JPH0570882U - 真空パッド - Google Patents

真空パッド

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JPH0570882U
JPH0570882U JP876392U JP876392U JPH0570882U JP H0570882 U JPH0570882 U JP H0570882U JP 876392 U JP876392 U JP 876392U JP 876392 U JP876392 U JP 876392U JP H0570882 U JPH0570882 U JP H0570882U
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JP
Japan
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valve
vacuum
valve body
lid
suction
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Pending
Application number
JP876392U
Other languages
English (en)
Inventor
太田基美
Original Assignee
株式会社ムラオ・アンド・カンパニー
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 複数組の真空パッド中、何れかの吸着機能に
支障が生じても、他の真空パッドが支障無く機能し得る
様にする。 【構成】 側壁4と蓋部5とで吸着空間を形成した吸着
パッドと、吸着パッドの吸着空間と逆の側に固着される
弁箱6と、弁箱内部に穿設されて蓋部側を開口するとと
もに真空発生源に接続される弁室7と、弁室内に挿入さ
れて蓋部方向に進退自在な弁体10と、弁体を弁室の蓋
部側に形成された弁座に押圧する付勢手段12とよりな
る真空パッドにおいて、蓋部には弁室と吸着空間とを連
通する連通口9を設け、弁体にはタッチピン11を蓋部
側に突出する方向に固着して連通口を遊貫し、弁体が弁
座に押圧されたとき弁室と吸着空間との連通が遮断され
るとともに、前記タッチピン先端が前記側壁の端部より
外側に位置し、付勢手段による押圧力は真空発生源によ
り弁体を弁座から引離そうとする力よりも大きく設定す
る。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、工場等で物品を吊り上げ搬送するため、物品を真空で吸着する真空 パッドに関するものである。詳しくは、一組の真空発生源に接続される複数組の 真空パッド中、何れかの真空パッドが吸着不能になった場合でも、他の真空パッ ドが支障無く吸着しうる真空パッドに関する。
【0002】
【従来の技術】
工場、トラックターミナル等で使用され、物品を吊り上げ搬送するために物品 を真空吸着する真空パッドは、経済上、スペース上等の理由から一組の真空ポン プ等の真空発生源に対し、複数組の真空パッドを空気配管で接続することが望ま れている。しかし、物品表面の凹凸等に起因して、真空パッドの吸着空間と物品 表面との間に隙間を生じて吸着空間が大気圧になり、物品が吸着出来なくなる場 合がある。その場合、他の真空パッドは大気圧に通じてしまい、全部の真空パッ ドが吸着不可能になってしまう。
【0003】 そのような場合に他の真空パッドには影響が出ないようにすべく、一例として 、特開昭52−59475号公報記載のような真空パッドが提案されている。即 ち図3に示すように、吸着が正常のときは弁体はばねで押圧されてシリンダ孔底 部に密着し、弁体を貫通する連通孔を介して、真空パッド内部と真空発生源とが 連通されている。しかし、物品を吸着する吸着パッドと物品表面との間に隙間が 生じて吸着パッド内部が大気圧になると弁体を押し上げるので、吸着パッド内部 と真空発生源とが遮断されてしまう。吸着に支障を生じた真空パッドのみ真空発 生源から遮断されるが、他の真空パッドの吸着機能には影響が出ない。なお、真 空発生源一組と真空パッド複数組とが接続されることは記載されていない。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
前記真空パッドは真空発生源から遮断する際大気圧で弁体を押し上げるので、 上昇開始まで及び上昇開始から終了までの間に夫々多少の時間を要して応答性が 遅く、この間に他の真空パッド内に大気圧が連通して物品が外れるという、重大 な事故の原因に繋がりかねない。構造が複雑であり、重量も過大で、経済的にも 不利である。更に、真空発生源一組と真空パッド複数組とが接続されることを要 件としていないめ、経済上の不利を解決出来ない。そこで本考案は簡単な構造に も係わらず、応答性が良い真空パッドを提供する。
【0005】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成する手段として、本考案は、側壁と蓋部とで吸着空間を形成し た吸着パッドと、該吸着パッドの吸着空間と逆の側に固着される弁箱と、該弁箱 内部に穿設されて蓋部側を開口するとともに真空発生源に接続される弁室と、該 弁室内に挿入されて蓋部方向に進退自在な弁体と、該弁体を弁室の蓋部側に形成 された弁座に押圧する付勢手段、とよりなる真空パッドにおいて、前記蓋部には 前記弁室と前記吸着空間とを連通する連通口を設け、前記弁体にはタッチピンを 蓋部側に突出する方向に固着して前記連通口を遊貫し、弁体が前記弁座に押圧さ れたとき弁室と吸着空間との連通が遮断されるとともに、前記タッチピン先端が 前記側壁の端部より外側に位置し、前記付勢手段による押圧力は前記真空発生源 により弁体を弁座から引離そうとする力よりも大きく設定した。また、前記弁体 を前記吸着パッドと一体に形成して蓋部方向に湾曲自在とし、弁体に前記連通口 と同心に貫通孔を設け、フランジ状の頭部を形成した前記タッチピンを前記貫通 孔に貫通して連通口から突出させ、前記付勢手段で前記タッチピン頭部を押圧し て弁体を前記弁座に押圧するとともに、弁体には前記吸着空間と前記弁室とを連 通する内側連通口を設けた。更に、一組の真空発生源と複数組の真空パッドとを 接続した。
【0006】
【作用】
付勢手段による押圧力でタッチピンが弁座に押圧されているので、吸着室が大 気圧になっても真空発生源とは遮断されている。使用時はタッチピン先端が物体 表面に当って弁体が弁座から離れるので、真空吸引が可能となる。
【0007】
【実施例】
以下図面に示す実施例に基づいて、本考案による真空パッドを具体的に説明す る。図1は真空パッド1で真空吸着を行っていない場合、即ち自由状態を示す断 面図である。真空パッド1は吸着パッド2と弁箱6とで構成されている。吸着パ ッド2は蓋部5と、蓋部5の全周から突出した可撓性の側壁4とで吸着空間3を 形成している。図例では側壁4は落下傘状をなして、変形を容易にしている。弁 箱6内部には蓋部5側を開口した筒孔状の弁室7が穿設されている。弁室7内に は球状の弁体10が挿入されており、蓋部5側方向に進退自在である。弁室7の 蓋部5側底部近傍には環状に弁座8が形成されている。弁体10は弁室7内の蓋 部5と逆側に配設された圧縮コイルばね等の付勢手段12により蓋部5側に押圧 され、前記弁座8に押圧されている。13は付勢手段12の押圧力を調整するた めの調整手段である。
【0008】 蓋部5の中心部には弁室7と吸着空間3とを連通する連通口9が穿設されてい る。弁体10には棒状のタッチピン11が蓋部5側に突出する方向に固着され、 連通口9に遊貫されて吸着空間3内に突出し、弁体10が弁座8に押圧されてい るときは、タッチピン11の先端11aを側壁4の開口側端部4aより軸方向外 側に位置する如く設定されている。
【0009】 弁室7と外部に設置された真空発生源15とは、弁室7の側壁に設けられた接 続口16を介して、空気配管17により空気的に接続されている。真空発生源1 5の運転中は、弁室7はほぼ真空に近い圧力になっている。そのため、弁体10 を弁座8から引離そうとする力が作用している。本考案では付勢手段12による 押圧力を、真空発生源15により弁体10を弁座8から引離そうとする力よりも 大きく設定している。そのため、真空発生源15の運転によって弁体10が弁座 8から引離されることは無い。
【0010】 図2は真空パッド1で物品14を真空吸着している場合、即ち使用状態を示す 断面図である。真空パッド1を物品14の表面14aに当てると、先ずタッチピ ン先端11aが当たる。真空パッド1を物品表面14aに押しつけると、タッチ ピン11と一体の弁体10は付勢手段12の押圧力に抗して弁座8から離れ、タ ッチピン先端11aが物品表面14aに当った状態で、タッチピン11と一体の 弁体10を残したまま吸着パッド2及び弁箱6が前進して側壁端部4aが物品表 面14aに当たる。側壁4は可撓性の落下傘状なので変形容易であり、真空パッ ド1を更に押しつけると、側壁端部4aが物品表面14aに密着して吸着空間3 内を確実に外気から遮断する。弁体10が弁座8から離れて連通口9が連通する ので、吸着空間3は真空発生源15と接続されている弁室7と同一の真空に近い 圧力となる。従って物品14を真空吸着することができる。
【0011】 若し何らかの原因で側壁端部4aと物品表面14aとの間に隙間が生じて吸着 空間3内が大気圧になると、弁室7内にも連通口9から空気が流入するので、真 空に近い圧力で弁体10を弁座8から引離す方向に作用している力が消滅し、弁 体10は付勢手段12の押圧力で直ちに弁座8に密着し、弁室7内を大気圧から 遮断し、タッチピン11の前進で側壁端部4aは物品表面14aから離れる。弁 座8への密着は付勢手段12の押圧力で行われるので、遮断の応答性は極めて良 い。弁室7内が遮断されると、真空発生源15も吸着空間3内と遮断される。付 勢手段12の押圧力を大きく設定すれば、応答性をより迅速化することが可能で ある。
【0012】 図3は他の一実施例における自由状態を示す断面図である。真空パッド200 の弁体100は中央部の肉厚が膨んだ円板状で、蓋部50の吸着空間3と逆の側 に吸着パッド20の側壁40と一体に成形され、蓋部50との間に隙間空間21 を形成し、蓋部50方向に向って湾曲自在である。タッチピン110は頭部にフ ランジ状のタッチピン頭部111が形成されている他はタッチピン11と同様で ある。弁体100には連通口9と同心位置にタッチピン110を貫通する貫通孔 101が設けられ、貫通孔101の頂部近傍は拡径して、タッチピン頭部111 が当接可能な段状断面をなす受け座102が形成されている。弁体100には貫 通孔101とは異なる位置に、弁室7と隙間空間21とを連通する内側連通口6 1が設けられている。弁箱60は吸着パッド20との固着構造以外は弁箱6と同 様である。
【0013】 タッチピン110は弁体100には固着されず、貫通孔101を貫通するとと もに、タッチピン頭部111のフランジ面を受け座102に当接する。弁体10 0の下面にはほぼ半球面状の弁面103が形成されている。蓋部50の連通口9 の外周近傍には環状の弁座80が形成されている。付勢手段12はタッチピン頭 部111を押圧する。弁体100はタッチピン頭部111に押圧されて蓋部50 側に湾曲し、弁面103で弁座80を押圧し、吸着空間3と隙間空間21、更に 内側連通口61を介した弁室7との連通を遮断する。この状態のとき、タッチピ ン110の先端112が開口側端部4aより外側に位置することは、タッチピン 11の場合と同様である。従って、真空パッド200を物品表面14aに当てた 場合は、真空パッド1の場合と全く同様に機能する。
【0014】 図4は一組の真空発生源15が空気配管17により複数組の他の真空パッド1 に接続されている状態を示す説明図である。若し真空パッド1のうち何れかの一 組が吸引に支障を生じた場合、前記のとおりその真空パッド1の弁室7内は大気 圧になった吸着空間3内から遮断されるので、空気配管17で接続されている残 りの真空パッド1に空気が流入することは無いので、残りの真空パッド1は何ら 支障無く、引続き吸着を行うことができる。
【0015】
【考案の効果】
付勢手段により弁体を弁座に押圧する押圧力が、真空発生源で発生する圧力に より弁体を弁座から引離そうとする力よりも大きく設定してあるので、弁体が弁 座から離れることがない。真空パッドを物品表面に押しつけると、タッチピンを 介して付勢手段の押圧力に抗して弁体が弁座から離れ、吸着空間内が弁室内及び 真空発生源と同じ圧力になり、真空吸着が可能となる。吸着空間内が大気圧と通 じた場合は、付勢手段の押圧力で弁室内と遮断されるので、遮断の応答性は極め て良い。付勢手段による押圧力を大きく設定することにより、応答性のより迅速 化も達成可能である。
【0016】 また、複数組の真空パッドを一組の真空発生源と接続するので、真空パッドの 何れかが吸着に支障を生じた場合でも、その真空パッドのみ真空発生源と遮断さ れ、残りの真空パッドは支障無く吸着を行うことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案による真空パッドの自由状態における断
面図である。
【図2】本考案による真空パッドの使用状態における断
面図である。
【図3】本考案による真空パッドの他の実施例の自由状
態における断面図である。
【図4】本考案による複数組の真空パッドを一組の真空
発生源と接続した状態を示す説明図を横長に示したもの
である。
【符号の説明】
1、200 真空パッド 2、20 吸着パッド 3 吸着空間 4 側壁 4a 側壁端部 5、50 蓋部 6、60 弁箱 7 弁室 8、80 弁座 9 連通口 10、100 弁体 11、110 タッチピン 11a、112 タッチピン先端 12 付勢手段 14 物品 15 真空発生源 61 内側連通口 101 貫通孔 111 タッチピン頭部

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 側壁と蓋部とで吸着空間を形成した吸着
    パッドと、該吸着パッドの吸着空間と逆の側に固着され
    る弁箱と、該弁箱内部に穿設されて蓋部側を開口すると
    ともに真空発生源に接続される弁室と、該弁室内に挿入
    されて蓋部方向に進退自在な弁体と、該弁体を弁室の蓋
    部側に形成された弁座に押圧する付勢手段、とよりなる
    真空パッドにおいて、前記蓋部には前記弁室と前記吸着
    空間とを連通する連通口を設け、前記弁体にはタッチピ
    ンを蓋部側に突出する方向に固着して前記連通口を遊貫
    し、弁体が前記弁座に押圧されたとき弁室と吸着空間と
    の連通が遮断されるとともに、前記タッチピン先端が前
    記側壁の端部より外側に位置し、前記付勢手段による押
    圧力は前記真空発生源により弁体を弁座から引離そうと
    する力よりも大きく設定してあることを特徴とする真空
    パッド。
  2. 【請求項2】 前記弁体を前記吸着パッドと一体に形成
    して蓋部方向に湾曲自在とし、弁体に前記連通口と同心
    に貫通孔を設け、フランジ状の頭部を形成した前記タッ
    チピンを前記貫通孔に貫通して連通口から突出させ、前
    記付勢手段で前記タッチピン頭部を押圧して弁体を前記
    弁座に押圧するとともに、弁体には前記吸着空間と前記
    弁室とを連通する内側連通口を設けたことを特徴とする
    請求項1記載の真空パッド。
  3. 【請求項3】 一組の真空発生源と複数組の真空パッド
    とを接続することを特徴とする、請求項1又は請求項2
    記載の真空パッド。
JP876392U 1992-02-26 1992-02-26 真空パッド Pending JPH0570882U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116002419A (zh) * 2023-02-07 2023-04-25 唐山海泰新能科技股份有限公司 一种eva裁切铺设机用纠偏装置
CN116281154A (zh) * 2023-04-04 2023-06-23 江苏迪飞达电子有限公司 一体式料板吸附装置

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