JPH0563261A - レーザ反射鏡 - Google Patents
レーザ反射鏡Info
- Publication number
- JPH0563261A JPH0563261A JP3219650A JP21965091A JPH0563261A JP H0563261 A JPH0563261 A JP H0563261A JP 3219650 A JP3219650 A JP 3219650A JP 21965091 A JP21965091 A JP 21965091A JP H0563261 A JPH0563261 A JP H0563261A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflecting mirror
- polished
- deposited
- laser
- ceramics
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射鏡としての性能を劣化させることなく形
状を小型化する。 【構成】 高純度アルミナセラミックスのブロック１の
２面を鏡面研磨し、これら研磨面の表面に微小な凹凸を
平坦化するためのアルミナの蒸着層２を堆積させ、この
蒸着層２の表面に高反射率の高純度アルミニウム層３を
堆積させる。
状を小型化する。 【構成】 高純度アルミナセラミックスのブロック１の
２面を鏡面研磨し、これら研磨面の表面に微小な凹凸を
平坦化するためのアルミナの蒸着層２を堆積させ、この
蒸着層２の表面に高反射率の高純度アルミニウム層３を
堆積させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＸＹステージの
移動量をレーザ干渉計で測定する場合に、そのＸＹステ
ージの側面にレーザビームを反射させるために取り付け
られるレーザ反射鏡に関する。
移動量をレーザ干渉計で測定する場合に、そのＸＹステ
ージの側面にレーザビームを反射させるために取り付け
られるレーザ反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造用のステッパーにおいてウェ
ハが載置されたＸＹステージ又は電子顕微鏡において試
料を移動するためのＸＹステージ等においては、その移
動量を正確に測定するためにレーザ干渉計が使用されて
いる。この場合、ＸＹステージの２次元的な動きを測定
するためには、そのＸＹステージの直交する２個の側面
全体をカバーするレーザ反射鏡が必要であり、Ｌ字形の
１個で側面全体をカバーするレーザ反射鏡又は１個の側
面をカバーするブロックを直角に組み合わせて使用する
レーザ反射鏡が使用されている。
ハが載置されたＸＹステージ又は電子顕微鏡において試
料を移動するためのＸＹステージ等においては、その移
動量を正確に測定するためにレーザ干渉計が使用されて
いる。この場合、ＸＹステージの２次元的な動きを測定
するためには、そのＸＹステージの直交する２個の側面
全体をカバーするレーザ反射鏡が必要であり、Ｌ字形の
１個で側面全体をカバーするレーザ反射鏡又は１個の側
面をカバーするブロックを直角に組み合わせて使用する
レーザ反射鏡が使用されている。
【０００３】従来のそのようなレーザ反射鏡は、石英ガ
ラス等のガラスを鏡面研磨し、この研磨面に金属の反射
膜又は多層膜等の反射材を蒸着等により堆積することに
より形成されている。
ラス等のガラスを鏡面研磨し、この研磨面に金属の反射
膜又は多層膜等の反射材を蒸着等により堆積することに
より形成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
石英ガラスはヤング率が約６×１０3 ｋｇ／ｍｍ2 程度
と小さく負荷に対する曲がりが大きい。従って、ＸＹス
テージに取り付けた際の平面度及び直交度を良好に維持
するためには断面積の大きなブロックを用いる必要があ
り、反射鏡及びＸＹステージが大型化し重量も重い不都
合があった。具体的に、反射面の長さが例えば２５０ｍ
ｍ程度の反射鏡を製作するには、断面形状が４０〜５０
ｍｍ角程度の大寸法の石英ガラスのブロックが必要とな
っていた。
石英ガラスはヤング率が約６×１０3 ｋｇ／ｍｍ2 程度
と小さく負荷に対する曲がりが大きい。従って、ＸＹス
テージに取り付けた際の平面度及び直交度を良好に維持
するためには断面積の大きなブロックを用いる必要があ
り、反射鏡及びＸＹステージが大型化し重量も重い不都
合があった。具体的に、反射面の長さが例えば２５０ｍ
ｍ程度の反射鏡を製作するには、断面形状が４０〜５０
ｍｍ角程度の大寸法の石英ガラスのブロックが必要とな
っていた。
【０００５】本発明は斯かる点に鑑み、反射鏡としての
性能を劣化させることなく形状を小型化できるレーザ反
射鏡を提供することを目的とする。
性能を劣化させることなく形状を小型化できるレーザ反
射鏡を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によるレーザ反射
鏡は、例えば図１及び図２に示す如く、セラミックスの
ブロック（１）の少なくとも一面を鏡面研磨し、この研
磨面の表面に高反射率の材料（３）を堆積させたもので
ある。また、本発明はそのセラミックスとして酸化ジル
コニウム又はサイアロンを使用したものである。
鏡は、例えば図１及び図２に示す如く、セラミックスの
ブロック（１）の少なくとも一面を鏡面研磨し、この研
磨面の表面に高反射率の材料（３）を堆積させたもので
ある。また、本発明はそのセラミックスとして酸化ジル
コニウム又はサイアロンを使用したものである。
【０００７】また、本発明はそのセラミックスとして高
ヤング率の素材（炭化シリコン、タングステンカーバイ
ド、高純度アルミナ、単結晶サファイア等）を使用した
ものである。
ヤング率の素材（炭化シリコン、タングステンカーバイ
ド、高純度アルミナ、単結晶サファイア等）を使用した
ものである。
【０００８】更に、本発明によるレーザ反射鏡は、例え
ば図１及び図２に示すように、高ヤング率のセラミック
スのブロック（１）の少なくとも一面を鏡面研磨し、こ
の研磨面の表面に微小な凹凸を平坦化するための材料
（２）を堆積させ、この材料（２）の表面に高反射率の
材料（３）を堆積させたものである。
ば図１及び図２に示すように、高ヤング率のセラミック
スのブロック（１）の少なくとも一面を鏡面研磨し、こ
の研磨面の表面に微小な凹凸を平坦化するための材料
（２）を堆積させ、この材料（２）の表面に高反射率の
材料（３）を堆積させたものである。
【０００９】
【作用】斯かる本発明によれば、セラミックスのヤング
率は２．６×１０4 ｋｇ／ｍｍ 2 〜４．８×１０4 ｋｇ
／ｍｍ2 程度とガラスに比べて高いので、負荷に対する
曲がりが少ない。また、セラミックスは硬度が比較的大
きいので研磨が可能である。一般に種々のブロックの厚
さ及びヤング率をそれぞれＴ及びＹとすると、一定の負
荷に対するそれらブロックの厚さ方向の撓み量は、Ｔ-1
・Ｙ-1/3に比例する。従って、撓み量が同程度であると
すると、それらブロックの厚さＴはＹ-1/3に比例する。
石英ガラスのヤング率は６×１０3 ｋｇ／ｍｍ2 程度で
あるため、セラミックスでは厚さを石英ガラスの場合の
１／１．７〜１／２程度にしても撓み量は同程度であ
る。
率は２．６×１０4 ｋｇ／ｍｍ 2 〜４．８×１０4 ｋｇ
／ｍｍ2 程度とガラスに比べて高いので、負荷に対する
曲がりが少ない。また、セラミックスは硬度が比較的大
きいので研磨が可能である。一般に種々のブロックの厚
さ及びヤング率をそれぞれＴ及びＹとすると、一定の負
荷に対するそれらブロックの厚さ方向の撓み量は、Ｔ-1
・Ｙ-1/3に比例する。従って、撓み量が同程度であると
すると、それらブロックの厚さＴはＹ-1/3に比例する。
石英ガラスのヤング率は６×１０3 ｋｇ／ｍｍ2 程度で
あるため、セラミックスでは厚さを石英ガラスの場合の
１／１．７〜１／２程度にしても撓み量は同程度であ
る。
【００１０】従って、石英ガラスの場合は断面形状が４
０〜５０ｍｍ角程度のレーザ反射鏡が、セラミックスで
は２０〜３０ｍｍ角程度で製造できるので、レーザ反射
鏡の断面形状を小型化できる。このセラミックスのレー
ザ反射鏡をＸＹステージ等に取り付けた場合でも、ヤン
グ率が高いので保持用の金具等の負荷に負けて曲がるこ
とがない。
０〜５０ｍｍ角程度のレーザ反射鏡が、セラミックスで
は２０〜３０ｍｍ角程度で製造できるので、レーザ反射
鏡の断面形状を小型化できる。このセラミックスのレー
ザ反射鏡をＸＹステージ等に取り付けた場合でも、ヤン
グ率が高いので保持用の金具等の負荷に負けて曲がるこ
とがない。
【００１１】また、セラミックスとして酸化ジルコニウ
ム（ＺｒＯ2 ）又はサイアロンを使用した場合、実験的
にブロックの空洞（所謂ボイド）が少なくなり、研磨面
の平面度が良好であった。特に酸化ジルコニウムは線膨
張係数が金属材料と同程度であり、通常金属で製造され
ているＸＹステージとのなじみがよい。また、セラミッ
クスとしてセラミックスの中でも特に高ヤング率のもの
を使用するときには、断面形状を更に小型化することが
できる。
ム（ＺｒＯ2 ）又はサイアロンを使用した場合、実験的
にブロックの空洞（所謂ボイド）が少なくなり、研磨面
の平面度が良好であった。特に酸化ジルコニウムは線膨
張係数が金属材料と同程度であり、通常金属で製造され
ているＸＹステージとのなじみがよい。また、セラミッ
クスとしてセラミックスの中でも特に高ヤング率のもの
を使用するときには、断面形状を更に小型化することが
できる。
【００１２】更に、研磨面の表面に微小な凹凸を平坦化
するための充填材料（２）を堆積させ、この充填材料
（２）の表面に高反射率の材料（３）を堆積させた場合
には、上記のボイドに起因してセラミックスの研磨面に
発生し易い凹凸を埋めることができるので、反射鏡とし
ての性能が向上する。
するための充填材料（２）を堆積させ、この充填材料
（２）の表面に高反射率の材料（３）を堆積させた場合
には、上記のボイドに起因してセラミックスの研磨面に
発生し易い凹凸を埋めることができるので、反射鏡とし
ての性能が向上する。
【００１３】
【実施例】以下、本発明によるレーザ反射鏡の一実施例
につき図１及び図２を参照して説明しよう。図１は本例
のレーザ反射鏡を示し、この図１において、１はＬ字形
のアルミナ（酸化アルミニウム）セラミックスのブロッ
クである。このブロック１は、高純度のアルミナセラミ
ックスを熱間静水圧焼結して製造したものである。即
ち、通常セラミックスは高温で焼結されるが、本例では
更に高圧をかけて焼結する。そのＬ字形のブロック１の
断面の厚さ及び幅をそれぞれＴ１及びＴ２として、直交
するアームの長さをそれぞれＬ及びＭとすると、本例で
は、Ｔ１＝Ｔ２＝３０ｍｍ且つＬ＝Ｍ＝２５０ｍｍに設
定する。それらアームの外側の面１ａ及び１ｂがそれぞ
れレーザビームを反射するための反射面となる。
につき図１及び図２を参照して説明しよう。図１は本例
のレーザ反射鏡を示し、この図１において、１はＬ字形
のアルミナ（酸化アルミニウム）セラミックスのブロッ
クである。このブロック１は、高純度のアルミナセラミ
ックスを熱間静水圧焼結して製造したものである。即
ち、通常セラミックスは高温で焼結されるが、本例では
更に高圧をかけて焼結する。そのＬ字形のブロック１の
断面の厚さ及び幅をそれぞれＴ１及びＴ２として、直交
するアームの長さをそれぞれＬ及びＭとすると、本例で
は、Ｔ１＝Ｔ２＝３０ｍｍ且つＬ＝Ｍ＝２５０ｍｍに設
定する。それらアームの外側の面１ａ及び１ｂがそれぞ
れレーザビームを反射するための反射面となる。
【００１４】そのブロック１の反射面１ａ及び１ｂに対
応する２面を鏡面研磨して、平面度をλ／１００（λ＝
０．６３２８μｍ）程度に仕上げ、それら２面の直交度
を９０゜±１ｍｒａｄ程度にした。セラミックスは硬度
が大きいので容易に研磨することができる。しかし、そ
の研磨面を顕微鏡で観察した結果、所謂ボイド（空洞）
に起因する深さ０．２μｍで直径数１０μｍ程度の凹み
が数１０個観察された。そこで、その凹みを埋めるため
に、その研磨面上にバルク状のブロック１と同じ材料で
あるアルミナを真空蒸着によって２μｍ程度の厚みで堆
積させた。
応する２面を鏡面研磨して、平面度をλ／１００（λ＝
０．６３２８μｍ）程度に仕上げ、それら２面の直交度
を９０゜±１ｍｒａｄ程度にした。セラミックスは硬度
が大きいので容易に研磨することができる。しかし、そ
の研磨面を顕微鏡で観察した結果、所謂ボイド（空洞）
に起因する深さ０．２μｍで直径数１０μｍ程度の凹み
が数１０個観察された。そこで、その凹みを埋めるため
に、その研磨面上にバルク状のブロック１と同じ材料で
あるアルミナを真空蒸着によって２μｍ程度の厚みで堆
積させた。
【００１５】図２はその研磨面の付近の拡大断面図であ
り、この図２に示すように、高純度アルミナセラミック
スのブロック１の研磨面上に厚さ２μｍ程度のアルミナ
の蒸着層２が形成されている。このアルミナの蒸着層２
の上にレーザビームを効率良く反射させるために、真空
蒸着により厚さ０．１μｍ程度で高純度アルミニウムの
層３を形成し、更にこの層３の上に保護膜４を真空蒸着
した。この保護膜４は、例えば厚さ０．０５μｍ程度の
アルミナの膜より形成され、高純度アルミニウム層３の
酸化を防止する。
り、この図２に示すように、高純度アルミナセラミック
スのブロック１の研磨面上に厚さ２μｍ程度のアルミナ
の蒸着層２が形成されている。このアルミナの蒸着層２
の上にレーザビームを効率良く反射させるために、真空
蒸着により厚さ０．１μｍ程度で高純度アルミニウムの
層３を形成し、更にこの層３の上に保護膜４を真空蒸着
した。この保護膜４は、例えば厚さ０．０５μｍ程度の
アルミナの膜より形成され、高純度アルミニウム層３の
酸化を防止する。
【００１６】本例のレーザ反射鏡の反射鏡としての特性
は従来の石英ガラス等に反射膜を堆積したものと同程度
であり、ＸＹステージ用のレーザ反射鏡として使用する
ことができた。また、本例のレーザ反射鏡の断面の寸法
は従来例に比べて約２／３に設定されているが、アルミ
ナセラミックスのヤング率は約３×１０4 ｋｇ／ｍｍ 2
である。一般に、種々のブロックの厚さ及びヤング率を
それぞれＴ及びＹとすると、一定の負荷に対するそれら
ブロックの厚さ方向の撓み量は、Ｔ-1・Ｙ-1/3に比例す
る。また、石英ガラスのヤング率は６×１０3 ｋｇ／ｍ
ｍ2 程度であるため、同じ負荷に対する撓み量は本例の
レーザ反射鏡と従来のレーザ反射鏡とで同程度である。
従って、本例によれば、反射面の長さが同じで断面形状
が小型化されているにも拘らず、同じ負荷に対して２面
の反射面の直交度及び反射面の平面度を精度良く維持で
きる利点がある。
は従来の石英ガラス等に反射膜を堆積したものと同程度
であり、ＸＹステージ用のレーザ反射鏡として使用する
ことができた。また、本例のレーザ反射鏡の断面の寸法
は従来例に比べて約２／３に設定されているが、アルミ
ナセラミックスのヤング率は約３×１０4 ｋｇ／ｍｍ 2
である。一般に、種々のブロックの厚さ及びヤング率を
それぞれＴ及びＹとすると、一定の負荷に対するそれら
ブロックの厚さ方向の撓み量は、Ｔ-1・Ｙ-1/3に比例す
る。また、石英ガラスのヤング率は６×１０3 ｋｇ／ｍ
ｍ2 程度であるため、同じ負荷に対する撓み量は本例の
レーザ反射鏡と従来のレーザ反射鏡とで同程度である。
従って、本例によれば、反射面の長さが同じで断面形状
が小型化されているにも拘らず、同じ負荷に対して２面
の反射面の直交度及び反射面の平面度を精度良く維持で
きる利点がある。
【００１７】一般にセラミックスのヤング率は２．６×
１０4 ｋｇ／ｍｍ2 〜４．８×１０ 4 ｋｇ／ｍｍ2 程度
と石英ガラスに比べて高いので、断面の寸法を石英ガラ
スの場合の１／１．７〜１／２程度にしても撓み量は同
程度に抑えることができる。更に、セラミクッスの中で
も特にヤング率の高い炭化シリコン（ＳｉＣ）、タング
ステンカーバイド（ＷＣ）、高純度アルミナ又は単結晶
サファイア等を反射鏡のブロックとして使用すれば、更
に断面の寸法を小型化できることは明かである。また、
セラミックスの比重とガラスの比重とは同程度であるた
め、断面形状の厚さ及び幅の寸法がそれぞれ１／１．７
〜１／２程度になると、全体の重量は１／３〜１／４に
なる。従って、レーザ反射鏡の重量を軽くでき、ひいて
はＸＹステージの小型軽量化もできる利点もある。
１０4 ｋｇ／ｍｍ2 〜４．８×１０ 4 ｋｇ／ｍｍ2 程度
と石英ガラスに比べて高いので、断面の寸法を石英ガラ
スの場合の１／１．７〜１／２程度にしても撓み量は同
程度に抑えることができる。更に、セラミクッスの中で
も特にヤング率の高い炭化シリコン（ＳｉＣ）、タング
ステンカーバイド（ＷＣ）、高純度アルミナ又は単結晶
サファイア等を反射鏡のブロックとして使用すれば、更
に断面の寸法を小型化できることは明かである。また、
セラミックスの比重とガラスの比重とは同程度であるた
め、断面形状の厚さ及び幅の寸法がそれぞれ１／１．７
〜１／２程度になると、全体の重量は１／３〜１／４に
なる。従って、レーザ反射鏡の重量を軽くでき、ひいて
はＸＹステージの小型軽量化もできる利点もある。
【００１８】また、図１の例ではセラミックスとして高
純度アルミナセラミックスを使用しており、研磨面にボ
イドに起因した微小な凹みが生じた。しかしながら、セ
ラミックスとして酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）又はサ
イアロン（シリコン及びアルミニウムを含むセラミック
ス）を使用した場合には、熱間静水圧焼結して２面を鏡
面研磨した所、研磨面上のボイドに起因する凹みはほと
んど無視できる程度であった。そのため、真空蒸着等に
よりその凹みを埋めるための層を形成する必要がなく、
作業工程を簡略化することができた。
純度アルミナセラミックスを使用しており、研磨面にボ
イドに起因した微小な凹みが生じた。しかしながら、セ
ラミックスとして酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）又はサ
イアロン（シリコン及びアルミニウムを含むセラミック
ス）を使用した場合には、熱間静水圧焼結して２面を鏡
面研磨した所、研磨面上のボイドに起因する凹みはほと
んど無視できる程度であった。そのため、真空蒸着等に
よりその凹みを埋めるための層を形成する必要がなく、
作業工程を簡略化することができた。
【００１９】なお、本発明はＬ字形のレーザ反射鏡のみ
ならず、図３に示すような１軸型のレーザ反射鏡にも適
用できる。この図３において、４は長さＮのセラミック
スのブロックであり、このブロック４の断面形状の厚さ
及び幅をそれぞれＴ３及びＴ４とすると、例えば長さＮ
が２５０ｍｍの場合には、Ｔ３及びＴ４は３０ｍｍ程度
に設定される。その長さＮの面の１面を研磨して反射膜
等を堆積することにより、反射面４ａが形成される。そ
の図３のレーザ反射鏡を２個直交させて配置することに
より、２軸のレーザ反射鏡が形成される。
ならず、図３に示すような１軸型のレーザ反射鏡にも適
用できる。この図３において、４は長さＮのセラミック
スのブロックであり、このブロック４の断面形状の厚さ
及び幅をそれぞれＴ３及びＴ４とすると、例えば長さＮ
が２５０ｍｍの場合には、Ｔ３及びＴ４は３０ｍｍ程度
に設定される。その長さＮの面の１面を研磨して反射膜
等を堆積することにより、反射面４ａが形成される。そ
の図３のレーザ反射鏡を２個直交させて配置することに
より、２軸のレーザ反射鏡が形成される。
【００２０】また、上述実施例では反射膜等の堆積に真
空蒸着が使用されているが、スパッタリング又はコーテ
ィング等でも良い。このように、本発明は上述実施例に
限定されず本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成
を取り得る。
空蒸着が使用されているが、スパッタリング又はコーテ
ィング等でも良い。このように、本発明は上述実施例に
限定されず本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成
を取り得る。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、セラミックスのブロッ
クを研磨して用いているので、反射鏡としての性能を劣
化させることなく断面寸法を小型化できる利点がある。
この場合、セラミックスはヤング率が比較的高いので、
断面寸法が小さくなってもＸＹステージの金具等から受
ける負荷により平面度又は直交度が悪化することはな
い。また、セラミックスとして酸化ジルコニウム又はサ
イアロンを用いた場合には、その研磨面にボイドに起因
する凹みが少ないので、その凹みを埋めるための充填材
を堆積する必要がない。そして、そのセラミックスとし
て特に高ヤング率の材料を使用したときには、断面形状
をより小型化することができる。
クを研磨して用いているので、反射鏡としての性能を劣
化させることなく断面寸法を小型化できる利点がある。
この場合、セラミックスはヤング率が比較的高いので、
断面寸法が小さくなってもＸＹステージの金具等から受
ける負荷により平面度又は直交度が悪化することはな
い。また、セラミックスとして酸化ジルコニウム又はサ
イアロンを用いた場合には、その研磨面にボイドに起因
する凹みが少ないので、その凹みを埋めるための充填材
を堆積する必要がない。そして、そのセラミックスとし
て特に高ヤング率の材料を使用したときには、断面形状
をより小型化することができる。
【００２２】また、セラミックスの研磨面の表面に微小
な凹凸を平坦化するための充填材料を堆積させた場合に
は、ボイドに起因する凹みを埋めることができるので、
反射鏡としての性能を向上させることができる。
な凹凸を平坦化するための充填材料を堆積させた場合に
は、ボイドに起因する凹みを埋めることができるので、
反射鏡としての性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるレーザ反射鏡の一実施例を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】図１のＡ部を示す拡大図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す斜視図である。
１ 高純度アルミナセラミックスのブロック ２ アルミナの蒸着層 ３ 高純度アルミニウム層 ４ 保護膜
Claims (4)
- 【請求項１】 セラミックスのブロックの少なくとも一
面を鏡面研磨し、該研磨面の表面に高反射率の材料を堆
積させた事を特徴とするレーザ反射鏡。 - 【請求項２】 前記セラミックスは酸化ジルコニウム又
はサイアロンであることを特徴とする請求項１記載のレ
ーザ反射鏡。 - 【請求項３】 前記セラミックスは高ヤング率であるこ
とを特徴とする請求項１記載のレーザ反射鏡。 - 【請求項４】 高ヤング率のセラミックスのブロックの
少なくとも一面を鏡面研磨し、該研磨面の表面に微小な
凹凸を平坦化するための材料を堆積させ、該材料の表面
に高反射率の材料を堆積させた事を特徴とするレーザ反
射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3219650A JPH0563261A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | レーザ反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3219650A JPH0563261A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | レーザ反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0563261A true JPH0563261A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16738841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3219650A Pending JPH0563261A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | レーザ反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0563261A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7109484B2 (en) | 2000-07-27 | 2006-09-19 | Ebara Corporation | Sheet beam-type inspection apparatus |
| US7135676B2 (en) | 2000-06-27 | 2006-11-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7241993B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP3219650A patent/JPH0563261A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7135676B2 (en) | 2000-06-27 | 2006-11-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7241993B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7297949B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-11-20 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7411191B2 (en) | 2000-06-27 | 2008-08-12 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7601972B2 (en) | 2000-06-27 | 2009-10-13 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US8053726B2 (en) | 2000-06-27 | 2011-11-08 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US8368031B2 (en) | 2000-06-27 | 2013-02-05 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US8803103B2 (en) | 2000-06-27 | 2014-08-12 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US9368314B2 (en) | 2000-06-27 | 2016-06-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7109484B2 (en) | 2000-07-27 | 2006-09-19 | Ebara Corporation | Sheet beam-type inspection apparatus |
