JPH056865U - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
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- JPH056865U JPH056865U JP8285991U JP8285991U JPH056865U JP H056865 U JPH056865 U JP H056865U JP 8285991 U JP8285991 U JP 8285991U JP 8285991 U JP8285991 U JP 8285991U JP H056865 U JPH056865 U JP H056865U
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Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被照射体に照射されるレーザ光のエネルギ
を、簡単に設定および変更できるようにすることを目的
とする。 【構成】 発振出力されるレーザ光のエネルギを一定と
するとともに、出力されてくるレーザ光の出力光路上
に、透過率の異なる複数の物体を選択的に配置自在とす
る。物体を透過したレーザ光を被照射体に照射する。レ
ーザ光のエネルギを変更する場合は、透過率の異なる物
体を出力光路に位置させればよい。
を、簡単に設定および変更できるようにすることを目的
とする。 【構成】 発振出力されるレーザ光のエネルギを一定と
するとともに、出力されてくるレーザ光の出力光路上
に、透過率の異なる複数の物体を選択的に配置自在とす
る。物体を透過したレーザ光を被照射体に照射する。レ
ーザ光のエネルギを変更する場合は、透過率の異なる物
体を出力光路に位置させればよい。
Description
【0001】
本考案はエキシマレーザ装置に関する。
【0002】
図4に従来のエキシマレーザ装置を示す。この種装置は既によく知られている ように、エキシマレーザ媒質ガス(たとえばハロゲンガス、希ガスまたはこれら の混合ガス)を封じ込んであるレーザチャンバ1、その内部で放電を行なう一対 の放電電極2、その放電を発生させるための放電回路3、充電電源4、充放電を 制御する制御回路5、レーザ出力光の一部を取り出すビームスプリッタ6および 取り出したレーザ出力光のエネルギを測定するエネルギモニタ7などによって構 成されている。
【0003】 エキシマレーザはエキシマを生成する媒質ガスを、放電電極2間で発生する放 電によって励起してレーザ光を発生するものであり、発生したレーザ光をフロン トミラー8とリアミラー9との間で往復、共振させ、誘導放出現象を利用して増 幅し、レーザ光としてフロントミラー8から取り出す。10はレーザ光を被照射 体にレーザ光を照射するときに開かれるシャッタである。
【0004】 放電回路3は、充電電源4によって充電されるコンデンサ12と、オンするこ とによって充電されたコンデンサ12を放電させるサイラトロンのようなスイッ チ素子13と、コンデンサ12の放電によって充電され、その充電電圧が放電電 極2間に印加し、自爆放電させるコンデンサ14とによって主として構成されて いる。
【0005】 レーザ光の一部はビームスプリッタ6によって取り出され、エネルギモニタ7 によってそのエネルギを測定し、その測定値に応じて充電電源4を制御回路5に よって制御する。これによって所望のエネルギのレーザ光を出力するようにして いる。
【0006】 ところでレーザ光のエネルギは、コンデンサ12の充電電圧、発振繰返し周波 数、ショット数などによって変化する。充電電圧が上がると放電電圧が上がるこ とによって、エキシマレーザ媒質ガスの励起強度が上がり、レーザ光のエネルギ が上昇する。
【0007】 発振繰返し周波数が上がると、放電によって生ずるガス密度の擾乱、不純物発 生などにより、次の放電に悪影響を与えてエネルギが低下する。積算ショット数 が増加すると、放電によって発生する不純物の増加あるいは活性なハロゲンガス の濃度低下にともない、同じくエネルギが低下する。
【0008】 このように制御する充電電圧に対するレーザ光のエネルギは、常にレーザ放電 時の状態で変化するので、レーザ光のエネルギの設定値を変更する場合は、レー ザ光をエネルギモニタ7で測定しながら、制御回路5を介して充電電源4にフィ ードバックをかけて制御することが必要である。
【0009】 そのためレーザ光のエネルギを変更した当初は、変更されたエネルギのレーザ 光を出力することはできない。また設定されたエネルギのレーザ光が出力される までには、相当の時間を要するようになる。このようなことは、レーザ光によっ てアニールする場合のように、たとえば1〜数ショット毎にレーザ光のエネルギ を変化させるようなとき、特に不利である。
【0010】
本考案は、レーザ光のエネルギの設定および変更を、簡単にかつ迅速に行なう ことができるようにすることを目的とする。
【0011】
本考案は、発振出力されるレーザ光のエネルギを一定とするとともに、出力さ れてくるレーザ光の出力光路上に、透過率の異なる複数の物体を選択的に配置自 在とし、このフィルタを透過したレーザ光を被照射体に照射するようにしたこと を特徴とする。
【0012】
発振出力されるレーザ光はそのエネルギが一定となるようにするためには、エ ネルギモニタによってそのエネルギを測定し、充電電源にフィードバックをかけ て安定化する。エネルギの設定変更を必要とするときは、その設定値となるよう な透過率を有する物体を選択して出力光路上に配置する。
【0013】 発振出力されたレーザ光は、この物体を透過することによって、設定値通りの エネルギを有するレーザ光となって被照射体に照射されるようになる。透過率の 異なる複数の物体を用意し、これを選択して出力光路上に設置するだけでよいの で、その構成ならびに操作は極めて簡単となる。
【0014】 前記物体としては、フィルタ、各種ミラー、光拡散体、光吸収体などが任意に 使用できる。
【0015】
本考案の実施例を図1によって説明する。なお図4と同じ符号を付した部分は 同一または対応する部分を示す。本考案にしたがい出力光路上に透過率の異なる 物体たとえば、フィルタの複数(図の例では6個)を配置する。図1に示す構成 は、各フィルタ15を円板16として構成したものである。円板16はベルト1 7を介して駆動プーリ18に連なっている。駆動プーリ18はステッピングモー タ19によって駆動される。
