JPH0566017B2 - - Google Patents
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- JPH0566017B2 JPH0566017B2 JP3036488A JP3648891A JPH0566017B2 JP H0566017 B2 JPH0566017 B2 JP H0566017B2 JP 3036488 A JP3036488 A JP 3036488A JP 3648891 A JP3648891 A JP 3648891A JP H0566017 B2 JPH0566017 B2 JP H0566017B2
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- support plate
- cavity
- mold
- resin
- gate
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/015—Manufacture or treatment of bond wires
- H10W72/01515—Forming coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
【0001】
本発明は、樹脂封止型半導体装置の製造方法に
関する。
関する。
【0002】
従来の樹脂封止型半導体装置では、半導体チツ
プの電極がその放熱板即ち支持板と電気的に接続
されているため、他の放熱体に半導体装置を取付
ける場合、支持板と他の放熱体との間にマイカ板
を挿入して支持板を固定していたが、良好な熱伝
導性を有する樹脂材料の開発に伴い、支持板の裏
面も樹脂で被覆して、マイカ板を省略できるよう
になつた。 その1例として、特開昭57−147260号公報に示
されるように、パワートランジスタはトランスフ
アモールド法により樹脂モールドされる。図7及
び図8に示す通り、この公知例のトランジスタチ
ツプ4は支持板1に装着され、外部リード2a,
2bと電気的に接続され、更に保護用樹脂5で被
覆されたのち、上部金型8と下部金型9によつて
形成されるキヤビテイ12内に配置される。この
場合、支持板1はそれから一体成形された外部リ
ード2b及び細条3a,3bにより支持され、下
部金型から数百μmの距離6′aだけ分離され、
キヤビテイ内に融解樹脂が圧入される。 図7はランナ10を経て注入孔11から液状の
封止樹脂6がキヤビテイ12に充填された状態を
示し、図8は図7の工程を経て完成したパワート
ランジスタの斜視図を示す。図7は図8の−
線に沿つた断面に対応している。
プの電極がその放熱板即ち支持板と電気的に接続
されているため、他の放熱体に半導体装置を取付
ける場合、支持板と他の放熱体との間にマイカ板
を挿入して支持板を固定していたが、良好な熱伝
導性を有する樹脂材料の開発に伴い、支持板の裏
面も樹脂で被覆して、マイカ板を省略できるよう
になつた。 その1例として、特開昭57−147260号公報に示
されるように、パワートランジスタはトランスフ
アモールド法により樹脂モールドされる。図7及
び図8に示す通り、この公知例のトランジスタチ
ツプ4は支持板1に装着され、外部リード2a,
2bと電気的に接続され、更に保護用樹脂5で被
覆されたのち、上部金型8と下部金型9によつて
形成されるキヤビテイ12内に配置される。この
場合、支持板1はそれから一体成形された外部リ
ード2b及び細条3a,3bにより支持され、下
部金型から数百μmの距離6′aだけ分離され、
キヤビテイ内に融解樹脂が圧入される。 図7はランナ10を経て注入孔11から液状の
封止樹脂6がキヤビテイ12に充填された状態を
示し、図8は図7の工程を経て完成したパワート
ランジスタの斜視図を示す。図7は図8の−
線に沿つた断面に対応している。
【0003】
ところで細条3a,3bはキヤビテイ12内に
おいて支持板1の位置を固定するたためのもの
で、支持板1の裏面に薄く形成される封止樹脂層
6aを所望の均一な厚みに形成するために必要で
ある。細条3a,3bを設けずにリード線2bの
みによつて支持板1を支える場合には、通常は圧
入された封止樹脂6によつて支持板1が浮動し
て、封止樹脂層6aは所望の厚みより厚くなるの
で、放熱特性の悪いパワートランジスタになつて
しまう。 細条3a,3bは、図7の樹脂封止工程の後
に、図7の破線13の位置で切断される。したが
つて、細条3a,3bの一端は図8に示すように
封止樹脂6の外部に露出している。細条3a,3
bは外部リード2bと電気的に接続されているの
で、他の素子と細条3a,3bとの接触による短
絡事故や細条3a,3bと外部放熱体との間で絶
縁不良が発生するなどの不都合が発生しやすい。 本発明は、上記欠点を解消するため、支持板の
裏面に薄い封止樹脂層を所望の均一な厚みに形成
できると共に、支持板を完全に樹脂で封止できる
樹脂封止型半導体装置の製造方法を提供するもの
で、支持板の短絡事故や絶縁不良を完全に回避で
きる特徴を有する。
おいて支持板1の位置を固定するたためのもの
で、支持板1の裏面に薄く形成される封止樹脂層
6aを所望の均一な厚みに形成するために必要で
ある。細条3a,3bを設けずにリード線2bの
みによつて支持板1を支える場合には、通常は圧
入された封止樹脂6によつて支持板1が浮動し
て、封止樹脂層6aは所望の厚みより厚くなるの
で、放熱特性の悪いパワートランジスタになつて
しまう。 細条3a,3bは、図7の樹脂封止工程の後
に、図7の破線13の位置で切断される。したが
つて、細条3a,3bの一端は図8に示すように
封止樹脂6の外部に露出している。細条3a,3
bは外部リード2bと電気的に接続されているの
で、他の素子と細条3a,3bとの接触による短
絡事故や細条3a,3bと外部放熱体との間で絶
縁不良が発生するなどの不都合が発生しやすい。 本発明は、上記欠点を解消するため、支持板の
裏面に薄い封止樹脂層を所望の均一な厚みに形成
できると共に、支持板を完全に樹脂で封止できる
樹脂封止型半導体装置の製造方法を提供するもの
で、支持板の短絡事故や絶縁不良を完全に回避で
きる特徴を有する。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明による樹脂封止形半導体装置の製造方法
は、支持板と、支持板の一方の端部側に連結され
た外部リードと、支持板に連結されない外部リー
ドとを備えたリードフレームを用意し、支持板の
一方の主面に半導体チツプを固着し且つ支持板に
連結されない外部リートと半導体チツプとを電気
的に接続する工程と、キヤビテイと、キヤビテイ
に繋つたゲートと、キヤビテイ内を移動可能に配
設されたスライド型とを有する成形用型を用意
し、前記工程を経たリードフレームを支持板の他
方の端部がキヤビテイのゲートが繋つた面と対向
するように成形用型に装着する工程と、支持板の
一方の端部側に連結された外部リードを成形用型
で把持し且つ支持板の他方の端部側をスライド型
で把持することによつて支持板をその他方の主面
がキヤビテイの面から離間するように位置決めし
且つスライド型がゲートを横切るように配設した
状態でキヤビテイ内に樹脂を注入する工程と、ス
ライド型を支持板から離間するように移動し、ス
ライド型の移動によつてゲートに繋がつて形成さ
れた空所にゲートから樹脂を注入する工程とを有
する。
は、支持板と、支持板の一方の端部側に連結され
た外部リードと、支持板に連結されない外部リー
ドとを備えたリードフレームを用意し、支持板の
一方の主面に半導体チツプを固着し且つ支持板に
連結されない外部リートと半導体チツプとを電気
的に接続する工程と、キヤビテイと、キヤビテイ
に繋つたゲートと、キヤビテイ内を移動可能に配
設されたスライド型とを有する成形用型を用意
し、前記工程を経たリードフレームを支持板の他
方の端部がキヤビテイのゲートが繋つた面と対向
するように成形用型に装着する工程と、支持板の
一方の端部側に連結された外部リードを成形用型
で把持し且つ支持板の他方の端部側をスライド型
で把持することによつて支持板をその他方の主面
がキヤビテイの面から離間するように位置決めし
且つスライド型がゲートを横切るように配設した
状態でキヤビテイ内に樹脂を注入する工程と、ス
ライド型を支持板から離間するように移動し、ス
ライド型の移動によつてゲートに繋がつて形成さ
れた空所にゲートから樹脂を注入する工程とを有
する。
【0005】
スライド型がゲートを横切り、スライド型の移
動により生じた空所がゲートに通じているので、
スライド型の移動によつて形成されるキヤビテイ
はゲートに連絡し、キヤビテイにゲートから封止
樹脂を良好に流入させることができる。
動により生じた空所がゲートに通じているので、
スライド型の移動によつて形成されるキヤビテイ
はゲートに連絡し、キヤビテイにゲートから封止
樹脂を良好に流入させることができる。
【0006】
図1〜図6は本発明の実施例を示し、図1は本
発明により製造された樹脂封止型半導体装置を示
し、図2は樹脂封止工程前のリードフレームと呼
ばれる半導体装置組立体を示し、21はニツケル
被覆銅板から成る支持板、22a,22b,22
cは同じ材料から成る外部リード線で、22aが
ベースリード、22bがコレクタリード、22c
がエミツタリードである。23はシリコンパワー
トランジスタチツプで、詳細を図示しないが、上
面にはベース電極およびエミツタ電極が、下面に
はコレクタ電極でそれぞれ形成されている。チツ
プ23はその下面において支持板21に半田付け
により固着されている。従つてコレクタ電極は、
支持板21と電気的に接続される。24a,24
bはアルミニウム線で、チツプ23のベース電極
とベースリード22a間、チツプ23のエミツタ
電極とエミツタリード22c間をそれぞれ接続す
る。25はジヤンクシヨンコーテイングレジンと
呼ばれるチツプ保護用のシリコン樹脂である。2
6はタイバーと呼ばれるリード線同志を橋絡した
細条、27はリード線の端部を共通して連結して
いる細条である。支持板21には、リード線導出
側とは反対端部に近接して孔28が形成されてい
る。なお、孔28の代わりに支持板21に凹部を
形成することもよく行われる。なお、図にはリー
ドフレームの内の1個のパワートランジスタ分を
示すが、実際には多数個分が並列している。
発明により製造された樹脂封止型半導体装置を示
し、図2は樹脂封止工程前のリードフレームと呼
ばれる半導体装置組立体を示し、21はニツケル
被覆銅板から成る支持板、22a,22b,22
cは同じ材料から成る外部リード線で、22aが
ベースリード、22bがコレクタリード、22c
がエミツタリードである。23はシリコンパワー
トランジスタチツプで、詳細を図示しないが、上
面にはベース電極およびエミツタ電極が、下面に
はコレクタ電極でそれぞれ形成されている。チツ
プ23はその下面において支持板21に半田付け
により固着されている。従つてコレクタ電極は、
支持板21と電気的に接続される。24a,24
bはアルミニウム線で、チツプ23のベース電極
とベースリード22a間、チツプ23のエミツタ
電極とエミツタリード22c間をそれぞれ接続す
る。25はジヤンクシヨンコーテイングレジンと
呼ばれるチツプ保護用のシリコン樹脂である。2
6はタイバーと呼ばれるリード線同志を橋絡した
細条、27はリード線の端部を共通して連結して
いる細条である。支持板21には、リード線導出
側とは反対端部に近接して孔28が形成されてい
る。なお、孔28の代わりに支持板21に凹部を
形成することもよく行われる。なお、図にはリー
ドフレームの内の1個のパワートランジスタ分を
示すが、実際には多数個分が並列している。
【0007】
図3〜図6は図2のリードフレームをトランス
フアモールド法により樹脂封止するためにモール
ド金型にセツトした状態を示し、図2の−線
に沿つた断面に対応する。この金型は上部金型2
9と下部金型30とからなり、上部金型29と下
部金型の一方は可動型となり他方は固定型とな
る。31,32は封止樹脂が送られてくるラン
ナ、33,34は封止樹脂のゲートである。上部
金型29には、第1スライド型29aが滑動可能
に設けられ、下部金型30にも同様に第2スライ
ド型30aが滑動可能に設けられる。上部金型2
9からは支持板21の孔28を貫通して下部金型
30に達する取付孔成形用の円柱状ピン29bが
伸びている。
フアモールド法により樹脂封止するためにモール
ド金型にセツトした状態を示し、図2の−線
に沿つた断面に対応する。この金型は上部金型2
9と下部金型30とからなり、上部金型29と下
部金型の一方は可動型となり他方は固定型とな
る。31,32は封止樹脂が送られてくるラン
ナ、33,34は封止樹脂のゲートである。上部
金型29には、第1スライド型29aが滑動可能
に設けられ、下部金型30にも同様に第2スライ
ド型30aが滑動可能に設けられる。上部金型2
9からは支持板21の孔28を貫通して下部金型
30に達する取付孔成形用の円柱状ピン29bが
伸びている。
【0008】
図3に示すように、上部金型29と下部金型3
0が型締して形成されるキヤビテイに図2のリー
ドフレームがセツトされる。支持板21から導出
されたコレクタリード22bは、図2の細条26
と共に上部金型29と下部金型30に挾持され
る。また、支持板21のリード導出側とは反対側
の端部21aは、上部金型29の孔内で上下に滑
動可能な第1スライド型29aと下部金型30の
孔内で上下に滑動可能な第2スライド型30aに
よつて挾持される。これにより支持板21は下部
金型30から約0.4mmの間隔だけ分離され、支持
板の端部21aを除いては上部金型29と下部金
型30に非接触の状態にセツトされる。上部金型
29と下部金型30は、スライド型29a,30
aが支持板の端部21aを挾持した状態におい
て、ゲート33から融解樹脂を圧入する第1キヤ
ビテイ35を形成する。なお、図示の例では円柱
状ピン29bと支持板21とコレクタリード22
bによつてキヤビテイ35が分割されるように見
えるが、実際にはスライド型29a,30aの右
側のキヤビテイ35は連続する1つの空間であ
る。
0が型締して形成されるキヤビテイに図2のリー
ドフレームがセツトされる。支持板21から導出
されたコレクタリード22bは、図2の細条26
と共に上部金型29と下部金型30に挾持され
る。また、支持板21のリード導出側とは反対側
の端部21aは、上部金型29の孔内で上下に滑
動可能な第1スライド型29aと下部金型30の
孔内で上下に滑動可能な第2スライド型30aに
よつて挾持される。これにより支持板21は下部
金型30から約0.4mmの間隔だけ分離され、支持
板の端部21aを除いては上部金型29と下部金
型30に非接触の状態にセツトされる。上部金型
29と下部金型30は、スライド型29a,30
aが支持板の端部21aを挾持した状態におい
て、ゲート33から融解樹脂を圧入する第1キヤ
ビテイ35を形成する。なお、図示の例では円柱
状ピン29bと支持板21とコレクタリード22
bによつてキヤビテイ35が分割されるように見
えるが、実際にはスライド型29a,30aの右
側のキヤビテイ35は連続する1つの空間であ
る。
【0009】
次に図4に示すように、キヤビテイ35に連絡
するゲート33から熱硬化性エポシキ樹脂等の融
解樹脂を圧入させ、封止樹脂36をキヤビテイ3
5内に充填する。このとき融解樹脂はランナ31
を通り圧送され、ゲート33からキヤビテイ35
内に流入するが、予め上部金型29と下部金型3
0はエポキシ樹脂が熱硬化を起こす170℃程度の
温度に加熱されているので、キヤビテイ35に粘
液状態で注入された樹脂は、充填後2〜3分以内
の短時間で熱硬化を生じ封止樹脂36を形成す
る。
するゲート33から熱硬化性エポシキ樹脂等の融
解樹脂を圧入させ、封止樹脂36をキヤビテイ3
5内に充填する。このとき融解樹脂はランナ31
を通り圧送され、ゲート33からキヤビテイ35
内に流入するが、予め上部金型29と下部金型3
0はエポキシ樹脂が熱硬化を起こす170℃程度の
温度に加熱されているので、キヤビテイ35に粘
液状態で注入された樹脂は、充填後2〜3分以内
の短時間で熱硬化を生じ封止樹脂36を形成す
る。
【0010】
封止樹脂36が固化した後に、図5に示すよう
に、第1及び第2スライド型29a,30aをそ
れぞれ上方と下方に移動させ、支持板の端部21
aの挾持が解除される。しかし、すでに封止樹脂
36が固化しているので、支持板21がキヤビテ
イ内で移動することはない。スライド型29a,
30aの移動で第2キヤビテイ37が形成され、
支持板の端部21aは、封止樹脂36からこの第
2キヤビテイ37内に突出して上部金型29と下
部金型30に非接触の状態である。第2キヤビテ
イ37の一面は、ゲート34から流入する封止樹
脂に対して、すでに固化した封止樹脂36の端面
で形成される。
に、第1及び第2スライド型29a,30aをそ
れぞれ上方と下方に移動させ、支持板の端部21
aの挾持が解除される。しかし、すでに封止樹脂
36が固化しているので、支持板21がキヤビテ
イ内で移動することはない。スライド型29a,
30aの移動で第2キヤビテイ37が形成され、
支持板の端部21aは、封止樹脂36からこの第
2キヤビテイ37内に突出して上部金型29と下
部金型30に非接触の状態である。第2キヤビテ
イ37の一面は、ゲート34から流入する封止樹
脂に対して、すでに固化した封止樹脂36の端面
で形成される。
【0011】
次に図6に示すように、第2キヤビテイ37に
開口したゲート34から前記と同じ熱硬化性エポ
キシ樹脂等の粘液状樹脂を加圧下で流入させキヤ
ビテイ37を充填する。粘液樹脂は、ランナ32
から圧送されゲート34からキヤビテイ37に流
入する。このとき、上部金型29と下部金型30
は、樹脂の熱硬化温度170℃程度に保持されてお
り、キヤビテイ37に粘液状態で充填された樹脂
は前述の通り短時間内に熱硬化し、封止樹脂38
を形成する。結果として封止樹脂部36と38が
互いに密着して一体化し、支持板21を完全に包
囲する樹脂封止構造が得られる。
開口したゲート34から前記と同じ熱硬化性エポ
キシ樹脂等の粘液状樹脂を加圧下で流入させキヤ
ビテイ37を充填する。粘液樹脂は、ランナ32
から圧送されゲート34からキヤビテイ37に流
入する。このとき、上部金型29と下部金型30
は、樹脂の熱硬化温度170℃程度に保持されてお
り、キヤビテイ37に粘液状態で充填された樹脂
は前述の通り短時間内に熱硬化し、封止樹脂38
を形成する。結果として封止樹脂部36と38が
互いに密着して一体化し、支持板21を完全に包
囲する樹脂封止構造が得られる。
【0012】
その後、上部金型29と下部金型30の型締め
を解き、樹脂封止されたリードフレームを下部金
型30から取外す。そして更に、封止樹脂36,
38に完全な固化を起こさせるために、このリー
ドフレームに170℃程度の温度で長時間(例えば
24間)の熱処理を施す。
を解き、樹脂封止されたリードフレームを下部金
型30から取外す。そして更に、封止樹脂36,
38に完全な固化を起こさせるために、このリー
ドフレームに170℃程度の温度で長時間(例えば
24間)の熱処理を施す。
【0013】
図1は、前記製法で作られたパワートランジス
タの斜視図を示す。このトランジスタの封止樹脂
は、支持板の一部分を残して半導体チツプと支持
板とを被覆する第1封止樹脂部36と、支持板の
上記残りの一部分を被覆する第2樹脂封止部38
とで構成され、第1及び第2封止樹脂部36と3
8は、互いに密着して支持板が完全に封止される
ことは、前述の通りである。
タの斜視図を示す。このトランジスタの封止樹脂
は、支持板の一部分を残して半導体チツプと支持
板とを被覆する第1封止樹脂部36と、支持板の
上記残りの一部分を被覆する第2樹脂封止部38
とで構成され、第1及び第2封止樹脂部36と3
8は、互いに密着して支持板が完全に封止される
ことは、前述の通りである。
【0014】
39は図1の円柱状ピン29bによつて支持板
の孔28を貫通するように形成された取付孔であ
る。取付孔39の内側にも支持板21は露出して
いないので、取付孔39にネジを通してこのパワ
ートランジスタを外部放熱体に固定するとき、取
付孔に絶縁ブツシユを挿入する必要はない。もち
ろん、このパワートランジスタと外部放熱体の間
にマイカ薄板等を介在させる必要もない。なお、
図1は、ゲート33,34とランナ31,32の
樹脂が除去された成形品を示す。また、細条2
6,27は最終的には切断除去されて、外部リー
ド22a,22b,22cは互いに分離される。
の孔28を貫通するように形成された取付孔であ
る。取付孔39の内側にも支持板21は露出して
いないので、取付孔39にネジを通してこのパワ
ートランジスタを外部放熱体に固定するとき、取
付孔に絶縁ブツシユを挿入する必要はない。もち
ろん、このパワートランジスタと外部放熱体の間
にマイカ薄板等を介在させる必要もない。なお、
図1は、ゲート33,34とランナ31,32の
樹脂が除去された成形品を示す。また、細条2
6,27は最終的には切断除去されて、外部リー
ド22a,22b,22cは互いに分離される。
【0015】
上記製造方法は、1組の上部及び下部金型2
9,30を使用する方法であるから、第1樹脂封
止部36と第2樹脂封止部38を形成するため、
金型に複数回リードフレームを装着したり取外す
必要はない。
9,30を使用する方法であるから、第1樹脂封
止部36と第2樹脂封止部38を形成するため、
金型に複数回リードフレームを装着したり取外す
必要はない。
【0016】
したがつて、2回の融解樹脂圧入を行う方法に
もかかわらず、その成形時は1回のスライド型の
