である。
なお、これらの結合剤は架橋剤によつて架橋され
たものがあつてもよい。
蛋白質、デキストラン等のポリサツカライド、ま
たはアラビアゴムのような天然高分子物質；およ
び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニ
トロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリ
デン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メ
タ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、ポリアルキル（メタ）
アクリレート、ニトロセルロースと線状ポリエス
テルとの混合物およびニトロセルロースとポリア
ルキル（メタ）アクリレートとの混合物である。
なお、これらの結合剤は架橋剤によつて架橋され
たものがあつてもよい。
蛍光体層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。
支持体上に形成することができる。
まず上記の輝尽性蛍光体と結合剤とを適当な溶
剤に添加し、これを充分に混合して、結合剤溶液
中に蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製す
る。
剤に添加し、これを充分に混合して、結合剤溶液
中に蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製す
る。
塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルどの低級脂肪酸と低級アルコ
ールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレグリコールモノ
メチルエーテルなどのエーテル；そして、それら
の混合物を挙げることができる。
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルどの低級脂肪酸と低級アルコ
ールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレグリコールモノ
メチルエーテルなどのエーテル；そして、それら
の混合物を挙げることができる。
塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合
比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍
光体の種類などによつて異なるが、一般には結合
剤と蛍光体との混合比は、１：１乃至１：100（重
量比）の範囲から選ばれ、そして特に１：８乃至
１：40（重量比）の範囲から選ぶことが好ましい。
比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍
光体の種類などによつて異なるが、一般には結合
剤と蛍光体との混合比は、１：１乃至１：100（重
量比）の範囲から選ばれ、そして特に１：８乃至
１：40（重量比）の範囲から選ぶことが好ましい。
なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体
の分散性を向上させるための分散剤、また、形成
後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添
加剤が混合されていてもよい。そのような目的に
用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを
挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル；そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリ
コールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエ
チレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエス
テルなどを挙げることができる。
の分散性を向上させるための分散剤、また、形成
後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添
加剤が混合されていてもよい。そのような目的に
用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを
挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル；そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリ
コールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエ
チレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエス
テルなどを挙げることができる。
上記のようにして調製された蛍光体と結合剤と
を含有する塗布液を、次に支持体の表面に均一に
塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。こ
の塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドク
ターブレード、ロールコーター、ナイフコーター
などを用いることにより行なうことができる。
を含有する塗布液を、次に支持体の表面に均一に
塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。こ
の塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドク
ターブレード、ロールコーター、ナイフコーター
などを用いることにより行なうことができる。
ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を
完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍
光体との混合比などによつて異なるが、通常は
20μｍ乃至１mmとする。ただし、この層厚は50乃
至500μｍとするのが好ましい。
により乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を
完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍
光体との混合比などによつて異なるが、通常は
20μｍ乃至１mmとする。ただし、この層厚は50乃
至500μｍとするのが好ましい。
なお、蛍光体層は必ずしも上記のように支持体
上に塗布液を直接塗布して形成する必要はなく、
たとえば、別にガラス板、金属板、プラスチツク
シートなどのシート上に塗布液を塗布し乾燥する
ことにより蛍光体層を形成した後、これを支持体
上に押圧するか、あるいは接着剤を用いるなどし
て支持体と蛍光体層とを接合してもよい。
上に塗布液を直接塗布して形成する必要はなく、
たとえば、別にガラス板、金属板、プラスチツク
シートなどのシート上に塗布液を塗布し乾燥する
ことにより蛍光体層を形成した後、これを支持体
上に押圧するか、あるいは接着剤を用いるなどし
て支持体と蛍光体層とを接合してもよい。
次に、蛍光体層の支持体に接する側とは反対側
の表面には、蛍光体層を物理的および化学的に保
護する目的で透明な保護膜が設けられる。
の表面には、蛍光体層を物理的および化学的に保
護する目的で透明な保護膜が設けられる。
透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体；あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリア
ミドなどから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層
の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方
法によつても形成することができる。このように
して形成する透明保護膜の膜厚は、約３乃至20μ
ｍとするのが望ましい。
トロセルロースなどのセルロース誘導体；あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリア
ミドなどから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層
の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方
法によつても形成することができる。このように
して形成する透明保護膜の膜厚は、約３乃至20μ
ｍとするのが望ましい。
この透明保護膜上には、本発明の特徴的な要件
である反射防止膜が設けられる。
である反射防止膜が設けられる。
本発明の放射線像変換パネルにおいて反射防止
膜に用いられる材料は、パネルに含有される輝尽
性蛍光体を輝尽発光させるための励起光に対する
反射特性が低いものである。すなわち輝尽性蛍光
体の励起波長領域の電磁波に対する反射率の小さ
なものである。同時に、上記材料は励起光に対す
る吸収特性が低い、換言すれば透過特性の優れた
ものである必要がある。そのような材料の例とし
ては、弗化マグネシウム、弗化カルシウム、氷晶
石などの無機弗化物；および酸化アルミニウム、
二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、一酸化ケイ
素、二酸化ケイ素などの無機酸化物挙げることが
できる。これらの弗化物を用いて得られる反射防
止膜は高い表面硬度を有するために、パネル表面
（すなわち蛍光の読出し側表面）の防傷性を高め
ることができ、画質の点からも好ましい。
膜に用いられる材料は、パネルに含有される輝尽
性蛍光体を輝尽発光させるための励起光に対する
反射特性が低いものである。すなわち輝尽性蛍光
体の励起波長領域の電磁波に対する反射率の小さ
なものである。同時に、上記材料は励起光に対す
る吸収特性が低い、換言すれば透過特性の優れた
ものである必要がある。そのような材料の例とし
ては、弗化マグネシウム、弗化カルシウム、氷晶
石などの無機弗化物；および酸化アルミニウム、
二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、一酸化ケイ
素、二酸化ケイ素などの無機酸化物挙げることが
できる。これらの弗化物を用いて得られる反射防
止膜は高い表面硬度を有するために、パネル表面
（すなわち蛍光の読出し側表面）の防傷性を高め
ることができ、画質の点からも好ましい。
反射防止膜は、たとえば上記材料からなる薄膜
を真空蒸着、スパツタリングなどの方法により保
護膜表面に形成することにより設けることができ
る。反射防止膜の膜厚は反射特性の点から、励起
光の波長オーダーであるのが好ましく、特にその
光学的厚さが励起光の波長の1/4の奇数倍（波長
をλとすると、膜厚＝nλ／４、ｎ＝１、３、５
…）である場合に、反射率が低くなるので好まし
い。また、反射防止膜を多層膜とすることによ
り、さらに反射率を低減することもできる。一般
に、反射防止膜の膜厚は約0.1乃至10μｍとするの
が望ましい。
を真空蒸着、スパツタリングなどの方法により保
護膜表面に形成することにより設けることができ
る。反射防止膜の膜厚は反射特性の点から、励起
光の波長オーダーであるのが好ましく、特にその
光学的厚さが励起光の波長の1/4の奇数倍（波長
をλとすると、膜厚＝nλ／４、ｎ＝１、３、５
…）である場合に、反射率が低くなるので好まし
い。また、反射防止膜を多層膜とすることによ
り、さらに反射率を低減することもできる。一般
に、反射防止膜の膜厚は約0.1乃至10μｍとするの
が望ましい。
本発明は、上述のようにして放射線像変換パネ
ルの保護膜表面に反射防止膜を付設することによ
り、励起光の利用効率を高めることができる。ま
た、励起光の強度が小さい場合であつてもパネル
の感度を高感度に維持することができる。さらに
パネル表面での励起光の反射を低減して、励起光
の再反射による読出し精度の低下を防止すること
ができる。
ルの保護膜表面に反射防止膜を付設することによ
り、励起光の利用効率を高めることができる。ま
た、励起光の強度が小さい場合であつてもパネル
の感度を高感度に維持することができる。さらに
パネル表面での励起光の反射を低減して、励起光
の再反射による読出し精度の低下を防止すること
ができる。
なお、本発明の放射線像変換パネルは、特開昭
55−163500号公報、特開昭57−96300号公報等に
記載に従つて、着色剤によつて着色されていても
よく、この着色によつて、得られる画像の鮮鋭度
を向上させることができる。また本発明の放射線
像変換パネルは、特開昭55−146447号公報に記載
されているように、同様の目的でその蛍光体層中
に白色粉体が分散されていてもよい。
55−163500号公報、特開昭57−96300号公報等に
記載に従つて、着色剤によつて着色されていても
よく、この着色によつて、得られる画像の鮮鋭度
を向上させることができる。また本発明の放射線
像変換パネルは、特開昭55−146447号公報に記載
されているように、同様の目的でその蛍光体層中
に白色粉体が分散されていてもよい。
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。
［実施例］
粉末状の二価ユーロピウム賦活弗化臭化バリウ
ム蛍光体（BaFBr：0.001Eu2+）と線状ポリエス
テル樹脂との混合物にメチルエチルケトンを添加
し、さらに硝化度11.5％のニトロセルロースを添
加して蛍光体を分散状態で含有する分散液を調製
した。次に、この分散液に燐酸トリクレジル、ｎ
−ブタノールそしてメチルエルケトンを添加した
のち、プロペラミキサーを用いて充分に撹拌混合
して、蛍光体が均一に分散し、かつ結合剤と蛍光
体との混合比が１：10、粘度が25〜35PS（25℃）
の塗布液を調製した。次に、ガラス板上に水平に
置いた二酸化チタン練り込みポリエチレンテレフ
タレートシート（支持体、厚み：250μｍ）の上
に塗布液をドクターブレードを用いて均一に塗布
した。そして塗布後に、塗膜が形成された支持体
を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度を25
℃から100℃に徐々に上昇させて、塗膜の乾燥を
行なつた。このようにして、支持体上に層膜が
250μｍの蛍光体層を形成した。
ム蛍光体（BaFBr：0.001Eu2+）と線状ポリエス
テル樹脂との混合物にメチルエチルケトンを添加
し、さらに硝化度11.5％のニトロセルロースを添
加して蛍光体を分散状態で含有する分散液を調製
した。次に、この分散液に燐酸トリクレジル、ｎ
−ブタノールそしてメチルエルケトンを添加した
のち、プロペラミキサーを用いて充分に撹拌混合
して、蛍光体が均一に分散し、かつ結合剤と蛍光
体との混合比が１：10、粘度が25〜35PS（25℃）
の塗布液を調製した。次に、ガラス板上に水平に
置いた二酸化チタン練り込みポリエチレンテレフ
タレートシート（支持体、厚み：250μｍ）の上
に塗布液をドクターブレードを用いて均一に塗布
した。そして塗布後に、塗膜が形成された支持体
を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度を25
℃から100℃に徐々に上昇させて、塗膜の乾燥を
行なつた。このようにして、支持体上に層膜が
250μｍの蛍光体層を形成した。
この蛍光体層の上にポリエチレンテレフタレー
トの透明フイルム（厚み：12μｍ、ポリエステル
系接着剤が付与されているもの）を接着剤層側を
下に向けて置いて接着することにより、透明保護
膜を形成した。
トの透明フイルム（厚み：12μｍ、ポリエステル
系接着剤が付与されているもの）を接着剤層側を
下に向けて置いて接着することにより、透明保護
膜を形成した。
次いで、この透明保護膜の上に弗化マグネシウ
ム（MgF2）を真空蒸着法により、約1580Å（He
−Neレーザー光の波長632.8nｍの1/4）の厚さに
付着させることにより、反射防止膜を設けた。
ム（MgF2）を真空蒸着法により、約1580Å（He
−Neレーザー光の波長632.8nｍの1/4）の厚さに
付着させることにより、反射防止膜を設けた。
このようにして、支持体、蛍光体層、透明保護
膜および反射防止膜から構成された放射線像変換
パネルを製造した。
膜および反射防止膜から構成された放射線像変換
パネルを製造した。
［比較例］
実施例において、保護膜上に反射防止膜を設け
ないこと以外は実施例の方法と同様の操作を行な
うことにより、支持体、蛍光体層および透明保護
膜から構成された放射線像変換パネルを製造し
た。
ないこと以外は実施例の方法と同様の操作を行な
うことにより、支持体、蛍光体層および透明保護
膜から構成された放射線像変換パネルを製造し
た。
次に、各放射線像変換パネルの保護膜側表面に
ついて、He−Neレーザー（632.8nｍ）を用いて
表面反射率を測定した。その結果、従来の放射線
像変換パネル（比較例）の表面反射率は約４％で
あつたが、本発明の放射線像変換パネル（実施
例）の表面反射率は約1.5％であり、パネル表面
での光反射が顕著に減少した。
ついて、He−Neレーザー（632.8nｍ）を用いて
表面反射率を測定した。その結果、従来の放射線
像変換パネル（比較例）の表面反射率は約４％で
あつたが、本発明の放射線像変換パネル（実施
例）の表面反射率は約1.5％であり、パネル表面
での光反射が顕著に減少した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体、輝尽性蛍光体を含有する蛍光体層お
よび保護膜をこの順序で有する放射線像変換パネ
ルにおいて、該パネル表面に、400〜900nｍの範
囲にある励起光の波長の1/4の奇数倍（nλ／４：
ｎ＝１、３、５、〜〜〜、λ＝励起光の波長）に
相当する光学的膜厚を有する無機物からなる励起
光反射防止膜が設けられていることを特徴とする
放射線像変換パネル。 ２ 励起光反射防止膜が無機弗化物からなる特許
請求の範囲第１項記載の放射線像変換パネル。 ３ 励起光反射防止膜が弗化マグネシウムからな
る特許請求の範囲第１項記載の放射線像変換パネ
ル。 ４ 励起光反射防止膜の膜厚が0.1乃至10μｍの範
囲にある特許請求の範囲第１項記載の放射線像変
換パネル。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP550985A JPS61164200A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 放射線像変換パネル |
| US06/818,239 US4645721A (en) | 1985-01-14 | 1986-01-13 | Radiation image storage panel |
| EP86100417A EP0188274A3 (en) | 1985-01-14 | 1986-01-14 | Radiation image storage panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP550985A JPS61164200A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 放射線像変換パネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61164200A JPS61164200A (ja) | 1986-07-24 |
| JPH0562719B2 true JPH0562719B2 (ja) | 1993-09-09 |
Family
ID=11613160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP550985A Granted JPS61164200A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 放射線像変換パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61164200A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0652320B2 (ja) * | 1985-05-17 | 1994-07-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5928478B2 (ja) * | 1975-05-19 | 1984-07-13 | キヤノン株式会社 | レ−ザ−ビ−ム記録方法 |
| JPS5920474B2 (ja) * | 1975-01-29 | 1984-05-14 | キヤノン株式会社 | ヒ−トモ−ドレ−ザ−ビ−ム記録方法 |
| JPS5747330A (en) * | 1980-09-04 | 1982-03-18 | Toray Ind Inc | Production of transparent material with antireflexion properties |
| JPS56123502A (en) * | 1981-01-26 | 1981-09-28 | Canon Inc | Multilayer reflection preventing film |
| JPS59126531A (ja) * | 1983-01-10 | 1984-07-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ光走査光学系 |
-
1985
- 1985-01-14 JP JP550985A patent/JPS61164200A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61164200A (ja) | 1986-07-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |