JPH0494116A - スピンコータ - Google Patents
スピンコータInfo
- Publication number
- JPH0494116A JPH0494116A JP2210424A JP21042490A JPH0494116A JP H0494116 A JPH0494116 A JP H0494116A JP 2210424 A JP2210424 A JP 2210424A JP 21042490 A JP21042490 A JP 21042490A JP H0494116 A JPH0494116 A JP H0494116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- motor
- wafer
- casing
- clearance
- electromagnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、駆動用モータの駆動軸の先にウェファホルダ
を取付けた半導体ウェファ用スピンコータに関する。
を取付けた半導体ウェファ用スピンコータに関する。
[従来の技術]
従来のスピンコータにおいては、モータのケーシングは
スピンコータ本体に固定されていた。したがって、ウェ
ファに与えられる運動は、モータ駆動軸の回転による自
転だけであった。
スピンコータ本体に固定されていた。したがって、ウェ
ファに与えられる運動は、モータ駆動軸の回転による自
転だけであった。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、ウェファサイズの増加と共に、ウェファ外周部
と中心部との遠心力の差により、ウェファに露光剤を均
一に塗布することができない不具合がある。
と中心部との遠心力の差により、ウェファに露光剤を均
一に塗布することができない不具合がある。
本発明は、ウェファに露光剤を均一に塗布できるスピン
コータを提供することを目的としている。
コータを提供することを目的としている。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、駆動用モータの駆動軸の先にウェファ
ホルダを取付けた半導体ウェファ用スピンコータにおい
て、前記モータのケーシングをホルダ本体に支持手段に
より支持し、変位センサからの信号に基づき変位を制御
する制御手段を設けている。
ホルダを取付けた半導体ウェファ用スピンコータにおい
て、前記モータのケーシングをホルダ本体に支持手段に
より支持し、変位センサからの信号に基づき変位を制御
する制御手段を設けている。
上記支持手段は、モータのケーシングの外周部とスピン
コータ本体との間に張設した複数本のコイルスプリング
で構成し、制御手段は、ケーシングに隙間を設けて設け
られた電磁石及び制御回路で構成するのが好ましい。
コータ本体との間に張設した複数本のコイルスプリング
で構成し、制御手段は、ケーシングに隙間を設けて設け
られた電磁石及び制御回路で構成するのが好ましい。
また、支持手段と制御手段の一部とを、公知技術による
磁気軸受で構成することができる。
磁気軸受で構成することができる。
また、制御回路には、信号発生器、補償回路及びドライ
バを設け、ドライバを電磁石又は磁気軸受に接続するの
が好ましい。
バを設け、ドライバを電磁石又は磁気軸受に接続するの
が好ましい。
[作用]
上記のように構成されたスピンコータにおいて、変位セ
ンサはモータケーシングとの間の隙間を検出し、補償回
路は、その隙間を信号発生器から与えられた信号に追従
するような制御信号をドライバに出力して磁気軸受の電
磁石を制御する。したがって、ウェファには、駆動軸回
りに、自転と公転との混じった軌跡の運動が与えられ、
中心部と外周部とにおける遠心力の差による露光剤の塗
布ムラがなくなる。
ンサはモータケーシングとの間の隙間を検出し、補償回
路は、その隙間を信号発生器から与えられた信号に追従
するような制御信号をドライバに出力して磁気軸受の電
磁石を制御する。したがって、ウェファには、駆動軸回
りに、自転と公転との混じった軌跡の運動が与えられ、
中心部と外周部とにおける遠心力の差による露光剤の塗
布ムラがなくなる。
[実施例コ
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図において、スピンコータ本体1の凹部2には、駆
動用モータ3が収められ、その駆動軸4の上端部には図
示しないウェファホルダが取付けられている。そのモー
タ3は、モータケーシング5と本体1との間に張設され
た支持手段である複数のコイルスプリング6により凹部
2内に支持されている。そして、本体1には、ケーシン
グ5に隙間へを設けた電磁石7と、その隙間Aを検出す
る変位センサ8とが設けられ、電磁石7及び制御回路1
0(第2図)で制御手段が構成されている。
動用モータ3が収められ、その駆動軸4の上端部には図
示しないウェファホルダが取付けられている。そのモー
タ3は、モータケーシング5と本体1との間に張設され
た支持手段である複数のコイルスプリング6により凹部
2内に支持されている。そして、本体1には、ケーシン
グ5に隙間へを設けた電磁石7と、その隙間Aを検出す
る変位センサ8とが設けられ、電磁石7及び制御回路1
0(第2図)で制御手段が構成されている。
なお電磁石7はX−Y方向に合計4つか設けられている
。
。
第2図において、全体を符号10て示す制御回路は、電
気回路L1に直列に配置された信号発生器11、補償回
路12及びドライバ13からなり、回路L1のドライバ
13の次には、電磁石7及びダイナミクス14が直列に
設けられている。そして、変位センサ8の信号はダイナ
ミクス14から補償回路12の入力側に回路L2を介し
てフィードバックされている。
気回路L1に直列に配置された信号発生器11、補償回
路12及びドライバ13からなり、回路L1のドライバ
13の次には、電磁石7及びダイナミクス14が直列に
設けられている。そして、変位センサ8の信号はダイナ
