JPH0568090B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0568090B2
JPH0568090B2 JP2210424A JP21042490A JPH0568090B2 JP H0568090 B2 JPH0568090 B2 JP H0568090B2 JP 2210424 A JP2210424 A JP 2210424A JP 21042490 A JP21042490 A JP 21042490A JP H0568090 B2 JPH0568090 B2 JP H0568090B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
motor
drive shaft
spin coater
casing
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP2210424A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0494116A (ja
Inventor
Fumio Kondo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
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Publication of JPH0494116A publication Critical patent/JPH0494116A/ja
Publication of JPH0568090B2 publication Critical patent/JPH0568090B2/ja
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、駆動用モータの駆動軸の先にウエフ
アホルダを取付けた半導体ウエフア用スピンコー
タに関する。
[従来の技術] 従来のスピンコータにおいては、モータのケー
シングはスピンコータ本体に固定されていた。し
たがつて、ウエフアに与えられる運動は、モータ
駆動軸の回転による自転だけであつた。
[発明が解決しようとする課題] しかし、ウエフアサイズの増加と共に、ウエフ
ア外周部と中心部との遠心力の差により、ウエフ
アに露光剤を均一に塗布することができない不具
合がある。
本発明は、ウエフアに露光剤を均一に塗布でき
るスピンコータを提供することを目的としてい
る。
[課題を解決するための手段] 本発明によれば、駆動用モータの駆動軸の先に
ウエフアホルダを取付けた半導体ウエフア用スピ
ンコータにおいて、前記モータのケーシングをホ
ルダ本体に支持手段により支持し、変位センサか
らの信号に基づき変位を制御する制御手段を設け
ている。 上記支持手段は、モータのケーシング
の外周部とスピンコータ本体との間に張設した複
数本のコイルスプリングで構成し、制御手段は、
ケーシングに〓間を設けて設けられた電磁石及び
制御回路で構成するのが好ましい。
また、支持手段と制御手段の一部とを、公知技
術による磁気軸受で構成することができる。
また、制御回路には、信号発生器、補償回路及
びドライバを設け、ドライバを電磁石又は磁気軸
受に接続するのが好ましい。
[作用] 上記のように構成されたスピンコータにおい
て、変位センサはモータケーシングとの間の〓間
を検出し、補償回路は、その〓間を信号発生器か
ら与えられた信号に追従するような制御信号をド
ライバに出力して磁気軸受の電磁石を制御する。
したがつて、ウエフアには、駆動軸回りに、自転
と公転との混じつた軌跡の運動が与えられ、中心
部と外周部とにおける遠心力の差による露光剤の
塗布ムラがなくなる。
[実施例] 以下図面を参照して本発明の実施例の説明す
る。
第1図において、スピンコータ本体1の凹部2
には、駆動用モータ3が収められ、その駆動軸4
の上端部には図示しないウエフアホルダが取付け
られている。そのモータ3は、モータケーシング
5と本体1との間に張設された支持手段である複
数のコイルスプリング6により凹部2内に支持さ
れている。そして、本体1には、ケーシング5に
〓間Aを設けた電磁石7と、その〓間Aを検出す
る変位センサ8とが設けられ、電磁石7及び制御
回路10(第2図)で制御手段が構成されてい
る。なお電磁石7はX−Y方向に合計4つが設け
られている。
第2図において、全体を符号10で示す制御回
路は、電気回路L1に直列に配置された信号発生
器11、補償回路12及びドライバ13からな
り、回路L1のドライバ13の次には、電磁石7
及びダイナミクス14が直列に設けられている。
そして、変位センサ8の信号はダイナミクス14
から補償回路12の入力側に回路L2を介してフ
イードバツクされている。
運転に際し、変位センサ8は、センサ8とケー
シングとの間の〓間Aを検出し、補償回路12
は、その〓間Aを信号発生器11から与えられた
信号に追従するような制御信号をドライバ13に
出力して電磁石7の磁力を制御する。したがつ
て、ウエフアには、自転以外の制御された動きが
与えられ、露光剤塗布に最適な動きが与えられ
る。
すなわち、第3図において、駆動軸4の回転速
度をω、絶対座標系からの駆動軸4の座標を、
(X1,Y1)とする。信号発生器11により例え
ばX1=Rcos(φt)、Y1=Rsin(φt)の信号を与え
ると、駆動軸4自体は、半径R、回転速度φの公
転をしながら、駆動軸4回りに回転速度ωと公転
φの混じつた軌跡Cの運動をウエフアホルダを介
してウエフアに与える。このように合成された運
動軌跡Cにより、駆動軸4による回転だけでは補
正できなかつたウエフア中心部と外周部とにおけ
る遠心力の差による露光剤の塗布ムラをなくすこ
とができる。
第4図は本発明の別の実施例を示し、支持手段
と、制御手段の一部とを公知のスラスト用磁気軸
受9a及びラジアル用磁気軸受9bで構成し、他
を実質的に第1図と同様に構成した例である。こ
の実施例では、モータ3を非接触で本体1に支持
し、加振による発塵を防いで環境の無塵化に資す
ることができる。
[発明の効果] 本発明では、以上説明したように構成されてい
るので、モータ自体に積極的に制御された変位を
与え、ウエフアに自転以外の動きを与えてウエフ
アの中心部と外周部とにおける遠心力の差による
露光剤の塗布ムラをなくすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す側断面図、第
2図は制御回路図、第3図はウエフアに与えられ
る運動軌跡図、第4図は本発明の別の実施例を示
す側断面図である。 1……スピンコータ本体、3……駆動用モー
タ、4……駆動軸、5……モータケーシング、6
……コイルスプリング、7……電磁石、8……変
位センサ、9a……スラスト用磁気軸受、9b…
…ラジアル用磁気軸受、10……制御回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 駆動用モータの駆動軸の先にウエフアホルダ
    を取付けた半導体ウエフア用スピンコータにおい
    て、前記モータのケーシングをホルダ本体に支持
    手段により支持し、変位センサからの信号に基づ
    き変位を制御する制御手段を設けたことを特徴と
    するスピンコータ。
JP2210424A 1990-08-10 1990-08-10 スピンコータ Granted JPH0494116A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2210424A JPH0494116A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 スピンコータ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2210424A JPH0494116A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 スピンコータ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0494116A JPH0494116A (ja) 1992-03-26
JPH0568090B2 true JPH0568090B2 (ja) 1993-09-28

Family

ID=16589087

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JP2210424A Granted JPH0494116A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 スピンコータ

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JP (1) JPH0494116A (ja)

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JPH0494116A (ja) 1992-03-26

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