JPH0567316A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドおよびその製造方法Info
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- JPH0567316A JPH0567316A JP4014208A JP1420892A JPH0567316A JP H0567316 A JPH0567316 A JP H0567316A JP 4014208 A JP4014208 A JP 4014208A JP 1420892 A JP1420892 A JP 1420892A JP H0567316 A JPH0567316 A JP H0567316A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
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- G11B5/3916—Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide
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-
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 読出し信号の歪みの原因を有さないほぼ平坦
なＭＲＥを有する磁気ヘッドを提供せんとするものであ
る。 【構成】 情報読取りヘッド（１）には磁気抵抗素子
（２１）を設け、この素子を基板上に設けられた２つの
磁束案内部間に配列するとともにその一部分を磁束案内
部の薄い端部（２５，２７）上に位置させる。磁束案内
部は基部層（１３，１５）およびこれを部分的に被覆す
る主層（１７，１９）により構成する。次いで主層によ
り露出された基部層部分（２５，２７）に磁気抵抗素子
を部分的に設けてこの磁気抵抗素子を結合部分（２０，
２２）を経て磁束案内部ん磁気的に結合する。
なＭＲＥを有する磁気ヘッドを提供せんとするものであ
る。 【構成】 情報読取りヘッド（１）には磁気抵抗素子
（２１）を設け、この素子を基板上に設けられた２つの
磁束案内部間に配列するとともにその一部分を磁束案内
部の薄い端部（２５，２７）上に位置させる。磁束案内
部は基部層（１３，１５）およびこれを部分的に被覆す
る主層（１７，１９）により構成する。次いで主層によ
り露出された基部層部分（２５，２７）に磁気抵抗素子
を部分的に設けてこの磁気抵抗素子を結合部分（２０，
２２）を経て磁束案内部ん磁気的に結合する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は支持面を有する支持体
と、前記テープ接触面から離間された磁気抵抗素子と、
他の端部よりも薄い１端部を有し、前記テープ接触面に
隣接する磁束案内部とを具え、テープ接触面を有する磁
気ヘッドに関するものである。
と、前記テープ接触面から離間された磁気抵抗素子と、
他の端部よりも薄い１端部を有し、前記テープ接触面に
隣接する磁束案内部とを具え、テープ接触面を有する磁
気ヘッドに関するものである。
【０００２】また、本発明は絶縁層を設けた支持体から
出発し、前記絶縁層に磁束案内部および磁気抵抗素子を
設けた磁気ヘッドを製造する方法に関するものである。
出発し、前記絶縁層に磁束案内部および磁気抵抗素子を
設けた磁気ヘッドを製造する方法に関するものである。
【０００３】
【従来の技術】テープ接触面からある距離離間して位置
する磁気抵抗素子（以下ＭＲＥと称する）を有し、この
テープ接触面とＭＲＥ、いわゆる“ヨークＭＲＨ”との
間に磁束案内部を設けた磁気ヘッドは既知であり、磁気
情報キャリアに存在する情報を読出すために用いられ
る。情報キャリアからの磁束は磁束案内部を経てＭＲＥ
を通過してＭＲＥに磁気抵抗を変化させ、この磁気抵抗
の変化を読出し信号に変換する。
する磁気抵抗素子（以下ＭＲＥと称する）を有し、この
テープ接触面とＭＲＥ、いわゆる“ヨークＭＲＨ”との
間に磁束案内部を設けた磁気ヘッドは既知であり、磁気
情報キャリアに存在する情報を読出すために用いられ
る。情報キャリアからの磁束は磁束案内部を経てＭＲＥ
を通過してＭＲＥに磁気抵抗を変化させ、この磁気抵抗
の変化を読出し信号に変換する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】“ヨークＭＲＨ”の一
般的な構造は特願昭６２−２４１１１９号明細書から既
知である。この場合、ＭＲＥは磁気基板とその上に設け
られた２つの磁束案内部との間に位置する。この構体で
はＭＲＥおよび磁気基板の距離が僅かであるため、情報
キャリアにより発生する磁束の一部分は読出し中を経て
これに平行に案内されないでＭＲＥを垂直に横切り読出
し信号を歪ませるようになる。このＭＲＥに細条状導電
体を設ける場合にはＭＲＥに存在する磁束案内部のこの
部分に理髪店柱状看板のレリーフ、特に波状レリーフを
形成することができる。このレリーフによっても読出し
信号に歪みを生ぜしめるようになる。
般的な構造は特願昭６２−２４１１１９号明細書から既
知である。この場合、ＭＲＥは磁気基板とその上に設け
られた２つの磁束案内部との間に位置する。この構体で
はＭＲＥおよび磁気基板の距離が僅かであるため、情報
キャリアにより発生する磁束の一部分は読出し中を経て
これに平行に案内されないでＭＲＥを垂直に横切り読出
し信号を歪ませるようになる。このＭＲＥに細条状導電
体を設ける場合にはＭＲＥに存在する磁束案内部のこの
部分に理髪店柱状看板のレリーフ、特に波状レリーフを
形成することができる。このレリーフによっても読出し
信号に歪みを生ぜしめるようになる。
【０００５】“ヨークＭＲＨ”の他の一般的な構造は特
願昭６２−２４６１１５号明細書から既知である。この
構造では基板から見てＭＲＥは、この基板および磁束案
内部間ではなく、磁束案内部上に部分的に位置するた
め、読出し信号の歪みの上述した原因は発生しない。こ
の構造では、まず最初、ＭＲＥを設ける基部を、ＭＲＥ
を設ける前に平坦化する。この平坦化は２つの磁束案内
部間のスペースを充填することによって行う。これが行
われない場合にはＭＲＥはレリーフが大きいため例えば
亀裂の形状の不連続部が発生し、その作動が悪影響を受
けるようになる。しかし、平坦化を行う場合には余分な
処理工程を必要とし、従って製造時間が長くなり、且つ
製造コストが高くなる欠点がある。
願昭６２−２４６１１５号明細書から既知である。この
構造では基板から見てＭＲＥは、この基板および磁束案
内部間ではなく、磁束案内部上に部分的に位置するた
め、読出し信号の歪みの上述した原因は発生しない。こ
の構造では、まず最初、ＭＲＥを設ける基部を、ＭＲＥ
を設ける前に平坦化する。この平坦化は２つの磁束案内
部間のスペースを充填することによって行う。これが行
われない場合にはＭＲＥはレリーフが大きいため例えば
亀裂の形状の不連続部が発生し、その作動が悪影響を受
けるようになる。しかし、平坦化を行う場合には余分な
処理工程を必要とし、従って製造時間が長くなり、且つ
製造コストが高くなる欠点がある。
【０００６】前述した磁気ヘッドは特願昭６２−４６４
２０号明細書から既知である。この既知の磁気ヘッドで
は、磁束案内部間にＭＲＥを設けるため、平坦化工程は
必要ではない。しかし、この構造の欠点は、ＭＲＥが大
きなレリーフを有するため、この構造も前述した大きな
レリーフによる欠点を有する。この構造のさらに他の欠
点は、ＭＲＥに理髪店柱状看板設ける必要がある場合に
も上述した厳しい問題が生じるようになる。
２０号明細書から既知である。この既知の磁気ヘッドで
は、磁束案内部間にＭＲＥを設けるため、平坦化工程は
必要ではない。しかし、この構造の欠点は、ＭＲＥが大
きなレリーフを有するため、この構造も前述した大きな
レリーフによる欠点を有する。この構造のさらに他の欠
点は、ＭＲＥに理髪店柱状看板設ける必要がある場合に
も上述した厳しい問題が生じるようになる。
【０００７】また、上述した磁気ヘッドの製造方法は特
願昭６４−４６４２０号明細書から既知である。この関
連する既知の方法に関する問題は、存在し且つＭＲＥを
設けるレリーフのため、ＭＲＥを設ける製造処理が困難
となる。特にＭＲＥのほぼ垂直な部分を設けるのが困難
となり、且つこの垂直な部分および水平な中間部分間の
インターフェースを不連続部を生じることなく達成する
のも困難である。
願昭６４−４６４２０号明細書から既知である。この関
連する既知の方法に関する問題は、存在し且つＭＲＥを
設けるレリーフのため、ＭＲＥを設ける製造処理が困難
となる。特にＭＲＥのほぼ垂直な部分を設けるのが困難
となり、且つこの垂直な部分および水平な中間部分間の
インターフェースを不連続部を生じることなく達成する
のも困難である。
【０００８】本発明の目的は読出し信号の歪みの原因を
有さないほぼ平坦なＭＲＥを有する上述した種類の磁気
ヘッドを提供せんとするにある。
有さないほぼ平坦なＭＲＥを有する上述した種類の磁気
ヘッドを提供せんとするにある。
【０００９】本発明の他の目的は上述した欠点の生じな
い磁気ヘッドの製造方法を提供せんとするするにある。
い磁気ヘッドの製造方法を提供せんとするするにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は支持面を有する
支持体と、前記テープ接触面から離間された磁気抵抗素
子と、他の端部よりも薄い１端部を有し、前記テープ接
触面に隣接する磁束案内部とを具え、テープ接触面を有
する磁気ヘッドにおいて、前記磁束案内部の薄い他の端
部は前記支持面に少なくともほぼ平行且つこれから離間
された基部面を有し、この基部面に前記磁気抵抗素子の
結合部を位置させるようにしたことを特徴とする。
支持体と、前記テープ接触面から離間された磁気抵抗素
子と、他の端部よりも薄い１端部を有し、前記テープ接
触面に隣接する磁束案内部とを具え、テープ接触面を有
する磁気ヘッドにおいて、前記磁束案内部の薄い他の端
部は前記支持面に少なくともほぼ平行且つこれから離間
された基部面を有し、この基部面に前記磁気抵抗素子の
結合部を位置させるようにしたことを特徴とする。
【００１１】かように薄い端部を設けることにより、Ｍ
ＲＥを何ら問題なく設け得る平坦な基板を得ることがで
きる。この端部により磁束案内部の残存する部分との満
足な磁気結合を得ることができる。一般に“ヨークＭＲ
Ｈ”はこれを適宜構成して、テープ接触面に垂直な方向
に見て支持部上の磁束案内部から離間された他の磁束案
内部を磁気ヘッドに設けるようにする。
ＲＥを何ら問題なく設け得る平坦な基板を得ることがで
きる。この端部により磁束案内部の残存する部分との満
足な磁気結合を得ることができる。一般に“ヨークＭＲ
Ｈ”はこれを適宜構成して、テープ接触面に垂直な方向
に見て支持部上の磁束案内部から離間された他の磁束案
内部を磁気ヘッドに設けるようにする。
【００１２】本発明磁気ヘッドの他の例では、前記支持
部上に絶縁層を設け、前記磁束案内部には前記絶縁層上
に位置する基部層を設け、前記薄い他の端部を前記基部
層の一部分によって形成し、前記磁束案内部にも前記基
部面の前記基部層の他の部分に設けられた主層を具える
ようにする。これは薄い端部を良好に画成し、主層の材
料とは異なる材料で製造し得る有利なヘッド構体であ
る。
部上に絶縁層を設け、前記磁束案内部には前記絶縁層上
に位置する基部層を設け、前記薄い他の端部を前記基部
層の一部分によって形成し、前記磁束案内部にも前記基
部面の前記基部層の他の部分に設けられた主層を具える
ようにする。これは薄い端部を良好に画成し、主層の材
料とは異なる材料で製造し得る有利なヘッド構体であ
る。
【００１３】本発明磁気ヘッドの更に他の例では、前記
絶縁層に配列され前記磁気抵抗素子と共働する導電体を
さらに具え、前記磁気抵抗素子は、前記導電体に対向し
て部分的に位置させるとともに前記テープ接触面から見
て前記導電体を越えて前記磁気抵抗素子の他の結合部分
が前記支持体に対向して位置する箇所まで延在させるよ
うにする。かかる導電体を用いてＭＲＥの補助磁界を発
生させ動作範囲を一層直線的な部分にシフトし得るよう
にする。この導電体を絶縁層およびＭＲＥの部分間に設
けることにより、支持部とＭＲＥの部分との間の距離を
増大してＭＲＥを垂直に横切って支持部に向かう磁束が
僅かとなるようにする。この導電体も薄いため、ＭＲＥ
を設ける基板もほぼ平坦のままである。導電体および基
部層によりＭＲＥに存在する小さなレリーフはＭＲＥの
長手方向に延在して磁気抵抗素子のドメイン構体の安定
性を増大する。
絶縁層に配列され前記磁気抵抗素子と共働する導電体を
さらに具え、前記磁気抵抗素子は、前記導電体に対向し
て部分的に位置させるとともに前記テープ接触面から見
て前記導電体を越えて前記磁気抵抗素子の他の結合部分
が前記支持体に対向して位置する箇所まで延在させるよ
うにする。かかる導電体を用いてＭＲＥの補助磁界を発
生させ動作範囲を一層直線的な部分にシフトし得るよう
にする。この導電体を絶縁層およびＭＲＥの部分間に設
けることにより、支持部とＭＲＥの部分との間の距離を
増大してＭＲＥを垂直に横切って支持部に向かう磁束が
僅かとなるようにする。この導電体も薄いため、ＭＲＥ
を設ける基板もほぼ平坦のままである。導電体および基
部層によりＭＲＥに存在する小さなレリーフはＭＲＥの
長手方向に延在して磁気抵抗素子のドメイン構体の安定
性を増大する。
【００１４】本発明磁気ヘッドの製造方法は絶縁層を設
けた支持体から出発し、前記絶縁層に磁束案内部および
磁気抵抗素子を設けた磁気ヘッドを製造するに当たり、
まず最初前記絶縁層に磁束案内部の基部層を設け、次い
でこの基部層の一部分に磁束案内部の主層を設け、その
後前記主層により除去された前記基部層の一部分に磁気
抵抗素子を部分的に設けるようにしたことを特徴とす
る。この方法では、ほぼ平坦なＭＲＥを製造するため、
上述した問題は発生しない。本発明磁気ヘッドの製造方
法によれば最小数の製造処理工程で基部層を製造するこ
とができる。その理由は磁束案内部の主層を形成する基
部層が既に設けられ磁束案内部を電着するからである。
けた支持体から出発し、前記絶縁層に磁束案内部および
磁気抵抗素子を設けた磁気ヘッドを製造するに当たり、
まず最初前記絶縁層に磁束案内部の基部層を設け、次い
でこの基部層の一部分に磁束案内部の主層を設け、その
後前記主層により除去された前記基部層の一部分に磁気
抵抗素子を部分的に設けるようにしたことを特徴とす
る。この方法では、ほぼ平坦なＭＲＥを製造するため、
上述した問題は発生しない。本発明磁気ヘッドの製造方
法によれば最小数の製造処理工程で基部層を製造するこ
とができる。その理由は磁束案内部の主層を形成する基
部層が既に設けられ磁束案内部を電着するからである。
【００１５】
【実施例】以下図面につき本発明の実施例を説明する。
図１は本発明磁気ヘッド１の第１例を示す。この磁気ヘ
ッド１には磁気情報キャリアと共働するテープ接触面３
を設ける。本例では磁気ヘッド１に磁気支持体（基板）
５、例えばフェライト基板を設け、その支持面６に絶縁
層１１を設ける。この絶縁層１１によってテープ接触面
３の区域に読出しギャップを形成する。絶縁層１１には
前記テープ接触面３に隣接し、且つ縁部２５を有する磁
束案内部７と、この磁束案内部から離間され、且つ他の
縁部２７を有する他の磁束案内部９とを設ける。磁気支
持体５の代わりに磁性層を設けた非磁性材料を支持体と
して用いることができる。磁束案内部７および磁束案内
部９にはそれぞれ基部層１３および他の基部層１５を設
け、その１部分はこれによって端部２５および２７を構
成するとともに基部面１４および他の基部面１６をそれ
ぞれ設け、これら基部面は前記支持面６に平行且つこれ
から離間させるようにする。磁束案内部の１部分をも構
成する主層１７および他の主層１９は基部面１４および
１６にそれぞれ位置させる。これら基部層は導磁性およ
び導電性材料、例えばＮｉＦｅで造った薄い層とし、主
層を電着する際のいわゆる“メッキ基部”として作用す
る。磁束案内部７および９間には情報キャリアからの磁
束を電気測定信号に変換する磁気抵抗素子２１（ＭＲ
Ｅ）を配設する。ＭＲＥの満足すべき作動に対しては、
ＭＲＥを磁気支持体から離間して位置させ、磁束案内部
７からの磁束がＭＲＥを経て他の磁束案内部９に案内さ
れるとともに僅かな磁束がＭＲＥを横切って支持体に流
れるようにする。この理由のために、ＭＲＥは支持体５
および磁束案内部間でなくて、磁束案内部７および９間
に配列し得るようにする。支持体５およびＭＲＥ２１間
の距離をさらに増大させるためには、本例では支持体お
よびＭＲＥ間に導電体２３を配列する。
図１は本発明磁気ヘッド１の第１例を示す。この磁気ヘ
ッド１には磁気情報キャリアと共働するテープ接触面３
を設ける。本例では磁気ヘッド１に磁気支持体（基板）
５、例えばフェライト基板を設け、その支持面６に絶縁
層１１を設ける。この絶縁層１１によってテープ接触面
３の区域に読出しギャップを形成する。絶縁層１１には
前記テープ接触面３に隣接し、且つ縁部２５を有する磁
束案内部７と、この磁束案内部から離間され、且つ他の
縁部２７を有する他の磁束案内部９とを設ける。磁気支
持体５の代わりに磁性層を設けた非磁性材料を支持体と
して用いることができる。磁束案内部７および磁束案内
部９にはそれぞれ基部層１３および他の基部層１５を設
け、その１部分はこれによって端部２５および２７を構
成するとともに基部面１４および他の基部面１６をそれ
ぞれ設け、これら基部面は前記支持面６に平行且つこれ
から離間させるようにする。磁束案内部の１部分をも構
成する主層１７および他の主層１９は基部面１４および
１６にそれぞれ位置させる。これら基部層は導磁性およ
び導電性材料、例えばＮｉＦｅで造った薄い層とし、主
層を電着する際のいわゆる“メッキ基部”として作用す
る。磁束案内部７および９間には情報キャリアからの磁
束を電気測定信号に変換する磁気抵抗素子２１（ＭＲ
Ｅ）を配設する。ＭＲＥの満足すべき作動に対しては、
ＭＲＥを磁気支持体から離間して位置させ、磁束案内部
７からの磁束がＭＲＥを経て他の磁束案内部９に案内さ
れるとともに僅かな磁束がＭＲＥを横切って支持体に流
れるようにする。この理由のために、ＭＲＥは支持体５
および磁束案内部間でなくて、磁束案内部７および９間
に配列し得るようにする。支持体５およびＭＲＥ２１間
の距離をさらに増大させるためには、本例では支持体お
よびＭＲＥ間に導電体２３を配列する。
【００１６】この導電体２３を用いて補助磁界を発生さ
せ、ＭＲＥ２１を通過する全磁束がＭＲＥの磁気抵抗と
ＭＲＥを通過する磁束との間の関係が一層直線性となる
ようにする。導電体２３は例えばＣｕ層またはＡｕ層に
より形成する。ＭＲＥが満足し得るようにするために
は、ＭＲＥを形成する基板が平坦であり、且つその高さ
を多くとも僅かに相違させる必要がある。ＭＲＥを満足
に作動させるためには、ＭＲＥ２１と磁束案内部７およ
び９との間を満足に磁気結合することも重要である。平
坦な基板の条件を満足させるとともに満足な磁気結合を
得るためにはＭＲＥの一方の結合部分２０および他方の
結合部分２２をそれぞれ基部面１４および他方の基部面
１６上の、前記基部層１３および１５の一方の端部２５
および他方の端部２７の箇所に設け、これら部分を主層
１７および１９によってそれぞれ除去する。ＭＲＥと磁
束案内部の部分２５および２７とが互いに重畳されてい
るため、磁気結合はＭＲＥの端部のみが磁束案内部に隣
接する場合に大きな表面積に亘って実行されるようにな
る。またＭＲＥが磁束案内部の主層間に存在するととも
に主層上に部分的に存在しないため、このＭＲＥがほぼ
平坦となってＭＲＥの形成後、層の厚さが一定のＭＲＥ
を得ることができ、そのうえに導通状態の理髪店柱状看
板の細条を何ら問題なく設けることができる。
せ、ＭＲＥ２１を通過する全磁束がＭＲＥの磁気抵抗と
ＭＲＥを通過する磁束との間の関係が一層直線性となる
ようにする。導電体２３は例えばＣｕ層またはＡｕ層に
より形成する。ＭＲＥが満足し得るようにするために
は、ＭＲＥを形成する基板が平坦であり、且つその高さ
を多くとも僅かに相違させる必要がある。ＭＲＥを満足
に作動させるためには、ＭＲＥ２１と磁束案内部７およ
び９との間を満足に磁気結合することも重要である。平
坦な基板の条件を満足させるとともに満足な磁気結合を
得るためにはＭＲＥの一方の結合部分２０および他方の
結合部分２２をそれぞれ基部面１４および他方の基部面
１６上の、前記基部層１３および１５の一方の端部２５
および他方の端部２７の箇所に設け、これら部分を主層
１７および１９によってそれぞれ除去する。ＭＲＥと磁
束案内部の部分２５および２７とが互いに重畳されてい
るため、磁気結合はＭＲＥの端部のみが磁束案内部に隣
接する場合に大きな表面積に亘って実行されるようにな
る。またＭＲＥが磁束案内部の主層間に存在するととも
に主層上に部分的に存在しないため、このＭＲＥがほぼ
平坦となってＭＲＥの形成後、層の厚さが一定のＭＲＥ
を得ることができ、そのうえに導通状態の理髪店柱状看
板の細条を何ら問題なく設けることができる。
【００１７】基部層および主層から磁束案内部を形成す
ることは追加の製造工程、例えばエッチング工程を実行
することなく基部層の１部分を自由に保持することがで
きる。磁束案内部７および９を電着により形成する場合
には磁束案内部を形成する追加の製造工程は必要でなく
なる。磁束案内部の電着を行うためにはまず最初基部層
１３および１５を絶縁層１１上に設ける。これら基部層
は一般にスパッタされ、且つ例えばＮｉＦｅのような導
磁性および導電性材料で造る。主層１７および１９を形
成するためには、基部層を電着処理のいわゆる“メッキ
基部”として用いる。本例では、主層を基部層と同一の
材料（ＮｉＦｅ）で造るが、或はまた、これらをＣｒの
ような他の磁性材料で造ることができる。端部２５およ
び２７の箇所では、基部面１４および１６に他の絶縁層
２８を被覆してこれら部分を露出した儘とする。これが
ため、他の絶縁層２８上のＭＲＥ２１をスパッタするこ
とができる。かかる絶縁層にしばしば用いられる材料は
石英であり、ＭＲＥにはパーマロイがしばしば用いられ
る。
ることは追加の製造工程、例えばエッチング工程を実行
することなく基部層の１部分を自由に保持することがで
きる。磁束案内部７および９を電着により形成する場合
には磁束案内部を形成する追加の製造工程は必要でなく
なる。磁束案内部の電着を行うためにはまず最初基部層
１３および１５を絶縁層１１上に設ける。これら基部層
は一般にスパッタされ、且つ例えばＮｉＦｅのような導
磁性および導電性材料で造る。主層１７および１９を形
成するためには、基部層を電着処理のいわゆる“メッキ
基部”として用いる。本例では、主層を基部層と同一の
材料（ＮｉＦｅ）で造るが、或はまた、これらをＣｒの
ような他の磁性材料で造ることができる。端部２５およ
び２７の箇所では、基部面１４および１６に他の絶縁層
２８を被覆してこれら部分を露出した儘とする。これが
ため、他の絶縁層２８上のＭＲＥ２１をスパッタするこ
とができる。かかる絶縁層にしばしば用いられる材料は
石英であり、ＭＲＥにはパーマロイがしばしば用いられ
る。
【００１８】図２は図１に示す磁気ヘッドを拡大断面で
示す。磁気ヘッド構体は充填層２９によって被覆する。
図３は磁束を読み取る本発明磁気ヘッドの他の好適な例
を示す。本例は図２に示す例とは相違する。本例でも磁
気ヘッド３１にはテープ接触面３３および支持体３４を
設け、その上にテープ接触面に隣接する磁束案内部３７
を設けることができる。この例では、支持体３４は非磁
性基板３５を具え、その上に磁束案内層３６を設ける。
また、図２に示す磁束案内部は基部層３９を具え、その
上に主層４１を設ける。また、支持体および磁束案内部
間にも絶縁層４３を設ける。ＭＲＥ４７を設ける導電体
４５は支持体上に位置させる。しかし、この場合、ＭＲ
Ｅは、２つの案内部間に設けず、結合部分４９によって
案内部３７に結合するとともに他の結合部分５１によっ
て案内部３６に結合する。これがため、磁束は磁束案内
部３７から他の磁束案内部を経ないでＭＲＥ４７を経て
磁束案内層３６に直接案内されるようになる。かように
して、第１例の場合とほぼ同様に用請うな磁気帯び電気
特性を有し、廉価に製造し得る簡単な磁気ヘッド構体を
得ることができるようになる。また、磁気ヘッド構体も
充填層５３によって被覆する。双方の例においてＭＲＥ
は高さが互いに僅かだけ相違する部品を有する基板に配
列する。これがため、ＭＲＥは完全に平坦ではないが、
テープ接触面に平行に延在する段部を有するようにな
る。かかるレリーフがＭＲＥの安定性に良好な影響を与
えることを確かめた。その理由はＭＲＥに安定なドメイ
ン構体が発生するからである。
示す。磁気ヘッド構体は充填層２９によって被覆する。
図３は磁束を読み取る本発明磁気ヘッドの他の好適な例
を示す。本例は図２に示す例とは相違する。本例でも磁
気ヘッド３１にはテープ接触面３３および支持体３４を
設け、その上にテープ接触面に隣接する磁束案内部３７
を設けることができる。この例では、支持体３４は非磁
性基板３５を具え、その上に磁束案内層３６を設ける。
また、図２に示す磁束案内部は基部層３９を具え、その
上に主層４１を設ける。また、支持体および磁束案内部
間にも絶縁層４３を設ける。ＭＲＥ４７を設ける導電体
４５は支持体上に位置させる。しかし、この場合、ＭＲ
Ｅは、２つの案内部間に設けず、結合部分４９によって
案内部３７に結合するとともに他の結合部分５１によっ
て案内部３６に結合する。これがため、磁束は磁束案内
部３７から他の磁束案内部を経ないでＭＲＥ４７を経て
磁束案内層３６に直接案内されるようになる。かように
して、第１例の場合とほぼ同様に用請うな磁気帯び電気
特性を有し、廉価に製造し得る簡単な磁気ヘッド構体を
得ることができるようになる。また、磁気ヘッド構体も
充填層５３によって被覆する。双方の例においてＭＲＥ
は高さが互いに僅かだけ相違する部品を有する基板に配
列する。これがため、ＭＲＥは完全に平坦ではないが、
テープ接触面に平行に延在する段部を有するようにな
る。かかるレリーフがＭＲＥの安定性に良好な影響を与
えることを確かめた。その理由はＭＲＥに安定なドメイ
ン構体が発生するからである。
【００１９】本発明は上述した例にのみ限定されるもの
ではなく、要旨を変更しない範囲内で種々の変形または
変更を行うことができる。例えば複合読取り−書込みヘ
ッドの読取り部分に本発明を適用することができる。
ではなく、要旨を変更しない範囲内で種々の変形または
変更を行うことができる。例えば複合読取り−書込みヘ
ッドの読取り部分に本発明を適用することができる。
【図１】磁束案内部の箇所で断面された本発明による磁
気ヘッドの第１例を示す斜視図である。
気ヘッドの第１例を示す斜視図である。
【図２】図１に示す磁気ヘッドを拡大断面で示す断面図
である。
である。
【図３】磁気ヘッドの第２例を示す拡大断面図である。
１ 磁気ヘッド ３ テープ接触面 ５ 磁気支持体（基板） ６ 支持面 ７ 磁束案内部 ９ 磁束案内部 １１ 絶縁層 １３ 基部層 １４ 基部面 １５ 基部部 １６ 基部面 １７ 主層 １９ 主層 ２０ 結合部分 ２１ 磁気抵抗素子（ＭＲＥ） ２２ 他の結合部分 ２３ 電気導体 ２５，２７ 端部 ２８ 絶縁層 ２９ 充填層 ３１ 磁気ヘッド ３３ テープ接触面 ３４ 支持体 ３５ 非磁性基板 ３６ 磁束案内層 ３７ 磁束案内部 ３９ 基部層 ４１ 主層 ４３ 絶縁層 ４５ 導電体 ４７ ＭＲＥ ４９ 結合部 ５１ 結合部 ５３ 充填層
Claims (4)
- 【請求項１】 支持面を有する支持体と、前記テープ接
触面から離間された磁気抵抗素子と、他の端部よりも薄
い１端部を有し、前記テープ接触面に隣接する磁束案内
部とを具え、テープ接触面を有する磁気ヘッドにおい
て、前記磁束案内部の薄い他の端部は前記支持面に少な
くともほぼ平行且つこれから離間された基部面を有し、
この基部面に前記磁気抵抗素子の結合部を位置させるよ
うにしたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記支持面に絶縁層を設け、前記磁束案
内部には前記絶縁層上に位置する基部層を設け、前記薄
い他の端部を前記基部層の一部分によって形成し、前記
磁束案内部にも前記基部面の前記基部層の他の部分に設
けられた主層を具えることを特徴とする請求項１に記載
の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記絶縁層に配列され前記磁気抵抗素子
と共働する導電体をさらに具え、前記磁気抵抗素子は、
前記導電体に対向して部分的に位置させるとともに前記
テープ接触面から見て前記導電体を越えて前記磁気抵抗
素子の他の結合部分が前記支持体に対向して位置する箇
所まで延在させるようにしたことを特徴とする請求項１
または２に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 絶縁層を設けた支持体から出発し、前記
絶縁層に磁束案内部および磁気抵抗素子を設けた請求項
２または３に記載の磁気ヘッドを製造するに当たり、ま
ず最初前記絶縁層に磁束案内部の基部層を設け、次いで
この基部層の一部分に磁束案内部の主層を設け、その後
前記主層により除去された前記基部層の一部分に磁気抵
抗素子を部分的に設けるようにしたことを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9100155A NL9100155A (nl) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | Magneetkop, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke magneetkop. |
| NL9100155 | 1991-01-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0567316A true JPH0567316A (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=19858795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4014208A Pending JPH0567316A (ja) | 1991-01-30 | 1992-01-29 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5291363A (ja) |
| EP (1) | EP0497403B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0567316A (ja) |
| DE (1) | DE69214476T2 (ja) |
| NL (1) | NL9100155A (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5508868A (en) * | 1993-01-25 | 1996-04-16 | Read-Rite Corporation | Dual element magnetoresistive sensing head having in-gap flux guide and flux closure piece with particular connection of magnetoresistive sensing elements to differential amplifier |
| JP2982931B2 (ja) * | 1993-05-17 | 1999-11-29 | 富士通株式会社 | 磁気抵抗効果型ヘッド及びその製造方法 |
| JP2683503B2 (ja) * | 1993-09-02 | 1997-12-03 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 磁性膜構造 |
| BE1007992A3 (nl) * | 1993-12-17 | 1995-12-05 | Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een dunnefilmmagneetkop en magneetkop vervaardigd volgens de werkwijze. |
| WO1995026547A2 (en) * | 1994-03-25 | 1995-10-05 | Philips Electronics N.V. | Magneto-resistive device, and magnetic head comprising such a device |
| US5678086A (en) * | 1996-07-22 | 1997-10-14 | Eastman Kodak Company | Patterned multi-track thin film heads for image area record/reproduce on magnetics-on-film |
| KR100201681B1 (ko) * | 1996-01-03 | 1999-06-15 | 포만 제프리 엘 | 직교 자기저항 센서와 자기 저장 시스템 및 직교 자기저항 센서 제조 방법 |
| US5930084A (en) | 1996-06-17 | 1999-07-27 | International Business Machines Corporation | Stabilized MR sensor and flux guide joined by contiguous junction |
| JP3151155B2 (ja) * | 1996-09-10 | 2001-04-03 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| JP3898863B2 (ja) * | 1999-11-24 | 2007-03-28 | ミツミ電機株式会社 | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド |
| US6624988B2 (en) * | 2001-03-20 | 2003-09-23 | International Business Machines Corporation | Tunnel junction sensor with antiparallel (AP) coupled flux guide |
| US7057864B2 (en) * | 2001-07-10 | 2006-06-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method and apparatus for achieving physical connection between the flux guide and the free layer and that insulates the flux guide from the shields |
| US7170721B2 (en) * | 2002-06-25 | 2007-01-30 | Quantum Corporation | Method of producing flux guides in magnetic recording heads |
| US7290325B2 (en) | 2004-08-13 | 2007-11-06 | Quantum Corporation | Methods of manufacturing magnetic heads with reference and monitoring devices |
| US7751154B2 (en) | 2005-05-19 | 2010-07-06 | Quantum Corporation | Magnetic recording heads with bearing surface protections and methods of manufacture |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3644388A1 (de) * | 1985-12-27 | 1987-07-02 | Sharp Kk | Duennfilm-joch-magnetkopf |
| JPS62257612A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-10 | Nec Kansai Ltd | ヨ−ク型薄膜磁気ヘツド |
| US5159511A (en) * | 1987-04-01 | 1992-10-27 | Digital Equipment Corporation | Biasing conductor for MR head |
-
1991
- 1991-01-30 NL NL9100155A patent/NL9100155A/nl unknown
-
1992
- 1992-01-21 DE DE69214476T patent/DE69214476T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-21 EP EP92200156A patent/EP0497403B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-01-28 US US07/827,191 patent/US5291363A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-29 JP JP4014208A patent/JPH0567316A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0497403B1 (en) | 1996-10-16 |
| US5291363A (en) | 1994-03-01 |
| NL9100155A (nl) | 1992-08-17 |
| DE69214476D1 (de) | 1996-11-21 |
| DE69214476T2 (de) | 1997-04-24 |
| EP0497403A1 (en) | 1992-08-05 |
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