ミクス14から補償回路12の入力側に回路L2を介し
てフィードバックされている。
運転に際し、変位センサ8は、センサ8とケーシングと
の間の隙間Aを検出し、補償回路12は、その隙間Aを
信号発生器11から与えられた信号に追従するような制
御信号をドライバ13に出力して電磁石7の磁力を制御
する。したがって、ウェファには、自転以外の制御され
た動きが与えられ、露光剤塗布に最適な動きが与えられ
る。
の間の隙間Aを検出し、補償回路12は、その隙間Aを
信号発生器11から与えられた信号に追従するような制
御信号をドライバ13に出力して電磁石7の磁力を制御
する。したがって、ウェファには、自転以外の制御され
た動きが与えられ、露光剤塗布に最適な動きが与えられ
る。
すなわち、第3図において、駆動軸4の回転速度をω、
絶対座標系からの駆動軸4の座標を、(Xi、Yl)と
する。信号発生器11により例えばX1=Rcos (
φt) 、Y1=Rs in(φt)の信号を与えると
、駆動軸4自体は、半径R1回転速度φの公転をしなが
ら、駆動軸4回りに回転速度ωと公転φの混じった軌跡
Cの運動をウェファホルダを介してウェファに与える。
絶対座標系からの駆動軸4の座標を、(Xi、Yl)と
する。信号発生器11により例えばX1=Rcos (
φt) 、Y1=Rs in(φt)の信号を与えると
、駆動軸4自体は、半径R1回転速度φの公転をしなが
ら、駆動軸4回りに回転速度ωと公転φの混じった軌跡
Cの運動をウェファホルダを介してウェファに与える。
このように合成された運動軌跡Cにより、駆動軸4によ
る回転だけでは補正できなかったウェファ中心部と外周
部とにおける遠心力の差による露光剤の塗布ムラをなく
すことができる。
る回転だけでは補正できなかったウェファ中心部と外周
部とにおける遠心力の差による露光剤の塗布ムラをなく
すことができる。
第4図は本発明の別の実施例を示し、支持手段と、制御
手段の一部とを公知のスラスト用磁気軸受9a及びラジ
アル用磁気軸受9bで構成し、他を実質的に第1図と同
様に構成した例である。この実施例では、モータ3を非
接−触で本体1に支持し、加振による発塵を防いで環境
の無塵化に資することができる。
手段の一部とを公知のスラスト用磁気軸受9a及びラジ
アル用磁気軸受9bで構成し、他を実質的に第1図と同
様に構成した例である。この実施例では、モータ3を非
接−触で本体1に支持し、加振による発塵を防いで環境
の無塵化に資することができる。
[発明の効果]
本発明は、以上説明したように構成されているので、モ
ータ自体に積極的に制御された変位を与え、ウェファに
自転以外の動きを与えてウェファの中心部と外周部とに
おける遠心力の差による露光剤の塗布ムラをなくすこと
ができる。
ータ自体に積極的に制御された変位を与え、ウェファに
自転以外の動きを与えてウェファの中心部と外周部とに
おける遠心力の差による露光剤の塗布ムラをなくすこと
ができる。
第1図は本発明の一実施例を示す側断面図、第2図は制
御回路図、第3−図はウェファに与えられる運動軌跡図
、第4図は本発明の別の実施例を示す側断面図である。 1・・・スピンコータ本体 3・・・駆動用モータ
4・・・駆動軸 5・・・モータケーシング 6
・−・コイルスプリング 7・・・電磁石 8・・・
変位センサ 9a・・・スラスト用磁気軸受 9b
・・・ラジアル用磁気軸受 10・・・制御回路
御回路図、第3−図はウェファに与えられる運動軌跡図
、第4図は本発明の別の実施例を示す側断面図である。 1・・・スピンコータ本体 3・・・駆動用モータ
4・・・駆動軸 5・・・モータケーシング 6
・−・コイルスプリング 7・・・電磁石 8・・・
変位センサ 9a・・・スラスト用磁気軸受 9b
・・・ラジアル用磁気軸受 10・・・制御回路
Claims (1)
- 駆動用モータの駆動軸の先にウェファホルダを取付け
た半導体ウエファ用スピンコータにおいて、前記モータ
のケーシングをホルダ本体に支持手段により支持し、変
位センサからの信号に基づき変位を制御する制御手段を
設けたことを特徴とするスピンコータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2210424A JPH0494116A (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | スピンコータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2210424A JPH0494116A (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | スピンコータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0494116A true JPH0494116A (ja) | 1992-03-26 |
| JPH0568090B2 JPH0568090B2 (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=16589087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2210424A Granted JPH0494116A (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | スピンコータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0494116A (ja) |
-
1990
- 1990-08-10 JP JP2210424A patent/JPH0494116A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0568090B2 (ja) | 1993-09-28 |
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