JPH0566071U - 回転メッキ装置 - Google Patents
回転メッキ装置Info
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- JPH0566071U JPH0566071U JP1247292U JP1247292U JPH0566071U JP H0566071 U JPH0566071 U JP H0566071U JP 1247292 U JP1247292 U JP 1247292U JP 1247292 U JP1247292 U JP 1247292U JP H0566071 U JPH0566071 U JP H0566071U
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Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 メッキ液の流入出を容易にし被メッキ品間へ
メッキ液を充分に流通させるとともに、バレル内の非メ
ッキ品を充分に撹拌させ、もって、メッキ処理時間の短
縮を図りメッキむらの発生を抑止する。 【構成】 メッキ液Lが入れられ陽極を備えたメッキ槽
10に、メッキ槽10内で回転可能になるようバレル2
0を支持し、このバレル20を、メッキ液Lが通過する
多数の貫通孔26が形成された外周壁21を有した八角
柱筒状に形成し、内部を被メッキ品Mが収容され軸23
を陰極28とした収容部22とするとともに、外周壁2
1の一辺部を回転軸23側に凹ませて、バレル20の回
転方向Rに略直交する直交面24を形成するとともに、
収容部22に段部25を形成し、直交面24の貫通孔2
6からのメッキ液の流入を容易にし、段部25によって
被メッキ品Mを攪拌する。
メッキ液を充分に流通させるとともに、バレル内の非メ
ッキ品を充分に撹拌させ、もって、メッキ処理時間の短
縮を図りメッキむらの発生を抑止する。 【構成】 メッキ液Lが入れられ陽極を備えたメッキ槽
10に、メッキ槽10内で回転可能になるようバレル2
0を支持し、このバレル20を、メッキ液Lが通過する
多数の貫通孔26が形成された外周壁21を有した八角
柱筒状に形成し、内部を被メッキ品Mが収容され軸23
を陰極28とした収容部22とするとともに、外周壁2
1の一辺部を回転軸23側に凹ませて、バレル20の回
転方向Rに略直交する直交面24を形成するとともに、
収容部22に段部25を形成し、直交面24の貫通孔2
6からのメッキ液の流入を容易にし、段部25によって
被メッキ品Mを攪拌する。
Description
【0001】
本考案は、電気メッキを行なう回転メッキ装置に係り、特に、小物材料等の被 メッキ品を収容するバレルをメッキ液内で回転させて被メッキ品にメッキを行な う回転メッキ装置に関する。
【0002】
従来、この種の回転メッキ装置としては、例えば、図7に示すように、メッキ 液Lが入れられるメッキ槽1と、メッキ槽1内で回転可能になるように該メッキ 槽1に支持されるバレル2とを備えている。バレル2は、例えば、合成樹脂等で 形成され、八角柱の筒状の外周壁を備え、内部を被メッキ品Mが収容される収容 部3としている。また、外周壁にメッキ液Lが通過する多数の貫通孔4が形成さ れている。メッキ槽1内には陽極(図示せず)が設けられており、また、バレル 2を貫通している軸5を陰極6として構成している。
【0003】 そして、この回転メッキ装置を用いて、例えば、鉄製の小物品を被メッキ品M として、これに亜鉛メッキする場合には、例えば硫酸亜鉛等を含むメッキ液Lを メッキ槽1に入れ、バレル2内にバレル2の投入口(図示せず)から多数の被メ ッキ品Mを投入し、この状態で、バレル2を図示外の回転駆動装置により、例え ば、毎分6〜7回転程度、適時間回転させる。この回転により、被メッキ品Mが 互いに接触しあって陰極6に接触するので、被メッキ品Mに亜鉛がメッキされて いく。
【0004】
ところで、上述した従来の回転メッキ装置にあっては、バレル2の回転により 、バレル2の貫通孔4からメッキ液Lが流入出し被メッキ品M間へ流通するが、 被メッキ品Mの形状や大きさ等によっては、被メッキ品M間への流通が不十分に なることがあり、この場合には、バレル2の収容部3内の金属イオンが消費され たままになって、金属イオン濃度が薄くなり、そのため、メッキ処理時間が長く なって、効率が悪いという問題があった。
【0005】 また、バレル2の回転により、被メッキ品Mはある程度動かされて撹拌され、 メッキ液Lに接するが、被メッキ品Mの形状や大きさ等によっては、被メッキ品 Mが動きにくく撹拌が不十分になることがあり、この場合には、被メッキ品Mの メッキ液に対する接触が不十分になって、メッキむらが生じてしまうという問題 があった。
【0006】 そこで、本考案の課題は、メッキ液の流入出を容易にし被メッキ品間へメッキ 液を充分に流通させるとともに、バレル内の非メッキ品を充分に撹拌させ、もっ て、メッキ処理時間の短縮を図りメッキむらの発生を抑止する点にある。
【0007】
このような課題を解決するための本考案の技術的手段は、メッキ液が入れられ 一方の電極を備えたメッキ槽と、筒状に形成されメッキ液が通過する多数の貫通 孔が形成された外周壁を有し、内部を被メッキ品が収容され他方の電極を備えた 収容部とするとともに、上記メッキ槽内で回転可能になるように該メッキ槽に支 持されるバレルとを有した回転メッキ装置において、上記バレルの回転軸方向に 沿う外周壁の一部を回転軸側に凹ませて、バレルの回転方向に略直交する直交面 を形成するとともに、収容部に段部を形成したものである。
【0008】
上記構成からなる回転メッキ装置によれば、メッキ処理を行なうときは、メッ キ液をメッキ槽に入れ、被メッキ品をバレルの収容部に収容した状態で、電極に 通電し、バレルを回転させる。この回転により、被メッキ品が互いに接触しあっ て陰極に接触しながらメッキされていく。この場合、バレルの外周壁には回転方 向に直交する直交面が形成されているので、バレルの回転により、この直交面に メッキ槽内のメッキ液が相対的に当たり抵抗が大きくなることから、それだけ、 貫通孔からメッキ液が流入し易くなり、被メッキ品間へ良く流通するようになる 。そのため、バレルの収容部内のメッキ液の金属イオン濃度が薄くなる事態が防 止される。
【0009】 また、バレルの収容部に段部が形成されていることから、回転時に被メッキ品 がこの段部に引っ掛かって持ち上げられ、その後回転が進んで段部が上の方に来 ると下方に落ちるので、被メッキ品が良く撹拌されることになる。そのため、被 メッキ品がメッキ液に十分に浸されることになるので、メッキむらが生じてしま う事態が抑止される。
【0010】
以下、添付図面に基づいて本考案の実施例に係る回転メッキ装置について詳細 に説明する。実施例に係る回転メッキ装置の基本的構成は、図1乃至図3に示す ように、メッキ液Lが入れられるメッキ槽10と、該メッキ槽10に支持される バレル20とからなる。
【0011】 バレル20は、例えば、合成樹脂等の非導電性材料で形成され、筒状の外周壁 21を有し、内部を被メッキ品Mが収容される収容部22としている。このバレ ル20は、その中心軸に沿って貫通し、メッキ槽10に掛け渡された導電性の軸 23に回転可能に軸支されている。バレル20の外周壁21は八角柱筒状に形成 され、該八角柱の外周壁21のうちバレル20の回転軸方向に沿う一辺部は、V 字状に回転軸側に凹ませて形成され、該凹ませて形成された外周壁部分が、バレ ル20の回転方向Rに略直交する直交面24を形成するとともに、収容部22に 段部25を形成している。
【0012】 また、バレル20の外周壁21にはメッキ液Lが通過する多数の貫通孔26が 形成されている。更に、バレル20には、例えばその端面部に、多数の被メッキ 品Mを収容部22に投入する投入口(図示せず)が設けられている。また、この バレル20は図示外の回転駆動装置によって回転させられる。
【0013】 更にまた、メッキ槽10内には陽極27が設けられている一方、バレル20の 収容部22内には陰極28が設けられている。陰極28は、バレル20を貫通し ている上記の軸23で構成されている。
【0014】 従って、この実施例に係る回転メッキ装置によれば、メッキ処理を行なうとき は、メッキ液Lをメッキ槽10に入れ、被メッキ品Mをバレル20の収容部22 に収容した状態で、陽極27及び陰極28に通電し、バレル20を回転させる。 例えば、鉄製の小物品を被メッキ品Mとして、これに亜鉛メッキする場合には、 例えば硫酸亜鉛等を含むメッキ液Lをメッキ槽10に入れ、バレル20内にバレ ル20の投入口(図示せず)から多数の被メッキ品Mを投入し、この状態で、バ レル20を図示外の回転駆動装置により、例えば、毎分6〜7回転程度、適時間 回転させる。
【0015】 このバレル20の回転により、被メッキ品Mが互いに接触しあって陰極28に 接触しながらメッキされていく。この場合、図4(a)(b)(c)(d)に示 すように、バレル20の外周壁21には回転方向Rに直交する直交面24が形成 されているので、バレル20の回転により、この直交面24にメッキ槽10内の メッキ液Lが相対的に当たり抵抗が大きくなることから、それだけ、貫通孔26 からメッキ液Lが流入し易くなり、被メッキ品M間へ良く流通するようになる。 そのため、バレル20の収容部22内のメッキ液Lの金属イオン濃度が薄くなる 事態が防止される。
【0016】 また、バレル20の収容部22に段部25が形成されていることから、図4( b)に示すように、回転時に被メッキ品Mがこの段部25に引っ掛かって持ち上 げられ、その後、図4(c)(d)に示すように、回転が進んで段部25が上の 方に来ると下方に落ちるので、被メッキ品Mが良く撹拌されることになる。その ため、被メッキ品Mがメッキ液Lに十分に浸されることになるので、メッキむら が生じてしまう事態が抑止される。
【0017】 なお、上記バレル20は八角柱状の外周壁21を有するが必ずしもこれに限定 されるものではなく、例えば、図5に示すように、円筒状の外周壁の一部を凹ま した形状、あるいは、図6に示すように、六角柱状の外周壁の一部を凹ました形 状等、適宜変更して差し支えない。また、凹み形成する部分は1個所に限らず複 数個所に設けても良い。
【0018】
以上説明したように、本考案の回転メッキ装置によれば、バレルの回転時に、 直交面の貫通孔からメッキ槽内のメッキ液が流入し易くなることから、メッキ液 を被メッキ品間へ良く流通させることができる。そのため、バレルの収容部内の メッキ液の金属イオン濃度が薄くなる事態を防止でき、それだけ、メッキ処理時 間の短縮を図ることができ、処理効率を向上させることができる。
【0019】 また、バレルの収容部に形成された段部によって被メッキ品を強制的に撹拌す ることができ、そのため、被メッキ品をメッキ液に十分に浸すことができるので 、メッキむらが生じてしまう事態を抑止でき、メッキ製品の品質の向上を図るこ とができる。
【図1】本考案の実施例に係る回転メッキ装置を示す部
分斜視図である。
分斜視図である。
【図2】本考案の実施例に係る回転メッキ装置を示す側
面断面図である。
面断面図である。
【図3】本考案の実施例に係るバレルを示す全体斜視図
である。
である。
【図4】本考案の実施例に係る回転メッキ装置の作用を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図5】バレルの他の例を示す斜視図である。
【図6】バレルの別の例を示す斜視図である。
【図7】従来の回転メッキ装置を示す部分斜視図であ
る。
る。
L メッキ液 M 被メッキ品 1 メッキ槽 2 バレル 3 収容部 4 貫通孔 5 軸 10 メッキ槽 20 バレル 21 外周壁 22 収容部 23 軸 24 直交面 25 段部 26 貫通孔 27 陽極 28 陰極
Claims (1)
- 【請求項1】 メッキ液が入れられ一方の電極を備えた
メッキ槽と、筒状に形成されメッキ液が通過する多数の
貫通孔が形成された外周壁を有し、内部を被メッキ品が
収容され他方の電極を備えた収容部とするとともに、上
記メッキ槽内で回転可能になるように該メッキ槽に支持
されるバレルとを有した回転メッキ装置において、上記
バレルの回転軸方向に沿う外周壁の一部を回転軸側に凹
ませて、バレルの回転方向に略直交する直交面を形成す
るとともに、収容部に段部を形成したことを特徴とする
回転メッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1247292U JPH0566071U (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 回転メッキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1247292U JPH0566071U (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 回転メッキ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0566071U true JPH0566071U (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=11806319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1247292U Pending JPH0566071U (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 回転メッキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0566071U (ja) |
-
1992
- 1992-02-04 JP JP1247292U patent/JPH0566071U/ja active Pending
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