JPH0564697B2 - - Google Patents

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JPH0564697B2
JPH0564697B2 JP62021495A JP2149587A JPH0564697B2 JP H0564697 B2 JPH0564697 B2 JP H0564697B2 JP 62021495 A JP62021495 A JP 62021495A JP 2149587 A JP2149587 A JP 2149587A JP H0564697 B2 JPH0564697 B2 JP H0564697B2
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JP
Japan
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aluminum nitride
weight
sintered body
parts
elements
Prior art date
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JP62021495A
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Kazuo Eda
Takashi Tanaka
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Ibiden Co Ltd
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Ibiden Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明は、集積回路用配線基板あるいはICパ
ツケージ用材料として適した窒化アルミニウム焼
結体およびその製造方法に係り、特に本発明は、
熱伝導性に優れ、かつ非透光性の窒化アルミニウ
ム焼結体およびその製造方法に関するものであ
る。 (従来の技術) 近年、電子技術の進歩に伴ない電子機器に対す
る高密度化あるいは演算機能の高速化が進められ
ている。その結果、この種の配線基板には高集積
性及び高い信頼性が要求されており、なかでも低
い熱膨張性、高い熱伝導性、優れた寸法安定性及
び長期安定性などの特性を具備するものが要求さ
れている。 このような特性を具備する配線基板としては、
種々のセラミツク材料、例えばアルミナ、ベリリ
ア、炭化珪素あるいは窒化アルミニウムなどの焼
結体が知られているが、これらのうち窒化アルミ
ニウム焼結体は、配線基板材料として要求される
特性のうち電気絶縁性、熱伝導性、熱膨張率、機
械的強度等において特に優れた特性を有する材料
であり、注目されている。 (発明が解決しようとする問題点) ところで、配線基板材料としての窒化アルミニ
ウム焼結体は、最近における原料粉末の高純度化
技術および焼結技術の進歩に伴なつて、極めて熱
伝導性に優れたものが得られている。しかしなが
ら、このように熱伝導性に優れた窒化アルミニウ
ム焼結体ではあるが、配線基板材料としては不適
当な透光性を有するものであつた。 すなわち、このような透光性を有する窒化アル
ミニウム焼結体は、光センサーによつて自動化さ
れた配線基板の製造工程では、当該配線基板のセ
ツト位置認識が困難となるばかりでなく、誤動作
が起き易い欠点を有することになるのである。 そこで、本発明者等は、以上のような欠点を解
決することのできる窒化アルミニウム焼結体を開
発すべく種々研究した結果、V、Nb、Ta、Ni
あるいはPdなどの元素を窒化アルミニウム焼結
体に含有させることにより、窒化アルミニウム焼
結体の熱伝導性を劣化させることなく透光性を除
去できることを新規に知見し、本発明を完成した
ものである。 すなわち、本発明の目的とするところは、熱伝
導率が高いことは勿論のこと、非透光性であつ
て、配線基板の材料として適した窒化アルミニウ
ム焼結体及びその製造方法に得ることにある。 (問題点を解決するための手段) 以上の問題点を解決するために本発明が採つた
手段について説明すると、まず本発明に係る窒化
アルミニウム焼結体は次のようなものである。す
なわち、 「窒化アルミニウムが85重量部以上、a族元
素あるいはa族元素から選択されるいずれか少
なくとも1種が0.1〜10重量部、およびV、Nb、
Ta、NiあるいはPdから選択されるいずれか少な
くとも1種が0.01〜5重量部含まれており、かつ
密度が3.0g/cm3以上であることを特徴とする窒
化アルニミウム焼結体」 がそれである。 換言すれば、本発明に係る窒化アルミニウム焼
結体は、窒化アルミニウムが85重量部以上であつ
て、残部が上記配合率のa族元素あるいはa
族元素から選択されるいずれか少なくとも1種
と、V、Nb、Ta、NiあるいPdから選択される
いずれか少なくとも1種とであり、しかもその密
度が3.0g/cm3以上であるものである。 本発明の窒化アルミニウム焼結体が85重量部以
上の窒化アルミニウムに対して、a族元素ある
いはa族元素から選択されるいずれか少なくと
も1種を0.1〜10重量部含有する理由は、これら
の元素が焼結助剤として用いられるため、0.1重
量部よりも少ないと焼結体の充分な緻密化が達成
されず、一方これらの金属が10重量部よりも多い
と焼結体の熱伝導率、体積固有抵抗等の諸特性が
劣化するからである。 また、本発明の窒化アルミニウム焼結体が85重
量部以上の窒化アルミニウムに対してV、Nb、
Ta、NiあるいはPdから選択されるいずれか少な
くとも1種を0.01〜5重量部含有する理由は、こ
れらの金属が0.01重量部よりも少ないと当該焼結
体が非透光性にはならないからであり、一方これ
らの金属が5重量部よりも多いとこれらが窒化ア
ルミニウム粒子に固溶して焼結体の熱伝導率を低
下させるからである。なお、Pdを添加した焼結
体では、このPbの触媒効果により、配線基板の
材料として当該焼結体を用いれば、フルアデイテ
イブ法による無電解銅メツキを行なうことができ
るという利点がある。 次に、以上のような窒化アルミニウム焼結体の
本発明に係る製造方法について説明する。本発明
の製造方法は、 「純度が98重量%以上の窒化アルミニウム粉末
100重量部に対し、a族元素、a族元素ある
いはそれらの化合物から選択されるいずれか少な
くとも1種を、元素に換算して0.1〜10重量部と、
V、Nb、Ta、Ni、Pdあるいはそれらの化合物
から選択されるいずれか少なくとも1種を元素に
換算して0.01〜5重量部とを添加して混合した混
合物を所望の形状に成形した後、非酸化性雰囲気
中で1700〜2100℃に加熱して焼結することを特徴
とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法」 である。 この本発明に係る製造方法によれば、純度が98
重量%以上の窒化アルミニウム粉末100重量部に
対し、a族元素、a族元素あるいはそれらの
化合物から選択されるいずれか少なくとも1種
を、金属元素に換算して0.1〜10重量部添加する
ことが必要である。その理由は、これらの金属ま
たは化合物を焼結助剤として添加し焼結すること
により得られる窒化アルミニウム焼結体は、電気
絶縁性、低熱膨張率、高熱伝導性等の電子回路用
の配線基板材料として要求される諸特性に極めて
優れているからである。また、このような物質を
金属元素換算で0.1〜10重量部に限定する理由は、
これらの物質の添加量が0.1重量部より少ないと
焼結助剤としての効果を充分に発揮させることが
できず、高密度の焼結体を得ることが困難となる
からであり、一方10重量部よりも多いと窒化アル
ミニウム濃度が低下することにより焼結体の強度
が低くなるからである。 また、この本発明に係る製造方法によれば、純
度が98重量%以上の窒化アルミニウム粉末100重
量部に対し、V、Nb、Ta、Ni、Pdあるいはそ
れらの化合物から選択されるいずれか少なくとも
1種を元素に換算して0.01〜5重量部を添加する
ことが必要である。その理由は、これらの金属を
添加して得られる窒化アルミニウム焼結体が黒色
を呈したもの、すなわち非透光性を有したものと
することができるからであり、また、これらの金