【0016】 ステッピングモータ19によって円板16が回転すると、各フィルタ15は順 次ビームスプリッタ6を通過したレーザ光の光路上に位置するようになる。これ によって任意のフィルタ15を出力光路上に配置することができるようになる。 フィルタ15を透過したレーザ光が被照射体に照射される。
【0017】 フロントミラー8から出力されるレーザ光のエネルギは、常に一定となるよう に充電電源4、制御回路5によって制御される。すなわちビームスプリッタ6か ら出力されるレーザ光のエネルギは一定となるように、エネルギモニタ7、制御 回路5を介して充電電源4による充電電圧が制御される。
【0018】 ここで被照射体に照射するレーザ光のエネルギを変更しようとする場合は、制 御回路5からの指令信号によりステッピングモータ19を駆動して、円板16を 回転させて、それまでとは別のフィルタ15をレーザ光の出力光路上に位置させ る。
【0019】 この場合フロントミラー8から出力されるレーザ光のエネルギは、常に一定と なるようにしてあるので、どの透過率のフィルタ15をレーザ光の出力光路上に 位置させれば、そのフィルタ15を透過するときのレーザ光がどれくらいのエネ ルギとなるかは予め判断できる。したがってフィルタ15を選択することによっ て、簡単に所望のエネルギのレーザ光が得られるようになる。
【0020】 図1に示す実施例ではフィルタ15を円板16として構成した例を示すもので あるが、図2に示すように各フィルタ15を一直線状に並べて、これをその直線 方向に駆動することによって、任意のフィルタ15を出力光路上に位置させるよ うにしてもよい。
【0021】 更に図3に示すように各フィルタ15を出力光路に対して倒立自在に配置して おき、その各軸20を駆動させることにしてもよい。これを起立させた場合は、 そのフィルタ15は出力光路上に位置するようになり、また倒した場合は、その フィルタ15は出力光路上から外れるようになる。
【0022】 この構成によれば複数のフィルタ15を同時に出力光路上に位置することがで きるので、フィルタ15の透過率を組み合わすことができるようになって都合が よい。
【0023】
以上詳述したように本考案によれば、被照射体に照射するレーザ光のエネルギ を簡単にかつ迅速に設定変更することができるし、またエネルギの変更に当たっ て放電電圧を変更する必要がないことにより、放電電圧、充電電源の負荷変動が 小さくてすむため、放電電極などの部品の寿命、装置の信頼性が向上するように なるとともに、レーザガスの劣化割合が一定となり、レーザ出力のエネルギの安 定性を向上させることができるといった効果を奏する。
【図1】本考案の実施例を示す回路図である。
【図2】フィルタの配列構成の実施態様を示す斜視図で
ある。
ある。
【図3】フィルタの配列構成の他の実施態様を示す斜視
図である。
図である。
【図4】従来例の回路図である。
1 レーザチャンバ 2 放電電極 3 放電回路 4 充電電源 5 制御回路 6 ビームスプリッタ 7 エネルギモニタ 8 フロントミラー 9 リアミラー 15 透過率が異なる物体
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 発振出力されるレーザ光のエネルギを一
定とするとともに、出力されてくるレーザ光の出力光路
上に、透過率の異なる複数の物体を選択的に配置自在と
し、前記物体を透過したレーザ光を被照射体に照射する
ようにしたことを特徴とするエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8285991U JPH056865U (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8285991U JPH056865U (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH056865U true JPH056865U (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=13786076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8285991U Pending JPH056865U (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH056865U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63147135A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-20 | Konica Corp | レ−ザ−光量安定化装置 |
| JPH01197719A (ja) * | 1988-02-03 | 1989-08-09 | Nippon Atom Ind Group Co Ltd | レーザ出力強度コントロールシステム |
| JPH02190814A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-26 | Ricoh Co Ltd | レーザ出力制御装置 |
-
1991
- 1991-07-08 JP JP8285991U patent/JPH056865U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63147135A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-20 | Konica Corp | レ−ザ−光量安定化装置 |
| JPH01197719A (ja) * | 1988-02-03 | 1989-08-09 | Nippon Atom Ind Group Co Ltd | レーザ出力強度コントロールシステム |
| JPH02190814A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-26 | Ricoh Co Ltd | レーザ出力制御装置 |
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