| US7417236B2 (en) | 2000-07-27 | 2008-08-26 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
| US7829871B2 (en) | 2000-07-27 | 2010-11-09 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0280299B1 (en) | Reflector for excimer laser and excimer laser apparatus using the reflector | |
| JP5485499B2 (ja) | 一時的に基板を支持する支持構造 | |
| CN103025679B (zh) | 堇青石质烧结体 | |
| US20130057952A1 (en) | Substrate made of an aluminum-silicon alloy or crystalline silicon, metal mirror, method for the production thereof, and use thereof | |
| JP4068496B2 (ja) | 鏡面母材及びそれを用いた鏡体及び、鏡体を用いた光学装置 | |
| US7986455B2 (en) | Thermally stable multilayer mirror for the EUV spectral range | |
| JPH0563261A (ja) | レーザ反射鏡 | |
| US20080153010A1 (en) | Method for depositing reflective multilayer film of reflective mask blank for euv lithography and method for producing reflective mask blank for euv lithography | |
| JP7261298B2 (ja) | ミラー装着部材、これを使用した位置計測用ミラー、および露光装置 | |
| JPH06308294A (ja) | Ｘ線反射用ミラー | |
| JP2008109060A (ja) | Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法、ならびにｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 | |
| JPS6348502A (ja) | 反射鏡 | |
| US5407750A (en) | High purity dense silicon carbide sintered body and process for making same | |
| JP6826691B2 (ja) | 光学部品および照明装置 | |
| JP3128814B2 (ja) | レーザ光を利用した位置決め装置用反射鏡 | |
| JP2006003376A (ja) | 光学反射ミラー | |
| JPH0336402B2 (ja) | ||
| JP6715616B2 (ja) | 位置決めステージ用のテーブルおよびこれを用いた位置決め方法 | |
| JPH08152499A (ja) | Ｘ線ミラー | |
| JPH11194206A (ja) | ミラー | |
| JP2005173073A (ja) | 軽量高剛性ミラー | |
| JP2005234338A (ja) | 位置測定用ミラー | |
| JP2005099638A (ja) | ガルバノミラー及びこれを用いた映像プロジェクタ装置 | |
| JPH06109907A (ja) | 高精度光学反射鏡 | |
| JPH07280999A (ja) | Ｘ線多層膜反射鏡 |