属を元素に換算して0.01〜5重量部を添加するこ
とに限定した理由は、この添加量が0.01重量部よ
り少ないと着色が不充分となるからであり、一方
これらの金属の添加量が5重量部より多いと絶縁
性の劣化の問題が生ずるからである。 以上のようにして、非透光性となした本発明に
係る窒化アルミニウム焼結体は、これを配線基板
の材料として使用した場合、当該配線基板上に光
センサーを備えた自動機械を使用して電子部品を
実装するに際し、この自動機械の光センサーによ
る自動化実装作業を誤作動なく行なうことができ
るようにすることができるのである。 さらに、本発明に係る窒化アルミニウム焼結体
の焼成は、窒化アルミニウム粉末100重量部に対
し、a族元素、a族元素あるいはそれらの化
合物から選択されるいずれか少なくとも1種を、
元素に換算して0.1〜10重量部と、V、Nb、Ta、
Ni、Pdあるいはそれらの化合物から選択される
いずれか少なくとも1種に元素に換算して0.01〜
5重量部とを添加して混合した混合物を所望の形
状に成形した後に焼成される。この焼成は、非酸
化性雰囲気中で1700〜2100℃に加熱して行なうこ
とが必要である。その理由は、焼成温度が1700℃
より低いと緻密な焼結体を製造することが困難だ
からであり、一方焼成温度が2100℃より高いと一
旦焼結した結晶粒子が粗大化し易いからである。
また、非酸化性雰囲気としては、例えばアルゴ
ン、ヘリウム、水素、窒素などいずれか少なくと
も1種を使用するか真空にして実現される。 なお、本発明における焼成は常圧焼結法あるい
は加圧焼結法のいずれの方法も適用することがで
きる。 次に、本発明に係る窒化アルミニウム焼結体及
びその製造方法を、実施例及び比較例によつてよ
り詳細に説明する。 (実施例) 実施例 1 平均粒径が約1.5μmで酸素含有量が1.0重量%
の窒化アルミニウム粉末94gと、平均粒径が2〜
3μmの酸化イツトリウム粉末5gと、パラジウ
ム粉末1gと、ベンゼン600mlとをボールミル中
に装入し、6時間混合した後、凍結乾燥した。 この乾燥物を適量採取し、一軸金型プレスによ
り、5Kg/cm2の圧力で成形した後焼成して焼結体
を得た。この焼成時における昇温過程は、常温〜
700℃までの間は8℃/分で昇温し、700℃以上で
は13℃/分の割合で昇温し、最高温度1900℃で3
時間保持した。また、焼成雰囲気は大気圧の窒素
気流とした。 得られた焼結体は黒色であり、その密度は3.35
Kg/cm3、室温における体積固有抵抗は6×
1013Ω・cm、室温における熱伝導率は169W/
m・Kであつた。 この試料の表面にフオトレジストによりパター
ンを形成した後、無電解銅メツキ槽に浸漬した。
その結果、レジスト以外の部分が銅が析出し、こ
の析出銅による回路を形成することができた。ま
た、この窒化アルミニウム焼結体を厚みが0.5mm
の試料とした場合、第1図に示したように、その
0.18μm〜25μmの波長の光に対する透過率を0.1
%以下とすることができた。 実施例 2 実施例1と同様であるが、金属の種類を第1表
に示す如く変化させて焼結体を得た。これによつ
て得られた焼結体の特性は第1表に示した。 この第1表より、Pd、NbあるいはTaを添加
することにより、熱伝導率を低下させることなく
黒色焼結体を得ることが可能であることが分る。 比較例 1 比較例として、金属添加以外は実施例1と同様
であるが、金属を全く添加しない焼結体を作成
し、その諸特性を調査した。その結果を第1表に
示した。 また、この試料を実施例1と同様に、厚みが
0.5mmの試料とし、その0.18μm〜25μmの波長の
光に対する透過率を測定した。その結果を第2図
に示した。
(Industrial Application Field) The present invention relates to an aluminum nitride sintered body suitable as a material for integrated circuit wiring boards or IC packages, and a method for manufacturing the same.
The present invention relates to an aluminum nitride sintered body that has excellent thermal conductivity and is non-transparent, and a method for manufacturing the same. (Prior Art) In recent years, advances in electronic technology have led to higher density and faster calculation functions for electronic devices. As a result, this type of wiring board is required to have high integration and high reliability, and among others, has characteristics such as low thermal expansion, high thermal conductivity, excellent dimensional stability, and long-term stability. something is required. As a wiring board with such characteristics,
Various ceramic materials are known, such as sintered bodies of alumina, beryllia, silicon carbide, or aluminum nitride, but among these, aluminum nitride sintered bodies have one of the characteristics required as a wiring board material: electrical insulation. It is a material that has particularly excellent properties in terms of thermal conductivity, coefficient of thermal expansion, mechanical strength, etc., and is attracting attention. (Problems to be Solved by the Invention) By the way, aluminum nitride sintered bodies as a wiring board material have extremely excellent thermal conductivity due to recent advances in raw material powder purification technology and sintering technology. We are getting what we want. However, although the aluminum nitride sintered body has such excellent thermal conductivity, it has a light transmittance that is inappropriate for use as a wiring board material. In other words, such a translucent aluminum nitride sintered body not only makes it difficult to recognize the set position of the wiring board in the automated wiring board manufacturing process using optical sensors, but also causes malfunctions. Therefore, it has some disadvantages. Therefore, the inventors of the present invention conducted various studies to develop an aluminum nitride sintered body that can solve the above-mentioned drawbacks, and found that V, Nb, Ta, Ni
Alternatively, the present invention has been completed based on the new finding that by incorporating elements such as Pd into the aluminum nitride sintered body, the translucency can be removed without deteriorating the thermal conductivity of the aluminum nitride sintered body. be. That is, an object of the present invention is to obtain an aluminum nitride sintered body that has high thermal conductivity, is non-transparent, and is suitable as a material for wiring boards, and a method for manufacturing the same. be. (Means for Solving the Problems) To explain the means taken by the present invention to solve the above problems, first, the aluminum nitride sintered body according to the present invention is as follows. That is, "85 parts by weight or more of aluminum nitride, 0.1 to 10 parts by weight of at least one of group A elements or group A elements, and V, Nb,
An aluminum nitride sintered body containing 0.01 to 5 parts by weight of at least one selected from Ta, Ni, or Pd, and having a density of 3.0 g/cm 3 or more. . In other words, the aluminum nitride sintered body according to the present invention contains 85 parts by weight or more of aluminum nitride, and the remainder is a group a element or a
At least one selected from group elements and at least one selected from V, Nb, Ta, Ni, or Pd, and the density thereof is 3.0 g/cm 3 or more. be. The reason why the aluminum nitride sintered body of the present invention contains 0.1 to 10 parts by weight of a group a element or at least one selected from group a elements based on 85 parts by weight or more of aluminum nitride is that these elements Since these metals are used as sintering aids, if the amount is less than 0.1 part by weight, sufficient densification of the sintered body will not be achieved, while if the amount of these metals is more than 10 parts by weight, the thermal conductivity of the sintered body, This is because various properties such as volume resistivity deteriorate. Furthermore, the aluminum nitride sintered body of the present invention contains V, Nb, and more than 85 parts by weight of aluminum nitride.
The reason for containing 0.01 to 5 parts by weight of at least one selected from Ta, Ni, or Pd is that if the content of these metals is less than 0.01 part by weight, the sintered body will not become non-transparent. On the other hand, if the amount of these metals exceeds 5 parts by weight, these metals will form a solid solution in the aluminum nitride particles and reduce the thermal conductivity of the sintered body. Note that the sintered body to which Pd is added has the advantage that due to the catalytic effect of Pb, if the sintered body is used as a material for a wiring board, electroless copper plating can be performed by a full additive method. Next, a method of manufacturing the above-described aluminum nitride sintered body according to the present invention will be explained. The production method of the present invention is based on "aluminum nitride powder with a purity of 98% by weight or more".
0.1 to 10 parts by weight of at least one selected from group a elements, group a elements, or compounds thereof per 100 parts by weight in terms of elements;
After adding 0.01 to 5 parts by weight of at least one selected from V, Nb, Ta, Ni, Pd, or a compound thereof in terms of element and forming the mixture into a desired shape, A method for producing an aluminum nitride sintered body, which comprises heating and sintering at 1700 to 2100°C in a non-oxidizing atmosphere. According to the production method according to the present invention, the purity is 98
At least one selected from Group A elements, Group A elements, or compounds thereof may be added in an amount of 0.1 to 10 parts by weight in terms of metal elements to 100 parts by weight of aluminum nitride powder of 100 parts by weight or more. is necessary. The reason is that the aluminum nitride sintered body obtained by adding these metals or compounds as sintering aids and sintering is a wiring board for electronic circuits that has electrical insulation, low coefficient of thermal expansion, and high thermal conductivity. This is because it has extremely excellent properties required as a material. In addition, the reason why such substances are limited to 0.1 to 10 parts by weight in terms of metal elements is
This is because if the amount of these substances added is less than 0.1 part by weight, the effect as a sintering aid cannot be fully exhibited, making it difficult to obtain a high-density sintered body. This is because if the aluminum nitride concentration is more than 30%, the strength of the sintered body will be lowered due to a decrease in the concentration of aluminum nitride. Further, according to the production method according to the present invention, at least one of V, Nb, Ta, Ni, Pd, or a compound thereof is added to 100 parts by weight of aluminum nitride powder having a purity of 98% by weight or more. It is necessary to add 0.01 to 5 parts by weight of the seeds in terms of elements. The reason for this is that the aluminum nitride sintered body obtained by adding these metals can be made black, that is, non-transparent. The reason for limiting the addition amount to 0.01 to 5 parts by weight calculated as 0.01 to 5 parts by weight is because if the amount added is less than 0.01 part by weight, the coloring will be insufficient; This is because if the amount is larger than this, the problem of deterioration of insulation will occur. When the aluminum nitride sintered body according to the present invention made non-transparent as described above is used as a material for a wiring board, an automatic machine equipped with a light sensor on the wiring board is used. When electronic components are mounted on a machine, the automated mounting work using the optical sensor of the automatic machine can be performed without malfunction. Furthermore, in the firing of the aluminum nitride sintered body according to the present invention, at least one selected from group a elements, group a elements, or compounds thereof is added to 100 parts by weight of aluminum nitride powder.
0.1 to 10 parts by weight in terms of elements, V, Nb, Ta,
At least one selected from Ni, Pd, or their compounds, calculated as an element, from 0.01 to
After adding 5 parts by weight and mixing the mixture, the mixture is molded into a desired shape and then fired. It is necessary to perform this firing by heating at 1700 to 2100°C in a non-oxidizing atmosphere. The reason is that the firing temperature is 1700℃.
This is because if the firing temperature is lower, it is difficult to produce a dense sintered body, while if the firing temperature is higher than 2100°C, the crystal grains once sintered tend to become coarse.
Further, as the non-oxidizing atmosphere, for example, at least one of argon, helium, hydrogen, nitrogen, etc. may be used, or a vacuum may be used. Note that for firing in the present invention, either a pressureless sintering method or a pressure sintering method can be applied. Next, the aluminum nitride sintered body and the manufacturing method thereof according to the present invention will be explained in more detail using Examples and Comparative Examples. (Example) Example 1 Average particle size is approximately 1.5 μm and oxygen content is 1.0% by weight
94g of aluminum nitride powder with an average particle size of 2~
5 g of 3 μm yttrium oxide powder, 1 g of palladium powder, and 600 ml of benzene were placed in a ball mill, mixed for 6 hours, and then freeze-dried. An appropriate amount of this dried product was taken, molded using a uniaxial mold press at a pressure of 5 kg/cm 2 , and then fired to obtain a sintered body. The temperature increase process during firing ranges from room temperature to
The temperature increases at a rate of 8℃/min up to 700℃, and above 700℃, the temperature increases at a rate of 13℃/min.
Holds time. The firing atmosphere was a nitrogen stream at atmospheric pressure. The obtained sintered body is black in color and its density is 3.35
Kg/cm 3 , volume resistivity at room temperature is 6×
10 13 Ω・cm, thermal conductivity at room temperature is 169W/
It was m.k. After forming a pattern on the surface of this sample using photoresist, it was immersed in an electroless copper plating tank.
As a result, copper was deposited in areas other than the resist, and a circuit could be formed using the deposited copper. In addition, this aluminum nitride sintered body has a thickness of 0.5 mm.
As shown in Figure 1, when the sample is
The transmittance for light with a wavelength of 0.18 μm to 25 μm is 0.1
% or less. Example 2 Sintered bodies were obtained in the same manner as in Example 1, except that the type of metal was changed as shown in Table 1. The properties of the sintered body thus obtained are shown in Table 1. From Table 1, it can be seen that by adding Pd, Nb or Ta, it is possible to obtain a black sintered body without reducing the thermal conductivity. Comparative Example 1 As a comparative example, a sintered body was prepared in the same manner as in Example 1 except for the addition of metal, but without any metal added, and its various properties were investigated. The results are shown in Table 1. In addition, this sample was prepared in the same manner as in Example 1, and the thickness was
A 0.5 mm sample was used, and its transmittance to light having a wavelength of 0.18 μm to 25 μm was measured. The results are shown in Figure 2.

【表】【table】

【表】 実施例 3 平均粒径が約1.5μmで酸素含有量が1.0重量%
の窒化アルミニウム粉末94gと、平均粒径が2〜
3μmの酸化イツトリウム粉末5gと、パラジウ
ム粉末1gと、ベンゼン600mlとをボールミル中
に装入し、6時間混合した後、凍結乾燥した。 この乾燥物を適量採取し、一軸金型プレスによ
り、5Kg/cm2の圧力で成形して生成形体を得た。
この生成形体を気密質の窒化アルミニウム製容器
に装入して常圧下の窒素ガス雰囲気中で1900℃に
加熱して3時間焼成し、焼結体を得た。次いで、
この焼結体を開放系の窒化アルミニウム製容器中
に装入して、常圧下の窒素ガス気流中で1900℃に
加熱して1時間焼成した。 得られた焼結体は黒色であり、その密度は3.31
g/cm3、室温における体積固有抵抗は2×
1013Ω・cm、室温における熱伝導率は189W/
m・Kであつた。 実施例 4 実施例3と同様であるが、金属の種類を第2表
に示す如く変化させて焼結体を得た。この得られ
た焼結体の物性は第2表に示した通りである。 (発明の効果) 以上詳述した如く、本発明に係る窒化アルミニ
ウム焼結体は、 「窒化アルミニウムが85重量部以上、a族元
素あるいはa族元素から選択されるいずれか少
なくとも1種が0.1〜10重量部、およびV、Nb、
Ta、NiあるいはPdから選択されるいずれか少な
くとも1種が0.01〜5重量部含まれており、かつ
密度が3.0g/cm3以上であること」 を特徴とするものであり、これにより、集積回路
用配線基板あるいはICパツケージ用材料として
適した、非透光製の窒化アルミニウム焼結体とす
ることができるのである。 また、 「純度が98重量%以上の窒化アルミニウム粉末
100重量部に対し、a族元素、a族元素ある
いはそれらの化合物から選択されるいずれか少な
くとも1種を、元素に換算して0.1〜10重量部と、
V、Nb、Ta、Ni、Pdあるいはそれらの化合物
から選択されるいずれか少なくとも1種を元素に
換算して0.01〜5重量部とを添加して混合した混
合物を所望の形状に成形した後、非酸化性雰囲気
中で1700〜2100℃に加熱して焼結」 すれば、上記のような効果を有する窒化アルミニ
ウム焼結体を製造することができるのである。
[Table] Example 3 Average particle size is approximately 1.5 μm and oxygen content is 1.0% by weight
94g of aluminum nitride powder with an average particle size of 2~
5 g of 3 μm yttrium oxide powder, 1 g of palladium powder, and 600 ml of benzene were placed in a ball mill, mixed for 6 hours, and then freeze-dried. An appropriate amount of this dried product was collected and molded using a uniaxial mold press at a pressure of 5 kg/cm 2 to obtain a green body.
This formed body was placed in an airtight aluminum nitride container, heated to 1900° C. in a nitrogen gas atmosphere under normal pressure, and fired for 3 hours to obtain a sintered body. Then,
This sintered body was placed in an open aluminum nitride container, heated to 1900° C. in a nitrogen gas stream under normal pressure, and fired for 1 hour. The obtained sintered body is black in color and its density is 3.31
g/cm 3 , volume resistivity at room temperature is 2×
10 13 Ω・cm, thermal conductivity at room temperature is 189W/
It was m.k. Example 4 Sintered bodies were obtained in the same manner as in Example 3, except that the type of metal was changed as shown in Table 2. The physical properties of the obtained sintered body are shown in Table 2. (Effects of the Invention) As detailed above, the aluminum nitride sintered body according to the present invention contains 85 parts by weight or more of aluminum nitride, 0.1 to 0.1 to at least one selected from group A elements or group A elements. 10 parts by weight, and V, Nb,
It contains 0.01 to 5 parts by weight of at least one selected from Ta, Ni, or Pd, and has a density of 3.0 g/cm 3 or more. This makes it possible to produce a non-transparent aluminum nitride sintered body suitable as a material for circuit wiring boards or IC packages. In addition, "aluminum nitride powder with a purity of 98% by weight or more"
0.1 to 10 parts by weight of at least one selected from group a elements, group a elements, or compounds thereof per 100 parts by weight in terms of elements;
After adding 0.01 to 5 parts by weight of at least one selected from V, Nb, Ta, Ni, Pd, or a compound thereof in terms of element and forming the mixture into a desired shape, By heating and sintering at 1700 to 2100°C in a non-oxidizing atmosphere, an aluminum nitride sintered body having the above effects can be produced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例1に係る窒化アルミニ
ウム焼結体の各波長の光に対する透過率を示すグ
ラフ、第2図は比較例1に係る窒化アルミニウム
焼結体の各波長の光に対する透過率を示すグラフ
である。
FIG. 1 is a graph showing the transmittance of the aluminum nitride sintered body according to Example 1 of the present invention to light of each wavelength, and FIG. 2 is a graph showing the transmittance of the aluminum nitride sintered body according to Comparative Example 1 to light of each wavelength. It is a graph showing the rate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 窒化アルミニウムが85重量部以上、a族元
素あるいはa族元素から選択されるいずれか少
なくとも1種が0.1〜10重量部、およびV、Nb、
Ta、NiあるいはPdから選択されるいずれか少な
くとも1種が0.01〜5重量部含まれており、かつ
密度が3.0g/cm3以上であることを特徴とする窒
化アルニミウム焼結体。 2 前記窒化アルミニウム焼結体は、熱伝導率が
100W/m・K以上、体積固有抵抗が1012Ω・cm
以上であり、黒色を呈してなる特許請求の範囲第
1項記載の窒化アルミニウム焼結体。 3 純度が98重量%以上の窒化アルミニウム粉末
100重量部に対し、a族元素、a族元素ある
いはそれらの化合物から選択されるいずれか少な
くとも1種を元素に換算して0.1〜10重量部と、
V、Nb、Ta、Ni、Pdあるいはそれらの化合物
から選択されるいずれか少なくとも1種を元素に
換算して0.01〜5重量部とを添加して混合した混
合物を所望の形状に成形した後、非酸化性雰囲気
中で1700〜2100℃に加熱して焼結することを特徴
とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
[Claims] 1 85 parts by weight or more of aluminum nitride, 0.1 to 10 parts by weight of a group a element or at least one selected from group a elements, and V, Nb,
An aluminum nitride sintered body containing 0.01 to 5 parts by weight of at least one selected from Ta, Ni, or Pd, and having a density of 3.0 g/cm 3 or more. 2 The aluminum nitride sintered body has a thermal conductivity of
100W/m・K or more, volume resistivity 10 12 Ω・cm
The aluminum nitride sintered body according to claim 1, which is above and exhibits a black color. 3 Aluminum nitride powder with a purity of 98% by weight or more
0.1 to 10 parts by weight of at least one selected from group a elements, group a elements, or compounds thereof, in terms of elements per 100 parts by weight;
After adding 0.01 to 5 parts by weight of at least one selected from V, Nb, Ta, Ni, Pd, or a compound thereof in terms of element and forming the mixture into a desired shape, A method for producing an aluminum nitride sintered body, which comprises heating and sintering at 1700 to 2100°C in a non-oxidizing atmosphere.
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