JPH0567564A - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
- Publication number
- JPH0567564A JPH0567564A JP3227578A JP22757891A JPH0567564A JP H0567564 A JPH0567564 A JP H0567564A JP 3227578 A JP3227578 A JP 3227578A JP 22757891 A JP22757891 A JP 22757891A JP H0567564 A JPH0567564 A JP H0567564A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- wafer
- symbol
- scheduling
- information
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W46/00—Marks applied to devices, e.g. for alignment or identification
- H10W46/201—Marks applied to devices, e.g. for alignment or identification located on the periphery of wafers, e.g. orientation notches or lot numbers
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光方法に関し，スケジューリングミスまた
はウエハのセットミスの発生を防止し，スケジューリン
グ処理を無くし, ウエハを装置にセットするだけでウエ
ハの種類を区別して露光処理を行えるようにすることを
目的とする。 【構成】 被露光ウエハ５上に記号６を記入し，該ウエ
ハを露光装置１にセットし該記号を該露光装置により検
出し，該記号に対応した露光情報を露光制御用計算機３
に読み込まれた既登録のデータベースより抽出し，該露
光情報に基づいて露光処理を行うように構成する。
はウエハのセットミスの発生を防止し，スケジューリン
グ処理を無くし, ウエハを装置にセットするだけでウエ
ハの種類を区別して露光処理を行えるようにすることを
目的とする。 【構成】 被露光ウエハ５上に記号６を記入し，該ウエ
ハを露光装置１にセットし該記号を該露光装置により検
出し，該記号に対応した露光情報を露光制御用計算機３
に読み込まれた既登録のデータベースより抽出し，該露
光情報に基づいて露光処理を行うように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は露光方法，特に電子ビー
ム露光方法に関する。近年の半導体装置の製造工程の複
雑化，高スループット化に伴い，露光方法もそれに対す
る対応が要求されている。
ム露光方法に関する。近年の半導体装置の製造工程の複
雑化，高スループット化に伴い，露光方法もそれに対す
る対応が要求されている。
【０００２】
【従来の技術】従来の電子ビーム露光方式は，露光処理
前にウエハ１枚ずつ露光データの指示（以後，スケジュ
ーリングと言う）を行って，ウエハ上にパターンを形成
していた。
前にウエハ１枚ずつ露光データの指示（以後，スケジュ
ーリングと言う）を行って，ウエハ上にパターンを形成
していた。
【０００３】ところが，最近，製品の多様化が進み，少
量多品種製品の製造が必要となってきた。例えば，ゲー
トアレイの配線工程のように，品種は異なっているがチ
ップサイズは同一であるようなパターンを形成する場
合，露光データ（品種）の指示またはウエハが間違って
いたとしても露光処理が可能であるため，間違ったパタ
ーニングを行ってしまうことになる。
量多品種製品の製造が必要となってきた。例えば，ゲー
トアレイの配線工程のように，品種は異なっているがチ
ップサイズは同一であるようなパターンを形成する場
合，露光データ（品種）の指示またはウエハが間違って
いたとしても露光処理が可能であるため，間違ったパタ
ーニングを行ってしまうことになる。
【０００４】そのために，露光処理後にすべてのウエハ
について正しいパターニングが行われたかのチェックを
行っていた。
について正しいパターニングが行われたかのチェックを
行っていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って，ゲートアレイ
のように配線層だけが異なるICを製造する工程では, ス
ケジューリングミスまたはウエハのセットミスが生じた
場合でも, 異なった品種の露光情報を使用して露光され
てしまうといった問題が発生していた。
のように配線層だけが異なるICを製造する工程では, ス
ケジューリングミスまたはウエハのセットミスが生じた
場合でも, 異なった品種の露光情報を使用して露光され
てしまうといった問題が発生していた。
【０００６】本発明はスケジューリングミスまたはウエ
ハのセットミスの発生を防止し，複雑化するスケジュー
リング処理を無くし, ウエハを露光装置にセットするだ
けで装置が自動的にウエハの種類を区別して露光処理を
行えるようにすることを目的とする。
ハのセットミスの発生を防止し，複雑化するスケジュー
リング処理を無くし, ウエハを露光装置にセットするだ
けで装置が自動的にウエハの種類を区別して露光処理を
行えるようにすることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は，被露
光ウエハ(5) 上に記号(6) を記入し，該ウエハを露光装
置(1) にセットし該記号を該露光装置により検出し，該
記号に対応した露光情報を露光制御用計算機(3）に読み
込まれた既登録のデータベースより抽出し，該露光情報
に基づいて露光処理を行う露光方法により達成される。
光ウエハ(5) 上に記号(6) を記入し，該ウエハを露光装
置(1) にセットし該記号を該露光装置により検出し，該
記号に対応した露光情報を露光制御用計算機(3）に読み
込まれた既登録のデータベースより抽出し，該露光情報
に基づいて露光処理を行う露光方法により達成される。
【０００８】
【作用】本発明はウエハ上に記入された記号を露光装置
が検出し，その記号に対応した露光情報を既登録のデー
タベースより抽出して露光処理を行うようにして，スケ
ジューリングミスまたはウエハのセットミスの発生を防
止している。
が検出し，その記号に対応した露光情報を既登録のデー
タベースより抽出して露光処理を行うようにして，スケ
ジューリングミスまたはウエハのセットミスの発生を防
止している。
【０００９】
【実施例】図１は露光システム構成図である。図におい
て，１は電子ビーム露光装置，２は露光制御装置，３は
計算機，４はインタフェイスである。
て，１は電子ビーム露光装置，２は露光制御装置，３は
計算機，４はインタフェイスである。
【００１０】以下に，各部の機能の概略を説明する。露
光制御装置２は計算機３からの命令により，電子ビーム
露光装置１を制御する装置で，主に次の処理を行う。
光制御装置２は計算機３からの命令により，電子ビーム
露光装置１を制御する装置で，主に次の処理を行う。
【００１１】(1) 装置へのウエハの出し入れ (2) 装置の真空度の制御 (3）ウエハを載せたウエハステージの移動 (4）露光パターンデータの展開 (5) 各種信号処理 計算機３は主に次の処理を行う。
【００１２】(1) 露光スケジューリング (2) 各種信号処理 (3）処理命令 インタフェイス４は計算機からの命令を露光制御装置２
内の各装置に分配する機能を持っている。
内の各装置に分配する機能を持っている。
【００１３】つぎに露光の順序について説明する。先
ず，露光パターンデータを作成し，露光制御用の計算機
３にデータを登録する。
ず，露光パターンデータを作成し，露光制御用の計算機
３にデータを登録する。
【００１４】同時に，露光に必要な情報（従来までの露
光処理時に行っていたスケジューリング等のデータ）の
登録を行う。この登録はこのデータを使用する以前であ
ればいつ行ってもよい。
光処理時に行っていたスケジューリング等のデータ）の
登録を行う。この登録はこのデータを使用する以前であ
ればいつ行ってもよい。
【００１５】図２はデータベースに登録された露光情報
の説明図である。図示のように，品種，露光情報は露光
条件等，合わせマーク情報等，パターンデータからな
る。
の説明図である。図示のように，品種，露光情報は露光
条件等，合わせマーク情報等，パターンデータからな
る。
【００１６】なお，同一品種で多層の場合のデータベー
スは，図の背面に重なって示されるように，品種名を除
いた露光情報が用意される。ここで，品種はウエハ上の
記号 (バーコードマーク) に対応する。
スは，図の背面に重なって示されるように，品種名を除
いた露光情報が用意される。ここで，品種はウエハ上の
記号 (バーコードマーク) に対応する。
【００１７】次いで，露光処理を行う場合，図３に示さ
れるように，ウエハ上の所定の場所に既知のバーコード
マークを形成しておき，露光処理前にバーコードマーク
を解読して，このウエハの品種を判断し，これに対応す
る露光情報が登録されているデータベースより抽出し露
光処理を行う。
れるように，ウエハ上の所定の場所に既知のバーコード
マークを形成しておき，露光処理前にバーコードマーク
を解読して，このウエハの品種を判断し，これに対応す
る露光情報が登録されているデータベースより抽出し露
光処理を行う。
【００１８】図３はバーコードマークを形成したウエハ
の平面図である。図において，５はウエハ, ６は記号で
バーコードマークである。このバーコードマークを露光
装置１側で検出し，解読してセットしたウエハの必要な
露光情報を既に登録されているデータベースより計算機
３に読み込む。この状態で従来方式について言えばスケ
ジューリングされた状態となる。
の平面図である。図において，５はウエハ, ６は記号で
バーコードマークである。このバーコードマークを露光
装置１側で検出し，解読してセットしたウエハの必要な
露光情報を既に登録されているデータベースより計算機
３に読み込む。この状態で従来方式について言えばスケ
ジューリングされた状態となる。
【００１９】従って，ウエハ毎に露光装置か自動的にス
ケジューリングしたことになり，ウエハを露光装置にセ
ットするだけで正しいパターンを形成できる。次に，実
施例の具体例をゲートアレイICを例にとり説明する。
ケジューリングしたことになり，ウエハを露光装置にセ
ットするだけで正しいパターンを形成できる。次に，実
施例の具体例をゲートアレイICを例にとり説明する。
【００２０】ゲートアレイのウエハプロセスはバルク工
程と配線工程に分類される。ここで, 例えば，バルク工
程の或る品種の或るパターンを或るバーコードマーク
で，また，配線工程の同一品種の或るパターンを別のバ
ーコードマークで表すようにする。
程と配線工程に分類される。ここで, 例えば，バルク工
程の或る品種の或るパターンを或るバーコードマーク
で，また，配線工程の同一品種の或るパターンを別のバ
ーコードマークで表すようにする。
【００２１】このように，バーコードマークで品種のシ
リーズ名，工程名，層番号，品種番号等を表す。通常の
リソグラフィ技術により, このようなバーコードマーク
をウエハ上に凹凸で形成する。また, それを認識する技
術は店頭のPOS 端末に見られるように既に実用化されて
いる。
リーズ名，工程名，層番号，品種番号等を表す。通常の
リソグラフィ技術により, このようなバーコードマーク
をウエハ上に凹凸で形成する。また, それを認識する技
術は店頭のPOS 端末に見られるように既に実用化されて
いる。
【００２２】なお，ウエハのバルク工程, 配線工程の各
層のパターンデータは，ウエハの別の場所（本発明の記
号以外の場所，例えばウエハ裏面等）に記入されたウエ
ハのロット番号とともに計算機側で処理データを管理す
る。
層のパターンデータは，ウエハの別の場所（本発明の記
号以外の場所，例えばウエハ裏面等）に記入されたウエ
ハのロット番号とともに計算機側で処理データを管理す
る。
【００２３】実施例では記号として情報量の多いバーコ
ードマークを使用したが, その他の記号, 例えば数字表
示の番号, 英字等であってもよいことは勿論である。
ードマークを使用したが, その他の記号, 例えば数字表
示の番号, 英字等であってもよいことは勿論である。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば，スケジューリングミス
またはウエハのセットミスの発生を防止でき，スケジュ
ーリング処理を無くし, ウエハを露光装置にセットする
だけでウエハの種類を区別して露光処理を行えるように
なった。
またはウエハのセットミスの発生を防止でき，スケジュ
ーリング処理を無くし, ウエハを露光装置にセットする
だけでウエハの種類を区別して露光処理を行えるように
なった。
【００２５】この結果，露光データミスによる製造歩留
の低下を防ぎ，少量多品種の半導体装置の製造に非常に
有効となった。
の低下を防ぎ，少量多品種の半導体装置の製造に非常に
有効となった。
【図１】 露光システム構成図
【図２】 データベースに登録された露光情報の説明図
【図３】 バーコードマークを形成したウエハの平面図
１ 電子ビーム露光装置 ２ 露光制御装置 ３ 計算機 ４ インタフェイス ５ ウエハ ６ バーコードマーク
Claims (1)
- 【請求項１】 被露光ウエハ(5) 上に記号(6) を記入
し，該ウエハを露光装置(1) にセットし該記号を該露光
装置により検出し，該記号に対応した露光情報を露光制
御用計算機(3）に読み込まれた既登録のデータベースよ
り抽出し，該露光情報に基づいて露光処理を行うことを
特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3227578A JPH0567564A (ja) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3227578A JPH0567564A (ja) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | 露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0567564A true JPH0567564A (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=16863115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3227578A Withdrawn JPH0567564A (ja) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0567564A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007294562A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置の描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
-
1991
- 1991-09-09 JP JP3227578A patent/JPH0567564A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007294562A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置の描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |