JPH0567765A - イメージセンサ - Google Patents
イメージセンサInfo
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- JPH0567765A JPH0567765A JP4020716A JP2071692A JPH0567765A JP H0567765 A JPH0567765 A JP H0567765A JP 4020716 A JP4020716 A JP 4020716A JP 2071692 A JP2071692 A JP 2071692A JP H0567765 A JPH0567765 A JP H0567765A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 遮光パターンずれが発生してもフォトダイオ
ードとブロッキングダイオードの受光面積の比が変わら
ずにノイズ成分の発生を防止し、また両ダイオードが均
等に受光できる位置に導光窓を設けてMTFの向上を図
るイメージセンサを提供する。 【構成】 共通の金属電極2上に1対のオーミックコン
タクト層3、光導電層4、透明電極5で形成され、同極
の電極が接続されたフォトダイオードPDとブロッキン
グダイオードBDの組合わせ複数有するイメージセンサ
で、各透明電極5に接続する遮光用配線7の端部がP
D、BDの受光領域を規定するよう両方の透明電極5の
一部を覆う構成で、更に導光窓11′が設けられてい
る。 【効果】 イメージセンサのノイズ成分をなくし、MT
Fの向上を図ることができる。
ードとブロッキングダイオードの受光面積の比が変わら
ずにノイズ成分の発生を防止し、また両ダイオードが均
等に受光できる位置に導光窓を設けてMTFの向上を図
るイメージセンサを提供する。 【構成】 共通の金属電極2上に1対のオーミックコン
タクト層3、光導電層4、透明電極5で形成され、同極
の電極が接続されたフォトダイオードPDとブロッキン
グダイオードBDの組合わせ複数有するイメージセンサ
で、各透明電極5に接続する遮光用配線7の端部がP
D、BDの受光領域を規定するよう両方の透明電極5の
一部を覆う構成で、更に導光窓11′が設けられてい
る。 【効果】 イメージセンサのノイズ成分をなくし、MT
Fの向上を図ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ファクシミリ、イメー
ジスキャナ等の入力部に用いられるイメージセンサに係
り、特にフォトダイオードとブロッキングダイオードと
を極性を逆向きに直列に接続した受光素子を複数個並べ
てアレイ状に形成したイメージセンサに関する。
ジスキャナ等の入力部に用いられるイメージセンサに係
り、特にフォトダイオードとブロッキングダイオードと
を極性を逆向きに直列に接続した受光素子を複数個並べ
てアレイ状に形成したイメージセンサに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の、ファクシミリ等の画像読取りに
使用されるイメージセンサは、フォトダイオードとブロ
ッキングダイオードとが互いに逆極性になるように直列
に接続して一組の受光素子を形成し、この受光素子を複
数個ライン状に並べて受光素子アレイを構成するものが
提案されている。
使用されるイメージセンサは、フォトダイオードとブロ
ッキングダイオードとが互いに逆極性になるように直列
に接続して一組の受光素子を形成し、この受光素子を複
数個ライン状に並べて受光素子アレイを構成するものが
提案されている。
【0003】すなわち、上述したイメージセンサの受光
素子部分は、図9の平面説明図及び図9の断面説明図で
ある図10に示すように、ガラス等から成る基板1上に
クロム(Cr)等から成る金属電極2、水素化アモルフ
ァスシリコン(a−Si:H)等から成る光導電層4、
酸化インジウム・スズ(ITO)等から成る透明電極
5、ポリイミド等から成る絶縁層6を順次積層及びパタ
ーニングして、フォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDを形成し、絶縁層6に形成したコンタクト
孔8a、8bを介してアルミニウム(Al)等から成る
引き出し配線7a、7bを形成して構成されている。
素子部分は、図9の平面説明図及び図9の断面説明図で
ある図10に示すように、ガラス等から成る基板1上に
クロム(Cr)等から成る金属電極2、水素化アモルフ
ァスシリコン(a−Si:H)等から成る光導電層4、
酸化インジウム・スズ(ITO)等から成る透明電極
5、ポリイミド等から成る絶縁層6を順次積層及びパタ
ーニングして、フォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDを形成し、絶縁層6に形成したコンタクト
孔8a、8bを介してアルミニウム(Al)等から成る
引き出し配線7a、7bを形成して構成されている。
【0004】そして、フォトダイオードPD側は、上部
より光が照射される受光エリアA(図の斜線部分)を形
成するとともに、ブロッキングダイオードBD側は光が
照射されないように引き出し配線7bにより遮光する構
成となっている。
より光が照射される受光エリアA(図の斜線部分)を形
成するとともに、ブロッキングダイオードBD側は光が
照射されないように引き出し配線7bにより遮光する構
成となっている。
【0005】そして、このような受光素子を複数(n
個)並べてアレイを形成し、各ブロッキングダイオード
BD側の各引き出し配線7bは、図11の等価回路図に
示すようにシフトレジスタSRに接続され、フォトダイ
オードPD側の各引き出し配線7aはローディング抵抗
Rを介して接地されているとともに、ローディング抵抗
RのフォトダイオードPD側に出力端子Tout を形成し
ている。
個)並べてアレイを形成し、各ブロッキングダイオード
BD側の各引き出し配線7bは、図11の等価回路図に
示すようにシフトレジスタSRに接続され、フォトダイ
オードPD側の各引き出し配線7aはローディング抵抗
Rを介して接地されているとともに、ローディング抵抗
RのフォトダイオードPD側に出力端子Tout を形成し
ている。
【0006】上記従来の構造のイメージセンサにおける
電荷読み出しの動作を以下に説明する。まず、シフトレ
ジスタSRによってフォトダイオードPDが走査されて
順次信号がブロッキングダイオードBDを通して印加さ
れ、印加されたフォトダイオードPDに電荷が蓄積され
る。
電荷読み出しの動作を以下に説明する。まず、シフトレ
ジスタSRによってフォトダイオードPDが走査されて
順次信号がブロッキングダイオードBDを通して印加さ
れ、印加されたフォトダイオードPDに電荷が蓄積され
る。
【0007】そして、走査が一巡する間にフォトダイオ
ードPDに光が照射され、その光の照射光量に応じた電
荷が放電される。次に、リセット信号(読み出しパル
ス)をシフトレジスタSRによって順次印加し、各フォ
トダイオードPDに前記放電量に応じた電荷が再充電さ
れる。この再充電時にローディング抵抗Rを流れる電流
により出力端子Tout に生じる電位を信号として読み出
すものである(特開昭58−62978号公報参照)。
ードPDに光が照射され、その光の照射光量に応じた電
荷が放電される。次に、リセット信号(読み出しパル
ス)をシフトレジスタSRによって順次印加し、各フォ
トダイオードPDに前記放電量に応じた電荷が再充電さ
れる。この再充電時にローディング抵抗Rを流れる電流
により出力端子Tout に生じる電位を信号として読み出
すものである(特開昭58−62978号公報参照)。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成のイメージセンサでは、フォトダイオードPD
に光が入射したとき、フォトダイオードPDを流れる電
流によって、放電された電荷がフォトダイオードPDの
容量とブロッキングダイオードBDの容量とに分配さ
れ、このときフォトダイオードPDにおいて減少した電
荷を補うためにローディング抵抗Rを電流が流れてノイ
ズが発生するとの問題点があった。
来の構成のイメージセンサでは、フォトダイオードPD
に光が入射したとき、フォトダイオードPDを流れる電
流によって、放電された電荷がフォトダイオードPDの
容量とブロッキングダイオードBDの容量とに分配さ
れ、このときフォトダイオードPDにおいて減少した電
荷を補うためにローディング抵抗Rを電流が流れてノイ
ズが発生するとの問題点があった。
【0009】そこで、図12の平面説明図及び図12の
断面説明図である図13に示すように、遮光されていな
い第1フォトダイオードPD1と遮光されていない第2
フォトダイオードPD2とを極性を逆向きに直列に近接
して接続した受光素子を複数個ライン状に並べて受光素
子アレイを形成し、前記第1のフォトダイオードPD1
及び前記第2のフォトダイオードPD2は光が照射され
た際に発生する電圧が等しくなることで外部に電流が流
れ出さない構造を有するイメージセンサが提案されてい
る。
断面説明図である図13に示すように、遮光されていな
い第1フォトダイオードPD1と遮光されていない第2
フォトダイオードPD2とを極性を逆向きに直列に近接
して接続した受光素子を複数個ライン状に並べて受光素
子アレイを形成し、前記第1のフォトダイオードPD1
及び前記第2のフォトダイオードPD2は光が照射され
た際に発生する電圧が等しくなることで外部に電流が流
れ出さない構造を有するイメージセンサが提案されてい
る。
【0010】このイメージセンサは、二つのフォトダイ
オード(1つをフォトダイオードPDとし、もう1つを
ブロッキングダイオードBDとする)を極性を逆に接続
して、両フォトダイオードの受光面積を等しくしても光
が照射された際に発生する電圧を等しくし、外部に電流
が流れ出さないようにしてあるので、ノイズ成分が発生
しないものである。
オード(1つをフォトダイオードPDとし、もう1つを
ブロッキングダイオードBDとする)を極性を逆に接続
して、両フォトダイオードの受光面積を等しくしても光
が照射された際に発生する電圧を等しくし、外部に電流
が流れ出さないようにしてあるので、ノイズ成分が発生
しないものである。
【0011】しかしながら、上記イメージセンサの構成
では、図14の平面説明図に示すように、フォトダイオ
ードPDとブロッキングダイオードBDの受光面積を規
定するためと、フォトダイオードPDの信号読み出し用
配線及びブロッキングダイオードBDのバイアス用配線
となっているアルミニウム(Al)のパターンが、フォ
トリソ等のプロセス時にパターンのズレが発生した場
合、フォトダイオードPDとブロッキングダイオードB
Dの受光面積の比が、例えば、1:1の値に設計されて
いるとすると、受光面積比が変わって、光が照射された
際に両ダイオードの電圧が等しくならず、外部に電流が
流れ出してノイズ成分が発生して、正確な電位を読み出
すことができず、センサのリニアリティが悪化するとの
問題点があった。
では、図14の平面説明図に示すように、フォトダイオ
ードPDとブロッキングダイオードBDの受光面積を規
定するためと、フォトダイオードPDの信号読み出し用
配線及びブロッキングダイオードBDのバイアス用配線
となっているアルミニウム(Al)のパターンが、フォ
トリソ等のプロセス時にパターンのズレが発生した場
合、フォトダイオードPDとブロッキングダイオードB
Dの受光面積の比が、例えば、1:1の値に設計されて
いるとすると、受光面積比が変わって、光が照射された
際に両ダイオードの電圧が等しくならず、外部に電流が
流れ出してノイズ成分が発生して、正確な電位を読み出
すことができず、センサのリニアリティが悪化するとの
問題点があった。
【0012】また、上記構成のイメージセンサでは、基
板1下面から光を入射させて原稿に反射させてセンサで
受光するための導光窓11が図15の平面説明図に示す
ような形状で設けられているのが一般的である。尚、図
15の断面説明図を図16に示しておく。図15に示す
ように、導光窓11はブロッキングダイオードBDのバ
イアス用配線7b側に設けられ、基板1上に金属電極2
と同材料で同層の遮光パターン12を形成することによ
り導光窓11の形状が規定されるようになっている。
板1下面から光を入射させて原稿に反射させてセンサで
受光するための導光窓11が図15の平面説明図に示す
ような形状で設けられているのが一般的である。尚、図
15の断面説明図を図16に示しておく。図15に示す
ように、導光窓11はブロッキングダイオードBDのバ
イアス用配線7b側に設けられ、基板1上に金属電極2
と同材料で同層の遮光パターン12を形成することによ
り導光窓11の形状が規定されるようになっている。
【0013】従って、フォトダイオードPDとブロッキ
ングダイオードBDの共通の金属電極2と遮光パターン
12とがCr等の同じ金属層で形成されているため、金
属電極2と下部遮光パターン12との間に隙間dが形成
されることになり、金属電極2の周辺部分からも光が漏
れ入るようになっていた。尚、図15に示す受光素子を
主走査方向に複数配列したイメージセンサが図17に示
されている。
ングダイオードBDの共通の金属電極2と遮光パターン
12とがCr等の同じ金属層で形成されているため、金
属電極2と下部遮光パターン12との間に隙間dが形成
されることになり、金属電極2の周辺部分からも光が漏
れ入るようになっていた。尚、図15に示す受光素子を
主走査方向に複数配列したイメージセンサが図17に示
されている。
【0014】従って、導光窓11がブロッキングダイオ
ードBD側に設けられているために、ブロッキングダイ
オードBDに入射する光量は多くなるものの、それに比
べてフォトダイオードPDに入射する光量が少なくなる
ため、ブロッキングダイオードBDとフォトダイオード
PDとで受光する光量にバラツキが発生し、センサのリ
ニアリティが悪化するという問題点があった。
ードBD側に設けられているために、ブロッキングダイ
オードBDに入射する光量は多くなるものの、それに比
べてフォトダイオードPDに入射する光量が少なくなる
ため、ブロッキングダイオードBDとフォトダイオード
PDとで受光する光量にバラツキが発生し、センサのリ
ニアリティが悪化するという問題点があった。
【0015】更に、導光窓11がフォトダイオードPD
の受光領域とは副走査方向に離れて形成されているの
で、原稿の浮きによる分解能(MTF)の低下が起こる
という問題点があり、また、導光窓11以外の金属電極
2の周辺部分の隙間dから漏れる光によってもMTFの
低下が起こるという問題点があった。
の受光領域とは副走査方向に離れて形成されているの
で、原稿の浮きによる分解能(MTF)の低下が起こる
という問題点があり、また、導光窓11以外の金属電極
2の周辺部分の隙間dから漏れる光によってもMTFの
低下が起こるという問題点があった。
【0016】本発明は上記実情に鑑みて為されたもの
で、アルミニウム(Al)の遮光パターンにズレが発生
した場合でも、フォトダイオードとブロッキングダイオ
ードの受光面積の比が変わることがないようにしてノイ
ズ成分の発生を防止することができ、またフォトダイオ
ードとブロッキングダイオードが均等に受光できるよな
位置に導光窓を設けてMTFを向上させることができる
イメージセンサを提供することを目的とする。
で、アルミニウム(Al)の遮光パターンにズレが発生
した場合でも、フォトダイオードとブロッキングダイオ
ードの受光面積の比が変わることがないようにしてノイ
ズ成分の発生を防止することができ、またフォトダイオ
ードとブロッキングダイオードが均等に受光できるよな
位置に導光窓を設けてMTFを向上させることができる
イメージセンサを提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めの請求項1記載の発明は、同極の電極が互いに接続さ
れるよう直列に接続されるフォトダイオードとブロッキ
ングダイオードとの複数の組合わせから構成されるイメ
ージセンサにおいて、前記フォトダイオードと前記ブロ
ッキングダイオードとの各々の組合わせは、共通の下部
電極と、前記共通の下部電極上に形成され、特定方向に
沿って延長するよう並行して設けられた1対のオーミッ
クコンタクト層と、1対の光電変換層と、1対の透明電
極と、前記1対の透明電極を覆う絶縁層と、前記絶縁層
に形成した穴を通して前記各透明電極に接続する2本の
遮光用配線とから構成され、前記2本の配線は前記2本
の配線の各々が前記フォトダイオードと前記ブロッキン
グダイオードについての受光領域を規定するよう前記フ
ォトダイオードと前記ブロッキングダイオードの両方の
前記透明電極の一部を覆うように形成されていることを
特徴としている。
めの請求項1記載の発明は、同極の電極が互いに接続さ
れるよう直列に接続されるフォトダイオードとブロッキ
ングダイオードとの複数の組合わせから構成されるイメ
ージセンサにおいて、前記フォトダイオードと前記ブロ
ッキングダイオードとの各々の組合わせは、共通の下部
電極と、前記共通の下部電極上に形成され、特定方向に
沿って延長するよう並行して設けられた1対のオーミッ
クコンタクト層と、1対の光電変換層と、1対の透明電
極と、前記1対の透明電極を覆う絶縁層と、前記絶縁層
に形成した穴を通して前記各透明電極に接続する2本の
遮光用配線とから構成され、前記2本の配線は前記2本
の配線の各々が前記フォトダイオードと前記ブロッキン
グダイオードについての受光領域を規定するよう前記フ
ォトダイオードと前記ブロッキングダイオードの両方の
前記透明電極の一部を覆うように形成されていることを
特徴としている。
【0018】上記問題点を解決するための請求項2記載
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記フォトダイオードの前記配線の端部が位置する第1の
領域と前記ブロッキングダイオードの前記配線の端部が
位置する第2の領域とにおける前記透明電極の各々の面
積が同じであることを特徴としている。
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記フォトダイオードの前記配線の端部が位置する第1の
領域と前記ブロッキングダイオードの前記配線の端部が
位置する第2の領域とにおける前記透明電極の各々の面
積が同じであることを特徴としている。
【0019】上記問題点を解決するための請求項3記載
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記フォトダイオードの前記受光領域と前記ブロッキング
ダイオードの前記受光領域とがそれぞれ等しいことを特
徴としている。
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記フォトダイオードの前記受光領域と前記ブロッキング
ダイオードの前記受光領域とがそれぞれ等しいことを特
徴としている。
【0020】上記問題点を解決するための請求項4記載
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記1対のオーミックコンタクト層が同じ材質から作ら
れ、等しい厚さを有することを特徴としている。
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記1対のオーミックコンタクト層が同じ材質から作ら
れ、等しい厚さを有することを特徴としている。
【0021】上記問題点を解決するための請求項5記載
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記1対の光電変換層が同じ材質から作られ、等しい厚さ
を有すること特徴としている。
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記1対の光電変換層が同じ材質から作られ、等しい厚さ
を有すること特徴としている。
【0022】上記問題点を解決するための請求項6記載
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記1対の透明電極が同じ材質から作られ、等しい厚さを
有することを特徴としている。
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記1対の透明電極が同じ材質から作られ、等しい厚さを
有することを特徴としている。
【0023】上記問題点を解決するための請求項7記載
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記同極の電極がカソードであることを特徴としている。
の発明は、請求項1記載のイメージセンサにおいて、前
記同極の電極がカソードであることを特徴としている。
【0024】上記問題点を解決するための請求項8記載
の発明は、同極の電極が互いに接続されるよう直列に接
続されるフォトダイオードとブロッキングダイオードと
の複数の組合わせから構成されるイメージセンサにおい
て、前記フォトダイオードと前記ブロッキングダイオー
ドとの各々の組合わせに前記フォトダイオードと前記ブ
ロッキングダイオードの受光領域を規定する2本の遮光
用配線と、光源から照射された光を導く導光窓とを設
け、前記2本の配線は前記フォトダイオードと前記ブロ
ッキングダイオードのいずれかの電極に接続し、前記各
配線の端部が前記フォトダイオードと前記ブロッキング
ダイオードの両方の受光領域を規定するよう形成されて
いることを特徴としている。
の発明は、同極の電極が互いに接続されるよう直列に接
続されるフォトダイオードとブロッキングダイオードと
の複数の組合わせから構成されるイメージセンサにおい
て、前記フォトダイオードと前記ブロッキングダイオー
ドとの各々の組合わせに前記フォトダイオードと前記ブ
ロッキングダイオードの受光領域を規定する2本の遮光
用配線と、光源から照射された光を導く導光窓とを設
け、前記2本の配線は前記フォトダイオードと前記ブロ
ッキングダイオードのいずれかの電極に接続し、前記各
配線の端部が前記フォトダイオードと前記ブロッキング
ダイオードの両方の受光領域を規定するよう形成されて
いることを特徴としている。
【0025】上記問題点を解決するための請求項9記載
の発明は、請求項8記載のイメージセンサにおいて、前
記導光窓が前記フォトダイオードと前記ブロッキングダ
イオードが対向する中央部分に設けられていることを特
徴としている。
の発明は、請求項8記載のイメージセンサにおいて、前
記導光窓が前記フォトダイオードと前記ブロッキングダ
イオードが対向する中央部分に設けられていることを特
徴としている。
【0026】上記問題点を解決するための請求項10記
載の発明は、請求項8記載のイメージセンサにおいて、
前記導光窓が前記フォトダイオードと前記ブロッキング
ダイオードの組合わせの主走査方向の側方に設けられて
いることを特徴としている。
載の発明は、請求項8記載のイメージセンサにおいて、
前記導光窓が前記フォトダイオードと前記ブロッキング
ダイオードの組合わせの主走査方向の側方に設けられて
いることを特徴としている。
【0027】上記問題点を解決するための請求項11記
載の発明は、請求項8記載のイメージセンサにおいて、
前記2本の遮光用配線が前記フォトダイオードと前記ブ
ロッキングダイオードの周辺部を覆うよう形成されてい
ることを特徴としている。
載の発明は、請求項8記載のイメージセンサにおいて、
前記2本の遮光用配線が前記フォトダイオードと前記ブ
ロッキングダイオードの周辺部を覆うよう形成されてい
ることを特徴としている。
【0028】上記問題点を解決するための請求項12記
載の発明は、請求項10記載のイメージセンサにおい
て、前記導光窓の形状が前記2本の遮光用配線で特定さ
れることを特徴としている。
載の発明は、請求項10記載のイメージセンサにおい
て、前記導光窓の形状が前記2本の遮光用配線で特定さ
れることを特徴としている。
【0029】
【作用】請求項1記載の発明によれば、イメージセンサ
の共通電極となる金属電極上に2組のオ−ミックコンタ
クト層、光導電層、透明電極によって1対のフォトダイ
オードとブロッキングダイオードを形成し、フォトダイ
オードとブロッキングダイオードの透明電極に接続する
配線のパターンを並設された両ダイオードの両透明電極
の一部を覆うように絶縁層を介してそれぞれ形成し、一
方の配線がフォトダイオードの透明電極に接続し、他方
の配線がブロッキングダイオードの透明電極に接続する
イメージセンサとしているので、配線のパターンずれが
生じても、フォトダイオードとブロッキングダイオード
の受光面積の比を一定に保持することができ、両ダイオ
ードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発生せず、
正確な信号を読み出すことができる。
の共通電極となる金属電極上に2組のオ−ミックコンタ
クト層、光導電層、透明電極によって1対のフォトダイ
オードとブロッキングダイオードを形成し、フォトダイ
オードとブロッキングダイオードの透明電極に接続する
配線のパターンを並設された両ダイオードの両透明電極
の一部を覆うように絶縁層を介してそれぞれ形成し、一
方の配線がフォトダイオードの透明電極に接続し、他方
の配線がブロッキングダイオードの透明電極に接続する
イメージセンサとしているので、配線のパターンずれが
生じても、フォトダイオードとブロッキングダイオード
の受光面積の比を一定に保持することができ、両ダイオ
ードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発生せず、
正確な信号を読み出すことができる。
【0030】請求項2記載の発明によれば、フォトダイ
オードに接続する遮光用配線部分の端部とブロッキング
ダイオードに接続する遮光用配線部分の端部とが覆う透
明電極の面積が等しい請求項1記載のイメージセンサと
しているので、フォトダイオードとブロッキングダイオ
ードの受光面積の比を一定に保持することができ、両ダ
イオードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発生せ
ず、正確な信号を読み出すことができる。
オードに接続する遮光用配線部分の端部とブロッキング
ダイオードに接続する遮光用配線部分の端部とが覆う透
明電極の面積が等しい請求項1記載のイメージセンサと
しているので、フォトダイオードとブロッキングダイオ
ードの受光面積の比を一定に保持することができ、両ダ
イオードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発生せ
ず、正確な信号を読み出すことができる。
【0031】請求項3記載の発明によれば、フォトダイ
オードの受光領域とブロッキングダイオードの受光領域
とがそれぞれ等しい請求項1記載のイメージセンサとし
ているので、フォトダイオードの容量とブロッキングダ
イオードの容量が1:1になり、両ダイオードに等しい
光が入射したときに外部にノイズ成分が発生せず、正確
な信号を読み出すことができる。
オードの受光領域とブロッキングダイオードの受光領域
とがそれぞれ等しい請求項1記載のイメージセンサとし
ているので、フォトダイオードの容量とブロッキングダ
イオードの容量が1:1になり、両ダイオードに等しい
光が入射したときに外部にノイズ成分が発生せず、正確
な信号を読み出すことができる。
【0032】請求項4記載の発明によれば、1対のオー
ミックコンタクト層が同じ材質で同じ厚さで形成される
請求項1記載のイメージセンサとしているので、1対の
オーミックコンタクト層を同時に同工程で容易に製造で
きる。
ミックコンタクト層が同じ材質で同じ厚さで形成される
請求項1記載のイメージセンサとしているので、1対の
オーミックコンタクト層を同時に同工程で容易に製造で
きる。
【0033】請求項5記載の発明によれば、1対の光電
変換層が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載
のイメージセンサとしているので、1対の光電変換層を
同時に同工程で容易に製造できる。
変換層が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載
のイメージセンサとしているので、1対の光電変換層を
同時に同工程で容易に製造できる。
【0034】請求項6記載の発明によれば、1対の透明
電極が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載の
イメージセンサとしているので、1対の透明電極を同時
に同工程で容易に製造できる。
電極が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載の
イメージセンサとしているので、1対の透明電極を同時
に同工程で容易に製造できる。
【0035】請求項7記載の発明によれば、互いに接続
する同極の電極がカソードである請求項1記載のイメー
ジセンサとしているので、フォトダイオードとブロッキ
ングダイオードの容量に電荷を蓄積させることができ、
受光量に応じた信号を読み出すことができる。
する同極の電極がカソードである請求項1記載のイメー
ジセンサとしているので、フォトダイオードとブロッキ
ングダイオードの容量に電荷を蓄積させることができ、
受光量に応じた信号を読み出すことができる。
【0036】請求項8記載の発明によれば、対向するよ
う設けられたフォトダイオードとブロッキングダイード
の受光領域を2本の遮光用配線を使って規定し、両ダイ
オードの組合わせに導光窓を設けたメージセンサとして
いるので、両ダイオードにおける受光量のバラツキをな
くし、センサのリニアリティと分解能(MTF)を向上
させることができる。
う設けられたフォトダイオードとブロッキングダイード
の受光領域を2本の遮光用配線を使って規定し、両ダイ
オードの組合わせに導光窓を設けたメージセンサとして
いるので、両ダイオードにおける受光量のバラツキをな
くし、センサのリニアリティと分解能(MTF)を向上
させることができる。
【0037】請求項9記載の発明によれば、フォトダイ
オードとブロッキングダイオードが対向する中央部分に
導光窓を設けた請求項8記載のイメージセンサとしてい
るので、導光窓を通って入射した光が原稿に反射して、
その反射光が両ダイオードの受光領域にほぼ等しく入射
するため、受光量にバラツキがなく、センサのリニアリ
ティとMTFを向上させることができる。
オードとブロッキングダイオードが対向する中央部分に
導光窓を設けた請求項8記載のイメージセンサとしてい
るので、導光窓を通って入射した光が原稿に反射して、
その反射光が両ダイオードの受光領域にほぼ等しく入射
するため、受光量にバラツキがなく、センサのリニアリ
ティとMTFを向上させることができる。
【0038】請求項10記載の発明によれば、フォトダ
イオードとブロッキングダイオードの組合わせの受光素
子の主走査方向の両側に導光窓を形成した請求項8記載
のイメージセンサとしているので、受光量にバラツキが
なく、センサのリニアリティとMTFを向上させること
ができる。
イオードとブロッキングダイオードの組合わせの受光素
子の主走査方向の両側に導光窓を形成した請求項8記載
のイメージセンサとしているので、受光量にバラツキが
なく、センサのリニアリティとMTFを向上させること
ができる。
【0039】請求項11記載の発明によれば、両ダイオ
ードの周辺部を2本の遮光用配線で覆う請求項8記載の
イメージセンサとしているので、両ダイオードの周辺部
からの漏れ光を遮光することができ、MTFを向上させ
ることができる。
ードの周辺部を2本の遮光用配線で覆う請求項8記載の
イメージセンサとしているので、両ダイオードの周辺部
からの漏れ光を遮光することができ、MTFを向上させ
ることができる。
【0040】請求項12記載の発明によれば、2本の遮
光用配線で導光窓の形状を規定する請求項10記載のイ
メージセンサとしているので、イメージセンサにおける
各々の導光窓の面積を一定にでき、入射光量のバラツキ
をなくし、センサのリニアリティとMTFを向上させる
ことができる。
光用配線で導光窓の形状を規定する請求項10記載のイ
メージセンサとしているので、イメージセンサにおける
各々の導光窓の面積を一定にでき、入射光量のバラツキ
をなくし、センサのリニアリティとMTFを向上させる
ことができる。
【0041】
【実施例】本発明の一実施例のイメージセンサについて
図面を参照しながら説明する。本発明の一実施例に係る
イメージセンサの受光素子部分について、図1の平面説
明図及び図1のA−A′部分の断面説明図である図2を
使って説明する。尚、図9及び図12の構成と同一の構
成をとる部分については、同一の符号を使って説明す
る。
図面を参照しながら説明する。本発明の一実施例に係る
イメージセンサの受光素子部分について、図1の平面説
明図及び図1のA−A′部分の断面説明図である図2を
使って説明する。尚、図9及び図12の構成と同一の構
成をとる部分については、同一の符号を使って説明す
る。
【0042】本実施例の受光素子部分は、ガラス等から
成る基板1上に、クロム(Cr)等から成る金属電極
2、n+ 層のオ−ミックコンタクト層3、水素化アモル
ファスシリコン(a−Si:H)等の光電変換作用のあ
る光導電層4、酸化インジウム・スズ(ITO)等の透
明電極5、ポリイミド等の絶縁層6を順次積層して、パ
ターニングを行い、極性が逆向きにかつ図1において左
右対称的にオーミックコンタクト層3、光導電層4、透
明電極5を配置するようフォトダイオードPDとブロッ
キングダイオードBDを形成する。
成る基板1上に、クロム(Cr)等から成る金属電極
2、n+ 層のオ−ミックコンタクト層3、水素化アモル
ファスシリコン(a−Si:H)等の光電変換作用のあ
る光導電層4、酸化インジウム・スズ(ITO)等の透
明電極5、ポリイミド等の絶縁層6を順次積層して、パ
ターニングを行い、極性が逆向きにかつ図1において左
右対称的にオーミックコンタクト層3、光導電層4、透
明電極5を配置するようフォトダイオードPDとブロッ
キングダイオードBDを形成する。
【0043】フォトダイオードPD及びブロッキングダ
イオードBDの透明電極5a、5b上には、絶縁層6に
形成したコンタクト孔8a、8bを介してアルミニウム
(Al)等から成る引き出し配線7a、7bに接続され
ている。
イオードBDの透明電極5a、5b上には、絶縁層6に
形成したコンタクト孔8a、8bを介してアルミニウム
(Al)等から成る引き出し配線7a、7bに接続され
ている。
【0044】尚、引き出し配線7bは、ブロッキングダ
イオードBDのバイアス用配線となり、引き出し配線7
aは、フォトダイオードPDの信号読み出し用配線とな
るものである。
イオードBDのバイアス用配線となり、引き出し配線7
aは、フォトダイオードPDの信号読み出し用配線とな
るものである。
【0045】また、引き出し配線7は、コンタクト孔8
上部において、遮光パターンを形成しており、当該遮光
パターンによって受光面積を規定している。本実施例に
おいて、フォトダイオードPDの受光面積とブロッキン
グダイオードBDの受光面積との比は1:1となるよう
に規定している。
上部において、遮光パターンを形成しており、当該遮光
パターンによって受光面積を規定している。本実施例に
おいて、フォトダイオードPDの受光面積とブロッキン
グダイオードBDの受光面積との比は1:1となるよう
に規定している。
【0046】本実施例において、図1に示すように、フ
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDを金
属電極2の共通電極上に図中左右対称に形成するように
してある。具体的には、図中左側にブロッキングダイオ
ードBDを形成し、右側にフォトダイオードPDを形成
し、そしてブロッキングダイオードBDのバイアス用配
線となる配線7bが図上方向から設けられ、図中左上に
てブロッキングダイオードBDの透明電極5bにコンタ
クト孔8bによりコンタクトし、またフォトダイオード
PDの信号読み出し用配線となる配線7aが図下方向か
ら設けられ、図中右下にてフォトダイオードPDの透明
電極5aにコンタクト孔8aによりコンタクトしてい
る。従って、図2に示すように、フォトダイオードPD
及びブロッキングダイオードBDは縦長に形成される。
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDを金
属電極2の共通電極上に図中左右対称に形成するように
してある。具体的には、図中左側にブロッキングダイオ
ードBDを形成し、右側にフォトダイオードPDを形成
し、そしてブロッキングダイオードBDのバイアス用配
線となる配線7bが図上方向から設けられ、図中左上に
てブロッキングダイオードBDの透明電極5bにコンタ
クト孔8bによりコンタクトし、またフォトダイオード
PDの信号読み出し用配線となる配線7aが図下方向か
ら設けられ、図中右下にてフォトダイオードPDの透明
電極5aにコンタクト孔8aによりコンタクトしてい
る。従って、図2に示すように、フォトダイオードPD
及びブロッキングダイオードBDは縦長に形成される。
【0047】次に、本実施例のイメージセンサの受光素
子部分の製造方法について説明する。絶縁性の基板1上
にCrを700〜750オングストローム程度の厚さに
着膜し、パターニングを行い、フォトダイオードPD、
ブロッキングダイオードBDの共通電極となる金属電極
2を形成する。
子部分の製造方法について説明する。絶縁性の基板1上
にCrを700〜750オングストローム程度の厚さに
着膜し、パターニングを行い、フォトダイオードPD、
ブロッキングダイオードBDの共通電極となる金属電極
2を形成する。
【0048】次に、n+ 層を約1000オングストロー
ム程度の厚さに、a−Si:Hを約7000オングスト
ローム程度の厚さに、ITOを約700オングストロー
ム程度の厚さに着膜し、図1に示すような形状にパター
ニングを行い、フォトダイオードPD、ブロッキングダ
イオードBDのオ−ミックコンタクト層3a,3b、光
導電層4a,4b、透明電極5a,5bを形成する。
ム程度の厚さに、a−Si:Hを約7000オングスト
ローム程度の厚さに、ITOを約700オングストロー
ム程度の厚さに着膜し、図1に示すような形状にパター
ニングを行い、フォトダイオードPD、ブロッキングダ
イオードBDのオ−ミックコンタクト層3a,3b、光
導電層4a,4b、透明電極5a,5bを形成する。
【0049】次に、絶縁層6のポリイミドを約1.3μ
m程度の厚さに着膜し、フォトダイオードPD及びブロ
ッキングダイオードBDとのコンタクト孔8a、8bを
フォトリソエッチング工程で形成する。
m程度の厚さに着膜し、フォトダイオードPD及びブロ
ッキングダイオードBDとのコンタクト孔8a、8bを
フォトリソエッチング工程で形成する。
【0050】次に、フォトダイオードPDの信号読み出
し用配線、ブロッキングダイオードBDのバイアス用配
線となり、両ダイオードの遮光パターンとなる引き出し
配線7a、7bを形成するために、アルミニウム(A
l)を約1μm程度の厚さに着膜し、図1に示すように
パターニングを行い、引き出し配線7a、7bを形成す
る。
し用配線、ブロッキングダイオードBDのバイアス用配
線となり、両ダイオードの遮光パターンとなる引き出し
配線7a、7bを形成するために、アルミニウム(A
l)を約1μm程度の厚さに着膜し、図1に示すように
パターニングを行い、引き出し配線7a、7bを形成す
る。
【0051】具体的に説明すると、ブロッキングダイオ
ードBDに接続する配線7bのパターンは、ブロッキン
グダイオードBDの透明電極5b及びフォトダイオード
PDの透明電極5aの双方を等しい面積で覆い、配線7
bはコンタクト孔8bでブロッキングダイオードBDの
透明電極5bに接続することになる。また、フォトダイ
オードPDに接続する配線7aのパターンは、ブロッキ
ングダイオードBDの透明電極5b及びフォトダイオー
ドPDの透明電極5aの双方を等しい面積で覆い、配線
7aはコンタクト孔8aでフォトダイオードPDの透明
電極5aに接続することになる。
ードBDに接続する配線7bのパターンは、ブロッキン
グダイオードBDの透明電極5b及びフォトダイオード
PDの透明電極5aの双方を等しい面積で覆い、配線7
bはコンタクト孔8bでブロッキングダイオードBDの
透明電極5bに接続することになる。また、フォトダイ
オードPDに接続する配線7aのパターンは、ブロッキ
ングダイオードBDの透明電極5b及びフォトダイオー
ドPDの透明電極5aの双方を等しい面積で覆い、配線
7aはコンタクト孔8aでフォトダイオードPDの透明
電極5aに接続することになる。
【0052】上記のように、金属電極2上に1対のオー
ミックコンタクト層3a,3b、光導電層4a,4b、
透明電極5a,5bをそれぞれ同一材質で同じ厚さで形
成するようにしているので、各1対の層を同時に同工程
で製造でき、製造が容易となる効果がある。
ミックコンタクト層3a,3b、光導電層4a,4b、
透明電極5a,5bをそれぞれ同一材質で同じ厚さで形
成するようにしているので、各1対の層を同時に同工程
で製造でき、製造が容易となる効果がある。
【0053】次に、本実施例のイメージセンサの動作に
ついて、図3の回路図を使って説明する。シフトレジス
タSRから各ブロック単位にフォトダイオードPDへ特
定電圧のパルスが印加されると、ブロッキングダイオー
ドBDを介してフォトダイオードPDの両端に電荷が蓄
積される。
ついて、図3の回路図を使って説明する。シフトレジス
タSRから各ブロック単位にフォトダイオードPDへ特
定電圧のパルスが印加されると、ブロッキングダイオー
ドBDを介してフォトダイオードPDの両端に電荷が蓄
積される。
【0054】次に、上記パルスが印加されなくなると、
前記蓄積された電荷がブロッキングダイオードBDとフ
ォトダイオードPDの容量に両方の容量比(本実施例で
は1:1としている)に分配される。本実施例では、フ
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDの受
光面積を同じとなるようにしているため、フォトダイオ
ードPDとブロッキングダイオードBDの容量比は、
1:1となる。
前記蓄積された電荷がブロッキングダイオードBDとフ
ォトダイオードPDの容量に両方の容量比(本実施例で
は1:1としている)に分配される。本実施例では、フ
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDの受
光面積を同じとなるようにしているため、フォトダイオ
ードPDとブロッキングダイオードBDの容量比は、
1:1となる。
【0055】そして、フォトダイオードPDとブロッキ
ングダイオードBDに光が入射すると、フォトダイオー
ドPDとブロッキングダイオードBDに光電流が流れる
が、フォトダイオードPDとブロッキングダイオードB
Dが同じ構成(同じ容量)であるため、流れる電流は同
じ量であって、フォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDは逆方向に対向しているために両電流で打
ち消し合って、外部に電流が流れ出すことがなく、ノイ
ズ成分が発生することはない。このように光電流が流れ
ることにより、フォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDに蓄積された電荷が光電流に応じて放電さ
れることになる。
ングダイオードBDに光が入射すると、フォトダイオー
ドPDとブロッキングダイオードBDに光電流が流れる
が、フォトダイオードPDとブロッキングダイオードB
Dが同じ構成(同じ容量)であるため、流れる電流は同
じ量であって、フォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDは逆方向に対向しているために両電流で打
ち消し合って、外部に電流が流れ出すことがなく、ノイ
ズ成分が発生することはない。このように光電流が流れ
ることにより、フォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDに蓄積された電荷が光電流に応じて放電さ
れることになる。
【0056】次に、読み出しパルスをシフトレジスタS
Rによって順次印加し、各フォトダイオードPDに対し
て放電量に応じた電荷が再充電される。この場合に、デ
ータマトリックス部に設けられた容量CL にも電荷が蓄
積され、パルス印加がなくなると、フォトダイオードP
Dと容量CL に蓄積された電荷がブロッキングダイオー
ドBD、フォトダイオードPDと容量CL にその容量に
応じて電荷が分配され、この時、データマトリックス部
の信号線の電位変化をアナログマルチプレクサAMUX
で読み取って出力するものである。
Rによって順次印加し、各フォトダイオードPDに対し
て放電量に応じた電荷が再充電される。この場合に、デ
ータマトリックス部に設けられた容量CL にも電荷が蓄
積され、パルス印加がなくなると、フォトダイオードP
Dと容量CL に蓄積された電荷がブロッキングダイオー
ドBD、フォトダイオードPDと容量CL にその容量に
応じて電荷が分配され、この時、データマトリックス部
の信号線の電位変化をアナログマルチプレクサAMUX
で読み取って出力するものである。
【0057】本実施例のイメージセンサによれば、図1
及び図2に示すように、共通電極の金属電極2上にフォ
トダイオードPD及びブロッキングダイオードBDが縦
長に形成されているので、図4の平面説明図に示すよう
に、配線7のアルミニウム(Al)のパターンがずれを
生じた場合であっても、フォトダイオードPDとブロッ
キングダイオードBDの受光面積の比を一定のまま等し
く保持することができるため、ノイズ成分が発生するこ
ともなく、正確な信号を読み出すことができる効果があ
る。
及び図2に示すように、共通電極の金属電極2上にフォ
トダイオードPD及びブロッキングダイオードBDが縦
長に形成されているので、図4の平面説明図に示すよう
に、配線7のアルミニウム(Al)のパターンがずれを
生じた場合であっても、フォトダイオードPDとブロッ
キングダイオードBDの受光面積の比を一定のまま等し
く保持することができるため、ノイズ成分が発生するこ
ともなく、正確な信号を読み出すことができる効果があ
る。
【0058】更に、本実施例のイメージセンサでは、フ
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDの形
状を同じくし、受光領域も同じ面積となるようにしてい
るので、各ダイオードの容量が等しくなり、等しい光が
入射した時に外部にノイズ成分が発生せず、正確な信号
を出力できる効果がある。
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDの形
状を同じくし、受光領域も同じ面積となるようにしてい
るので、各ダイオードの容量が等しくなり、等しい光が
入射した時に外部にノイズ成分が発生せず、正確な信号
を出力できる効果がある。
【0059】また、上記本実施例のイメージセンサに導
光窓を設けた応用例(第2の実施例)について、図5の
平面説明図及び図5のC−C′部分の断面説明図である
図6を使って説明する。図5に示すように、第2の実施
例のイメージセンサは、縦長に形成されたフォトダイオ
ードPDとブロッキングダイオードBDが対向する中心
部分に基板1下面の光源からの光を入射する導光窓1
1′が設けられ、更に金属電極2の周辺に遮光パターン
12が設けられる構成となっている。そして、引き出し
配線7が、フォトダイオードPDとブロッキングダイオ
ードBDの両方の透明電極5の端部を大きく覆うよう形
成されているので、金属電極2と遮光パターン12との
隙間をも覆うようになっている。
光窓を設けた応用例(第2の実施例)について、図5の
平面説明図及び図5のC−C′部分の断面説明図である
図6を使って説明する。図5に示すように、第2の実施
例のイメージセンサは、縦長に形成されたフォトダイオ
ードPDとブロッキングダイオードBDが対向する中心
部分に基板1下面の光源からの光を入射する導光窓1
1′が設けられ、更に金属電極2の周辺に遮光パターン
12が設けられる構成となっている。そして、引き出し
配線7が、フォトダイオードPDとブロッキングダイオ
ードBDの両方の透明電極5の端部を大きく覆うよう形
成されているので、金属電極2と遮光パターン12との
隙間をも覆うようになっている。
【0060】この第2の実施例のイメージセンサは、図
1及び図2に示したイメージセンサとほぼ同様の製造方
法で形成されるものであり、特別に設けられた遮光パタ
ーン12は、金属電極2と同じクロム(Cr)等の金属
層で形成され、遮光パターン12のパターニングも金属
電極2のパターニングと同時に行うものである。
1及び図2に示したイメージセンサとほぼ同様の製造方
法で形成されるものであり、特別に設けられた遮光パタ
ーン12は、金属電極2と同じクロム(Cr)等の金属
層で形成され、遮光パターン12のパターニングも金属
電極2のパターニングと同時に行うものである。
【0061】また、特別に設けられた導光窓11′につ
いては、図6に示すように、金属電極2の中央に導光窓
11′を設けるために、金属電極2の中央部分をフォト
リソエッチング工程により金属層を取り除いてパターニ
ングするようにし、同様に、導光窓11′に該当する部
分にはオーミックコンタクト層3、光導電層4及び透明
電極5を形成しないようにしている。
いては、図6に示すように、金属電極2の中央に導光窓
11′を設けるために、金属電極2の中央部分をフォト
リソエッチング工程により金属層を取り除いてパターニ
ングするようにし、同様に、導光窓11′に該当する部
分にはオーミックコンタクト層3、光導電層4及び透明
電極5を形成しないようにしている。
【0062】上記第2の実施例のイメージセンサによれ
ば、導光窓11′が金属電極2の中央部分であって、縦
長に形成されたフォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDとが対向する中心部分に設けられているの
で、導光窓11′と両ダイオードとの距離は等しく、フ
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDとが
受光する光量にバラツキが発生することがなく、センサ
のリニアリティとMTFを向上させることができるる効
果がある。
ば、導光窓11′が金属電極2の中央部分であって、縦
長に形成されたフォトダイオードPDとブロッキングダ
イオードBDとが対向する中心部分に設けられているの
で、導光窓11′と両ダイオードとの距離は等しく、フ
ォトダイオードPDとブロッキングダイオードBDとが
受光する光量にバラツキが発生することがなく、センサ
のリニアリティとMTFを向上させることができるる効
果がある。
【0063】また、導光窓11′が受光素子の中に設け
られているために、導光窓11′と受光素子との距離が
離れていないので、原稿の浮きによるMTFの低下を防
止することができる効果があり、更に金属電極2の周辺
の遮光パターン12との隙間を引き出し配線7で覆うよ
うにしているので、導光窓11′以外の部分からの漏れ
光を少なくすることができ、MTFの低下を防止できる
効果がある。
られているために、導光窓11′と受光素子との距離が
離れていないので、原稿の浮きによるMTFの低下を防
止することができる効果があり、更に金属電極2の周辺
の遮光パターン12との隙間を引き出し配線7で覆うよ
うにしているので、導光窓11′以外の部分からの漏れ
光を少なくすることができ、MTFの低下を防止できる
効果がある。
【0064】尚、上記第2の実施例の単体のイメージセ
ンサを主走査方向に複数個ライン状に配列したイメージ
センサの平面説明図を図7に示す。尚、遮光パターン1
2は、フォトダイオードPDとブロッキングダイオード
BDの各引き出し配線7側にそれぞれ設けられ、主走査
方向に連続して形成されるようになっている。図7に示
すラインイメージセンサの場合にも、受光量のバラツキ
をなくし、センサのリニアリティとMTFを向上させる
ことができる効果がある。
ンサを主走査方向に複数個ライン状に配列したイメージ
センサの平面説明図を図7に示す。尚、遮光パターン1
2は、フォトダイオードPDとブロッキングダイオード
BDの各引き出し配線7側にそれぞれ設けられ、主走査
方向に連続して形成されるようになっている。図7に示
すラインイメージセンサの場合にも、受光量のバラツキ
をなくし、センサのリニアリティとMTFを向上させる
ことができる効果がある。
【0065】更に、第3の実施例として、図8の平面説
明図に示すように、図1及び図2に示した単体のイメー
ジセンサを主走査方向に複数個ライン状に配列し、隣接
するセンサ間に導光窓11″を設けることも考えられ
る。この場合にも、金属電極2の周辺に遮光パターン1
2が設けられ、そして、引き出し配線7が、フォトダイ
オードPDとブロッキングダイオードBDの両方の透明
電極5の端部を大きく覆うよう形成されているので、金
属電極2と遮光パターン12との隙間をも覆うようにな
っている。また、遮光パターン12は、フォトダイオー
ドPDとブロッキングダイオードBDの各引き出し配線
7側にそれぞれ設けられ、主走査方向に連続して形成さ
れている。
明図に示すように、図1及び図2に示した単体のイメー
ジセンサを主走査方向に複数個ライン状に配列し、隣接
するセンサ間に導光窓11″を設けることも考えられ
る。この場合にも、金属電極2の周辺に遮光パターン1
2が設けられ、そして、引き出し配線7が、フォトダイ
オードPDとブロッキングダイオードBDの両方の透明
電極5の端部を大きく覆うよう形成されているので、金
属電極2と遮光パターン12との隙間をも覆うようにな
っている。また、遮光パターン12は、フォトダイオー
ドPDとブロッキングダイオードBDの各引き出し配線
7側にそれぞれ設けられ、主走査方向に連続して形成さ
れている。
【0066】第3の実施例のイメージセンサによれば、
隣接するセンサ間に導光窓11″をそれぞれ設ける構成
としているので、1つセンサに対して主走査方向左右に
2つの導光窓11″が配置されることになるので、ライ
ンイメージセンサ全体としては、受光量のバラツキをな
くし、センサ出力の安定化を図ることができ、MTFを
向上させることができる効果がある。また、金属電極2
と遮光パターン12との隙間を配線7で遮光しているの
で、漏れ光を防止でき、MTFを向上させることができ
る効果があり、更に配線7のパターンで導光窓11″の
形状を規定することができるので、導光窓11″の面積
を一定にすることができ、入射光量のバラツキをなく
し、MTFを向上させることができる効果がある。
隣接するセンサ間に導光窓11″をそれぞれ設ける構成
としているので、1つセンサに対して主走査方向左右に
2つの導光窓11″が配置されることになるので、ライ
ンイメージセンサ全体としては、受光量のバラツキをな
くし、センサ出力の安定化を図ることができ、MTFを
向上させることができる効果がある。また、金属電極2
と遮光パターン12との隙間を配線7で遮光しているの
で、漏れ光を防止でき、MTFを向上させることができ
る効果があり、更に配線7のパターンで導光窓11″の
形状を規定することができるので、導光窓11″の面積
を一定にすることができ、入射光量のバラツキをなく
し、MTFを向上させることができる効果がある。
【0067】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、イメージ
センサの共通電極となる金属電極上に2組のオ−ミック
コンタクト層、光導電層、透明電極によって1対のフォ
トダイオードとブロッキングダイオードを形成し、フォ
トダイオードとブロッキングダイオードの透明電極に接
続する配線のパターンを並設された両ダイオードの両透
明電極の一部を覆うように絶縁層を介してそれぞれ形成
し、一方の配線がフォトダイオードの透明電極に接続
し、他方の配線がブロッキングダイオードの透明電極に
接続するイメージセンサとしているので、配線のパター
ンずれが生じても、フォトダイオードとブロッキングダ
イオードの受光面積の比を一定に保持することができ、
両ダイオードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発
生せず、正確な信号を読み出すことができる効果があ
る。
センサの共通電極となる金属電極上に2組のオ−ミック
コンタクト層、光導電層、透明電極によって1対のフォ
トダイオードとブロッキングダイオードを形成し、フォ
トダイオードとブロッキングダイオードの透明電極に接
続する配線のパターンを並設された両ダイオードの両透
明電極の一部を覆うように絶縁層を介してそれぞれ形成
し、一方の配線がフォトダイオードの透明電極に接続
し、他方の配線がブロッキングダイオードの透明電極に
接続するイメージセンサとしているので、配線のパター
ンずれが生じても、フォトダイオードとブロッキングダ
イオードの受光面積の比を一定に保持することができ、
両ダイオードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発
生せず、正確な信号を読み出すことができる効果があ
る。
【0068】請求項2記載の発明によれば、フォトダイ
オードに接続する遮光用配線部分の端部とブロッキング
ダイオードに接続する遮光用配線部分の端部とが覆う透
明電極の面積が等しい請求項1記載のイメージセンサと
しているので、フォトダイオードとブロッキングダイオ
ードの受光面積の比を一定に保持することができ、両ダ
イオードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発生せ
ず、正確な信号を読み出すことができる効果がある。
オードに接続する遮光用配線部分の端部とブロッキング
ダイオードに接続する遮光用配線部分の端部とが覆う透
明電極の面積が等しい請求項1記載のイメージセンサと
しているので、フォトダイオードとブロッキングダイオ
ードの受光面積の比を一定に保持することができ、両ダ
イオードに光が入射した時に外部にノイズ成分が発生せ
ず、正確な信号を読み出すことができる効果がある。
【0069】請求項3記載の発明によれば、フォトダイ
オードの受光領域とブロッキングダイオードの受光領域
とがそれぞれ等しい請求項1記載のイメージセンサとし
ているので、フォトダイオードの容量とブロッキングダ
イオードの容量が1:1になり、両ダイオードに等しい
光が入射したときに外部にノイズ成分が発生せず、正確
な信号を読み出すことができる効果がある。
オードの受光領域とブロッキングダイオードの受光領域
とがそれぞれ等しい請求項1記載のイメージセンサとし
ているので、フォトダイオードの容量とブロッキングダ
イオードの容量が1:1になり、両ダイオードに等しい
光が入射したときに外部にノイズ成分が発生せず、正確
な信号を読み出すことができる効果がある。
【0070】請求項4記載の発明によれば、1対のオー
ミックコンタクト層が同じ材質で同じ厚さで形成される
請求項1記載のイメージセンサとしているので、1対の
オーミックコンタクト層を同時に同工程で容易に製造で
きる効果がある。
ミックコンタクト層が同じ材質で同じ厚さで形成される
請求項1記載のイメージセンサとしているので、1対の
オーミックコンタクト層を同時に同工程で容易に製造で
きる効果がある。
【0071】請求項5記載の発明によれば、1対の光電
変換層が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載
のイメージセンサとしているので、1対の光電変換層を
同時に同工程で容易に製造できる効果がある。
変換層が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載
のイメージセンサとしているので、1対の光電変換層を
同時に同工程で容易に製造できる効果がある。
【0072】請求項6記載の発明によれば、1対の透明
電極が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載の
イメージセンサとしているので、1対の透明電極を同時
に同工程で容易に製造できる効果がある。
電極が同じ材質で同じ厚さで形成される請求項1記載の
イメージセンサとしているので、1対の透明電極を同時
に同工程で容易に製造できる効果がある。
【0073】請求項7記載の発明によれば、互いに接続
する同極の電極がカソードである請求項1記載のイメー
ジセンサとしているので、フォトダイオードとブロッキ
ングダイオードの容量に電荷を蓄積させることができ、
受光量に応じた信号を読み出すことができる効果があ
る。
する同極の電極がカソードである請求項1記載のイメー
ジセンサとしているので、フォトダイオードとブロッキ
ングダイオードの容量に電荷を蓄積させることができ、
受光量に応じた信号を読み出すことができる効果があ
る。
【0074】請求項8記載の発明によれば、対向するよ
う設けられたフォトダイオードとブロッキングダイード
の受光領域を2本の遮光用配線を使って規定し、両ダイ
オードの組合わせに導光窓を設けたメージセンサとして
いるので、両ダイオードにおける受光量のバラツキをな
くし、センサのリニアリティと分解能(MTF)を向上
させることができる効果がある。
う設けられたフォトダイオードとブロッキングダイード
の受光領域を2本の遮光用配線を使って規定し、両ダイ
オードの組合わせに導光窓を設けたメージセンサとして
いるので、両ダイオードにおける受光量のバラツキをな
くし、センサのリニアリティと分解能(MTF)を向上
させることができる効果がある。
【0075】請求項9記載の発明によれば、フォトダイ
オードとブロッキングダイオードが対向する中央部分に
導光窓を設けた請求項8記載のイメージセンサとしてい
るので、導光窓を通って入射した光が原稿に反射して、
その反射光が両ダイオードの受光領域にほぼ等しく入射
するため、受光量にバラツキがなく、センサのリニアリ
ティとMTFを向上させることができる効果がある。
オードとブロッキングダイオードが対向する中央部分に
導光窓を設けた請求項8記載のイメージセンサとしてい
るので、導光窓を通って入射した光が原稿に反射して、
その反射光が両ダイオードの受光領域にほぼ等しく入射
するため、受光量にバラツキがなく、センサのリニアリ
ティとMTFを向上させることができる効果がある。
【0076】請求項10記載の発明によれば、フォトダ
イオードとブロッキングダイオードの組合わせの受光素
子の主走査方向の両側に導光窓を形成した請求項8記載
のイメージセンサとしているので、受光量にバラツキが
なく、センサのリニアリティとMTFを向上させること
ができる効果がある。
イオードとブロッキングダイオードの組合わせの受光素
子の主走査方向の両側に導光窓を形成した請求項8記載
のイメージセンサとしているので、受光量にバラツキが
なく、センサのリニアリティとMTFを向上させること
ができる効果がある。
【0077】請求項11記載の発明によれば、両ダイオ
ードの周辺部を2本の遮光用配線で覆う請求項8記載の
イメージセンサとしているので、両ダイオードの周辺部
からの漏れ光を遮光することができ、MTFを向上させ
ることができる効果がある。
ードの周辺部を2本の遮光用配線で覆う請求項8記載の
イメージセンサとしているので、両ダイオードの周辺部
からの漏れ光を遮光することができ、MTFを向上させ
ることができる効果がある。
【0078】請求項12記載の発明によれば、2本の遮
光用配線で導光窓の形状を規定する請求項10記載のイ
メージセンサとしているので、イメージセンサにおける
各々の導光窓の面積を一定にでき、入射光量のバラツキ
をなくし、センサのリニアリティとMTFを向上させる
ことができる効果がある。
光用配線で導光窓の形状を規定する請求項10記載のイ
メージセンサとしているので、イメージセンサにおける
各々の導光窓の面積を一定にでき、入射光量のバラツキ
をなくし、センサのリニアリティとMTFを向上させる
ことができる効果がある。
【図1】 本発明の一実施例に係るイメージセンサの受
光素子部分の平面説明図である。
光素子部分の平面説明図である。
【図2】 図1のA−A′部分の断面説明図である。
【図3】 本実施例の回路図である。
【図4】 本実施例におけるパターンずれの受光素子部
分の平面説明図である。
分の平面説明図である。
【図5】 第2の実施例のイメージセンサの受光素子部
分の平面説明図である。
分の平面説明図である。
【図6】 図5のC−C′部分の断面説明図である。
【図7】 第2の実施例のイメージセンサをライン状に
配列したイメージセンサの平面説明図である。
配列したイメージセンサの平面説明図である。
【図8】 第3の実施例のイメージセンサの平面説明図
である。
である。
【図9】 従来のイメージセンサの受光素子部分の平面
説明図である。
説明図である。
【図10】 図9の断面説明図である。
【図11】 従来のイメージセンサの回路図である。
【図12】 等しい受光面積を有するイメージセンサの
受光素子部分の平面説明図である。
受光素子部分の平面説明図である。
【図13】 図12の断面説明図である。
【図14】 図12のイメージセンサにおけるパターン
ずれの受光素子部分の平面説明図である。
ずれの受光素子部分の平面説明図である。
【図15】 図12のイメージセンサに導光窓と遮光パ
ターンを設けた場合の受光素子部分の平面説明図であ
る。
ターンを設けた場合の受光素子部分の平面説明図であ
る。
【図16】 図15のD−D′部分の断面説明図であ
る。
る。
【図17】 図15のイメージセンサをライン状に配列
したイメージセンサの平面説明図である。
したイメージセンサの平面説明図である。
1…基板、 2…金属電極、 3…オ−ミックコンタク
ト層、 4…光導電層、5…透明電極、 6…絶縁層、
7…配線、 8…コンタクト孔、 11…導光窓、
12…遮光パターン、 PD…フォトダイオード、 B
D…ブロッキングダイオード
ト層、 4…光導電層、5…透明電極、 6…絶縁層、
7…配線、 8…コンタクト孔、 11…導光窓、
12…遮光パターン、 PD…フォトダイオード、 B
D…ブロッキングダイオード
Claims (12)
- 【請求項1】 同極の電極が互いに接続されるよう直列
に接続されるフォトダイオードとブロッキングダイオー
ドとの複数の組合わせから構成されるイメージセンサに
おいて、前記フォトダイオードと前記ブロッキングダイ
オードとの各々の組合わせは、共通の下部電極と、前記
共通の下部電極上に形成され、特定方向に沿って延長す
るよう並行して設けられた1対のオーミックコンタクト
層と、1対の光電変換層と、1対の透明電極と、前記1
対の透明電極を覆う絶縁層と、前記絶縁層に形成した穴
を通して前記各透明電極に接続する2本の遮光用配線と
から構成され、前記2本の配線は前記2本の配線の各々
が前記フォトダイオードと前記ブロッキングダイオード
についての受光領域を規定するよう前記フォトダイオー
ドと前記ブロッキングダイオードの両方の前記透明電極
の一部を覆うように形成されていることを特徴とするイ
メージセンサ。 - 【請求項2】 前記フォトダイオードの前記配線の端部
が位置する第1の領域と前記ブロッキングダイオードの
前記配線の端部が位置する第2の領域とにおける前記透
明電極の各々の面積が同じであることを特徴とする請求
項1記載のイメージセンサ。 - 【請求項3】 前記フォトダイオードの前記受光領域と
前記ブロッキングダイオードの前記受光領域とがそれぞ
れ等しいことを特徴とする請求項1記載のイメージセン
サ。 - 【請求項4】 前記1対のオーミックコンタクト層が同
じ材質から作られ、等しい厚さを有することを特徴とす
る請求項1記載のイメージセンサ。 - 【請求項5】 前記1対の光電変換層が同じ材質から作
られ、等しい厚さを有すること特徴とする請求項1記載
のイメージセンサ。 - 【請求項6】 前記1対の透明電極が同じ材質から作ら
れ、等しい厚さを有することを特徴とする請求項1記載
のイメージサンサ。 - 【請求項7】 前記同極の電極がカソードであることを
特徴とする請求項1記載のイメージセンサ。 - 【請求項8】 同極の電極が互いに接続されるよう直列
に接続されるフォトダイオードとブロッキングダイオー
ドとの複数の組合わせから構成されるイメージセンサに
おいて、前記フォトダイオードと前記ブロッキングダイ
オードとの各々の組合わせに前記フォトダイオードと前
記ブロッキングダイオードの受光領域を規定する2本の
遮光用配線と、光源から照射された光を導く導光窓とを
設け、前記2本の配線は前記フォトダイオードと前記ブ
ロッキングダイオードのいずれかの電極に接続し、前記
各配線の端部が前記フォトダイオードと前記ブロッキン
グダイオードの両方の受光領域を規定するよう形成され
ていることを特徴とするイメージセンサ。 - 【請求項9】 前記導光窓が前記フォトダイオードと前
記ブロッキングダイオードが対向する中央部分に設けら
れていることを特徴とする請求項8記載のイメージセン
サ。 - 【請求項10】 前記導光窓が前記フォトダイオードと
前記ブロッキングダイオードの組合わせの主走査方向の
側方に設けられていることを特徴とする請求項8記載の
イメージセンサ。 - 【請求項11】 前記2本の遮光用配線が前記フォトダ
イオードと前記ブロッキングダイオードの周辺部を覆う
よう形成されていることを特徴とする請求項8記載のイ
メージセンサ。 - 【請求項12】 前記導光窓の形状が前記2本の遮光用
配線で特定されることを特徴とする請求項10記載のイ
メージセンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4020716A JPH0567765A (ja) | 1991-01-11 | 1992-01-10 | イメージセンサ |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-12608 | 1991-01-11 | ||
| JP1260891 | 1991-01-11 | ||
| JP4020716A JPH0567765A (ja) | 1991-01-11 | 1992-01-10 | イメージセンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0567765A true JPH0567765A (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=26348235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4020716A Pending JPH0567765A (ja) | 1991-01-11 | 1992-01-10 | イメージセンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0567765A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009260305A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-11-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| WO2023035315A1 (zh) * | 2021-09-10 | 2023-03-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制备方法和绑定结构 |
-
1992
- 1992-01-10 JP JP4020716A patent/JPH0567765A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009260305A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-11-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| US8779348B2 (en) | 2008-03-21 | 2014-07-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising photodiode and transistor circuit |
| WO2023035315A1 (zh) * | 2021-09-10 | 2023-03-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制备方法和绑定结构 |
| US12199228B2 (en) | 2021-09-10 | 2025-01-14 | Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Display panel, manufacturing method thereof, and bonding structure |
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