JPH0571994A - Manufacture of stereoscopic image display device - Google Patents
Manufacture of stereoscopic image display deviceInfo
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- JPH0571994A JPH0571994A JP23000391A JP23000391A JPH0571994A JP H0571994 A JPH0571994 A JP H0571994A JP 23000391 A JP23000391 A JP 23000391A JP 23000391 A JP23000391 A JP 23000391A JP H0571994 A JPH0571994 A JP H0571994A
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- photocurable resin
- light
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- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 断面形状が台形状もしくは階段状であって、
高さが異なる立体的な画像を、基体上の所定位置に再現
性よく形成することできる立体画像表示盤の製造方法を
提供する。
【構成】 基体1上に形成された光硬化性樹脂層2に、
フォトマスク4aを通して露光、硬化させ、現像して未
硬化部分を除去することにより、基体1上の所定の位置
に立体的な画像パターンを形成する。
(57) [Summary] [Purpose] The cross-sectional shape is trapezoidal or stepwise,
Provided is a method for manufacturing a stereoscopic image display panel capable of forming stereoscopic images having different heights at predetermined positions on a substrate with good reproducibility. [Structure] The photocurable resin layer 2 formed on the substrate 1
A three-dimensional image pattern is formed at a predetermined position on the substrate 1 by exposing, curing, and developing the photomask 4a to remove the uncured portion.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、基体上の所定位置に所
定の画像パタ−ンが形成された立体画像表示盤の製造方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a stereoscopic image display panel in which a predetermined image pattern is formed at a predetermined position on a substrate.
【0002】このような表示盤は、例えば、車両用メー
タやディスプレイパネル等に使用することができる。Such a display panel can be used for, for example, a vehicle meter or a display panel.
【0003】[0003]
【従来の技術】従来より、表示盤の文字および数字など
の画像は、基体上に印刷によって形成されることが多
く、平面的な画像が一般的である。2. Description of the Related Art Conventionally, images such as letters and numbers on a display board are often formed on a substrate by printing, and are generally flat images.
【0004】ところが、近年、高級化指向が高まるにつ
れて、これらの文字および数字などの画像に高級感を付
与するため、画像を平面的なものから立体的なものに転
換しようとする検討が行われている。However, in recent years, as the trend toward higher grades has increased, in order to give a high-class feeling to images such as these letters and numbers, studies have been conducted to convert the images from flat ones to three-dimensional ones. ing.
【0005】しかも、表示盤に形成された立体化画像
は、特に、装飾性や視認性の点から、その断面形状が台
形や階段状である方が望ましい。表示盤の画像を立体化
するための方法として、厚肉印刷、ホットスタンピング
による凹凸の転写などが考えられるが、いずれも画像の
形成方法が複雑で量産性に乏しいという欠点がある。Moreover, it is desirable that the three-dimensional image formed on the display board has a trapezoidal or stepped cross-sectional shape from the viewpoint of decorativeness and visibility. As a method for making the image on the display board three-dimensional, thick-walled printing, transfer of irregularities by hot stamping, and the like are conceivable, but all of them have drawbacks that the image forming method is complicated and mass productivity is poor.
【0006】また、表示盤に文字および数字などの立体
化された画像を形成する別の方法として、光硬化性樹脂
層を基体上に形成し、該光硬化性樹脂層にフォトマスク
を通して露光し硬化させ、未硬化の部分を除去すること
により、所定の立体的画像を基体上に形成する方法が特
開平2−122220号公報に提案されている。As another method for forming a three-dimensional image such as letters and numbers on a display board, a photocurable resin layer is formed on a substrate and the photocurable resin layer is exposed through a photomask. JP-A-2-122220 proposes a method of forming a predetermined three-dimensional image on a substrate by curing and removing the uncured portion.
【0007】上述の方法によれば、高い凸部を形成する
部分に対しては、フォトマスクの光線透過性を高くして
光硬化性樹脂の硬化度を上げ、低い凸部を形成する部分
に対しては、フォトマスクの光線透過性を低くして光硬
化性樹脂を下げるという手段によって、現像液に対する
溶解性を加減し、凸部の断面形状の高低を設けることに
より、立体的な画像を形成しようとするものである。According to the above-mentioned method, for the portion where the high convex portion is formed, the light transmittance of the photomask is increased to increase the curing degree of the photocurable resin, and the portion where the low convex portion is formed is increased. On the other hand, by lowering the light transmittance of the photomask and lowering the photocurable resin, the solubility in the developing solution is adjusted, and the height of the cross-sectional shape of the convex portion is increased to obtain a three-dimensional image. It is the one to be formed.
【0008】しかしながら、光硬化性樹脂は、一般に、
完全な硬化に至らなくても、一定のレベルの硬化度に達
した部分は、現像によって除去されなくなるため、この
レベル以上に硬化度を上げることによって、凸部の高さ
の制御することは難かしい。However, the photocurable resin is generally
Even if it is not completely cured, the portion that has reached a certain level of curing degree will not be removed by development, so it is difficult to control the height of the convex portion by increasing the curing degree above this level. Funny
【0009】また、硬化度が一定のレベルに到達しない
部分は、現像によって除去されるため、このレベル以下
の硬化度で凸部の高さを制御することも難かしい。従っ
て、上記の方法では、光硬化性樹脂の限られた硬化度の
範囲内で、凸部の高低を制御しなければならないので、
断面形状が台形状もしくは階段状であって、かつ高さを
自由に制御することできる立体画像を、再現性よく形成
することが難しいという問題点があった。Further, since the portion where the degree of curing does not reach a certain level is removed by the development, it is difficult to control the height of the convex portion with the degree of curing below this level. Therefore, in the above method, since the height of the convex portion must be controlled within the range of the limited degree of curing of the photocurable resin,
There is a problem that it is difficult to reproducibly form a stereoscopic image having a trapezoidal or stepped cross section and the height of which can be freely controlled.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたものであり、その目的は、断面形状が台
形もしくは階段状であって、かつ高さの異なる立体的画
像を、基体上の所定位置に再現性よく形成することがで
きる立体画像表示盤の製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and an object of the present invention is to obtain a three-dimensional image having a trapezoidal or stepped cross-sectional shape and different heights from a substrate. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a stereoscopic image display panel that can be formed at a predetermined position above with good reproducibility.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の立体画像表示盤
の製造方法は、基体上に形成された光硬化性樹脂層に、
フォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を現
像によって除去することにより、基体上の所定の位置
に、断面形状が台形状や階段状の立体的な画像パターン
を形成することを前提としている。A method of manufacturing a stereoscopic image display panel according to the present invention comprises a photocurable resin layer formed on a substrate,
It is premised that a three-dimensional image pattern having a trapezoidal sectional shape or a stepped sectional shape is formed at a predetermined position on the substrate by exposing and curing through a photomask and removing the uncured portion by development.
【0012】まず、第1発明を説明する。本発明1にお
いては、光硬化性樹脂層は、線状共重合体、光重合可能
な不飽和化合物及び活性光線により増感する光重合開始
剤からなる光重合性組成物を成分とし、光線の吸収波長
域が、それぞれ、異なる光重合開始剤を含有する複数の
層から構成される。First, the first invention will be described. In the present invention 1, the photocurable resin layer comprises a photopolymerizable composition comprising a linear copolymer, a photopolymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator sensitized by actinic rays as a component, The absorption wavelength region is composed of a plurality of layers each containing a different photopolymerization initiator.
【0013】線状共重合体は、カルボキシル基を含有す
るα、β−不飽和エチレン系単量体と、前記以外のα、
β−不飽和エチレン系単量体を構成成分とするのが好ま
しい。上記カルボキシル基を含有するα、β−不飽和エ
チレン系単量体としては、カルボキシル基を含有し、
α、β−不飽和エチレン系単量体と共重合しうる単量体
であればよく、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン
酸、マレイン酸(無水物)、フマル酸、イタコン酸等の
不飽和カルボン酸類があげられる。The linear copolymer comprises an α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group and an α, β-unsaturated ethylenic monomer other than the above.
It is preferable to use a β-unsaturated ethylenic monomer as a constituent. The α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group, contains a carboxyl group,
Any monomer that can be copolymerized with the α, β-unsaturated ethylenic monomer may be used, and examples thereof include (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid (anhydride), fumaric acid, and itaconic acid. Examples thereof include saturated carboxylic acids.