移動で、金型に1度リードフレームを装着すれば
よい。また、図7、図8のように細条3a,3b
を切断する工程は不要である。しかも支持板21
は封止樹脂36,38で完全に包囲されるので、
従来のような短絡事故や絶縁不良が起こらず、外
部放熱体に取付けるときに非常に扱いやすいパワ
ートランジスタ、ダイオード等の半導体装置を提
供することができる。また、支持板21は、上部
及び下部金型29,30内で一対のスライド型2
9a,30aの挟持により確実かつ正確に位置決
め固定される。従つて、支持板21の裏面に所望
寸法の薄い封止樹脂装を許容寸法差範囲内で形成
できる。即ち初期の設計に対し、微小偏差値の放
熱特性を有する半導体装置を確実に得ることがで
きる。また、上記製造方法では、スライド型29
a,30aがゲート34を横切るように配置して
支持板21を把時している。スライド型29a,
30aの移動によつて形成された第2のキヤビテ
イ37はゲート34と連続するから、キヤビテイ
37にゲート34から封止樹脂を良好に流入させ
ることができる。
もかかわらず、その成形時は1回のスライド型の
移動で、金型に1度リードフレームを装着すれば
よい。また、図7、図8のように細条3a,3b
を切断する工程は不要である。しかも支持板21
は封止樹脂36,38で完全に包囲されるので、
従来のような短絡事故や絶縁不良が起こらず、外
部放熱体に取付けるときに非常に扱いやすいパワ
ートランジスタ、ダイオード等の半導体装置を提
供することができる。また、支持板21は、上部
及び下部金型29,30内で一対のスライド型2
9a,30aの挟持により確実かつ正確に位置決
め固定される。従つて、支持板21の裏面に所望
寸法の薄い封止樹脂装を許容寸法差範囲内で形成
できる。即ち初期の設計に対し、微小偏差値の放
熱特性を有する半導体装置を確実に得ることがで
きる。また、上記製造方法では、スライド型29
a,30aがゲート34を横切るように配置して
支持板21を把時している。スライド型29a,
30aの移動によつて形成された第2のキヤビテ
イ37はゲート34と連続するから、キヤビテイ
37にゲート34から封止樹脂を良好に流入させ
ることができる。
【0017】
尚、本発明は、上記実施例に限定されることな
く、種々の技術的変更が可能である。例えば、第
1キヤビテイ又は第2キヤビテイは、複数の分割
されたキヤビテイで構成することも可能である。
第2キヤビテイの充填をより容易にするためスラ
イド型と一体に移動するランナ閉鎖部材又はラン
ナレス金型を使用することもできる。本発明は、
支持板21に2つのダイオードチツプを固着した
センタタツプ形ダイオードに適用するのにも好適
な製造方法である。なお、実施例では均一な厚さ
の支持板21としているが、支持板21の端部2
1a側をチツプ23が固着されている部分より薄
くして、この薄い部分をスライド型29a,30
aにより挟持するようにしてもよい。
く、種々の技術的変更が可能である。例えば、第
1キヤビテイ又は第2キヤビテイは、複数の分割
されたキヤビテイで構成することも可能である。
第2キヤビテイの充填をより容易にするためスラ
イド型と一体に移動するランナ閉鎖部材又はラン
ナレス金型を使用することもできる。本発明は、
支持板21に2つのダイオードチツプを固着した
センタタツプ形ダイオードに適用するのにも好適
な製造方法である。なお、実施例では均一な厚さ
の支持板21としているが、支持板21の端部2
1a側をチツプ23が固着されている部分より薄
くして、この薄い部分をスライド型29a,30
aにより挟持するようにしてもよい。
【0018】
前記の通り本発明によれば、支持板の裏面に薄
い封止樹脂層を所望の均一な厚みにできると共
に、支持板を完全に樹脂で封止できる樹脂封止型
半導体装置の製造方法を得ることができる。
い封止樹脂層を所望の均一な厚みにできると共
に、支持板を完全に樹脂で封止できる樹脂封止型
半導体装置の製造方法を得ることができる。
【図1】本発明により製造された樹脂封止形半導
体装置の斜視図
体装置の斜視図
【図2】リードフレームの斜視図
【図3】本発明において樹脂封止形半導体装置を
樹脂モールドする金型の断面図
樹脂モールドする金型の断面図
【図4】第1封止樹脂部を成形した後の金型の断
面図
面図
【図5】一対のスライド型を移動した後の金型の
断面図
断面図
【図6】第2封止樹脂部を成形した後の金型の断
面図
面図
【図7】従来の樹脂封止形半導体装置の製造に使
用する金型の断面図で
用する金型の断面図で
【図8】従来の樹脂封止形半導体装置の斜視図で
ある。
ある。
21…支持板、22a,22b,22c…外部リ
ード、23…チツプ、29a,30a…スライド
型、34…ゲート、35…キヤビテイ。
ード、23…チツプ、29a,30a…スライド
型、34…ゲート、35…キヤビテイ。
Claims (1)
- 【請求項1】 支持板と、該支持板の一方の端部
側に連結された外部リードと、該支持板に連結さ
れない外部リードとを備えたリードフレームを用
意し、前記支持板の一方の主面に半導体チツプを
固着し且つ前記支持板に連結されない外部リート
と前記半導体チツプとを電気的に接続する工程
と、 キヤビテイと、該キヤビテイに繋つたゲート
と、該キヤビテイ内を移動可能に配設されたスラ
イド型とを有する成形用型を用意し、前記工程を
経た前記リードフレームを前記支持板の他方の端
部が前記キヤビテイの前記ゲートが繋つた面と対
向するように前記成形用型に装着する工程と、 前記支持板の一方の端部側に連結された外部リ
ードを前記成形用型で把持し且つ前記支持板の前
記他方の端部側を前記スライド型で把持すること
によつて前記支持板をその他方の主面が前記キヤ
ビテイの面から離間するように位置決めし且つ前
記スライド型が前記ゲートを横切るように配設し
た状態で前記キヤビテイ内に樹脂を注入する工程
と、 前記スライド型を前記支持板から離間するよう
に移動し、前記スライド型の移動によつて前記ゲ
ートに繋がつて形成された空所に前記ゲートから
樹脂を注入する工程と を有することを特徴とする樹脂封止形半導体装置
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3036488A JPH04211140A (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 樹脂封止形半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3036488A JPH04211140A (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 樹脂封止形半導体装置の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59122047A Division JPS612348A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 樹脂封止形半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04211140A JPH04211140A (ja) | 1992-08-03 |
| JPH0566017B2 true JPH0566017B2 (ja) | 1993-09-20 |
Family
ID=12471213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3036488A Granted JPH04211140A (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 樹脂封止形半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04211140A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5134257B2 (ja) * | 2007-02-07 | 2013-01-30 | 京セラケミカル株式会社 | 半導体パッケージ用樹脂組成物、半導体パッケージの成形方法および半導体パッケージ用樹脂組成物供給装置 |
-
1991
- 1991-02-07 JP JP3036488A patent/JPH04211140A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04211140A (ja) | 1992-08-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |