JPH0570936B2 - - Google Patents

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JPH0570936B2
JPH0570936B2 JP59121819A JP12181984A JPH0570936B2 JP H0570936 B2 JPH0570936 B2 JP H0570936B2 JP 59121819 A JP59121819 A JP 59121819A JP 12181984 A JP12181984 A JP 12181984A JP H0570936 B2 JPH0570936 B2 JP H0570936B2
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JP
Japan
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jig
wafer
cartridge
wafers
quartz
Prior art date
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JP59121819A
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Japanese (ja)
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JPS612341A (en
Inventor
Yoshiiku Sano
Tsugio Tanigawa
Yutaka Oohashi
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS612341A publication Critical patent/JPS612341A/en
Publication of JPH0570936B2 publication Critical patent/JPH0570936B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はカートリツジと石英治具との間におい
てウエハを簡単に移し換えることができるウエハ
移し換え治具に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a wafer transfer jig that can easily transfer wafers between a cartridge and a quartz jig.

〔背景技術〕[Background technology]

半導体製品の集積度向上によつて、回路パター
ンは一層微細化が図られている。そして、ICパ
ターンの最小線幅は3μm、2μmを経て1μm以下
になろうとしている。このような状況下における
半導体製造プロセスにおいて、微細パターンを正
確に形成することおよび歩留り(プローブ歩留
り)を向上させるためには、ウエハの塵埃による
汚染低減化、時に付着塵埃の低減を図ることが重
要であることが、たとえば、電子材料、1982年、
別冊号、119〜116頁における長友等による“ウエ
ハ処理システム”あるいは、日立評論、Vol.65、
No.7(1983)、39〜42頁における八掛等による“表
面検査装置による微粒子検出”と題する文献にお
いて論じられている。
As the degree of integration of semiconductor products increases, circuit patterns are becoming increasingly finer. The minimum line width of an IC pattern has gone through 3 μm, 2 μm, and is about to become less than 1 μm. In semiconductor manufacturing processes under these circumstances, in order to accurately form fine patterns and improve yield (probe yield), it is important to reduce contamination from wafer dust, and sometimes to reduce adhering dust. For example, Electronic Materials, 1982,
“Wafer processing system” by Nagatomo et al. in special issue, pp. 119-116, or Hitachi Hyoron, Vol. 65,
No. 7 (1983), pp. 39-42, in the article entitled "Particle Detection by Surface Inspection Device" by Yakake et al.

ウエハは、たとえば、電子材料、1975年、7月
号、92〜99頁における尾木による“部品のハンド
リングシステム”と題する文献あるいは前記長友
等による文献に記載されているように、ピンセツ
ト、真空ピンセツト等による枚葉処理、またはダ
ンプトランスフア、Index Transitson Device等
の名称で呼称されている移し替え機によるカート
リツジ内のウエハ全体のバツチ処理によつて取り
扱われている。
The wafer can be handled with tweezers, vacuum tweezers, etc., as described in the article by Ogi entitled "Part Handling System" in Electronic Materials, July issue, 1975, pp. 92-99, or in the article by Nagatomo et al. The wafers are handled by single wafer processing using a wafer transfer device, or by batch processing of all wafers in a cartridge using a transfer machine called a dump transfer device, an index transition device, or the like.

ところで、前記ピンセツト等によるウエハ処理
においては、ウエハのカートリツジあるいは石英
治具への出入時に、収容溝の縁にウエハが当たつ
て破損(クラツク、欠けの発生)したり、破損に
よつて新たに異物発生を引き起こす難点がある。
また、ウエハは前述のようにその取扱い時にピン
セツトが直接触れること、およびウエハの周縁が
カートリツジや石英治具に接触すること、によつ
て異物が付着してウエハが汚染される。これらに
ついては、前記長友等による文献に記載されてい
る。なお、ピンセツトの接触によるウエハの汚染
状態については前記八掛等による文献に詳細に記
載されている。
By the way, when processing wafers using the tweezers, etc., when the wafers are placed in and out of the cartridge or quartz jig, the wafers may hit the edges of the storage grooves and be damaged (creating cracks or chips), or new wafers may be created due to the damage. There is a drawback that it causes the generation of foreign substances.
Further, as mentioned above, when the wafer is handled directly, the tweezers come into contact with it, and the periphery of the wafer comes into contact with the cartridge or quartz jig, resulting in foreign matter adhering to the wafer and contaminating the wafer. These are described in the literature by Nagatomo et al. The state of contamination of wafers due to contact with tweezers is described in detail in the above-mentioned document by Yakake et al.

