JPH0567156B2 - - Google Patents
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- JPH0567156B2 JPH0567156B2 JP61074197A JP7419786A JPH0567156B2 JP H0567156 B2 JPH0567156 B2 JP H0567156B2 JP 61074197 A JP61074197 A JP 61074197A JP 7419786 A JP7419786 A JP 7419786A JP H0567156 B2 JPH0567156 B2 JP H0567156B2
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- acetyl
- och
- toluene
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明は16員環マクロライド系化合物の5位の
二糖類残基における4″−OH基の選択的アシル化
又はアルキル化方法において中間体として有用で
ある新規な含錫16員環マクロライド系化合物に関
する。 タイロシン、ロイコマイシン、スピラマイシン
等の16員環マクロライド系抗生物質は、優れた抗
菌活性を有しており、医薬、動物薬、飼料添加剤
等として広汎に使用されている。しかし、発酵に
よつて生産されるマクロライド系抗生物質は一般
に生体内での吸排泄能が小さく、また汎用による
耐性菌の出現のため、発酵生産されたマクロライ
ド系抗生物質を化学的又は生物学的変換法によつ
て、吸排泄能に優れた及び/又は耐性菌に対する
抗菌力が付与され誘導体についての研究が盛んに
行われている。 例えば、タイロシンの場合、5−位の二糖類残
基における4″−OH基がアシル化された誘導体
は、マクロライドの耐性菌に対する抗菌力に優
れ、しかも生体内での吸排泄能が向上することが
見い出されている。しかし、タイロシンは下記式
二糖類残基における4″−OH基の選択的アシル化
又はアルキル化方法において中間体として有用で
ある新規な含錫16員環マクロライド系化合物に関
する。 タイロシン、ロイコマイシン、スピラマイシン
等の16員環マクロライド系抗生物質は、優れた抗
菌活性を有しており、医薬、動物薬、飼料添加剤
等として広汎に使用されている。しかし、発酵に
よつて生産されるマクロライド系抗生物質は一般
に生体内での吸排泄能が小さく、また汎用による
耐性菌の出現のため、発酵生産されたマクロライ
ド系抗生物質を化学的又は生物学的変換法によつ
て、吸排泄能に優れた及び/又は耐性菌に対する
抗菌力が付与され誘導体についての研究が盛んに
行われている。 例えば、タイロシンの場合、5−位の二糖類残
基における4″−OH基がアシル化された誘導体
は、マクロライドの耐性菌に対する抗菌力に優
れ、しかも生体内での吸排泄能が向上することが
見い出されている。しかし、タイロシンは下記式
【化】
で示されるとおり、3−、2′−、4″−及び4一
位のそれぞれに合計4個の反応性のある水酸基を
有しており、4″−OH基のみを選択的にアシル化
するのは容易ではない。この4″−OHのアシル化
法として、従来、16員環マクロライド系抗生物質
の一種であるカルボマイシンの生産菌体を用いて
タイロシン、アンゴラマイシン、スピラマイシン
等の3位又は4″位水酸基を選択的にアシル化する
生化学的方法(例えば、特願昭52−18889号、同
50−158388号公報参照)。また、かかる生化学的
方法によれば低級アルカノイル基以外のアシル基
の導入が困難であるとの観点から、2′位次いで4
位水酸基を離脱容易なアシル基で段階的に保護
した後、4″位水酸基に所望のアシル基を導入し、
該難脱容易なアシル基を部分離脱せしめる方法が
知られている(例えば、特願昭52−137982号、同
54−70291号公報参照)。 しかし、前者は前述のごとく導入しうるアシル
基の種類が限定され、他方、後者は複数の水酸基
保護工程を必要するため、目的物を高収率で得る
ことが困難である。 本発明者らは、かかる欠点のないタイロシンの
4″−OHの選択的アシル化法について鋭意研究を
行なつた結果、3″−位と4″−位の水酸基を酸化ジ
ブチル錫でアセタール化した後アシル化すると、
2′−位の水酸基を保護するだけで、3−位及び4
−位の水酸基を保護しなくても、4″−位の水酸
基を好収率で選択的にアシル化することができる
こと、そしてこの3″,4″−ジブチル錫アセタール
化法はタイロシンのみならず、5−位にタイロシ
ンと同様の二糖類残基を有する他の16員環マクロ
ライド系抗生物質に対しても適用できること、さ
らにこの3″,4″−ジブチル錫アセタール化法はア
シル化のみならず、従来できなかつた4″−OHの
アルキル化にも適用できることを見い出し、本発
明を完成するに至つた。 しかして、本発明によれば、5−位に下記式
位のそれぞれに合計4個の反応性のある水酸基を
有しており、4″−OH基のみを選択的にアシル化
するのは容易ではない。この4″−OHのアシル化
法として、従来、16員環マクロライド系抗生物質
の一種であるカルボマイシンの生産菌体を用いて
タイロシン、アンゴラマイシン、スピラマイシン
等の3位又は4″位水酸基を選択的にアシル化する
生化学的方法(例えば、特願昭52−18889号、同
50−158388号公報参照)。また、かかる生化学的
方法によれば低級アルカノイル基以外のアシル基
の導入が困難であるとの観点から、2′位次いで4
位水酸基を離脱容易なアシル基で段階的に保護
した後、4″位水酸基に所望のアシル基を導入し、
該難脱容易なアシル基を部分離脱せしめる方法が
知られている(例えば、特願昭52−137982号、同
54−70291号公報参照)。 しかし、前者は前述のごとく導入しうるアシル
基の種類が限定され、他方、後者は複数の水酸基
保護工程を必要するため、目的物を高収率で得る
ことが困難である。 本発明者らは、かかる欠点のないタイロシンの
4″−OHの選択的アシル化法について鋭意研究を
行なつた結果、3″−位と4″−位の水酸基を酸化ジ
ブチル錫でアセタール化した後アシル化すると、
2′−位の水酸基を保護するだけで、3−位及び4
−位の水酸基を保護しなくても、4″−位の水酸
基を好収率で選択的にアシル化することができる
こと、そしてこの3″,4″−ジブチル錫アセタール
化法はタイロシンのみならず、5−位にタイロシ
ンと同様の二糖類残基を有する他の16員環マクロ
ライド系抗生物質に対しても適用できること、さ
らにこの3″,4″−ジブチル錫アセタール化法はア
シル化のみならず、従来できなかつた4″−OHの
アルキル化にも適用できることを見い出し、本発
明を完成するに至つた。 しかして、本発明によれば、5−位に下記式
【化】
式中、R1は水素原子又は容易に離脱させうる
保護基で保護された水酸基を表わす、 で示される二糖類残基を有する含錫16員環マク
ロライド系化合物を式 R2X 式中、R2は置換もしくは未置換のアルキル基
又はアシル基を表わし、Xはハロゲン原子を表わ
す、 で示されるハライドと反応させることを特徴と
する5−位に下記式
保護基で保護された水酸基を表わす、 で示される二糖類残基を有する含錫16員環マク
ロライド系化合物を式 R2X 式中、R2は置換もしくは未置換のアルキル基
又はアシル基を表わし、Xはハロゲン原子を表わ
す、 で示されるハライドと反応させることを特徴と
する5−位に下記式
【化】
式中、R2は前記の意味を有する、
で示される二糖類残基を有する16員環マクロラ
イド系化合物の製造方法が提供される。 本明細書において、「16員環マクロライド系化
合物」とは、下記式
イド系化合物の製造方法が提供される。 本明細書において、「16員環マクロライド系化
合物」とは、下記式
【式】
で示される16員のラクトン環を基本骨格とし、
そして環炭素原子上に、発酵生産源に応じた置換
基又はその化学的もしくは生物学的に変換された
置換基を有する巨大環状化合物を意味する。この
ような16員環マクロライド系化合物は従来から多
数知られており、多くの学術文献や特許公報に紹
介されている。その代表的なものを示せば次のと
おりである。 カーボマイシン、ロイコマイシン、スピラマイ
シン、ニダマイシン、デルタマイシン、ジヨサマ
イシン、カルコマイシン、エスピノマイシン、レ
ロマイシン、ミデカマイシン、マリドマイシン、
B−58941、ニユートラマイシン、アンゴラマイ
シン、タイロシン、シラマイシン、ロザミシン
〔例えば、大村ら、ジヤーナル・オブ・アンテイ
ビオテイスク(J.Antibiotics)、28、401(1975)〕
及び 23−デオキシデマイシノシルタイロシン、デマ
イシノシルタイロシン(例えば、特開昭57−
31699号公報参照)等が挙げられる。 本発明の方法は、上記の16員環マクロライド系
化合物の中、特に5−位に下記式
そして環炭素原子上に、発酵生産源に応じた置換
基又はその化学的もしくは生物学的に変換された
置換基を有する巨大環状化合物を意味する。この
ような16員環マクロライド系化合物は従来から多
数知られており、多くの学術文献や特許公報に紹
介されている。その代表的なものを示せば次のと
おりである。 カーボマイシン、ロイコマイシン、スピラマイ
シン、ニダマイシン、デルタマイシン、ジヨサマ
イシン、カルコマイシン、エスピノマイシン、レ
ロマイシン、ミデカマイシン、マリドマイシン、
B−58941、ニユートラマイシン、アンゴラマイ
シン、タイロシン、シラマイシン、ロザミシン
〔例えば、大村ら、ジヤーナル・オブ・アンテイ
ビオテイスク(J.Antibiotics)、28、401(1975)〕
及び 23−デオキシデマイシノシルタイロシン、デマ
イシノシルタイロシン(例えば、特開昭57−
31699号公報参照)等が挙げられる。 本発明の方法は、上記の16員環マクロライド系
化合物の中、特に5−位に下記式
【化】
式中、R1′は水素原子又は水酸基を表わす、
で示される二糖類残基を有する16員環マクロラ
イド系化合物、例えば、ロイコマイシンU、スピ
ラマイシン、アンゴラマイシン、デルタマイシ
ン、マリドマイシン、タイロシン、23−デオキシ
デマイシノシルタイロシン、デマイシノシルタイ
ロン及びその誘導体等に対して広く適用すること
ができる。 すなわち、本発明によれば、上記式(B)で示され
る二糖類残基を5−位に有する16員環マクロライ
ド系化合物を、上記式(B)におけるR1′が水酸基で
ある場合には、該水酸基を予め容易に離脱させう
る保護基で保護した後、上記式(B)で示される二糖
類残基の3″−及び4″−位のOHをジブチル錫アセ
タール化して、下記式
イド系化合物、例えば、ロイコマイシンU、スピ
ラマイシン、アンゴラマイシン、デルタマイシ
ン、マリドマイシン、タイロシン、23−デオキシ
デマイシノシルタイロシン、デマイシノシルタイ
ロン及びその誘導体等に対して広く適用すること
ができる。 すなわち、本発明によれば、上記式(B)で示され
る二糖類残基を5−位に有する16員環マクロライ
ド系化合物を、上記式(B)におけるR1′が水酸基で
ある場合には、該水酸基を予め容易に離脱させう
る保護基で保護した後、上記式(B)で示される二糖
類残基の3″−及び4″−位のOHをジブチル錫アセ
タール化して、下記式
【化】
式中、R1は前記の意味を有する、
で示される3″,4″−ジブチル錫アセタール化二
糖類残基を5−位に有する16員環マクロライド系
化合物を生成せしめ、次いでこれを下記式 R2X () 式中、R2は前記の意味を有する、 で示されるハライドでアシル化又はアルキル化
することにより、前記式(C)の二糖類残基における
4″−位のOHを好収率且つ選択的にOR2に変える
ことができる。 前記式(B)の二糖類残基において、2′−位の
R1′が水酸基である場合のその保護基としては、
加水分解又はアルコーリシスによつて離脱させう
る任意の保護基であることができ、具体的には次
のものを挙げることができる。 (1) アシル基:例えば、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、シクロヘキサンカルボニルなど
の鎖状又は環状のアルカノイル基;クロロアセ
チル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、ブロモアセチル、トリフルオロアセチルな
どのハロアルカノイル基;フエノキシアセチ
ル、フエニルチオアセチル、p−メトキシフエ
ノキシアセチル、p−クロロフエノキシアセチ
ルなどのアリールオキシ(又はチオ)アルカイ
ル基;ベンゾイル、p−ニトロベンゾイル、ナ
タチル等のアリールカルボニル基。 (2) シリル基:例えば、トリメチルシリル、tert
−ブチルジメチルシリルなどのトリアルキルシ
リル基;トリフエニルシリル等のトリアリール
シリル基;トリベンジルシリル等のトリアラル
キルシリル基。 存在しうる2′−OHが保護された前記式(B)の二
糖類残基の3″,4″−位のOHのジブチル錫アセタ
ール化は、式(B)の二糖類残基を5−位に有するマ
クロライド系化合物を酸化ジブチル錫で処理する
ことにより行なうことができる。該処理は適当な
溶媒中、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素;四塩化炭素、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素等の中で、約50℃乃至溶
媒の還流温度、好ましくは溶媒の還流温度に加熱
することにより行なわれる。該マクロライド系化
合物と酸化ジブチル錫との反応は脱水反応である
ので、水と共沸可能な溶媒を用い、共沸によつて
水を反応系から除去しながら行なうのが好都合で
ある。 酸化ジブチル錫の使用量は厳密に制限されるも
のではないが、該マクロライド系化合物1モル当
り一般に1.0〜5.0モル、好ましくは1.2〜3.0モル
の範囲内で使用するのが適当である。 かくして、前記式(C)で示される3″,4″−ジブチ
ル錫アセタール化二糖類残基を5−位に有する錫
16員環マクロライド系化合物が生成する。この錫
16員環マクロライド系化合物は単離ことも可能で
あるが、一般には単離することなく直接に式
()のハライドとの反応に付すことができる。 前記式(C)で示される3″,4″−ジブチル錫アセタ
ール化二糖類残基を5−位に有する含錫16員環マ
クロライド系化合物は従来の文献に未載の新規な
化合物であり、4″−位アシル化又はアルキル化16
員環マクロライド系化合物を製造するための中間
体として有用である。しかして、そのような新規
含錫16員環マクロライド系化合物の好適な群に
は、下記式
糖類残基を5−位に有する16員環マクロライド系
化合物を生成せしめ、次いでこれを下記式 R2X () 式中、R2は前記の意味を有する、 で示されるハライドでアシル化又はアルキル化
することにより、前記式(C)の二糖類残基における
4″−位のOHを好収率且つ選択的にOR2に変える
ことができる。 前記式(B)の二糖類残基において、2′−位の
R1′が水酸基である場合のその保護基としては、
加水分解又はアルコーリシスによつて離脱させう
る任意の保護基であることができ、具体的には次
のものを挙げることができる。 (1) アシル基:例えば、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、シクロヘキサンカルボニルなど
の鎖状又は環状のアルカノイル基;クロロアセ
チル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、ブロモアセチル、トリフルオロアセチルな
どのハロアルカノイル基;フエノキシアセチ
ル、フエニルチオアセチル、p−メトキシフエ
ノキシアセチル、p−クロロフエノキシアセチ
ルなどのアリールオキシ(又はチオ)アルカイ
ル基;ベンゾイル、p−ニトロベンゾイル、ナ
タチル等のアリールカルボニル基。 (2) シリル基:例えば、トリメチルシリル、tert
−ブチルジメチルシリルなどのトリアルキルシ
リル基;トリフエニルシリル等のトリアリール
シリル基;トリベンジルシリル等のトリアラル
キルシリル基。 存在しうる2′−OHが保護された前記式(B)の二
糖類残基の3″,4″−位のOHのジブチル錫アセタ
ール化は、式(B)の二糖類残基を5−位に有するマ
クロライド系化合物を酸化ジブチル錫で処理する
ことにより行なうことができる。該処理は適当な
溶媒中、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素;四塩化炭素、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素等の中で、約50℃乃至溶
媒の還流温度、好ましくは溶媒の還流温度に加熱
することにより行なわれる。該マクロライド系化
合物と酸化ジブチル錫との反応は脱水反応である
ので、水と共沸可能な溶媒を用い、共沸によつて
水を反応系から除去しながら行なうのが好都合で
ある。 酸化ジブチル錫の使用量は厳密に制限されるも
のではないが、該マクロライド系化合物1モル当
り一般に1.0〜5.0モル、好ましくは1.2〜3.0モル
の範囲内で使用するのが適当である。 かくして、前記式(C)で示される3″,4″−ジブチ
ル錫アセタール化二糖類残基を5−位に有する錫
16員環マクロライド系化合物が生成する。この錫
16員環マクロライド系化合物は単離ことも可能で
あるが、一般には単離することなく直接に式
()のハライドとの反応に付すことができる。 前記式(C)で示される3″,4″−ジブチル錫アセタ
ール化二糖類残基を5−位に有する含錫16員環マ
クロライド系化合物は従来の文献に未載の新規な
化合物であり、4″−位アシル化又はアルキル化16
員環マクロライド系化合物を製造するための中間
体として有用である。しかして、そのような新規
含錫16員環マクロライド系化合物の好適な群に
は、下記式
【化】
式中、R1は水素原子又は容易に離脱させうる
保護基で保護された水酸基を表わし、R3及びR4
の一方は水素原子を表わし且つ他方は水酸基又は
D−フオロサミノ基を表わすか、或いはR3とR4
は一緒になつてオキソ基を表わし、R5は水素原
子又はメチル基を表わし、R6とR7は一緒になつ
て単結合又は−O−を表わし、 R8は水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル
基、低級アルカノイルオキシメチル基又は式
保護基で保護された水酸基を表わし、R3及びR4
の一方は水素原子を表わし且つ他方は水酸基又は
D−フオロサミノ基を表わすか、或いはR3とR4
は一緒になつてオキソ基を表わし、R5は水素原
子又はメチル基を表わし、R6とR7は一緒になつ
て単結合又は−O−を表わし、 R8は水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル
基、低級アルカノイルオキシメチル基又は式
【化】
(ここで、R12は水素原子又は適宜容易に離脱
させうる保護基で保護されていてもよい水酸基を
表わす)の基を表わし、 R9はメチル基又はエチル基を表わし、R10は水
酸基又は低級アルカノイルオキシ基を表わし、
R11はメチル基又はメトキシ基を表わす、 で示される含錫16員環マクロライド系化合物が
包含される。 なお、本発明において用いる「低級」なる語
は、この語が付された原子用又は化合物の炭素原
子数が6個以下、好ましくは4個以下であること
を意味する。 前記式(C)で示される3″,4″−ジブチル錫アセタ
ール化二糖類残基を5−位に有する16員環マクロ
ライド系化合物、例えば上記式()の化合物と
前記式()のハライドとの反応は一般に、適当
な溶媒中、例えば、 Γベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素; Γ塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲ化炭化
水素; Γジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル系溶媒; Γアセトニトリル、ジメチルホルムアミド等の非
プロトン極性溶媒; Γ酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒 等の中で、約0℃〜約100℃、特に室温乃至使
用した溶媒の還流温度で行なうことができる。 式()のハライドの使用量は厳密に制限され
るものではなく、該ハライドの種類等に応じて広
範にわたつて変えることができるが、前記の含錫
16員環マクロライド系化合物1モル当り一般に1
〜10モル、好ましくは1.1〜3モルの範囲内で用
いるのが好都合である。 上記反応でアシル化剤又はアルキル化剤として
使用される式()の化合物において、R2によ
つて表わされる「アルキル基」は直鎖状、分岐鎖
状又は環状のいずれのタイプのものであつてもよ
く、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、シクロペンチル、n−ヘキシ
ル、イソヘキシル、シクロヘキシル等が包含さ
れ、中でも炭素原子数6個までのもの、殊に低級
アルキル基が好適である。このアルキル基はさら
にその水素原子の少なくとも1つが他の原子又は
原子団で置換されていてもよく、可能な置換基と
しては、塩素、フツ素などのハロゲン原子;アル
コキシ基;アシルオキシ基;置換されてもよいフ
ラニル、チオフエニル、フエノキシ又はフエニル
チオ基;置換されていてもよいアルカノイル基;
置換されていてもよいアリール基;置換されてい
てもよいピリジル、ピラニル、ピペリジノ、ピペ
ラジノ、モルホリノ、ピロリジノ、トリアゾリ
ル、テトラゾリル、インドリノ、イミダゾリル、
ピリミジル、チアゾリル、フタロイルなど複素環
式基が挙げられ、なお、上記置換基における置換
されていてもよい場合の置換基としては例えば塩
素、フツ素、メトキシ、エトキシ、フエノキシ、
フエニルチオ、メトキシカルボニル、ニトロ、フ
エニル、低級アルキル、シクロアルキル等が挙げ
られる。しかして、「置換されたアルキル基」の
具体例には次のものが挙げられる:メトキシメチ
ル、エトキシメチル、メトキシエトキシメチル、
フエノキシメチル、ベンジル、メトキシベンジ
ル、ニトロベンジル、メチルベンジル、アセチル
ベンジル、メチルチオベンジル、フルオロベンジ
ル、クロロベンジル、シクロヘキサンメチル、ピ
リジルメチル、イミダゾリルメチル、モルホリノ
メチル、フラニルメチル、インドリノメチル、チ
オフエニルメチル、ベンゾイルメチル、p−メチ
ルベンゾイルメチル、p−メトキシベンゾイルメ
チル、p−ニトロベンゾイルメチル、シクロヘキ
サンカルボニルメチル、テノイルメチル、フラン
カルボニルメチル、ベンジルカルボニルメチル、
p−メチルベンジルカルボニルメチル、ピリジル
メチルカルボニルメチル、フラニルメチルカルボ
ニルメチル、フエニルエチル、ピリジルエチル、
フラニルエチル、チオフエニルエチル、イミダゾ
リルエチル、インドリノエチル基等。 他方、R2によつて表わされる「アシル基」に
は、式R20CO−又はR21SO2−で示される基が包
含される。ここでR20及びR21はそれぞれ有機カ
ルボン酸及び有機スルホン酸の残基であり、具体
的には、メチル、エチル、プロピル、n−プロピ
ル、イソプロピル、トリフルオロメチル、n−ブ
チル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、
フルオロ−n−ブチル、フルオロイソブチル、n
−ペンチル、イソペンチル、イクロペンチル、n
−ヘキシル、イソヘキシルなどアルキル又はハロ
アルキル基;フエニルスルホニルメチル;などの
シクロアルキル基;シクロヘキシルエチルなどの
シクロアルキル−アルキル基;フエニル、メチル
フエニル、p−フルオロフエニル、p−メトキシ
フエニルなどの置換されていてもよいアリール;
ベンジル、α−メチルベンジル、α−エチルベン
ジル、フエニルエチル、ナフチルエチル、o,p
−ジクロロフエニルメチル、α−アセトキシベン
ジル、α−アセトキシフエネチル、p−ニトロベ
ンジル、o−フルオロベンジル、p−フルオロベ
ンジル、(p−アセチルフエニル)メチル、(p−
メチルチオフエニル)メチル、(p−メチルスル
ホニルフエニル)メチル、(p−メトキシフエニ
ル)メチル、(p−ベンゾイルフエニル)メチル
などの置換されていてもよいアラルキシ基;スチ
リルなどのアラルケニル基;フエノキシメチル、
1−フエノキシエチル、ナフトキシメチルなどの
アリーロキシアルキル基;フエニルチオメチル、
フエニルチオエチルなどのアリールチオアルキル
基;ピリジル、ピリジルメチル、ピリジルエチ
ル、ピリジルチオメチル、ピリジルチオエチル、
フラニル、フラニルメチル、チオフエン−2−イ
ル、チオフエン−3−イル、イミダゾリルメチ
ル、テトラゾリルメチル、モルホリノメチルなど
の複素環式基、等が挙げられる。 また、Xによつて表わされる「ハロゲン原子」
としては塩素、臭素及びヨウ素原子が包含され
る。 しかして、式()のハライドして特に好適に
使用しうるものとして以下に述べるものを例示す
ることができる: アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、フ
ルオロイソブチリルクロイド、ベンゾイルクロリ
ド、シクロヘキサンカルボニルクロラド、メトキ
シメチルクロリド、ベンジルブロミド、フエニル
酢酸クロリド、p−メトキシフエニル酢酸クロリ
ド、p−アセチルフエニル酢酸クロリド、p−フ
ルオロ酢酸クロリド、ピリジル酢酸クロリド、フ
エノキシ酢酸クロリド、ニコチニルブロミド、テ
トラゾリル酢酸クロリド、ピリジルプロピオン酸
クロリド、フラニル酢酸クロリド、p−メトキシ
ベンジルブロミド、p−メトキシフエナシルブロ
ミド、(p−アセチル)ベンジルブロミド、(フラ
ニルメチルカルボニル)メチルブロミド、テノイ
ルメチルブロミド、(フラニルエチルカルボニル)
メチルブロミド、(ベンジルカルボニル)メチル
ブロミド、〔(p−メトキシフエニル)エチル〕カ
ルボニルメチルブロミド、〔(p−アセチルベンジ
ル)カルボニル〕メチルブロミド、トリフルオロ
メタンスルホニルクロリド、メタンスルホニルク
ロリド、トルエンスルホニルクロリド、p−フル
オロフエニルスルホニルクロリド等。 以上述べた本発明の方法により、下記式
させうる保護基で保護されていてもよい水酸基を
表わす)の基を表わし、 R9はメチル基又はエチル基を表わし、R10は水
酸基又は低級アルカノイルオキシ基を表わし、
R11はメチル基又はメトキシ基を表わす、 で示される含錫16員環マクロライド系化合物が
包含される。 なお、本発明において用いる「低級」なる語
は、この語が付された原子用又は化合物の炭素原
子数が6個以下、好ましくは4個以下であること
を意味する。 前記式(C)で示される3″,4″−ジブチル錫アセタ
ール化二糖類残基を5−位に有する16員環マクロ
ライド系化合物、例えば上記式()の化合物と
前記式()のハライドとの反応は一般に、適当
な溶媒中、例えば、 Γベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素; Γ塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲ化炭化
水素; Γジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル系溶媒; Γアセトニトリル、ジメチルホルムアミド等の非
プロトン極性溶媒; Γ酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒 等の中で、約0℃〜約100℃、特に室温乃至使
用した溶媒の還流温度で行なうことができる。 式()のハライドの使用量は厳密に制限され
るものではなく、該ハライドの種類等に応じて広
範にわたつて変えることができるが、前記の含錫
16員環マクロライド系化合物1モル当り一般に1
〜10モル、好ましくは1.1〜3モルの範囲内で用
いるのが好都合である。 上記反応でアシル化剤又はアルキル化剤として
使用される式()の化合物において、R2によ
つて表わされる「アルキル基」は直鎖状、分岐鎖
状又は環状のいずれのタイプのものであつてもよ
く、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、シクロペンチル、n−ヘキシ
ル、イソヘキシル、シクロヘキシル等が包含さ
れ、中でも炭素原子数6個までのもの、殊に低級
アルキル基が好適である。このアルキル基はさら
にその水素原子の少なくとも1つが他の原子又は
原子団で置換されていてもよく、可能な置換基と
しては、塩素、フツ素などのハロゲン原子;アル
コキシ基;アシルオキシ基;置換されてもよいフ
ラニル、チオフエニル、フエノキシ又はフエニル
チオ基;置換されていてもよいアルカノイル基;
置換されていてもよいアリール基;置換されてい
てもよいピリジル、ピラニル、ピペリジノ、ピペ
ラジノ、モルホリノ、ピロリジノ、トリアゾリ
ル、テトラゾリル、インドリノ、イミダゾリル、
ピリミジル、チアゾリル、フタロイルなど複素環
式基が挙げられ、なお、上記置換基における置換
されていてもよい場合の置換基としては例えば塩
素、フツ素、メトキシ、エトキシ、フエノキシ、
フエニルチオ、メトキシカルボニル、ニトロ、フ
エニル、低級アルキル、シクロアルキル等が挙げ
られる。しかして、「置換されたアルキル基」の
具体例には次のものが挙げられる:メトキシメチ
ル、エトキシメチル、メトキシエトキシメチル、
フエノキシメチル、ベンジル、メトキシベンジ
ル、ニトロベンジル、メチルベンジル、アセチル
ベンジル、メチルチオベンジル、フルオロベンジ
ル、クロロベンジル、シクロヘキサンメチル、ピ
リジルメチル、イミダゾリルメチル、モルホリノ
メチル、フラニルメチル、インドリノメチル、チ
オフエニルメチル、ベンゾイルメチル、p−メチ
ルベンゾイルメチル、p−メトキシベンゾイルメ
チル、p−ニトロベンゾイルメチル、シクロヘキ
サンカルボニルメチル、テノイルメチル、フラン
カルボニルメチル、ベンジルカルボニルメチル、
p−メチルベンジルカルボニルメチル、ピリジル
メチルカルボニルメチル、フラニルメチルカルボ
ニルメチル、フエニルエチル、ピリジルエチル、
フラニルエチル、チオフエニルエチル、イミダゾ
リルエチル、インドリノエチル基等。 他方、R2によつて表わされる「アシル基」に
は、式R20CO−又はR21SO2−で示される基が包
含される。ここでR20及びR21はそれぞれ有機カ
ルボン酸及び有機スルホン酸の残基であり、具体
的には、メチル、エチル、プロピル、n−プロピ
ル、イソプロピル、トリフルオロメチル、n−ブ
チル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、
フルオロ−n−ブチル、フルオロイソブチル、n
−ペンチル、イソペンチル、イクロペンチル、n
−ヘキシル、イソヘキシルなどアルキル又はハロ
アルキル基;フエニルスルホニルメチル;などの
シクロアルキル基;シクロヘキシルエチルなどの
シクロアルキル−アルキル基;フエニル、メチル
フエニル、p−フルオロフエニル、p−メトキシ
フエニルなどの置換されていてもよいアリール;
ベンジル、α−メチルベンジル、α−エチルベン
ジル、フエニルエチル、ナフチルエチル、o,p
−ジクロロフエニルメチル、α−アセトキシベン
ジル、α−アセトキシフエネチル、p−ニトロベ
ンジル、o−フルオロベンジル、p−フルオロベ
ンジル、(p−アセチルフエニル)メチル、(p−
メチルチオフエニル)メチル、(p−メチルスル
ホニルフエニル)メチル、(p−メトキシフエニ
ル)メチル、(p−ベンゾイルフエニル)メチル
などの置換されていてもよいアラルキシ基;スチ
リルなどのアラルケニル基;フエノキシメチル、
1−フエノキシエチル、ナフトキシメチルなどの
アリーロキシアルキル基;フエニルチオメチル、
フエニルチオエチルなどのアリールチオアルキル
基;ピリジル、ピリジルメチル、ピリジルエチ
ル、ピリジルチオメチル、ピリジルチオエチル、
フラニル、フラニルメチル、チオフエン−2−イ
ル、チオフエン−3−イル、イミダゾリルメチ
ル、テトラゾリルメチル、モルホリノメチルなど
の複素環式基、等が挙げられる。 また、Xによつて表わされる「ハロゲン原子」
としては塩素、臭素及びヨウ素原子が包含され
る。 しかして、式()のハライドして特に好適に
使用しうるものとして以下に述べるものを例示す
ることができる: アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、フ
ルオロイソブチリルクロイド、ベンゾイルクロリ
ド、シクロヘキサンカルボニルクロラド、メトキ
シメチルクロリド、ベンジルブロミド、フエニル
酢酸クロリド、p−メトキシフエニル酢酸クロリ
ド、p−アセチルフエニル酢酸クロリド、p−フ
ルオロ酢酸クロリド、ピリジル酢酸クロリド、フ
エノキシ酢酸クロリド、ニコチニルブロミド、テ
トラゾリル酢酸クロリド、ピリジルプロピオン酸
クロリド、フラニル酢酸クロリド、p−メトキシ
ベンジルブロミド、p−メトキシフエナシルブロ
ミド、(p−アセチル)ベンジルブロミド、(フラ
ニルメチルカルボニル)メチルブロミド、テノイ
ルメチルブロミド、(フラニルエチルカルボニル)
メチルブロミド、(ベンジルカルボニル)メチル
ブロミド、〔(p−メトキシフエニル)エチル〕カ
ルボニルメチルブロミド、〔(p−アセチルベンジ
ル)カルボニル〕メチルブロミド、トリフルオロ
メタンスルホニルクロリド、メタンスルホニルク
ロリド、トルエンスルホニルクロリド、p−フル
オロフエニルスルホニルクロリド等。 以上述べた本発明の方法により、下記式
【化】
式中、R1及びR2は前記の意味を有する、
で示される二糖類残基を5−位に有する16員環
マクロライド系化合物を好収率で生成し、このも
のはそれ自体既知の方法、例えば土屋〔ジヤーナ
ル・オブ・アンテイビオテイツクス(J.
Antibiocs)35,661(1982)〕等の方法で単離、精
製することができる。 上記式(D)において、R1が保護された水酸基を
表わす場合、該保護基は必要に応じて、常法によ
り加水分解又はアリコーリシス(例えばメタノー
リス)することにより離脱せしめることができ
る。 本発明の方法により製造される4″−アシル化さ
れた16員環マクロライド系化合物(R2がアシル
基である式(D)の二糖類残基を5−位に有する16員
環マクロライド系化合物)は、マクロライド耐性
菌に対する抗菌力に優れており、しかも生体内で
の吸排泄能にも優れているという特徴がある〔例
えばジヤーナル・オブ・アンテイビオテイクス
(J.Antibiotics)33、1309(1980)参照〕 一方、4″−置換もしくは未置換アルキル化され
た16員環マクロライド系化合物(R2が置換もし
くは未置換のアルキル基である式(D)の二糖類残基
を5−位に有する16員環マクロライド系化合物)
は、従来の文献に未載の新規な化合物であり、生
体内エスラテーゼによつても分解されないマクロ
ライド耐性菌に対して抗菌力を示すマクロライド
系抗菌剤として有望である(後記抗菌活性試験デ
ータ参照)。 次に実施例を掲げて本発明をさらに説明する。 実施例 1 2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシンの製造
マクロライド系化合物を好収率で生成し、このも
のはそれ自体既知の方法、例えば土屋〔ジヤーナ
ル・オブ・アンテイビオテイツクス(J.
Antibiocs)35,661(1982)〕等の方法で単離、精
製することができる。 上記式(D)において、R1が保護された水酸基を
表わす場合、該保護基は必要に応じて、常法によ
り加水分解又はアリコーリシス(例えばメタノー
リス)することにより離脱せしめることができ
る。 本発明の方法により製造される4″−アシル化さ
れた16員環マクロライド系化合物(R2がアシル
基である式(D)の二糖類残基を5−位に有する16員
環マクロライド系化合物)は、マクロライド耐性
菌に対する抗菌力に優れており、しかも生体内で
の吸排泄能にも優れているという特徴がある〔例
えばジヤーナル・オブ・アンテイビオテイクス
(J.Antibiotics)33、1309(1980)参照〕 一方、4″−置換もしくは未置換アルキル化され
た16員環マクロライド系化合物(R2が置換もし
くは未置換のアルキル基である式(D)の二糖類残基
を5−位に有する16員環マクロライド系化合物)
は、従来の文献に未載の新規な化合物であり、生
体内エスラテーゼによつても分解されないマクロ
ライド耐性菌に対して抗菌力を示すマクロライド
系抗菌剤として有望である(後記抗菌活性試験デ
ータ参照)。 次に実施例を掲げて本発明をさらに説明する。 実施例 1 2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチルタイロシン1.0g(1.05mmol)
及び酸化ジブチルスズ260mg(1.05mmol)をトル
エン50ml中に懸濁させ、デイーン・スタークコン
デンサー装置で生成する水をトルエンで共沸除去
しながら3時間加熱還流させた。冷却後、濃縮乾
固した2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチル
スタニレンタイロシン1.24gを得た。 IR(KBr)cm-1、2940、2915、2720、1748、
1720、1680、1592、1232、1165、1062、670 NMR(CKCl3)δ0.89−1.02(m、CH3)、1.80
(3H、s、12−CH3)、2.06(S、2′OCOCH3)、
3.50(3H、s、2OCH3)、3.63(3H、s、3
OCH3)、4.56(1H、d、J1 ,2=7.5HzH−
1)、5.91(1H、d、J13,14=10.5Hz、H−
13)、6.28(1H、d、J10,11=15.5Hz、H−10)、
7.34(1H、d、H−11)、9.70(1H、CHO) 実施例 2 2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)タイロシンの製造
及び酸化ジブチルスズ260mg(1.05mmol)をトル
エン50ml中に懸濁させ、デイーン・スタークコン
デンサー装置で生成する水をトルエンで共沸除去
しながら3時間加熱還流させた。冷却後、濃縮乾
固した2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチル
スタニレンタイロシン1.24gを得た。 IR(KBr)cm-1、2940、2915、2720、1748、
1720、1680、1592、1232、1165、1062、670 NMR(CKCl3)δ0.89−1.02(m、CH3)、1.80
(3H、s、12−CH3)、2.06(S、2′OCOCH3)、
3.50(3H、s、2OCH3)、3.63(3H、s、3
OCH3)、4.56(1H、d、J1 ,2=7.5HzH−
1)、5.91(1H、d、J13,14=10.5Hz、H−
13)、6.28(1H、d、J10,11=15.5Hz、H−10)、
7.34(1H、d、H−11)、9.70(1H、CHO) 実施例 2 2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)タイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシンの反応溶液10ml(1.6gモル
比:2′−O−アセチルタイロシン/酸化ジブチル
スズ=1/2.5)にp−メトキシフエニルアセチル
クロライド355mg/20mlトルエン溶液
(1.88mmol)を室温下で15分かけて滴下し、さら
に同温度で1時間撹拌させた。 反応液を氷塊に入れ30分撹拌した後、酢酸エチ
ル200ml、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え有機
層を分離、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後、濃縮乾固し残渣をシリカゲル50gのカラムク
ロマトグラフイー(展開溶媒:ベンゼン/アセト
ン=3/1)に付し、ベンゼン/アセトン=(2/1)
展開のシリカゲルTLCにてRf値0.34に硫酸呈色
を示す溶出区分を合わせて減圧濃縮し、2′−O−
アセチル−4″−O−(p−メトキシフエニルアセ
チル)タイロシン912mg(収率79%)を得た。 Γ2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)タイロシンの物理化学的性質 NMR(CDCl3)……主要なピークを示す(以下同
様) δ9.68(1H,s,CHO)、7.23(H,d,J=9
Hz,芳香環)、6.82(2H,d,J=9Hz,芳
香環)、6.27(1H,d,J=16Hz,H−10)、
5.90(1H,d,J=10.5Hz,H−13)、3.78
(3H,s,−OCH3)、3.64(2H,s,−CH2
−)、3.61(3H,s,3−OCH3)、3.49
(3H,s,2−OCH3)、2.40(6H,s,N
(CH3)2)、2.07(3H,s,2′−OCOCH3)、
1.79(3H,s,12−CH3) 実施例 3
ニレンタイロシンの反応溶液10ml(1.6gモル
比:2′−O−アセチルタイロシン/酸化ジブチル
スズ=1/2.5)にp−メトキシフエニルアセチル
クロライド355mg/20mlトルエン溶液
(1.88mmol)を室温下で15分かけて滴下し、さら
に同温度で1時間撹拌させた。 反応液を氷塊に入れ30分撹拌した後、酢酸エチ
ル200ml、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え有機
層を分離、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後、濃縮乾固し残渣をシリカゲル50gのカラムク
ロマトグラフイー(展開溶媒:ベンゼン/アセト
ン=3/1)に付し、ベンゼン/アセトン=(2/1)
展開のシリカゲルTLCにてRf値0.34に硫酸呈色
を示す溶出区分を合わせて減圧濃縮し、2′−O−
アセチル−4″−O−(p−メトキシフエニルアセ
チル)タイロシン912mg(収率79%)を得た。 Γ2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)タイロシンの物理化学的性質 NMR(CDCl3)……主要なピークを示す(以下同
様) δ9.68(1H,s,CHO)、7.23(H,d,J=9
Hz,芳香環)、6.82(2H,d,J=9Hz,芳
香環)、6.27(1H,d,J=16Hz,H−10)、
5.90(1H,d,J=10.5Hz,H−13)、3.78
(3H,s,−OCH3)、3.64(2H,s,−CH2
−)、3.61(3H,s,3−OCH3)、3.49
(3H,s,2−OCH3)、2.40(6H,s,N
(CH3)2)、2.07(3H,s,2′−OCOCH3)、
1.79(3H,s,12−CH3) 実施例 3
【化】
4″−O−(p−メトキシフエニルアセチル)タ
イロシンの製造 2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)タイロシン912mgをメタノール
25mlに溶解し、16時間加熱還流させた。冷却後、
濃縮乾固し、残渣をシリカゲル40gのカラムクロ
マトグラフイー(展開溶媒:ベンゼンアセトン=
2/1)に付し、ベンゼン/アセトン=(2/1)展開
のシリカゲルTLCにてRf値0.25に硫酸呈色を示
す溶出区分を合わせて減圧濃縮し、4″−O−(p
−メトキシフエニルアセチル)タイロシン粗粉末
を675mg得た。 粗粉末675mgをトルエン0mlにに溶解し、PH
3.09(1/50M酢酸ナトリウム−1/50N塩酸)緩衝
液100mlにて2回酸転抽出した。水層を1N水酸化
ナトリウム水溶液にてPH5.0に調整した後、酢酸
エチル150mlで抽出し、有機層を炭酸ナトリウム
水溶液、食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。過後、濃縮乾固して631mgを得た。 得られた粉末をベンゼン6mlに溶解し、撹拌し
ながらヘキサン30ml中に滴下した。生じた白色沈
澱を吸引過し、ヘキサン5mlで洗浄した後、乾
燥させ、4″−O−(p−メトキシフエニルアセチ
ル)タイロシン608mg(収率55%)を得た。 M・W 1065 m.p.:110〜111℃ 〔α〕24 D:−43.6゜(c1.0,CH3OH) UV:λCH 3 OH nax284nm(ε19000) 227nm(ε 8700) IR:νKr nax1725cm-1(エステル、アルデヒド) 1675cm-1(共役ケトン) 1590cm-1(二重結合) NMR(CDCl3)主要なピークを以下に示す。
イロシンの製造 2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)タイロシン912mgをメタノール
25mlに溶解し、16時間加熱還流させた。冷却後、
濃縮乾固し、残渣をシリカゲル40gのカラムクロ
マトグラフイー(展開溶媒:ベンゼンアセトン=
2/1)に付し、ベンゼン/アセトン=(2/1)展開
のシリカゲルTLCにてRf値0.25に硫酸呈色を示
す溶出区分を合わせて減圧濃縮し、4″−O−(p
−メトキシフエニルアセチル)タイロシン粗粉末
を675mg得た。 粗粉末675mgをトルエン0mlにに溶解し、PH
3.09(1/50M酢酸ナトリウム−1/50N塩酸)緩衝
液100mlにて2回酸転抽出した。水層を1N水酸化
ナトリウム水溶液にてPH5.0に調整した後、酢酸
エチル150mlで抽出し、有機層を炭酸ナトリウム
水溶液、食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。過後、濃縮乾固して631mgを得た。 得られた粉末をベンゼン6mlに溶解し、撹拌し
ながらヘキサン30ml中に滴下した。生じた白色沈
澱を吸引過し、ヘキサン5mlで洗浄した後、乾
燥させ、4″−O−(p−メトキシフエニルアセチ
ル)タイロシン608mg(収率55%)を得た。 M・W 1065 m.p.:110〜111℃ 〔α〕24 D:−43.6゜(c1.0,CH3OH) UV:λCH 3 OH nax284nm(ε19000) 227nm(ε 8700) IR:νKr nax1725cm-1(エステル、アルデヒド) 1675cm-1(共役ケトン) 1590cm-1(二重結合) NMR(CDCl3)主要なピークを以下に示す。
【表】
実施例 4
2′,4−ジ−O−トリメチルシリルタイロシ
ンの製造
ンの製造
【化】
タイロシン1.0g(1.09mmol)を酢酸エチル10
mlに溶解し、冷却して、トルエチルアミン0.35ml
(2.51mmol)を加え、さらに塩化トリメチルシラ
ン0.29ml(2.29mmol)を滴下した。反応温度を
10゜に上げ、24時間撹拌させた。反応液を酢酸エ
チルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
過後、濃縮乾固した2′,4−ジ−O−トリメチ
ルシリルタイロシン1.1gを得た。 NMR(CDCl3) δ 9.71(1H,s,CHO)、6.28(1H,d,15.5Hz,
H−10)、5.95(1H,d,10.5Hz,H−13)、
4.59(1H,d,8Hz,H−1)、3.60(3H,
s,3OCH3)、3.51(3H,s,2OCH3)、
2.49(6H,s,N(CH3)2)、1.80(3H,s,12
−CH3)、0.19(9H,s,TMS)、0.15(9H,
s,TMS) 実施例 5 2′,4−ジ−O−トリメチルシリル−3″,
4″−ジブチルスタニレンタイロシンの製造
mlに溶解し、冷却して、トルエチルアミン0.35ml
(2.51mmol)を加え、さらに塩化トリメチルシラ
ン0.29ml(2.29mmol)を滴下した。反応温度を
10゜に上げ、24時間撹拌させた。反応液を酢酸エ
チルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
過後、濃縮乾固した2′,4−ジ−O−トリメチ
ルシリルタイロシン1.1gを得た。 NMR(CDCl3) δ 9.71(1H,s,CHO)、6.28(1H,d,15.5Hz,
H−10)、5.95(1H,d,10.5Hz,H−13)、
4.59(1H,d,8Hz,H−1)、3.60(3H,
s,3OCH3)、3.51(3H,s,2OCH3)、
2.49(6H,s,N(CH3)2)、1.80(3H,s,12
−CH3)、0.19(9H,s,TMS)、0.15(9H,
s,TMS) 実施例 5 2′,4−ジ−O−トリメチルシリル−3″,
4″−ジブチルスタニレンタイロシンの製造
【化】
2′,4−ジ−O−トリメチルシリルタイロシ
ン1.1g(1.09mmol)及び酸化ジブチルスズ271
mg(1.09mmol)をトルエン50ml中に懸濁させ、
デイーン−スタークコンデンサーで生成する水を
トルエンと共沸除去しながら3時間加熱還流させ
た。反応液を濃縮乾固して、2′,4−ジ−O−
トリメチルシリル−3″,4″−O−ジブチルスタニ
レンタイロシン1.35gを得た。 IR(KBr)、2960、2925、1680、1595、675 NMR(CDCl3) δ 9.69(1H,s,CHO)、6.28(1H,d,15.5
Hz,H−10)、5.96(1H,d,10.5Hz,H−
13)、4.60(1H,d,8Hz,H−1)、3.61
(3H,s,3OCH3)、3.51(3H,s,2
OCH3)、2.48(6H,s,N(CH3))、1.80
(3H,s,12・CH3)、1.05〜0.84(12H,m,
CH2)、0.18(9H,s,TMS)、0.15(9H,
s,TMS) 実施例 6 2′,4−ジ−O−トリメチルシリル−O−
(p−メトキシフエニルアセチル)タイロシン
の製造
ン1.1g(1.09mmol)及び酸化ジブチルスズ271
mg(1.09mmol)をトルエン50ml中に懸濁させ、
デイーン−スタークコンデンサーで生成する水を
トルエンと共沸除去しながら3時間加熱還流させ
た。反応液を濃縮乾固して、2′,4−ジ−O−
トリメチルシリル−3″,4″−O−ジブチルスタニ
レンタイロシン1.35gを得た。 IR(KBr)、2960、2925、1680、1595、675 NMR(CDCl3) δ 9.69(1H,s,CHO)、6.28(1H,d,15.5
Hz,H−10)、5.96(1H,d,10.5Hz,H−
13)、4.60(1H,d,8Hz,H−1)、3.61
(3H,s,3OCH3)、3.51(3H,s,2
OCH3)、2.48(6H,s,N(CH3))、1.80
(3H,s,12・CH3)、1.05〜0.84(12H,m,
CH2)、0.18(9H,s,TMS)、0.15(9H,
s,TMS) 実施例 6 2′,4−ジ−O−トリメチルシリル−O−
(p−メトキシフエニルアセチル)タイロシン
の製造
【化】
2′,4−ジ−O−トリメチルシリルタイロシ
ン1.1g(1.04mmol)及び酸化シブチルスズ645
mg(2.59mmol)をトルエン50ml中に懸濁させ、
デイーン−スターク装置で生成する水をトルエン
と共沸除去しながら3時間加熱還流しながら反応
液を、約15mlまで濃縮した。反応液を冷却後、p
−メトキシフエニルアセチルクロライド286mg/
20mlトルエン溶液(1.55mmol)を室温で15分間
かけて滴下し、さらに同温度で1時間撹拌した。 反応液を氷塊に入れ、30分間撹拌した後、酢酸
エチルで希釈し炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩
水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、過後、濃縮乾固した2′,4−ジ−O−
トリメチルシリル−4″−O−(p−メトキシフエ
ニルアセチル)タイロシンと酸化ジブチルスズの
混合物を1.51g得た。 実施例 7 4″−O−(p−メトキシフエニルアセチル)タ
イロシンの製造
ン1.1g(1.04mmol)及び酸化シブチルスズ645
mg(2.59mmol)をトルエン50ml中に懸濁させ、
デイーン−スターク装置で生成する水をトルエン
と共沸除去しながら3時間加熱還流しながら反応
液を、約15mlまで濃縮した。反応液を冷却後、p
−メトキシフエニルアセチルクロライド286mg/
20mlトルエン溶液(1.55mmol)を室温で15分間
かけて滴下し、さらに同温度で1時間撹拌した。 反応液を氷塊に入れ、30分間撹拌した後、酢酸
エチルで希釈し炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩
水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、過後、濃縮乾固した2′,4−ジ−O−
トリメチルシリル−4″−O−(p−メトキシフエ
ニルアセチル)タイロシンと酸化ジブチルスズの
混合物を1.51g得た。 実施例 7 4″−O−(p−メトキシフエニルアセチル)タ
イロシンの製造
【化】
2′,4−ジ−O−トリメチルシリル−4″−O
−(p−メトキシフエニルアセチル)タイロシン
と酸化ジブチルスズの混合物1.51gをジオキサン
8mlに溶解し、1N塩酸3.1mlを滴下して、10℃で
2時間、室温で2時間撹拌した。反応液を、酢酸
エチル及び水で希釈し、有機層を除いた。水層を
トルエンで洗浄した後、炭酸水素ナトリウム水溶
液でPH6.0に調整し、トルエンで抽出した。有機
層を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、過後、濃縮乾固し、4″−O−(p−メト
キシフエニルアセチル)タイロシン661mg(収率
57%)を得た。 理化学的性状は実施例3と同一であつた。 実施例 8 2′−O−アセチルロイコマイシンUの製造
−(p−メトキシフエニルアセチル)タイロシン
と酸化ジブチルスズの混合物1.51gをジオキサン
8mlに溶解し、1N塩酸3.1mlを滴下して、10℃で
2時間、室温で2時間撹拌した。反応液を、酢酸
エチル及び水で希釈し、有機層を除いた。水層を
トルエンで洗浄した後、炭酸水素ナトリウム水溶
液でPH6.0に調整し、トルエンで抽出した。有機
層を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、過後、濃縮乾固し、4″−O−(p−メト
キシフエニルアセチル)タイロシン661mg(収率
57%)を得た。 理化学的性状は実施例3と同一であつた。 実施例 8 2′−O−アセチルロイコマイシンUの製造
【化】
ロイコマイシンU1.0g(1.35mmol)をアセト
ン3mlに溶解し、氷冷却下で無水酢酸0.27ml
(2.85mmol)を滴下した。反応温度を室温にもど
し1.5時間撹拌させた。反応液に氷塊を入れ、30
分間撹拌した後、25%アンモニア水にてPH9.40に
調整し、酢酸エチル110mlで抽出した。有機層を
食塩水で3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。過後、濃縮乾固して2′−O−アセチルロ
イコマシンU1.05g(収率99%)を得た。 実施例 9 2′−O−アセチル−4″−O−(メトキシフエニ
ルアセチル)ロイコマイシンUの製造
ン3mlに溶解し、氷冷却下で無水酢酸0.27ml
(2.85mmol)を滴下した。反応温度を室温にもど
し1.5時間撹拌させた。反応液に氷塊を入れ、30
分間撹拌した後、25%アンモニア水にてPH9.40に
調整し、酢酸エチル110mlで抽出した。有機層を
食塩水で3回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。過後、濃縮乾固して2′−O−アセチルロ
イコマシンU1.05g(収率99%)を得た。 実施例 9 2′−O−アセチル−4″−O−(メトキシフエニ
ルアセチル)ロイコマイシンUの製造
【化】
2′−O−アセチルロイコマイシンU1.0g
(1.27mmol)及び酸化ジブチルスズ793mg
(3.19mmol)をトルエン50ml中に懸濁させ、デイ
ーン−スターク装置で生成する水をトルエンと共
沸除去しながら3時間加熱還流させた。反応液を
約15mlまで濃縮した。反応液を冷却後、p−メト
キシフエニルアセチルクロライド433mg/20mlト
ルエン溶液(2.29mmol)を室温で15分間かけて
滴下し、さらに同温度で1.5時間撹拌した。 反応液を氷塊に入れ30分撹拌した後、酢酸エチ
ル200ml、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後、濃縮乾固し残渣をシリカゲル50gのカラムク
ロマトグラフイー(展開溶媒:ベンゼン/アセト
ン=3/1)に付し、n−ヘキサン/ベンゼン/
酢酸エチル/アセトン/メタノール=(30/25/
20/10/8)展開のシリカゲルTLCにてRf値
0.49に硫酸呈色を示す溶出区分を合わせて減圧濃
縮し、2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキ
シフエニルアセチル)ロイコマイシンU466mg
(収率40%)を得た。 Γ2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)ロイコマイシンの物理化学的
性質 〔α〕24 D−66.7゜(C0.855,MeOH) UV λMeOH nax 230nm,E1% 1cm=319 Rf 0.49(n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチ
ル/アセトン/メタノール=30/25/20/
10/8) NMR(CDCl3) δ 9・67(1H,CHO)、7.23(2H,d,J=10
Hz,芳香環)、6.89(2H,d,J=10Hz,芳香
環)、6.02(1H,dd,H−12)、5.60(1H,dd,
H−10)、4.61(1H,d,J=9Hz,H−1′)、
4.57(1H,d,J=10Hz,H−4″)、3.79(3H,
s,−OCH3)、3.64(2H,s,−CH2−)、3.49
(3H,s,4−OCH3)、2.41(6H,s,3′−N
(CH3)2)、2.27(3H,s,3−OCOCH3)、2.02
(3H,s,2′−OCOCH3) 実施例 10 4″−O−(p−メトキシフエニルアセチル)ロ
イコマイシンUの製造
(1.27mmol)及び酸化ジブチルスズ793mg
(3.19mmol)をトルエン50ml中に懸濁させ、デイ
ーン−スターク装置で生成する水をトルエンと共
沸除去しながら3時間加熱還流させた。反応液を
約15mlまで濃縮した。反応液を冷却後、p−メト
キシフエニルアセチルクロライド433mg/20mlト
ルエン溶液(2.29mmol)を室温で15分間かけて
滴下し、さらに同温度で1.5時間撹拌した。 反応液を氷塊に入れ30分撹拌した後、酢酸エチ
ル200ml、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後、濃縮乾固し残渣をシリカゲル50gのカラムク
ロマトグラフイー(展開溶媒:ベンゼン/アセト
ン=3/1)に付し、n−ヘキサン/ベンゼン/
酢酸エチル/アセトン/メタノール=(30/25/
20/10/8)展開のシリカゲルTLCにてRf値
0.49に硫酸呈色を示す溶出区分を合わせて減圧濃
縮し、2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキ
シフエニルアセチル)ロイコマイシンU466mg
(収率40%)を得た。 Γ2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)ロイコマイシンの物理化学的
性質 〔α〕24 D−66.7゜(C0.855,MeOH) UV λMeOH nax 230nm,E1% 1cm=319 Rf 0.49(n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチ
ル/アセトン/メタノール=30/25/20/
10/8) NMR(CDCl3) δ 9・67(1H,CHO)、7.23(2H,d,J=10
Hz,芳香環)、6.89(2H,d,J=10Hz,芳香
環)、6.02(1H,dd,H−12)、5.60(1H,dd,
H−10)、4.61(1H,d,J=9Hz,H−1′)、
4.57(1H,d,J=10Hz,H−4″)、3.79(3H,
s,−OCH3)、3.64(2H,s,−CH2−)、3.49
(3H,s,4−OCH3)、2.41(6H,s,3′−N
(CH3)2)、2.27(3H,s,3−OCOCH3)、2.02
(3H,s,2′−OCOCH3) 実施例 10 4″−O−(p−メトキシフエニルアセチル)ロ
イコマイシンUの製造
【化】
2′−O−アセチル−4″−O−(p−メトキシフ
エニルアセチル)ロイコマイシンU200mg
(0.21mmol)をメタノール5.2mlに溶解し、16時
間加熱還流させた。冷却後、濃縮乾固し残渣をシ
リカゲル9gのカラムクロマトグラフイー(展開
溶媒:n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチル/ア
セトン/メタノール=30/25/20/10/1.5)に
付し、n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチル/ア
セトン/メタノール=(30/25/20/10/8)展
開のシリカゲルTLCにてRf値0.41に硫酸呈色を
示す溶出区分を合わせて減圧濃縮し、4″−O−
(p−メトキシフエニルアセチル)ロイコマイシ
ンU98.0mg(収率53%)を得た。 Γ4″−O−(p−メトキシフエニルアセチル)ロ
イコマイシンUの物理化学的性質 〔α〕24 D−59.2゜(C0.813,MeOH) UV λMeOH nax 230nm,E1% cm=346 Rf 0.41(n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチ
ル/アセトン/メタノール30/25/20/10/
8) NMR(CDCl3) δ 9.68(1H,s,CHO)、7.26(2H,d,J=
9Hz,芳香環)、6.87(2H,d,J=9Hz,芳
香環)、6.07(1H,dd,H−12)、5.61(1H,
dd,H−10)、4.57(1H,d,J=10Hz,H−
4″)、4.44(1H,d,J=8Hz,H−1′)、3.80
(3H,s,−OCH3)、3.65(2H,s,−CH2)、
3.54(3H,s,4−OCH3)、2.51(6H,s,N
(CH3)2)、2.26(3H,s,3−OCOCH3) 実施例 11 4″−O−(p−メトキシ)ベンジルタイロシン
の製造
エニルアセチル)ロイコマイシンU200mg
(0.21mmol)をメタノール5.2mlに溶解し、16時
間加熱還流させた。冷却後、濃縮乾固し残渣をシ
リカゲル9gのカラムクロマトグラフイー(展開
溶媒:n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチル/ア
セトン/メタノール=30/25/20/10/1.5)に
付し、n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチル/ア
セトン/メタノール=(30/25/20/10/8)展
開のシリカゲルTLCにてRf値0.41に硫酸呈色を
示す溶出区分を合わせて減圧濃縮し、4″−O−
(p−メトキシフエニルアセチル)ロイコマイシ
ンU98.0mg(収率53%)を得た。 Γ4″−O−(p−メトキシフエニルアセチル)ロ
イコマイシンUの物理化学的性質 〔α〕24 D−59.2゜(C0.813,MeOH) UV λMeOH nax 230nm,E1% cm=346 Rf 0.41(n−ヘキサン/ベンゼン/酢酸エチ
ル/アセトン/メタノール30/25/20/10/
8) NMR(CDCl3) δ 9.68(1H,s,CHO)、7.26(2H,d,J=
9Hz,芳香環)、6.87(2H,d,J=9Hz,芳
香環)、6.07(1H,dd,H−12)、5.61(1H,
dd,H−10)、4.57(1H,d,J=10Hz,H−
4″)、4.44(1H,d,J=8Hz,H−1′)、3.80
(3H,s,−OCH3)、3.65(2H,s,−CH2)、
3.54(3H,s,4−OCH3)、2.51(6H,s,N
(CH3)2)、2.26(3H,s,3−OCOCH3) 実施例 11 4″−O−(p−メトキシ)ベンジルタイロシン
の製造
【化】
2′−O−アセチル3″,4″−O−ジブチルスタニ
レンタイロシン1.5g(モル比:2′−O−アセチ
ルタイロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)及び
ヨウ化テトラブチルアンモニウム0.25gを20mlの
乾燥ベンゼンに懸濁し、これに0.5mlのp−メト
キシベンジルクロライドを加え23時間加熱還流し
た。冷却後反応混合物をトルエン20mlにて希釈
し、水、重曹水及び食塩水洗浄後ボウ硝上乾燥し
た。ろ過後濃縮乾固し、クロロホルム−ヘキサン
より沈澱させ580mgの2′−O−アセチル−4″−O
−(p−メトキシ)ベンジルタイロシン粗粉末を
得た。 このものを30mlのメタノールに溶解し、11時間
加熱還流した。冷却後濃縮乾固したものをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒:トル
エン/アセトン=7/2)に付し精製し、350mg
の4″−O−(p−メトキシ)ベンジルタイロシン
を得た。 〔α〕24 D −32.7゜(C 2.71,MeOH) UV λMeOH nax 282nm,E1% 1cm=220 λMeOH nax 227nm,E1% 1cm=138 Rf 0.22(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C54H85NO18 Mass 1035(M+) NMR(CDCl3)δ2.45及び2.52(6H,N(CH3)2)、
2.91(1H,d,J4″,5″=10Hz,H−4″)、3.51(3H
,
OCH3)、3.63(3H,s,OCH3)、3.82(3H,s,
OCH3)、6.86(2H,d,J=8.5H,芳香環)、
7.28(2H,d,芳香環)、9.71(1H,CHO) 実施例 12 4″−O−ベンジルタイロシンの製造 2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシンをベンジルブロマイドと実施例
11と同様に反応、処理することにより表題化合物
を得ることができた。 Γ4″−O−ベンジルタイロシンの物理化学的性質 〔α〕24 D −41.3(C 1.25、MeOH) UV λMeOH nax 285nm、E1% 1cm=207 Rf 0.16(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C53H83NO17 Mass 1006(M+H)+ NMR(CDCl3)δ1.80(3H,s,12−CH3)、2.53
(6H,s,N(CH3)2)、2.94(1H,d,J4″,5″=10
Hz,H−4″)、3.51(3H,s,OCH3)、3.63(3H,
s,OCH3)、4.23(1H,d,J1′,2′=7.5Hz,H−
1′)、4.57(1H,d,J1 ,2=7.5Hz,H−1)、
4.69(2H,s,4″−O−CH2−)、5.01(1H,H−
1″)、5.92(1H,d,H−13)、6.28(1H,d,H
−10)、7.25−7.41(6H,m,H−11及び芳香環)、
9.72(1H,CHO)。 実施例 13 4″−O−(p−アセチル)ベンジルタイロシン
の製造 2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシンを(p−アセチル)ベンジルブ
ロマイドと実施例11と同様に反応、処理すること
により表題化合物を得た。 Γ4″−O−(p−アセチル)ベンジルタイロシン
の物理化学的性質 〔α〕24 D −41.5゜(C 0.53,MeOH) UV λMeOH nax 282nm,E1% 1cm=190 λMeOH nax 255nm,E1% 1cm=162 Rf 0.16(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C55H85NO18 Mass 1048(M+H)+ NMR(CDCl3)δ1.81(3H,s,12−CH3)、2.54
(6H,s,N(CH3)2)、2.61(3H,s,COCH3)、
2.95(1H,d,J4″,5″=10Hz,H−4″)、3.51(3H
,
s,OCH3)、3.64(3H,s,OCH3)、5.92(1H,
d,H−13)、6.28(1H,d,H−10)、7.49(2H,
d,芳香環)、7.96(2H,d,芳香環)、9.74(1H,
CHO)。 実施例 14 4″−O−メトキシメチルタイロシンの製造
レンタイロシン1.5g(モル比:2′−O−アセチ
ルタイロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)及び
ヨウ化テトラブチルアンモニウム0.25gを20mlの
乾燥ベンゼンに懸濁し、これに0.5mlのp−メト
キシベンジルクロライドを加え23時間加熱還流し
た。冷却後反応混合物をトルエン20mlにて希釈
し、水、重曹水及び食塩水洗浄後ボウ硝上乾燥し
た。ろ過後濃縮乾固し、クロロホルム−ヘキサン
より沈澱させ580mgの2′−O−アセチル−4″−O
−(p−メトキシ)ベンジルタイロシン粗粉末を
得た。 このものを30mlのメタノールに溶解し、11時間
加熱還流した。冷却後濃縮乾固したものをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒:トル
エン/アセトン=7/2)に付し精製し、350mg
の4″−O−(p−メトキシ)ベンジルタイロシン
を得た。 〔α〕24 D −32.7゜(C 2.71,MeOH) UV λMeOH nax 282nm,E1% 1cm=220 λMeOH nax 227nm,E1% 1cm=138 Rf 0.22(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C54H85NO18 Mass 1035(M+) NMR(CDCl3)δ2.45及び2.52(6H,N(CH3)2)、
2.91(1H,d,J4″,5″=10Hz,H−4″)、3.51(3H
,
OCH3)、3.63(3H,s,OCH3)、3.82(3H,s,
OCH3)、6.86(2H,d,J=8.5H,芳香環)、
7.28(2H,d,芳香環)、9.71(1H,CHO) 実施例 12 4″−O−ベンジルタイロシンの製造 2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシンをベンジルブロマイドと実施例
11と同様に反応、処理することにより表題化合物
を得ることができた。 Γ4″−O−ベンジルタイロシンの物理化学的性質 〔α〕24 D −41.3(C 1.25、MeOH) UV λMeOH nax 285nm、E1% 1cm=207 Rf 0.16(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C53H83NO17 Mass 1006(M+H)+ NMR(CDCl3)δ1.80(3H,s,12−CH3)、2.53
(6H,s,N(CH3)2)、2.94(1H,d,J4″,5″=10
Hz,H−4″)、3.51(3H,s,OCH3)、3.63(3H,
s,OCH3)、4.23(1H,d,J1′,2′=7.5Hz,H−
1′)、4.57(1H,d,J1 ,2=7.5Hz,H−1)、
4.69(2H,s,4″−O−CH2−)、5.01(1H,H−
1″)、5.92(1H,d,H−13)、6.28(1H,d,H
−10)、7.25−7.41(6H,m,H−11及び芳香環)、
9.72(1H,CHO)。 実施例 13 4″−O−(p−アセチル)ベンジルタイロシン
の製造 2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシンを(p−アセチル)ベンジルブ
ロマイドと実施例11と同様に反応、処理すること
により表題化合物を得た。 Γ4″−O−(p−アセチル)ベンジルタイロシン
の物理化学的性質 〔α〕24 D −41.5゜(C 0.53,MeOH) UV λMeOH nax 282nm,E1% 1cm=190 λMeOH nax 255nm,E1% 1cm=162 Rf 0.16(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C55H85NO18 Mass 1048(M+H)+ NMR(CDCl3)δ1.81(3H,s,12−CH3)、2.54
(6H,s,N(CH3)2)、2.61(3H,s,COCH3)、
2.95(1H,d,J4″,5″=10Hz,H−4″)、3.51(3H
,
s,OCH3)、3.64(3H,s,OCH3)、5.92(1H,
d,H−13)、6.28(1H,d,H−10)、7.49(2H,
d,芳香環)、7.96(2H,d,芳香環)、9.74(1H,
CHO)。 実施例 14 4″−O−メトキシメチルタイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシン1.5g(モル比:2′−O−アセ
チルタイロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)及
びヨウ化テトラブチルアンモニウム0.25gを20ml
の乾燥ベンゼン中に懸濁し、これに0.16mlのクロ
ロメチルエーテルを加え室温下15時間撹拌した。
反応混合物をトルエンにて希釈し、水、重曹水及
び食塩水洗浄後、ボウ硝上乾燥した。過後、濃
縮乾固した残渣を30mlのメタノールに再溶解し、
7時間加熱還流した。冷却後濃縮乾固したものを
シリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:トル
エン/アセトン=5/2)に付し精製し、180mg
の4″−O−メトキシメチルタイロシンを得た。 〔α〕24 D −51.1゜(C 0.93,MeOH) UV λMeOH nax 283nm,E1% 1cm=230 Rf 0.45(クロロホルム/メタノール/25%アン
モニア水=15/1/0.1) 分子式 C48H81NO18 Mass 959(M+) NMR(CDCl3)δ2.57(6H,s.N(CH3)2)、3.41及
び3.46(3H,4″OCH2OCH=3)、3.53(3H,s,
OCH3)、3.66(3H,s,OCH3)、4.63及び4.93
(2H,J=7Hz,4″O−CH2−)、5.94(1H,
d,H−13)、6.30(1H,d,H−10)、7.37
(1H,d,H−11)、9.76(1H,CHO) 実施例 15 4″−O−(P−メトキシ)フエナシルタイロシ
ンの製造
ニレンタイロシン1.5g(モル比:2′−O−アセ
チルタイロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)及
びヨウ化テトラブチルアンモニウム0.25gを20ml
の乾燥ベンゼン中に懸濁し、これに0.16mlのクロ
ロメチルエーテルを加え室温下15時間撹拌した。
反応混合物をトルエンにて希釈し、水、重曹水及
び食塩水洗浄後、ボウ硝上乾燥した。過後、濃
縮乾固した残渣を30mlのメタノールに再溶解し、
7時間加熱還流した。冷却後濃縮乾固したものを
シリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:トル
エン/アセトン=5/2)に付し精製し、180mg
の4″−O−メトキシメチルタイロシンを得た。 〔α〕24 D −51.1゜(C 0.93,MeOH) UV λMeOH nax 283nm,E1% 1cm=230 Rf 0.45(クロロホルム/メタノール/25%アン
モニア水=15/1/0.1) 分子式 C48H81NO18 Mass 959(M+) NMR(CDCl3)δ2.57(6H,s.N(CH3)2)、3.41及
び3.46(3H,4″OCH2OCH=3)、3.53(3H,s,
OCH3)、3.66(3H,s,OCH3)、4.63及び4.93
(2H,J=7Hz,4″O−CH2−)、5.94(1H,
d,H−13)、6.30(1H,d,H−10)、7.37
(1H,d,H−11)、9.76(1H,CHO) 実施例 15 4″−O−(P−メトキシ)フエナシルタイロシ
ンの製造
【化】
2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシン1.5g(モル比:2′−O−アセ
チルタイロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)及
びヨウ化ナトリウム1.5gを乾燥ベンゼン20ml中
に懸濁し、これにα−ブロモ−p−メトキシアセ
トフエノン0.78gを加えて17時間加熱還流した。
冷却下、トルエン30mlを加えて希釈し、水、重曹
水及び食塩水洗浄後、ボウ硝上乾燥した。過後
濃縮した残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:トルエン/アセトン=4/1)に付
し精製し、63mgの2′−O−アセチル−4″−O−
(p−メトキシ)フエナシルタイロシンを得た。
このものを20mlのメタノールに溶解し、18時間加
熱還流した。冷却後、濃縮乾固した残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:トルエン/
アセトン=7/2)に付し精製し、37mgの4″−O
−(p−メトキシ)フエナシルタイロシンを得た。 〔α〕24 D −37.5゜(C 0.92,MeOH) UV λMeOH nax 284nm,E1% 1cm=320 UV λMeOH nax 221nm,E1% 1cm=116 Rf 0.14(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C55H85NO19 Mass 1064(MH+) NMR(CDCl3)δ2.57(6H,s.N(CH3)2)、3.51
(3H,s,OCH3)、3.63(3H,s,OCH3)、
3.90(3H,s,OCH3)、5.91(1H,d,H−
13)、6.28(1H,d,H−10)、6.94(2H,d,
芳香環)、7.35(1H,d,H−11)、8.07(2H,
d,芳香環)、9.72(1H,CHO) 実施例 16 2′−O−アセチル−4″−O−トリフルオロメタ
ンスルホニルタイロシンの製造
ニレンタイロシン1.5g(モル比:2′−O−アセ
チルタイロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)及
びヨウ化ナトリウム1.5gを乾燥ベンゼン20ml中
に懸濁し、これにα−ブロモ−p−メトキシアセ
トフエノン0.78gを加えて17時間加熱還流した。
冷却下、トルエン30mlを加えて希釈し、水、重曹
水及び食塩水洗浄後、ボウ硝上乾燥した。過後
濃縮した残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:トルエン/アセトン=4/1)に付
し精製し、63mgの2′−O−アセチル−4″−O−
(p−メトキシ)フエナシルタイロシンを得た。
このものを20mlのメタノールに溶解し、18時間加
熱還流した。冷却後、濃縮乾固した残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:トルエン/
アセトン=7/2)に付し精製し、37mgの4″−O
−(p−メトキシ)フエナシルタイロシンを得た。 〔α〕24 D −37.5゜(C 0.92,MeOH) UV λMeOH nax 284nm,E1% 1cm=320 UV λMeOH nax 221nm,E1% 1cm=116 Rf 0.14(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C55H85NO19 Mass 1064(MH+) NMR(CDCl3)δ2.57(6H,s.N(CH3)2)、3.51
(3H,s,OCH3)、3.63(3H,s,OCH3)、
3.90(3H,s,OCH3)、5.91(1H,d,H−
13)、6.28(1H,d,H−10)、6.94(2H,d,
芳香環)、7.35(1H,d,H−11)、8.07(2H,
d,芳香環)、9.72(1H,CHO) 実施例 16 2′−O−アセチル−4″−O−トリフルオロメタ
ンスルホニルタイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチル−3″,4″−O−ジブチルスタ
ニレンタイロシン(モル比:2′−O−アセチルタ
イロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)1.5gを
乾燥ジクロルメタン7ml中に懸濁し、0℃に冷却
した。このものに無水トリフルオロメタンスルホ
ン酸0.23ml/ジクロルメタン5ml溶液を10分間に
亘り滴下した。反応混合物に氷塊を入れて撹拌し
た後、トルエン50mlにて抽出した。トルエン層は
重曹水及び食塩水にて洗浄し、ボウ硝上乾燥し
た。過後濃縮乾固すると0.85gの2′−O−アセ
チル−4″−O−トリフルオロメタンスルホニルタ
イロシンの粗粉末を得た。なお、このものは比較
的不安定であり、迅速に次の反応に用いるのがよ
い。 Rf 0.40(ベンゼン/アセトン=2/1) NMR(CDCl3)δ1.81(3H,s,12−CH3)、2.07
(3H,s,2′OCOCH3)、2.42(6H,s,N
(CH3)2)、3.52(3H,s,OCH3)、3.65(3H,
s,OCH3)、4.42(1H,d,J4″,5″=10Hz,H
−4″)、4.57(1H,d,J1 ,2=7.5Hz,H−1
)、5.92(1H,d,H−13)、6.29(1H,d,
H−10)、7.34(1H,d,H−11)、9.71(1H,
CHO) 実施例 17 2′−O−アセチル−4″−デオキシ−4″−ヨード
タイロシンの製造
ニレンタイロシン(モル比:2′−O−アセチルタ
イロシン/酸化ジブチルスズ=1/5)1.5gを
乾燥ジクロルメタン7ml中に懸濁し、0℃に冷却
した。このものに無水トリフルオロメタンスルホ
ン酸0.23ml/ジクロルメタン5ml溶液を10分間に
亘り滴下した。反応混合物に氷塊を入れて撹拌し
た後、トルエン50mlにて抽出した。トルエン層は
重曹水及び食塩水にて洗浄し、ボウ硝上乾燥し
た。過後濃縮乾固すると0.85gの2′−O−アセ
チル−4″−O−トリフルオロメタンスルホニルタ
イロシンの粗粉末を得た。なお、このものは比較
的不安定であり、迅速に次の反応に用いるのがよ
い。 Rf 0.40(ベンゼン/アセトン=2/1) NMR(CDCl3)δ1.81(3H,s,12−CH3)、2.07
(3H,s,2′OCOCH3)、2.42(6H,s,N
(CH3)2)、3.52(3H,s,OCH3)、3.65(3H,
s,OCH3)、4.42(1H,d,J4″,5″=10Hz,H
−4″)、4.57(1H,d,J1 ,2=7.5Hz,H−1
)、5.92(1H,d,H−13)、6.29(1H,d,
H−10)、7.34(1H,d,H−11)、9.71(1H,
CHO) 実施例 17 2′−O−アセチル−4″−デオキシ−4″−ヨード
タイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチル−4″−O−トリフルオロメタ
ンスルホニルタイロシン粗粉末0.4g及びヨウ化
テトラブチルアンモニウム0.75gを10mlのアセト
ニリトルに溶解し、60℃下1時間撹拌した。冷却
後トルエン30mlを加えてアセトニリトルを減圧下
留去し、残つたトルエン溶液を水、重曹水及び食
塩水洗浄後ボウ硝上乾燥した。過後濃縮乾固し
た残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶
媒:トルエン/アセトン=5/1)にて精製し、
40mlの2′−O−アセチル−4″−デオキシ−4″−ヨ
ードタイロシンを得た。 Rf 0.43(ベンゼン/アセトン=2/1) NMR(CDCl3) δ1.43(3H,d,J5″,6″=5Hz,
H−6″)、1.80(3H,s,12−CH3)、2.06(3H,
s.2′OCOCH3)、2.43(6H,s,N(CH3)2)、
3.52(3H,s,OCH3)、3.65(3H,s,
OCH3)、3.87−4.10(m,H−4″及びH−5″)、
5.88(1H,d,H−13)、6.27(1H,d,H−
10)、7.32(1H,d,H−11)、9.71(1H,
CHO) 実施例 18 4″−デオキシタイロシンの製造
ンスルホニルタイロシン粗粉末0.4g及びヨウ化
テトラブチルアンモニウム0.75gを10mlのアセト
ニリトルに溶解し、60℃下1時間撹拌した。冷却
後トルエン30mlを加えてアセトニリトルを減圧下
留去し、残つたトルエン溶液を水、重曹水及び食
塩水洗浄後ボウ硝上乾燥した。過後濃縮乾固し
た残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶
媒:トルエン/アセトン=5/1)にて精製し、
40mlの2′−O−アセチル−4″−デオキシ−4″−ヨ
ードタイロシンを得た。 Rf 0.43(ベンゼン/アセトン=2/1) NMR(CDCl3) δ1.43(3H,d,J5″,6″=5Hz,
H−6″)、1.80(3H,s,12−CH3)、2.06(3H,
s.2′OCOCH3)、2.43(6H,s,N(CH3)2)、
3.52(3H,s,OCH3)、3.65(3H,s,
OCH3)、3.87−4.10(m,H−4″及びH−5″)、
5.88(1H,d,H−13)、6.27(1H,d,H−
10)、7.32(1H,d,H−11)、9.71(1H,
CHO) 実施例 18 4″−デオキシタイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチル−4″−デオキシ−4″−ヨード
タイロシン120mgを7mlの乾燥ベンゼン中に溶解
し、これに0.1mlのトリブチルスタンナンハイド
ライド及び触媒量のアゾビスイソブチロニトリル
を加え窒素雰囲気下75℃にて2.5時間撹拌した。
冷却後トルエン30mlを入れて希釈し、水及び食塩
水洗浄後ボウ硝上乾燥した。過後濃縮した残渣
をセフアデツクスLH−20カラムクロマトグラフ
イー(展開溶媒:メタノール)に付し精製し、
100mgの2′−O−アセチル−4″−デオキシタイロ
シンを得た。このものを20mlのメタノールに溶解
し、11時間加熱還流した。冷却後濃縮乾固した残
渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:
クロロホルム/メタノール=35/1及び30/1)
に付し精製し、45mgの4″−デオキシタイロシンを
得た。 [α]24 D+0.1゜(C 1.18,MeOH) UV λMeOH nax 283nm,E1% 1cm=224 Rf 0.28(クロロホルム/メタノール/25%アン
モニウ水=15/1/0.1) 分子式 C46H77NO16 Mass 899(M+) NMR(CDCl3) δ1.79(3H,s.12−CH3)、2.49
(6H,s,N(CH3)2)、3.47(3H,s,
OCH3)、3.60(3H,s,OCH3)、4.22(1H,
d,J1′,2′=7.5Hz,H−1′)、4.55(1H,d,
J1 ,2=7.5Hz,H−1)、4.84(1H,dd,
J1″,2″a=9Hz,J1″,2″b=2.5Hz,H−1″)、5.89
(1H,d,H−13)、6.25(1H,d,H−10)、
7.33(1H,d,H−11)、9.74(1H,CHO) 実施例 19 2′−O−アセチル−4−O−トリフルオロメ
タンスルホニルタイロシンの製造
タイロシン120mgを7mlの乾燥ベンゼン中に溶解
し、これに0.1mlのトリブチルスタンナンハイド
ライド及び触媒量のアゾビスイソブチロニトリル
を加え窒素雰囲気下75℃にて2.5時間撹拌した。
冷却後トルエン30mlを入れて希釈し、水及び食塩
水洗浄後ボウ硝上乾燥した。過後濃縮した残渣
をセフアデツクスLH−20カラムクロマトグラフ
イー(展開溶媒:メタノール)に付し精製し、
100mgの2′−O−アセチル−4″−デオキシタイロ
シンを得た。このものを20mlのメタノールに溶解
し、11時間加熱還流した。冷却後濃縮乾固した残
渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:
クロロホルム/メタノール=35/1及び30/1)
に付し精製し、45mgの4″−デオキシタイロシンを
得た。 [α]24 D+0.1゜(C 1.18,MeOH) UV λMeOH nax 283nm,E1% 1cm=224 Rf 0.28(クロロホルム/メタノール/25%アン
モニウ水=15/1/0.1) 分子式 C46H77NO16 Mass 899(M+) NMR(CDCl3) δ1.79(3H,s.12−CH3)、2.49
(6H,s,N(CH3)2)、3.47(3H,s,
OCH3)、3.60(3H,s,OCH3)、4.22(1H,
d,J1′,2′=7.5Hz,H−1′)、4.55(1H,d,
J1 ,2=7.5Hz,H−1)、4.84(1H,dd,
J1″,2″a=9Hz,J1″,2″b=2.5Hz,H−1″)、5.89
(1H,d,H−13)、6.25(1H,d,H−10)、
7.33(1H,d,H−11)、9.74(1H,CHO) 実施例 19 2′−O−アセチル−4−O−トリフルオロメ
タンスルホニルタイロシンの製造
【化】
2gの2′−O−アセチルタイロシンを10mlのジ
クロロメタンに溶解し、0.5mlのピリジンを加え
た後0℃に冷却し撹拌した。次に0.37mlの無水ト
リフルオロメタンスルホン酸のジクロロメタン溶
液5mlを30分間に亘り滴下した。反応は1時間に
て終了した。反応混合物に氷塊を入れて撹拌した
後トルエン及び水を加えて抽出した。トルエン層
をNaHCO3水、次いで食塩水洗浄後、ボウ硝に
て乾燥した。過後濃縮、乾固すると2.36gの標
題化合物を得た。このものはこれ以上精製するこ
となしに次の反応に用いた。 Rf 0.37(ベンゼン/アセトン(2/1)) NMR(CDCl3) δ1.77(3H,s.12−CH3)、2.03
(3H,s,2′0COCH3)、2.37(6H,s,N
(CH3)2)、4.38(1H,dd,J3 ,4=2.5Hz,
J4 ,5=10Hz,H−4)、4.61(1H,d,
J1 ,2=7.5Hz,H−1)、5.86(1H,d,
J13,14=10.5Hz,H−13)、6.26(1H,d,J10,11
=15.5Hz,H−10)、7.29(1H,d,H−11)、
9.67(1H,CHO)、3.49(3H,s,2OCH3)、
3.59(3H,s,3OCH3) 実施例 20 2′−O−アセチル−4−デオキシ−4−ヨ
ードタイロシンの製造
クロロメタンに溶解し、0.5mlのピリジンを加え
た後0℃に冷却し撹拌した。次に0.37mlの無水ト
リフルオロメタンスルホン酸のジクロロメタン溶
液5mlを30分間に亘り滴下した。反応は1時間に
て終了した。反応混合物に氷塊を入れて撹拌した
後トルエン及び水を加えて抽出した。トルエン層
をNaHCO3水、次いで食塩水洗浄後、ボウ硝に
て乾燥した。過後濃縮、乾固すると2.36gの標
題化合物を得た。このものはこれ以上精製するこ
となしに次の反応に用いた。 Rf 0.37(ベンゼン/アセトン(2/1)) NMR(CDCl3) δ1.77(3H,s.12−CH3)、2.03
(3H,s,2′0COCH3)、2.37(6H,s,N
(CH3)2)、4.38(1H,dd,J3 ,4=2.5Hz,
J4 ,5=10Hz,H−4)、4.61(1H,d,
J1 ,2=7.5Hz,H−1)、5.86(1H,d,
J13,14=10.5Hz,H−13)、6.26(1H,d,J10,11
=15.5Hz,H−10)、7.29(1H,d,H−11)、
9.67(1H,CHO)、3.49(3H,s,2OCH3)、
3.59(3H,s,3OCH3) 実施例 20 2′−O−アセチル−4−デオキシ−4−ヨ
ードタイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチル−4−O−トリフルオロメ
タンスルホニルタイロシン1.0g、ヨウ化テトラ
ブチルアンモニウム509mgを12mlのアセトニトリ
ルに溶解し、50〜60℃下時間撹拌した。冷却後反
応混合物にトルエン50mlを入れ希釈し、水、
NaHCO3水、次いで食塩水洗浄後、ボウ硝にて
乾燥した。過後濃縮、乾固すると680mgの標題
化合物の粗粉末を得た。このものをシリカゲルク
ロマトグラフイー(ベンゼン/アセトン、(6/
1))にて精製し、410mgの標題化合物を得た。 [α]24 D −59.3゜(C〜1.04,メタノール) Rf 0.37(ベンゼン/アセトン(2/1)) Mass 1067(M+) NMR(CDCl3) δ1.37(3H,d,J5 ,6=5
Hzm,H−6)、1.77(3H,s,12−CH3)、
2.04(3H,s,2′OCOCH3)、2.38(6H,s,N
(CH3)2)、3.46(3H,s,2−OCH3)、3.61
(3H,s,3−OCH3)、4.25(1H,d,
J1′,2′=7.5Hz,H−1′)、4.64(1H,d,J1 ,2
=8Hz,H−1)、5.88(1H,d,J13,14=
10.5Hz,H−13)、6.26(1H,d,J10,11=15.5
Hz,H−10)、7.29(1H,d,H−11)、9.68
(1H,CHO) 実施例 21 2′−O−アセチル−4−デオキシタイロシン
の製造
タンスルホニルタイロシン1.0g、ヨウ化テトラ
ブチルアンモニウム509mgを12mlのアセトニトリ
ルに溶解し、50〜60℃下時間撹拌した。冷却後反
応混合物にトルエン50mlを入れ希釈し、水、
NaHCO3水、次いで食塩水洗浄後、ボウ硝にて
乾燥した。過後濃縮、乾固すると680mgの標題
化合物の粗粉末を得た。このものをシリカゲルク
ロマトグラフイー(ベンゼン/アセトン、(6/
1))にて精製し、410mgの標題化合物を得た。 [α]24 D −59.3゜(C〜1.04,メタノール) Rf 0.37(ベンゼン/アセトン(2/1)) Mass 1067(M+) NMR(CDCl3) δ1.37(3H,d,J5 ,6=5
Hzm,H−6)、1.77(3H,s,12−CH3)、
2.04(3H,s,2′OCOCH3)、2.38(6H,s,N
(CH3)2)、3.46(3H,s,2−OCH3)、3.61
(3H,s,3−OCH3)、4.25(1H,d,
J1′,2′=7.5Hz,H−1′)、4.64(1H,d,J1 ,2
=8Hz,H−1)、5.88(1H,d,J13,14=
10.5Hz,H−13)、6.26(1H,d,J10,11=15.5
Hz,H−10)、7.29(1H,d,H−11)、9.68
(1H,CHO) 実施例 21 2′−O−アセチル−4−デオキシタイロシン
の製造
【化】
600mgの2′−O−アセチル−4−デオキシ−
4−ヨードタイロシンを15mlのベンゼンに溶解
し、これに0.45mlのトリブチルチンハイドライド
及び触媒量のアゾイソブチロニトリルを加え、窒
素ガス雰囲気下65〜75℃にて2時間撹拌した。冷
却後トルエン30mlを加えて希釈し、水及び食塩水
洗浄後ボウ硝にて乾燥した。過後濃縮乾固した
残渣をセフアデツクスLH−20(フアルマシアフ
アインケミカル社製)カラム(メタノール)に付
し精製し、528mgの2′−O−アセチル4−デオ
キシタイロシンを得た。 [α]24 D −55.6゜(C 3.65,メタノール) Rf 0.26(ベンゼン/アセトン,(2/1)) Mass 941(M+) 実施例 22 4″−O−(p−メトキシ)フエニルアセチル
4″−デオキシタイロシンの製造
4−ヨードタイロシンを15mlのベンゼンに溶解
し、これに0.45mlのトリブチルチンハイドライド
及び触媒量のアゾイソブチロニトリルを加え、窒
素ガス雰囲気下65〜75℃にて2時間撹拌した。冷
却後トルエン30mlを加えて希釈し、水及び食塩水
洗浄後ボウ硝にて乾燥した。過後濃縮乾固した
残渣をセフアデツクスLH−20(フアルマシアフ
アインケミカル社製)カラム(メタノール)に付
し精製し、528mgの2′−O−アセチル4−デオ
キシタイロシンを得た。 [α]24 D −55.6゜(C 3.65,メタノール) Rf 0.26(ベンゼン/アセトン,(2/1)) Mass 941(M+) 実施例 22 4″−O−(p−メトキシ)フエニルアセチル
4″−デオキシタイロシンの製造
【化】
2′−O−アセチル−4−デオキシタイロシン
を出発原料として、2′−O−アセチルタイロシン
より4″−O−(p−メトキシ)フエニルアセチル
タイロシンを合成した方法と同様の手法により標
題化合物を得た。 [α]24 D −57.6゜(c 0.92,MeOH) UV λMeOH nax 283nm、E1% 1cm=235 λMeOH nax 226nm、E1% 1cm=110 Rf 0.27(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C55H85NO18 Mass 1048(MH+) NMR(CDCl3) δ1.79(3H,s,12−CH3)
2.50(6H,s,N(CH3)2)、3.40(3H,s,
OCH3)、3.49(3H,s,OCH3)、3.63(2H,
s,
を出発原料として、2′−O−アセチルタイロシン
より4″−O−(p−メトキシ)フエニルアセチル
タイロシンを合成した方法と同様の手法により標
題化合物を得た。 [α]24 D −57.6゜(c 0.92,MeOH) UV λMeOH nax 283nm、E1% 1cm=235 λMeOH nax 226nm、E1% 1cm=110 Rf 0.27(ベンゼン/アセトン=2/1) 分子式 C55H85NO18 Mass 1048(MH+) NMR(CDCl3) δ1.79(3H,s,12−CH3)
2.50(6H,s,N(CH3)2)、3.40(3H,s,
OCH3)、3.49(3H,s,OCH3)、3.63(2H,
s,
【式】)、3.79(3H,s,
【式】)、4.53(1H,d,J4″,5″=10Hz,
H−4″)、4.63(1H,d,J4″,5″=8Hz,H−1
)、5.02(1H,H−1″)、5.91(1H,d,
J1 ,2=10.5Hz,H−13)、6.23(1H,d,
J10,11=15.5Hz,H−10)、6.82(2H,d,芳香
環性プロトン)、7.22(2H,d,芳香環性プロ
トン)、7.31(1H,d,H−11)、9.68(1H,
CHO) 本発明の方法によつて得られる16員環マクロラ
イド系化合物は、下記の抗菌活性及びマウス肝臓
ホモジネートに対する安定性を示す。 抗菌活性 各化合物の抗菌活性をミユーラーヒントブロス
(PH7.4)を培地とした寒天希釈法によつて測定し
た各種病原微生物に対する最小発育阻止濃度
(μg/ml)は表1のとおりであつた。
)、5.02(1H,H−1″)、5.91(1H,d,
J1 ,2=10.5Hz,H−13)、6.23(1H,d,
J10,11=15.5Hz,H−10)、6.82(2H,d,芳香
環性プロトン)、7.22(2H,d,芳香環性プロ
トン)、7.31(1H,d,H−11)、9.68(1H,
CHO) 本発明の方法によつて得られる16員環マクロラ
イド系化合物は、下記の抗菌活性及びマウス肝臓
ホモジネートに対する安定性を示す。 抗菌活性 各化合物の抗菌活性をミユーラーヒントブロス
(PH7.4)を培地とした寒天希釈法によつて測定し
た各種病原微生物に対する最小発育阻止濃度
(μg/ml)は表1のとおりであつた。
【表】
2 マウス肝臓ホモジネートに対する安定性試験
ICR系マウスの肝臓を5倍量の0.1M燐酸緩衝
液(PH7.2)と共にボツターホモゲナイザーによ
り(3000rpm、10min)ホモジネートとした。そ
の上清液(1ml)に被検体500μg/ml(10%メタ
ノール水)1mlを加えて37℃で1時間反応させた
後100℃、3分間加熱後0.1M燐酸緩衝液(PH9.0)
1mlを加え酢酸エチル1mlにて抽出する。この有
機層のシリカゲル薄層クロマトグラフイー(クロ
ロホルム/メタノール/アンモニア−15/1.2/
0.1)に付し、クロマトスキヤナー(283nm)に
て未変化体と加水分解体の生成比を求め、加水分
解物の生成を百分率で表わした。その結果を第2
表に示す。
液(PH7.2)と共にボツターホモゲナイザーによ
り(3000rpm、10min)ホモジネートとした。そ
の上清液(1ml)に被検体500μg/ml(10%メタ
ノール水)1mlを加えて37℃で1時間反応させた
後100℃、3分間加熱後0.1M燐酸緩衝液(PH9.0)
1mlを加え酢酸エチル1mlにて抽出する。この有
機層のシリカゲル薄層クロマトグラフイー(クロ
ロホルム/メタノール/アンモニア−15/1.2/
0.1)に付し、クロマトスキヤナー(283nm)に
て未変化体と加水分解体の生成比を求め、加水分
解物の生成を百分率で表わした。その結果を第2
表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 【化】 式中、 R1は水素原子又は容易に離脱させうる保護基
で保護された水酸基を表わし、 R3及びR4の一方は水素原子を表わし且つ他方
は水酸基又はD−フオロサミノ基を表わすか、或
いはR3とR4は一緒になつてオキソ基を表わし、 R5は水素原子又はメチル基を表わし、 R6とR7は一緒になつて単結合又は−O−を表
わし、 R8は水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル
基、低級アルカノイルオキシメチル基又は 【式】 (ここで、R12は水素原子又は適宜容易に離脱
させうる保護基で保護されていてもよい水酸基を
表わす)の基を表わし、 R9はメチル基又はエチル基を表わし、 R10は水酸基又は低級アルカノイルオキシ基を
表わし、 R11はメチル基又はメトキシ基を表わす、 で示される含錫16員環マクロライド系化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61074197A JPS62234093A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 含錫16員環マクロライド系化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61074197A JPS62234093A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 含錫16員環マクロライド系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62234093A JPS62234093A (ja) | 1987-10-14 |
| JPH0567156B2 true JPH0567156B2 (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=13540213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61074197A Granted JPS62234093A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 含錫16員環マクロライド系化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62234093A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103709218A (zh) * | 2013-05-22 | 2014-04-09 | 浙江普洛康裕生物制药有限公司 | 一种提高泰乐菌素a组分的提取方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3063943B2 (ja) * | 1992-02-26 | 2000-07-12 | 明治製菓株式会社 | 血漿中において抗菌活性の持続する新規16員環マクロリド誘導体及びその合成中間体とそれらの製造法 |
| WO2009008492A1 (ja) | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | マクロライド系化合物の製造方法およびその製造中間体 |
| WO2015138458A1 (en) | 2014-03-11 | 2015-09-17 | Abbvie Inc. | 4"-0-substituted tylosin a derivatives |
-
1986
- 1986-04-02 JP JP61074197A patent/JPS62234093A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103709218A (zh) * | 2013-05-22 | 2014-04-09 | 浙江普洛康裕生物制药有限公司 | 一种提高泰乐菌素a组分的提取方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62234093A (ja) | 1987-10-14 |
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