JPH0568067U - スパッターイオンポンプ - Google Patents
スパッターイオンポンプInfo
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- JPH0568067U JPH0568067U JP799693U JP799693U JPH0568067U JP H0568067 U JPH0568067 U JP H0568067U JP 799693 U JP799693 U JP 799693U JP 799693 U JP799693 U JP 799693U JP H0568067 U JPH0568067 U JP H0568067U
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- cathodes
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- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スパッターイオンポンプにおいてスパッタに
よる陰極面の局部的消耗を防止し、長寿命化を図るこ
と。 【構成】 スパッターイオンポンプ内の陽極4と陰極
2,同3の対向している平面内において両者或いはいず
れか一方の平面移動が可能なようにしておき、移動させ
ようとする電極に駆動軸7を取り付け、この駆動軸7は
ポンプ容器1に設けられた操作孔10を挿通して外部に
導き外部に設けられている移動制御用の駆動手段に結合
する。駆動軸7を操作孔10を挿通させる部分ではポン
プ容器内外の気密を保ちつつ駆動が可能な介設部材6を
用いる。
よる陰極面の局部的消耗を防止し、長寿命化を図るこ
と。 【構成】 スパッターイオンポンプ内の陽極4と陰極
2,同3の対向している平面内において両者或いはいず
れか一方の平面移動が可能なようにしておき、移動させ
ようとする電極に駆動軸7を取り付け、この駆動軸7は
ポンプ容器1に設けられた操作孔10を挿通して外部に
導き外部に設けられている移動制御用の駆動手段に結合
する。駆動軸7を操作孔10を挿通させる部分ではポン
プ容器内外の気密を保ちつつ駆動が可能な介設部材6を
用いる。
Description
【0001】
本考案は陽極と陰極との相対移動機構を備えたスパッターイオンポンプに関す るものである。
【0002】
スパッター蒸着による半導体膜の形成等は超真空環境下で行われており、この 超真空環境をつくり出す手段としてスパッターイオンポンプが使用されている。 この種のスパッターイオンポンプは図2に示すように、ポンプ容器1の内部に一 定の間隔をへだてて固定的に配設された一対の陰極2および同3と、この一対の 陰極2および同3間に該陰極2および同3と一定の間隙を介して固定配設された 陽極4と、前記一対の陰極2および同3をポンプ容器1の外側から挟み込む断面 コの字形状の磁石5とを有している。前記陰極2および同3はゲッタ材料として のチタン材等によって形成されている。
【0003】 陽極4は、ステンレス鋼等でつくられており、その形状は格子状に、あるいは 円筒形又は四角形等の複数のセル状(リング状)物材を連結して平板状に配列さ れ、これにより、排気速度を向上させ、かつ高真空に至るまで放電を持続させる ことができるように工夫されている。また磁石5による磁界と電極間の電界とに より陰極2および同3から発射される電子はらせん軌道運動をしてポンプ容器1 内の気体分子と衝突し、イオン化の効率を高める。前記陰極2、同3およびポン プ容器は接地面にアースされており、陽極4は正極に接続されている。
【0004】 上記の如く構成されている従来装置において、陰極2および同3と陽極4間に 高電圧を加えることにより、陰極2および同3から陽極4に向かって熱電子が発 射される。この熱電子は電界および磁石5からの磁界の作用によりらせん運動を しながら陰極2および同3の間を往復運動しポンプ容器1内の気体分子に衝突し てイオンを電離生成する。この電離生成されたイオンは、陰極2および同3に向 かって加速され高エネルギで陰極2および同3のチタンをたたき、チタン原子を たたき出す(スパッタする)。スパッタされたチタン原子は陽極4の面等に付着 して、極めて清浄なチタン膜が形成される。
【0005】 このような放電現象において、真空室内の排気作用は次の2つの過程で行われ る。1つは前記清浄なチタン蒸着膜の持つゲッター作用であり、もう1つはイオ ン又は気体の原子や分子が陰極2および同3に飛び込んで、自己の入射エネルギ によってチタン内部にもぐり込み、捕獲される現象である。このような2種の排 気作用によって真空室内の超真空状態がつくり出されるのである。
【0006】
しかしながら、従来のこの種の装置は、陰極2および同3と陽極4との相対移 動が不可能なため陰極2および同3のスパッタ位置は相手側の陽極4と対向して 固定的に定まってしまう。このため、陰極2および同3の表面がスパッタによっ て局部的に消耗し、これによりスパッターイオンポンプの寿命が制約されるとい う問題があった。
【0007】 本考案は上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、陰極 面のスパッタ位置を任意に移動できる構成にして陰極の局部的消耗を防止し、長 寿命化を図ったスパッターイオンポンプを提供することにある。
【0008】
本考案は上記目的を達成するため次のように構成されている。すなわち、本考 案は、ポンプ容器内に陽極とゲッター材料からなる陰極とが一定の間隙を介して 配置してなるスパッターイオンポンプにおいて、ポンプ容器に設けられた操作孔 と、この操作孔を挿通し前記陽極と陰極のいずれか一方側に結合された駆動軸と 、この駆動軸の移動が可能に該駆動軸とポンプ容器とを気密に結合する介設部材 と、前記駆動軸を外部から移動制御する駆動手段とを有するスパッターイオンポ ンプである。
【0009】
上記構成からなる本考案において、ポンプ作動時には必要に応じ駆動手段を動 作させ駆動軸を陽極又は陰極の動作面と平行な平面上をX方向(駆動軸の軸方向 )あるいはY方向(駆動軸に直交する方向)に移動する。この駆動軸の平面移動 によって陽極と陰極は介設部材により外部との気密を保持したまま互いに一定の 間隙を保った状態で所望量相対移動する。したがって、駆動手段により駆動軸の 移動量および移動方向を制御することにより、陽極と対向する陰極のスパッタ位 置を任意に移動選択することが可能となり、陽極と陰極間で行われるスパッタ作 用に伴う陰極の消耗を陰極面の広範囲にわたって一様にすることが可能となるも のである。
【0010】
以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説明する。なお、本実施例の説明に おいて、従来例と同一の構成部分は同一符号を付してその説明を省略する。 図1には本考案の一実施例を示す構成が示され、ポンプ容器1の基準面1aに は操作孔10が穿設されており、この操作孔10には筒状に形成されている伸縮 自在のベローズ6の一端部が気密に嵌め込み固定されている。ベローズ6の他端 面は閉鎖面6aによって閉鎖されており、この閉鎖面6aの中心部には挿通孔が あけられこの挿通孔を貫通して駆動軸7がポンプ容器1の内部に挿入されている 。そして、この挿入状態で閉鎖面6aと駆動軸7とは気密に固定されている。
【0011】 このように、ベローズ6は駆動軸7とポンプ容器1とを気密に結合する介設物 材として機能する。一方、駆動軸7の挿入先端部は陽極4に固定されており、ポ ンプ容器1の外側に突出した駆動軸7の基端部には駆動手段としてのXY運動導 入機8が結合されている。このXY運動導入機8は駆動軸7をX方向(軸方向) とY方向(陰極2および同3に平行な平面上で前記X方向と直交する方向)に移 動するものである。
【0012】 また、前記駆動軸7はベローズ6とXY運動導入機8との中間部においてステ ー9によって軸支されている。このステー9はコの字形状の部材からなり、その 足部9aはポンプ容器1に固定されており、またその受板部9bには駆動軸7の X方向(軸方向)およびそれに直交するY方向の移動が可能な軸孔(図示せず) が形成されている。
【0013】 したがって、本実施例によれば、XY運動導入機8を制御駆動することによっ て、駆動軸7をX方向およびY方向に移動でき、さらに、この駆動軸7に連動さ せて陽極4を陰極2および同3と平行な平面上を該陰極2および同3と一定の間 隙を保って所望の位置に移動できる。これにより、陽極4と対向する陰極2およ び同3のスパッタ位置を任意に選択できるので陰極2および同3が局部的に消耗 するという不都合は確実に解消され、スパッターイオンポンプの長寿命化が図れ るのである。
【0014】 また、本実施例によれば、前記のように、陰極2および同3の面を広範囲にわ たりスパッタ面として有効に活用できるという利点がある。 なお、上記実施例においては、駆動軸7によって陽極4を移動する構成とした が、これとは逆に、陰極2および同3を移動するように構成してもよい。
【0015】
本考案は以上説明したような構成と作用とを有しているので、ポンプ容器内の 真空状態を維持したまま外部からの駆動力によって陰極と陽極との相対移動を行 うことができ、これにより、陰極面上のスパッタ位置を任意に選択できる。した がって、陰極面を広くスパッタ面として活用することができるとともに、陰極面 の局部的なスパッタ消耗を防止できる結果、スパッターイオンポンプの長寿命化 を十分に図ることが可能である。
【図1】本考案の一実施例の構成を示す斜視図である。
【図2】従来のスパッターイオンポンプの内部斜視図で
ある。
ある。
【符号の説明】 1 ポンプ容器 1a 基準面 2,3 陰極 4 陽極 5 磁石 6 ベローズ 6a 閉鎖面 7 駆動軸 8 XY運動導入機 9 ステー 9a 足部 9b 受板部 10 操作孔 11 電源
Claims (1)
- 【請求項1】 ポンプ容器内に陽極とゲッター材料から
なる陰極とが一定の間隙を介して配置してなるスパッタ
ーイオンポンプにおいて、ポンプ容器に設けられた操作
孔と、この操作孔を挿通し前記陽極と陰極のいずれか一
方側に結合された駆動軸と、この駆動軸の移動が可能に
該駆動軸とポンプ容器とを気密に結合する介設部材と、
前記駆動軸を外部から移動制御する駆動手段とを有する
ことを特徴とするスパッターイオンポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP799693U JPH0568067U (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | スパッターイオンポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP799693U JPH0568067U (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | スパッターイオンポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0568067U true JPH0568067U (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=11681014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP799693U Pending JPH0568067U (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | スパッターイオンポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0568067U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57210551A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-24 | Toshiba Corp | Triple-pole type ion pump |
| JPS58174323A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-13 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 線溶促進剤 |
-
1993
- 1993-02-04 JP JP799693U patent/JPH0568067U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57210551A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-24 | Toshiba Corp | Triple-pole type ion pump |
| JPS58174323A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-13 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 線溶促進剤 |
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