しかし、ピンセツト等によるウエハのハンドリ
ングは枚葉処理であることから、手間暇が掛かり
作業性が低い。そこで、ウエハのカートリツジと
石英治具間等の移し替え作業は、移し替え機によ
るバツチ処理で効率的に行われている。また、前
記長友等による文献にはウエハ周辺の欠け(チツ
ピング)の発生はダンプトランスフアによるもの
がピンセツト等によるものよりも勝つている例が
示されている。
However, since wafer handling using tweezers or the like is a single wafer process, it is time consuming and has low workability. Therefore, the work of transferring wafers between a cartridge and a quartz jig is efficiently performed by batch processing using a transfer machine. Furthermore, the above-mentioned document by Nagatomo et al. shows an example in which chipping around a wafer is caused by a dump transfer, which is superior to a method using tweezers or the like.

また、歩留りの向上のためウエハの大口径化が
すすめられている。大口径ウエハはそれ自体の自
重が大きいため真空ピンセツトでは保持しずら
く、また保持するためには習熟が必要となる。ま
た前記ピンセツトで保持し、カートリツジ治具間
の相互の移換え作業の最中に、大口径ウエハが真
空ピンセツトから脱落するという事故も起きたり
し、ウエハ大口径化により歩留の向上を計つてい
るにもかかわらず、歩留りが低下してしまうとい
うことがあきらかとなつた。
Furthermore, increasing the diameter of wafers is being promoted to improve yields. Large-diameter wafers have a large weight, so they are difficult to hold with vacuum tweezers, and holding them requires skill. In addition, there have been accidents in which large-diameter wafers fall off the vacuum tweezers while being held by the tweezers and transferred between cartridge jigs. It has become clear that the yield is decreasing even though

本発明はこのように移し替え機(物品移換治
具)に関するものである。
The present invention thus relates to a transfer machine (article transfer jig).

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的はウエハの移し換え時にウエハの
破損、汚染が生じ難いウエハ移し換え治具を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a wafer transfer jig that hardly causes damage or contamination of wafers during wafer transfer.

本発明の他の目的はウエハの移し換え作業効率
が高いウエハ移し換え治具を提供することにあ
る。
Another object of the present invention is to provide a wafer transfer jig with high wafer transfer efficiency.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面からあき
らかになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なも
のの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、本発明のウエハ移し換え治具は、ウ
エハを収容したカートリツジをウエハ移し換え治
具の治具セツト台に、上方から物品移換治具のガ
イドに沿つて降下させることによつて、カートリ
ツジ内のウエハを治具セツト台上面にあらかじめ
載置された石英治具上に移換るようになつてい
て、石英治具は取扱い自在となる。また、石英治
具の側面には、あらかじめ一対の挿入孔が設けら
れていることからこの挿入孔にフオークを差し込
み、フオークを所定箇所に運ぶことによつて、石
英治具を所定部に運ぶことができるようになつて
いる。この結果、ウエハの移換作業において、ウ
エハはピンセツト等の工具には直接接触すること
がなく、ウエハの汚染の防止が達成できる。ま
た、カートリツジを治具セツト台に対してゆつく
りと降下させることによつて、ウエハへの石英治
具に接触する際のシヨツクは緩和できるため、ウ
エハの破損およびこれに伴う異物発生は防止でき
る。さらに、ウエハの移換作業はカートリツジ内
の全体の移し換えであるバツチ処理で行われるこ
とから、移換作業の高能率化が達成できる。
That is, the wafer transfer jig of the present invention lowers the cartridge containing wafers onto the jig set table of the wafer transfer jig from above along the guide of the article transfer jig. The wafer inside is transferred onto a quartz jig placed in advance on the top surface of a jig setting table, and the quartz jig can be handled freely. In addition, since a pair of insertion holes are pre-prepared on the side of the quartz jig, the quartz jig can be carried to the predetermined location by inserting a fork into these insertion holes and carrying the fork to the predetermined location. It is becoming possible to do this. As a result, during the wafer transfer operation, the wafer does not come into direct contact with tools such as tweezers, and contamination of the wafer can be prevented. In addition, by slowly lowering the cartridge to the jig setting table, the shock of contacting the wafer with the quartz jig can be alleviated, thereby preventing damage to the wafer and the generation of foreign matter associated with this. . Furthermore, since the wafer transfer operation is performed by batch processing, which is the transfer of the entire cartridge, high efficiency of the transfer operation can be achieved.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の一実施例によるウエハ移換治
具を示す斜視図、第2図は同じくウエハの移し換
え開始状態を示す一部を断面とした断面図、第3
図は同じく治具セツトを示す平面図、第4図は同
じくカートリツジから石英治具をウエハを移す状
態を示す断面図、第5図は同じく治具セツト台か
ら石英治具を所定箇所に運ぶ状態を示す断面図で
ある。
FIG. 1 is a perspective view showing a wafer transfer jig according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially sectional view showing a wafer transfer start state, and FIG.
Figure 4 is a plan view showing the jig set, Figure 4 is a cross-sectional view showing the wafer being transferred from the cartridge to the quartz jig, and Figure 5 is the quartz jig being transported from the jig setting table to a predetermined location. FIG.

第1図に示すように、本発明のウエハ移し換え
治具は、移換治具本体1と治具セツト台5と保持
治具2とからなつていて、いずれも金属、たとえ
ばステンレスで形成されている。
As shown in FIG. 1, the wafer transfer jig of the present invention consists of a transfer jig main body 1, a jig setting table 5, and a holding jig 2, all of which are made of metal, such as stainless steel. ing.

前記移換治具本体1は、矩形板状の底面となる
ベース3と、このベース3の四隅にそれぞれ垂設
された細長L字断面のガイド4とを有しており、
前記ベース3の上面中央に治具セツト台5が設け
られている。
The transfer jig main body 1 has a base 3 serving as a rectangular plate-shaped bottom surface, and guides 4 with an elongated L-shaped cross section that are vertically installed at each of the four corners of the base 3.
A jig setting table 5 is provided at the center of the upper surface of the base 3.

前記4本のガイド4は、ウエハ6を25枚収容す
るプラスチツクのカートリツジ7をガイドするよ
うになつている。すなわち、各ガイド4はその直
角に開口する部分を内側に対面させ、カートリツ
ジ7の四隅の外面を外側からガイドするようにな
つている。また、ウエハ6は、カートリツジ7の
相互に対面する一対の側板8の内壁に上下方向に
平行に設けられた25本の収容溝9に、その周縁が
挿入される形で収容される。カートリツジ7は前
記のように一対の側板8と、この側板8の両端部
分を連結する連結部10とからなつているため、
上下が開口しているが、収容溝9は側板8の下端
近傍までしか設けられていないので、ウエハ6は
カートリツジ7の下方から脱落はしない。したが
つて、ウエハ6はカートリツジ7の上方から出入
される。
The four guides 4 are adapted to guide a plastic cartridge 7 containing 25 wafers 6. That is, each guide 4 has its perpendicular opening portion facing inward, and guides the outer surface of the four corners of the cartridge 7 from the outside. The wafers 6 are accommodated with their peripheral edges inserted into 25 accommodation grooves 9 provided vertically in parallel on the inner walls of a pair of side plates 8 of the cartridge 7 facing each other. As described above, the cartridge 7 consists of a pair of side plates 8 and a connecting portion 10 that connects both end portions of the side plates 8.
Although the upper and lower sides are open, the accommodating groove 9 is provided only up to the vicinity of the lower end of the side plate 8, so that the wafer 6 does not fall out from below the cartridge 7. Therefore, the wafers 6 are taken in and out of the cartridge 7 from above.

連結部10は一対の側板8を相互にそれぞれの
端部の上下方向中央部分で連結することにより、
連結部10の上側に位置させてカートリツジ7の
端部には、治具挿入スペース8aが形成されてい
る。
The connecting portion 10 connects the pair of side plates 8 to each other at the vertical center of each end.
A jig insertion space 8 a is formed at the end of the cartridge 7 above the connecting portion 10 .

一方、ベース3の中央に設けられた治具セツト
台5は、前記カートリツジ7の一対の側板8およ
び連結部10とによつて形成された空間領域11
よりも、縦横の寸法が小さくなつている。しか
し、治具セツト台5の高さは、カートリツジ7の
連結部10の高さよりも高くなつているととも
に、カートリツジ端部の治具挿入スペース8aの
位置に対応した高さとなつている。これは、後述
するように、カートリツジ7をベース3上に載せ
た際、保持治具2で治具セツト台5上に載置され
た石英治具12を、治具挿入スペース8aの部分
においてカートリツジ7の上端面よりも低い位置
で安定的に保持できるようにするためである。前
記治具セツト台5上には熱処理治具である石英治
具12が載置される。この石英治具12は平行に
延在する一対の棒体13と、これら棒体13の両
端部分を連結する連結体14と、前記棒体13上
面に棒体13に沿つて固定された細長の台座棒1
5とからなつている。また、前記一対の台座棒1
5の間隔は棒体13の間隔よりも広くなつてい
て、ウエハ6を受け入れ易くなつている。前記一
通の台座棒15の上面には、25枚のウエハ6を載
置収容する収容溝16(第2図参照)が設けられ
ている。前記石英治具12の収容溝16のピツト
と、カートリツジ7の収容溝9のピツチとは、当
然のこととして、たとえば、2.5mmあるいは5mm
と同一となつている。さらに、この石英治具12
もカートリツジ7の空間領域11よりも縦横の寸
法が小さくなつている。なお、前記治具セツト台
5の上面には、第3図に示されるように、位置決
め片17が一対設けられていて、石英治具12の
両端部分の内側空間部分に嵌合するようになつて
いる。
On the other hand, the jig setting table 5 provided at the center of the base 3 has a space area 11 formed by the pair of side plates 8 of the cartridge 7 and the connecting part 10.
The vertical and horizontal dimensions are smaller than the However, the height of the jig setting table 5 is higher than the height of the connecting portion 10 of the cartridge 7, and has a height corresponding to the position of the jig insertion space 8a at the end of the cartridge. As will be described later, when the cartridge 7 is placed on the base 3, the quartz jig 12 placed on the jig setting table 5 is moved by the holding jig 2 to the cartridge insertion space 8a. This is to enable stable holding at a position lower than the upper end surface of 7. A quartz jig 12, which is a heat treatment jig, is placed on the jig setting table 5. This quartz jig 12 includes a pair of rods 13 extending in parallel, a connecting body 14 connecting both ends of these rods 13, and an elongated quartz jig fixed to the upper surface of the rods 13 along the rods 13. Pedestal rod 1
It consists of 5. Further, the pair of pedestal rods 1
The spacing between the rods 5 is wider than the spacing between the rods 13, making it easier to receive the wafer 6. A housing groove 16 (see FIG. 2) is provided on the upper surface of each of the pedestal rods 15 to accommodate 25 wafers 6. Naturally, the pitch of the accommodation groove 16 of the quartz jig 12 and the pitch of the accommodation groove 9 of the cartridge 7 are, for example, 2.5 mm or 5 mm.
is the same as Furthermore, this quartz jig 12
Also, the vertical and horizontal dimensions are smaller than the spatial area 11 of the cartridge 7. As shown in FIG. 3, a pair of positioning pieces 17 are provided on the upper surface of the jig setting table 5, and are fitted into the inner spaces of both ends of the quartz jig 12. ing.

他方、前記保持治具2はフオーク状となつてい
る。すなわち、保持治具2は細長の握り部18
と、この握り部18の先端に二股となつて平行に
延在する細長の挿入部19とからなつている。そ
して、この保持治具2の挿入部19は、前記石英
治具12にあらかじめ設けられた挿入孔20(第
2図参照)に挿入されるようになつている。挿入
孔20は前記棒体13を管体とすることによつて
形成される。
On the other hand, the holding jig 2 has a fork shape. That is, the holding jig 2 has an elongated grip portion 18.
and an elongated insertion part 19 that bifurcates at the tip of the grip part 18 and extends in parallel. The insertion portion 19 of this holding jig 2 is inserted into an insertion hole 20 (see FIG. 2) provided in advance in the quartz jig 12. The insertion hole 20 is formed by making the rod 13 into a tube.

つぎに、このようなウエハ移し換え治具の使用
方法について説明する。
Next, a method of using such a wafer transfer jig will be explained.

最初に、第2図に示されるように、治具セツト
台5の上面に空の石英治具12が位置決め片17
を利用して位置決め載置されるとともに、ウエハ
6を収容したカートリツジ7が用意される。
First, as shown in FIG.
The cartridge 7 containing the wafer 6 is prepared.

つぎに、第4図に示されるように、カートリツ
ジ7が移換治具本体1にガイド4を利用して取付
けられる。カートリツジ7はガイド4に四隅の外
面をガイドされながら、ゆつくり降下され、ベー
ス3上面に載る。このカートリツジ7の降下時、
カートリツジ7に収容されているウエハ6は、治
具セツト台5の通過によつて移る。カートリツジ
7は移換治具本体1のガイド4に位置決めされる
とともに、石英治具12は移換治具本体1の治具
セツト台5に設けられた位置決め片17によつて
位置決めされることから、カートリツジ7の収容
溝9と石英治具12の収容溝16とは相互に対応
する。したがつて、ウエハ6はカートリツジ7か
ら石英治具12に移動した際、正確に石英治具1
2の収容溝16に納まる。また、この際、石英治
具12はカートリツジ7の上方に露出する。
Next, as shown in FIG. 4, the cartridge 7 is attached to the transfer jig main body 1 using the guide 4. The cartridge 7 is slowly lowered while being guided by the guide 4 on the outer surface of the four corners and placed on the upper surface of the base 3. When this cartridge 7 descends,
The wafer 6 housed in the cartridge 7 is transferred by passing through the jig setting table 5. The cartridge 7 is positioned by the guide 4 of the transfer jig main body 1, and the quartz jig 12 is positioned by the positioning piece 17 provided on the jig set base 5 of the transfer jig main body 1. , the accommodation groove 9 of the cartridge 7 and the accommodation groove 16 of the quartz jig 12 correspond to each other. Therefore, when the wafer 6 is moved from the cartridge 7 to the quartz jig 12, it is accurately placed in the quartz jig 1.
It fits into the housing groove 16 of No. 2. Furthermore, at this time, the quartz jig 12 is exposed above the cartridge 7.

つぎに、保持治具2が石英治具12に取付けら
れる。すなわち、作業者は保持治具2の握り部1
8を掴み、挿入部19を石英治具12の挿入孔2
0に挿入する。そのときには、保持治具2はカー
トリツジ7の端部に設けられた治具挿入用スペー
ス8aの部分を通つて挿入される。その後、第5
図に示されるように、保持治具2は上方に移動さ
せられるとともに、石英治具12はテーブル21
上に運ばれる。保持治具2はテーブル21上の石
英治具12から引き抜かれ、カートリツジ7から
石英治具12へのウエハ6の移し換え作業が終了
する。
Next, the holding jig 2 is attached to the quartz jig 12. That is, the operator holds the grip part 1 of the holding jig 2.
8 and insert the insertion part 19 into the insertion hole 2 of the quartz jig 12.
Insert into 0. At that time, the holding jig 2 is inserted through the jig insertion space 8a provided at the end of the cartridge 7. Then the fifth
As shown in the figure, the holding jig 2 is moved upward, and the quartz jig 12 is moved to the table 21.
carried upwards. The holding jig 2 is pulled out from the quartz jig 12 on the table 21, and the work of transferring the wafer 6 from the cartridge 7 to the quartz jig 12 is completed.

なお、石英治具12からカートリツジ7へウエ
ハ6を移し換える場合は、前記移換手順と逆とな
る手順で行えば良い。すなわち、最初に移換治具
本体1に空のカートリツジ7が装着された後、保
持治具2によつてウエハ6が収容されたカートリ
ツジ7が治具セツト台5上に載置される。その
後、空のカートリツジ7がゆつくりと持ち上げら
れる。すると、カートリツジ7が石英治具12を
通過する際、石英治具12に収容されているウエ
ハ6がカートリツジ7の収容溝9に入り、総ての
ウエハ6はカートリツジ7に乗り移ることにな
る。
In addition, when transferring the wafer 6 from the quartz jig 12 to the cartridge 7, the transfer procedure may be reversed to the above-described transfer procedure. That is, first, an empty cartridge 7 is mounted on the transfer jig main body 1, and then the cartridge 7 containing the wafer 6 is placed on the jig setting table 5 by the holding jig 2. Thereafter, the empty cartridge 7 is slowly lifted. Then, when the cartridge 7 passes the quartz jig 12, the wafers 6 accommodated in the quartz jig 12 enter the accommodation groove 9 of the cartridge 7, and all the wafers 6 are transferred to the cartridge 7.

以上述べてきた実施例においては、大断面化さ
れたウエハを取扱う場合において特に有効な技術
である。大断面のウエハを真空ピンセツト等で取
扱う場合、ウエハ自体の重量が重く、取扱は習熟
者であつても極めて難しい作業である。しかし、
本発明の移換治具を使用することにより、大口径
ウエハの取扱いにおいても優れた効果を有してい
る。
The embodiments described above are particularly effective techniques when handling wafers with large cross sections. When handling a wafer with a large cross section using vacuum tweezers or the like, the wafer itself is heavy and handling is extremely difficult even for experienced users. but,
By using the transfer jig of the present invention, excellent effects are obtained even in handling large diameter wafers.

〔効果〕〔effect〕

1 本発明のウエハ移換治具はカートリツジ7と
石英治具12との相対的な擦り抜けによつて、
自動的に一方から他方に乗り移ることから、ウ
エハの移換作業にあつて、ウエハには移換用の
工具等は接触せず、ウエハ6は汚染されなくな
るという効果が得られる。
1. The wafer transfer jig of the present invention achieves
Since the wafers are automatically transferred from one side to the other, the wafers do not come into contact with the wafers during the wafer transfer operation, and the wafers 6 are not contaminated.

2 本発明によれば、カートリツジ7と石英治具
12との間にウエハ6の移換において、両者の
擦り抜け速さは、作業者によつて充分コントロ
ールされ、ウエハ6が他方の収容溝に接触する
際のシヨツクは小さく出来ることから、ウエハ
6におけるクラツク、欠け等の破損発生が低減
でき、製造歩留りが向上するという効果が得ら
れる。
2 According to the present invention, when transferring the wafer 6 between the cartridge 7 and the quartz jig 12, the speed at which the two slide through is sufficiently controlled by the operator, and the wafer 6 is transferred to the other storage groove. Since the shock at the time of contact can be made small, the occurrence of damage such as cracks and chips in the wafer 6 can be reduced, and the manufacturing yield can be improved.

3 さらに本発明にあつては、治具本体に対して
カートリツジを着脱する際には、カートリツジ
7の四隅の外面をガイドにより案内するように
したので、作業者が着脱時にカートリツジを上
下動させる際に、カートリツジの外面を確実に
目視することができ、極めて作業性が良く、移
し換え作業の効率化が達成できる。
3 Furthermore, according to the present invention, when the cartridge is attached to and detached from the jig main body, the outer surface of the four corners of the cartridge 7 is guided by guides, so that when the operator moves the cartridge up and down during attachment and detachment, In addition, the outer surface of the cartridge can be reliably viewed, resulting in extremely good workability and efficient transfer work.

4 また、カートリツジの端部に形成された治具
挿入スペースの部分で保持治具をウエハ石英治
具の棒体に挿入することができるので、治具セ
ツト台の上面をカートリツジの上下寸法よりも
短く設定することが可能となり、治具セツト台
を低くして治具の小型化が達成されるととも
に、ウエハの移し換えを行う際に、ウエハの支
持を安定的に行うことができる。
4 In addition, since the holding jig can be inserted into the rod of the wafer quartz jig in the jig insertion space formed at the end of the cartridge, the top surface of the jig setting table can be set higher than the vertical dimension of the cartridge. It is possible to set the length to be short, and the jig setting table can be lowered to achieve miniaturization of the jig, and the wafer can be stably supported when transferring the wafer.

以上本発明者によつてなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。たとえば、移換治具本体におけるカートリツ
ジの位置ガイドおよび石英治具の保持機構等は一
般に用いられている各種の機構を採用しても、前
記実施例と同様な効果が得られる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, the present invention is not limited to the above Examples, and it is understood that various changes can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, even if various commonly used mechanisms are used for the cartridge position guide in the transfer jig main body, the quartz jig holding mechanism, etc., the same effects as in the embodiments described above can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例によるウエハ移換治
具を示す斜視図、第2図は同じくウエハの移し換
え開始状態を示す一部を断面とした断面図、第3
図は同じく治具セツト台を示す平面図、第4図は
同じくカートリツジから石英治具にウエハを移す
状態を示す断面図、第5図は同じく治具セツト台
から石英治具を所定箇所に運ぶ状態を示す断面図
である。 1……移換治具本体、2……保持治具、3……
ベース、4……ガイド、5……治具セツト台、6
……ウエハ、7……カートリツジ、8……側板、
9……収容溝、10……連結部、11……空間領
域、12……石英治具、13……棒体、14……
連結体、15……台座棒、16……収容溝、17
……位置決め片、18……握り部、19……挿入
部、20……挿入孔、21……テーブル。
FIG. 1 is a perspective view showing a wafer transfer jig according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially sectional view showing a wafer transfer start state, and FIG.
Figure 4 is a plan view showing the jig setting table, Figure 4 is a sectional view showing the state in which a wafer is transferred from the cartridge to the quartz jig, and Figure 5 is a sectional view showing the quartz jig being transferred from the jig setting table to a predetermined location. It is a sectional view showing a state. 1... Transfer jig main body, 2... Holding jig, 3...
Base, 4...Guide, 5...Jig setting table, 6
...Wafer, 7...Cartridge, 8...Side plate,
9... Accommodation groove, 10... Connecting portion, 11... Spatial area, 12... Quartz jig, 13... Rod body, 14...
Connecting body, 15... Pedestal rod, 16... Accommodating groove, 17
... Positioning piece, 18 ... Grip section, 19 ... Insertion section, 20 ... Insertion hole, 21 ... Table.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 相互に対面する一対の側板8と、これら側板
8の端部において側板8相互を所定の間隔を保つ
ように連結保持するとともに上部に治具挿入スペ
ース8aを形成する連結部10と、前記一対の側
板8の対向面に上下方向に並行に設けられてウエ
ハを保持する収容溝9が形成され、上下が開口し
ているウエハカートリツジ7と、 ベース3と、そのベース3の四隅のそれぞれに
垂設され、前記ウエハカートリツジの角部外面を
案内して位置決めするガイド4とを有する治具本
体1と、 前記治具本体1の中央に設けられ、上面が前記
治具挿入スペース8aとほぼ同一の高さとなつた
治具セツト台5と、 相互に所定間隔を保つて位置してそれぞれウエ
ハを保持する収容溝16が形成された一対の台座
棒15と、当該台座棒15に一体となり、フオー
ク状の保持治具2が前記治具挿入スペース8aを
通つて水平方向に挿入される水平の挿入孔20を
有する一対の棒体13とにより構成され、前記治
具セツト台5の上面に着脱自在に載置されるウエ
ハ石英治具12とを備え、 複数のウエハ6が収容された前記ウエハカート
リツジ7を、上面にウエハ石英治具12がセツト
されている治具セツト台5に対し、ガイド4によ
り前記ウエハカートリツジの角部外面を案内しつ
つ、下方に移動することにより、前記複数のウエ
ハ6を前記治具挿入スペース8aの高さでウエハ
石英治具12に移し換えるようにしたことを特徴
とするウエハ移し換え治具。
[Scope of Claims] 1 A pair of side plates 8 facing each other, and a connection that connects and holds the side plates 8 at the ends thereof so as to maintain a predetermined distance from each other, and forms a jig insertion space 8a in the upper part. 10, a wafer cartridge 7 which is provided vertically in parallel on opposing surfaces of the pair of side plates 8 to hold wafers, and is open at the top and bottom; a base 3; and the base 3. a jig main body 1 having guides 4 vertically disposed at each of the four corners of the wafer cartridge for guiding and positioning the outer surface of the corner of the wafer cartridge; A jig setting table 5 having almost the same height as the tool insertion space 8a, a pair of pedestal rods 15 located at a predetermined distance from each other and each having a receiving groove 16 for holding a wafer, and the pedestal. A fork-shaped holding jig 2 is integrated with the rod 15 and is composed of a pair of rods 13 having a horizontal insertion hole 20 inserted horizontally through the jig insertion space 8a, and the jig set A wafer quartz jig 12 that is removably placed on the top surface of the table 5, and a jig having the wafer quartz jig 12 set on the top surface of the wafer cartridge 7 containing a plurality of wafers 6. The plurality of wafers 6 are placed in the wafer quartz jig 12 at the height of the jig insertion space 8a by moving the wafer cartridge downward with respect to the setting table 5 while guiding the outer surface of the corner of the wafer cartridge with the guide 4. A wafer transfer jig characterized by being adapted to transfer wafers.
JP12181984A 1984-06-15 1984-06-15 Wafer transfer jig Granted JPS612341A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07223289A (en) * 1994-02-10 1995-08-22 Fuooles:Kk Composite panel material

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5337056U (en) * 1976-09-07 1978-04-01
JPS577097Y2 (en) * 1976-09-27 1982-02-10

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