【0014】また、前記以外のα、β−不飽和エチレン
系単量体としては、例えば、スチレン、o−メチルスチ
レン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−
メチルスチレン、p−エチルスチレン、2,4−ジメチ
ルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オク
チルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルス
チレン、3,4−ジメチルクロルスチレンなどのスチレ
ン類;α−ビニルナフタレンなどのビニルナフタレン
類;エチレン、プロピレン、ブチレンまたはC5 〜C30
及びそれ以上のα−オレフィン類;塩化ビニル、臭化ビ
ニル、弗化ビニルなどのハロゲン化ビニル類;酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどのビニルエス
テル類;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル
酸プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)
アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸n−オクチ
ル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸
−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸−2−クロ
ルエチル、α−クロル(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ジメチル
アミノエチルなどの(メタ)アクリル酸エステル類;ビ
ニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテルなどのビニ
ルエーテル類;ビニルメチルケトン、ビニルエチルケト
ンなどのビニルケトン類;N−ビニルピロール、N−ビ
ニルインドールなどのN−ビニル化合物;(メタ)アク
リロニトリル、(メタ)アクリル酸アミド類があげられ
る。Examples of the α, β-unsaturated ethylenic monomers other than the above are, for example, styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene and α-
Styrenes such as methylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, pn-hexylstyrene, pn-octylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, and 3,4-dimethylchlorostyrene. Vinylnaphthalenes such as α-vinylnaphthalene; ethylene, propylene, butylene or C 5 to C 30
And higher α-olefins; vinyl halides such as vinyl chloride, vinyl bromide and vinyl fluoride; vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl butyrate; methyl (meth) acrylate, (meth ) Propyl acrylate, n-butyl (meth) acrylate, (meth)
Isobutyl acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, α-chloro (meth) acrylic acid methyl ester, (Meth) acrylic acid esters such as phenyl (meth) acrylate and dimethylaminoethyl (meth) acrylate; vinyl ethers such as vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether; vinyl ketones such as vinyl methyl ketone and vinyl ethyl ketone; N -N-vinyl compounds such as vinylpyrrole and N-vinylindole; (meth) acrylonitrile and (meth) acrylic acid amides.
【0015】線状共重合体の構成成分中のカルボキシル
基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体に相当す
る部分の量は、少なくなるとアルカリ水溶液に不溶にな
るため、アルカリ水溶液による現像ができなくなり、逆
に多くなると塗工溶媒または他の成分との相溶性が低下
し、解像性も低下するので、10〜40重量%の範囲が
好ましく、より好ましくは15〜35重量%である。When the amount of the portion corresponding to the α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group in the constituents of the linear copolymer becomes small, it becomes insoluble in the alkaline aqueous solution, so that it depends on the alkaline aqueous solution. If it becomes impossible to develop, and if it becomes too large, the compatibility with the coating solvent or other components decreases and the resolution also decreases. Therefore, the range of 10 to 40% by weight is preferable, and 15 to 35% by weight is more preferable. Is.
【0016】そして、線状共重合体の構成成分中のカル
ボキシル基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体
に相当する部分以外の量は、60〜90重量%である。
線状共重合体の重量平均分子量は、小さくなると、いわ
ゆるコールドフローを起こしやすくなり、逆に、大きく
なると、アルカリ水溶液に溶解し難くなって現像し難く
なり、解像性も低下するので、2万〜50万の範囲が好
ましく、より好ましくは5万〜30万である。The amount of the components other than the portion corresponding to the α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group in the constituents of the linear copolymer is 60 to 90% by weight.
If the weight average molecular weight of the linear copolymer is small, so-called cold flow is likely to occur, and conversely, if it is large, it becomes difficult to dissolve in an alkaline aqueous solution and it is difficult to develop, and the resolution is lowered. The range of 10,000 to 500,000 is preferable, and the range of 50,000 to 300,000 is more preferable.
【0017】本発明で使用される光重合可能な不飽和化
合物は、下記一般式(I)で表される化合物からなる群
より選ばれる少なくとも1種以上の化合物であることが
好ましい。The photopolymerizable unsaturated compound used in the present invention is preferably at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the following general formula (I).
【0018】[0018]
【化1】 [Chemical 1]
【0019】式 (I)において、R1 及びR2 は水素基
又はメチル基、nは1〜15までの整数、R3 は炭素数
1〜10までの炭化水素基、mは1〜100までの整
数、Xは炭素数2〜20の2価の炭化水素基である。In the formula (I), R 1 and R 2 are hydrogen groups or methyl groups, n is an integer of 1 to 15, R 3 is a hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, and m is 1 to 100. And X is a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms.
【0020】ここで、Xで示される2価の炭化水素基と
しては、直鎖、分枝鎖、脂環式または芳香族などの部分
から構成される炭化水素基、例えば、ヘキサメチレン
基、トリレン基、イソホロン基、テトラメチルキシリレ
ン基、ナフチレン基等があげられる。Here, the divalent hydrocarbon group represented by X is a hydrocarbon group composed of a linear, branched, alicyclic or aromatic moiety, for example, a hexamethylene group or tolylene. Group, isophorone group, tetramethylxylylene group, naphthylene group and the like.
【0021】上記不飽和化合物の製法は、任意の方法が
採用されてよく、例えば、ジイソシアネートとジオール
を、求める化合物の組成比に合う割合で混合して反応さ
せ、末端にイソシアネート基をもつウレタンオリゴマー
を形成した後、水酸基をもつ(メタ)アクリレートを添
加して末端にあるイソシアネート基と反応させればよ
い。この際、必要ならば、酢酸エチル、メチルエチルケ
トン、トルエンなどの有機溶剤に溶解して反応させても
よく、さらにジブチルスズジラウレートなどの触媒を添
加してもよい。As the method for producing the above-mentioned unsaturated compound, any method may be adopted. For example, diisocyanate and diol are mixed and reacted at a ratio matching the composition ratio of the desired compound, and a urethane oligomer having an isocyanate group at the end is reacted. After forming, the (meth) acrylate having a hydroxyl group may be added and reacted with the isocyanate group at the terminal. At this time, if necessary, the reaction may be carried out by dissolving in an organic solvent such as ethyl acetate, methyl ethyl ketone, or toluene, and a catalyst such as dibutyltin dilaurate may be added.
【0022】光重合性樹脂組成物中の不飽和化合物の量
は、少なくなると露光、現像後の光重合性樹脂組成物層
の柔軟性が低下し、逆に多くなるとコールドフローが起
こりやすくなると共に解像性が低下するので、前記線状
共重合体100重量部に対して5〜150重量部が好ま
しく、より好ましくは10〜100重量部である。When the amount of the unsaturated compound in the photopolymerizable resin composition decreases, the flexibility of the photopolymerizable resin composition layer after exposure and development decreases, and when the amount increases, cold flow easily occurs. Since the resolution decreases, it is preferably 5 to 150 parts by weight, and more preferably 10 to 100 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the linear copolymer.
【0023】また、不飽和化合物の重量平均分子量は、
小さくなると露光、現像後の樹脂組成物層の柔軟性が低
下し、大きくなると現像時間が長くなるので1,000
〜15,000が好ましく、より好ましくは1,500
〜10,000である。The weight average molecular weight of the unsaturated compound is
When it becomes smaller, the flexibility of the resin composition layer after exposure and development decreases, and when it becomes larger, the development time becomes longer.
〜15,000 is preferred, more preferably 1,500
~ 10,000.
【0024】本発明で使用される光重合開始剤として
は、特定の波長の光線を吸収して上記不飽和化合物を活
性化し、重合を開始させる性質を有するものであればよ
い。光線の吸収波長域が250〜300nmの範囲にあ
る光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、
3,4’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メ
チルフェニルグリオキシレートなどが挙げられる。The photopolymerization initiator used in the present invention may be any one having a property of absorbing a light beam having a specific wavelength and activating the unsaturated compound to initiate polymerization. Examples of the photopolymerization initiator having a light absorption wavelength range of 250 to 300 nm include benzophenone and
3,4′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, methylphenylglyoxylate and the like can be mentioned.
【0025】また、光線の吸収波長域が300〜350
nmの範囲にある光重合開始剤としては、例えば、p−
ジメチルアミノ安息香酸(2−ブトキシ)エチル、2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパンー1−
オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパンー1−オン、4−(2−ヒド
ロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プ
ロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられ
る。The absorption wavelength range of light rays is 300 to 350.
Examples of the photopolymerization initiator in the range of nm include p-
Dimethylaminobenzoate (2-butoxy) ethyl, 2-
Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-
On, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl Examples thereof include ketones and benzyl dimethyl ketal.
【0026】また、光線の吸収波長域が350〜400
nmの範囲にある光重合開始剤としては、例えば、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル、ベンジン、チオキサントン、2−エチルチオキ
サントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチ
ルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、
2,4−ジイソプロピルチオキサントンなどが挙げられ
る。The absorption wavelength range of light rays is 350 to 400.
As the photopolymerization initiator in the range of nm, for example, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzine, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone,
2,4-diisopropylthioxanthone and the like can be mentioned.
【0027】また、光線の吸収波長域が400nm以上
である光重合開始剤としては、例えば、カンファーキノ
ンが挙げられる。光重合性樹脂組成物中の光重合開始剤
の量は、前記線状共重合体100重量部に対して、0.
1〜10重量部の範囲が好ましい。The photopolymerization initiator having a light absorption wavelength range of 400 nm or more includes, for example, camphorquinone. The amount of the photopolymerization initiator in the photopolymerizable resin composition is 0. 0, based on 100 parts by weight of the linear copolymer.
A range of 1 to 10 parts by weight is preferable.
【0028】また、本発明1で使用される光重合性樹脂
組成物に、テトラエチレングリコールジアクリレートな
どの光重合性単量体;ジオクチルフタレート、トリエチ
レンジオクチルフタレート、トリエチレングリコールジ
アセテート、p−トルエンスルホンアミド、N−エチル
トルエンスルホンアミド等の可塑剤;ヒドロキノン、p
−メトキシフェノール等の熱重合禁止剤;安定剤;紫外
線吸収剤;酸化防止剤;メチルエチルケトン、トルエン
等の溶媒などが添加されてもよい。In the photopolymerizable resin composition used in the present invention 1, a photopolymerizable monomer such as tetraethylene glycol diacrylate; dioctyl phthalate, triethylene dioctyl phthalate, triethylene glycol diacetate, p- Plasticizers such as toluenesulfonamide and N-ethyltoluenesulfonamide; hydroquinone, p
-A thermal polymerization inhibitor such as methoxyphenol; a stabilizer; an ultraviolet absorber; an antioxidant; a solvent such as methyl ethyl ketone or toluene may be added.
【0029】本発明1における基体としては、例えば、
ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、アクリル樹脂などのシートもしくはフィルム、ガ
ラス板、セラミック板、金属板などが好適に使用され
る。また、前記基材は、予め印刷されたものであっても
よい。As the substrate in the present invention 1, for example,
Polycarbonate, polyethylene terephthalate (PE
Sheets or films of T), acrylic resin, etc., glass plates, ceramic plates, metal plates, etc. are preferably used. Further, the base material may be printed in advance.
【0030】本発明1において、光硬化性樹脂層は、光
線の波長吸収域が異なる光重合開始剤を含有する複数の
層から構成される。上記基体上に光硬化性樹脂層を形成
する方法としては、厚肉のものを一度に成形すると、光
硬化性樹脂層に含まれる溶剤が蒸発し難く、高温で乾燥
すると発泡するなどの問題が生じる。In the present invention 1, the photocurable resin layer is composed of a plurality of layers containing photopolymerization initiators having different wavelength absorption regions of light rays. As a method of forming the photocurable resin layer on the above-mentioned substrate, when a thick one is molded at once, the solvent contained in the photocurable resin layer is difficult to evaporate, and there is a problem such as foaming when dried at a high temperature. Occurs.
【0031】従って、光硬化性樹脂組成物をキャスティ
ング法などにより、一定の厚さのものに予めフィルム化
しておき、このフィルム化したものを、例えば、ラミネ
ーターを使用して基体に熱圧着して積層することによ
り、厚肉の光硬化性樹脂組成物を得ることができる。Therefore, the photocurable resin composition is previously formed into a film having a constant thickness by a casting method or the like, and the film is thermocompression-bonded to a substrate using, for example, a laminator. By laminating, a thick photocurable resin composition can be obtained.
【0032】また、基体上に複数の光硬化性樹脂層を形
成する場合は、光硬化性樹脂組成物をフィルム化したも
のを、基体上に1層毎に順次積層していく方法と、光硬
化性樹脂組成物をフィルム化したものを複数層まとめて
積層した後、基体上に熱圧着する方法のいずれを採用し
てもよい。When a plurality of photo-curable resin layers are formed on a substrate, a method of film-forming the photo-curable resin composition and sequentially laminating each layer on the substrate, Any method may be adopted in which a curable resin composition is formed into a film and a plurality of layers are laminated together and then thermocompression-bonded on a substrate.
【0033】次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形
成する方法について説明する。まず、基体1上に、例え
ば図1に示すように、光線の波長吸収域がそれぞれ異な
った光重合開始剤を含むA、B、Cの三層からなる光硬
化性樹脂層2を形成する。そして、該光硬化性樹脂層2
上に、図2に示すように、A層の波長吸収域に対応した
光線を選択的に透過するカットオフフィルター4a及び
所定の画像パターンを有するフォトマスク3aを通し
て、露光し、A層のみを選択的に硬化させる。ここで、
カットオフフィルター4aによって、A層の光重合開始
剤のみが活性化され、B層及びC層の光重合開始剤は活
性化されることがないので、B層及びC層の硬化は起こ
らない。Next, a method of forming a three-dimensional image on the photocurable resin layer will be described. First, as shown in FIG. 1, for example, a photocurable resin layer 2 consisting of three layers A, B, and C containing photopolymerization initiators having different wavelength absorption regions of light rays is formed on the substrate 1. Then, the photocurable resin layer 2
As shown in FIG. 2, a cut-off filter 4a that selectively transmits light rays corresponding to the wavelength absorption region of the layer A and a photomask 3a having a predetermined image pattern are exposed to expose only the layer A. Harden. here,
The cut-off filter 4a activates only the photopolymerization initiator of the A layer and does not activate the photopolymerization initiators of the B layer and the C layer, so that the B layer and the C layer are not cured.
【0034】次いで、B層の波長吸収域に対応した光線
を選択的に透過するカットオフフィルター4b及び所定
の画像パターンを有するフォトマスク3bを通して、露
光し、図3に示すように、B層のみを選択的に硬化させ
る。Then, the layer B is exposed through a cutoff filter 4b that selectively transmits light rays corresponding to the wavelength absorption region of the layer B and a photomask 3b having a predetermined image pattern, and as shown in FIG. Selectively cure.
【0035】更に、同様にして、C層の波長吸収域に対
応した光線を選択的に透過するカットオフフィルター4
c及び所定の画像パターンを有するフォトマスク3cを
通して、露光し、図4に示すように、C層のみを選択的
に硬化させる。Further, similarly, a cut-off filter 4 which selectively transmits light rays corresponding to the wavelength absorption region of the C layer 4
c and a photomask 3c having a predetermined image pattern, and exposed to selectively cure only the C layer as shown in FIG.
【0036】以上のような順序でA、B、Cの三層から
なる光硬化性樹脂層2を順次硬化させた後(硬化部分を
ハッチングで示す)、光硬化性樹脂層2の未硬化部分
(ハッチングのない部分)を除去して現像し、図5に示
すように、断面が階段状の立体的な画像2’を形成する
ことができる。After the photo-curable resin layer 2 consisting of three layers A, B and C is sequentially cured in the order as described above (the cured portion is indicated by hatching), the uncured portion of the photo-curable resin layer 2 is cured. By removing and developing (the portion without hatching), a three-dimensional image 2'having a stepwise cross section can be formed as shown in FIG.
【0037】本発明で使用される露光用光源としては、
特に限定されるものではなく、従来公知のものが使用で
き、例えば、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が
好適に用いられる。As the exposure light source used in the present invention,
It is not particularly limited, and conventionally known ones can be used, and, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp and the like are preferably used.
【0038】また、現像する際に用いられる現像液とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、0.5
〜5重量%の濃度の炭酸ナトリウム水溶液が好適に用い
られる。そして、現像装置は、特に制限はなく、公知の
ものが使用可能である。The developing solution used for developing is not particularly limited, but may be, for example, 0.5.
A sodium carbonate aqueous solution having a concentration of ˜5% by weight is preferably used. The developing device is not particularly limited, and a known device can be used.
【0039】次に、本発明2について説明する。本発明
2において、光硬化性樹脂層は、線状共重合体、光重合
可能な不飽和化合物及び光重合開始剤からなる光重合性
組成物を成分とする層によって構成される。Next, the present invention 2 will be described. In the second aspect of the present invention, the photocurable resin layer is composed of a layer containing a photopolymerizable composition composed of a linear copolymer, a photopolymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator.
【0040】本発明2において、線状共重合体、光重合
可能な不飽和化合物は、本発明1で用いたものを使用す
ることができる。光重合性組成物中の不飽和化合物の量
は、線状共重合体100重量部に対して、5〜150重
量部が好ましく、より好ましくは10〜100重量部で
ある。In the present invention 2, as the linear copolymer and the photopolymerizable unsaturated compound, those used in the present invention 1 can be used. The amount of the unsaturated compound in the photopolymerizable composition is preferably 5 to 150 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the linear copolymer.
【0041】本発明2で使用される光重合開始剤として
は、紫外線、可視光線などの活性光線により、上記不飽
和化合物を活性化し、重合を開始させる性質を有するも
のであればよい。The photopolymerization initiator used in the present invention 2 may be any one having a property of activating the above unsaturated compound by actinic rays such as ultraviolet rays and visible rays to initiate polymerization.
【0042】紫外線により活性化されるものとしては、
例えば、ジフェニルモノサルファイド、ジサルファイド
などのサルファイド類;チオキサントン、2−エチルチ
オキサントンなどのキサントン類;ヒドラジン、アゾビ
スイソブチロニトリルなどのアゾ化合物;ベンゾイン、
ベンジルジメチルケタールなどの芳香族カルボニル化合
物などが挙げられる。Those activated by ultraviolet rays include:
For example, sulfides such as diphenyl monosulfide and disulfide; xanthones such as thioxanthone and 2-ethylthioxanthone; azo compounds such as hydrazine and azobisisobutyronitrile; benzoin;
Examples thereof include aromatic carbonyl compounds such as benzyl dimethyl ketal.
【0043】また、可視光線により活性化されるものと
しては、例えば、2−ニトロフルオレン、チオミヒラー
ケトンなどが挙げられる。光重合性組成物中の光重合開
始剤の量は、少なくなると光硬化性樹脂層の硬化反応が
進ます、逆に多くなると少量の光で光硬化性樹脂層の硬
化反応が進行するので、解像度が低下して微細な画像が
得られ難くなる。Examples of those activated by visible light include 2-nitrofluorene and thiomichiller ketone. When the amount of the photopolymerization initiator in the photopolymerizable composition is small, the curing reaction of the photocurable resin layer proceeds, and conversely, when the amount is large, the curing reaction of the photocurable resin layer proceeds with a small amount of light, The resolution is lowered and it becomes difficult to obtain a fine image.
【0044】従って、光重合性組成物中の光重合開始剤
の量は、線状共重合体100重量部に対して、0.1〜
10重量部の範囲が好ましい。また、本発明2で使用さ
れる光重合性樹脂組成物に、テトラエチレングリコール
ジアクリレートなどの光重合性単量体;ジオクチルフタ
レート、トリエチレングリコールジアセテート、p−ト
ルエンスルホンアミド、N−エチルトルエンスルホンア
ミド等の可塑剤;ヒドロキノン、p−メトキシフェノー
ル等の熱重合禁止剤;安定剤;紫外線吸収剤;酸化防止
剤;メチルエチルケトン、トルエン等の溶媒などが添加
されてもよい。Therefore, the amount of the photopolymerization initiator in the photopolymerizable composition is 0.1 to 100 parts by weight of the linear copolymer.
A range of 10 parts by weight is preferred. In addition, the photopolymerizable resin composition used in the present invention 2 includes a photopolymerizable monomer such as tetraethylene glycol diacrylate; dioctyl phthalate, triethylene glycol diacetate, p-toluene sulfonamide, N-ethyltoluene. A plasticizer such as sulfonamide; a thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone or p-methoxyphenol; a stabilizer; an ultraviolet absorber; an antioxidant; a solvent such as methyl ethyl ketone or toluene may be added.
【0045】本発明2で使用される基体としては、本発
明1で用いたものを使用することができる。また、本発
明2では、本発明1で用いた方法によって、上記基体上
に光硬化性樹脂層を形成することができる。As the substrate used in the present invention 2, those used in the present invention 1 can be used. In addition, in the second aspect of the invention, the photocurable resin layer can be formed on the substrate by the method used in the first aspect of the invention.
【0046】本発明2で使用される露光用光源、現像液
及び現像装置は、本発明1で使用されるものが使用可能
である。次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形成す
る方法について説明する。As the light source for exposure, the developing solution and the developing device used in the second aspect of the present invention, those used in the first aspect of the present invention can be used. Next, a method of forming a three-dimensional image on the photocurable resin layer will be described.
【0047】まず、基体1上に、例えば、図6に示すよ
うに、光重合開始剤の濃度が低い層21aと、光重合開
始剤の濃度が高い層21cとが、光源側からこの順序に
積層された光硬化性樹脂層21を形成した後、フォトマ
スク31を通して、光硬化性樹脂層21に露光すること
により、層21aでは、ほぼ光線が直進してフォトマス
ク31の画像パターンに対応して硬化する。これに対し
て、層21cでは、層21c内に散乱した微弱な光でも
硬化が起こるため、画像パターンよりも末広がり状に硬
化が進行し、光硬化性樹脂層21には、図7に示すよう
に、断面形状が逆杯状の立体的な画像21’を形成する
ことができる。First, on the substrate 1, for example, as shown in FIG. 6, a layer 21a having a low concentration of photopolymerization initiator and a layer 21c having a high concentration of photopolymerization initiator are arranged in this order from the light source side. After the laminated photo-curable resin layer 21 is formed, the photo-curable resin layer 21 is exposed through the photo mask 31, so that in the layer 21a, almost light rays travel straight and correspond to the image pattern of the photo mask 31. To cure. On the other hand, in the layer 21c, curing occurs even with weak light scattered in the layer 21c, so that the curing progresses in a more divergent manner than the image pattern, and the photocurable resin layer 21 has the curing as shown in FIG. In addition, it is possible to form a three-dimensional image 21 'having an inverted cup-shaped cross section.
【0048】次に、本発明3について説明する。本発明
3においては、光硬化性樹脂層は、線状共重合体、光重
合可能な不飽和化合物及び光重合開始剤からなる光重合
性組成物を成分とし、光重合性組成物中に光散乱用微粒
子を含有する単独の層、もしくは光散乱用微粒子を含有
する層と光散乱用微粒子を含有しない層とが積層された
複合層から構成される。Next, the present invention 3 will be described. In the present invention 3, the photocurable resin layer contains a photopolymerizable composition comprising a linear copolymer, a photopolymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator as a component, It is composed of a single layer containing fine particles for scattering or a composite layer in which a layer containing fine particles for light scattering and a layer not containing fine particles for light scattering are laminated.
【0049】線状共重合体及び光重合可能な不飽和化合
物は、それぞれ、本発明1で用いたものを使用すること
ができる。光重合性組成物中の不飽和化合物の量は、線
状共重合体100重量部に対して、5〜150重量部が
好ましく、より好ましくは10〜100重量部である。As the linear copolymer and the photopolymerizable unsaturated compound, those used in the present invention 1 can be used. The amount of the unsaturated compound in the photopolymerizable composition is preferably 5 to 150 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the linear copolymer.
【0050】本発明3で使用される光重合開始剤は、本
発明2で用いたものを使用することができる。光重合性
組成物中の光重合開始剤の量は、線状共重合体100重
量部に対して、0.1〜10重量部の範囲が好ましい。The photopolymerization initiator used in the present invention 3 may be the same as that used in the present invention 2. The amount of the photopolymerization initiator in the photopolymerizable composition is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the linear copolymer.
【0051】本発明3で使用される光散乱微粒子として
は、ガラス、メチルメタクリレート樹脂、スチレン樹
脂、シリカなどの微粒子が挙げられる。光散乱微粒子の
平均粒径を5μm以下とすることにより、光硬化性樹脂
層は光の透過に支障のない透明性を維持することができ
る。Examples of the light-scattering fine particles used in the present invention 3 include fine particles of glass, methyl methacrylate resin, styrene resin, silica and the like. By setting the average particle diameter of the light-scattering fine particles to 5 μm or less, the photocurable resin layer can maintain the transparency that does not hinder the transmission of light.
【0052】また、本発明3で使用される光重合性樹脂
組成物に、テトラエチレングリコールジアクリレートな
どの光重合性単量体;ジオクチルフタレート、トリエチ
レングリコールジアセテート、p−トルエンスルホンア
ミド、N−エチルトルエンスルホンアミド等の可塑剤;
ヒドロキノン、p−メトキシフェノール等の熱重合禁止
剤;安定剤;紫外線吸収剤;酸化防止剤;メチルエチル
ケトン、トルエン等の溶媒などが添加されてもよい。In the photopolymerizable resin composition used in the present invention 3, a photopolymerizable monomer such as tetraethylene glycol diacrylate; dioctyl phthalate, triethylene glycol diacetate, p-toluene sulfonamide, N -Plasticizers such as ethyltoluenesulfonamide;
A thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone or p-methoxyphenol; a stabilizer; an ultraviolet absorber; an antioxidant; a solvent such as methyl ethyl ketone or toluene may be added.
【0053】本発明3における基体としては、本発明1
で用いたものを使用することができる。また、本発明3
では、本発明1で用いた方法によって、上記基体上に光
硬化性樹脂層を形成することができるが、1層の光硬化
性樹脂層によって、所定の厚さが得られない場合は、例
えば、熱ラミネート法によって積層して、複数層の光硬
化性樹脂層を基体上に形成すればよい。As the substrate in the present invention 3, the present invention 1 is used.
The one used in can be used. The present invention 3
Then, the photocurable resin layer can be formed on the above-mentioned substrate by the method used in the present invention 1. However, when a predetermined thickness cannot be obtained by one photocurable resin layer, for example, A plurality of photo-curable resin layers may be formed on the substrate by laminating them by the thermal laminating method.
【0054】次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形
成する方法について説明する。まず、基体1上に、例え
ば図8に示すように、光散乱微粒子を含む層のみからな
る光硬化性樹脂層22aを形成し、該光硬化性樹脂層2
2aに所定の画像パターンを有するフォトマスク32を
通して露光することにより、光は光硬化性樹脂層22a
中を散乱しながら進行して、光硬化性樹脂層22aを硬
化させる。Next, a method for forming a three-dimensional image on the photocurable resin layer will be described. First, for example, as shown in FIG. 8, a photo-curable resin layer 22a composed of only a layer containing light-scattering fine particles is formed on the substrate 1, and the photo-curable resin layer 2 is formed.
The light is exposed to light through the photomask 32 having a predetermined image pattern on the light-curing resin layer 22a.
The photocurable resin layer 22a is cured by proceeding while scattering through the inside.
【0055】次いで、光硬化性樹脂層22aの未露光部
分を現像して除去することにより、図9に示すように、
台形状の断面形状を有する立体的な像22’を形成する
ことができる。Next, by developing and removing the unexposed portion of the photocurable resin layer 22a, as shown in FIG.
It is possible to form a stereoscopic image 22 'having a trapezoidal sectional shape.
【0056】また、図10に示すように、光硬化性樹脂
層23を、フォトマスク33側から、光散乱微粒子を含
まない層23aと光散乱微粒子を含む層22aとの複合
層として、フォトマスク33を通して露光することによ
り、光は光散乱微粒子を含まない層23aをほぼ直進す
るが、光散乱微粒子を含む層22aでは散乱しながら進
行して各層を硬化させることにより、図11に示すよう
に、断面形状が逆杯状の立体的な画像23’を形成する
ことができる。Further, as shown in FIG. 10, the photo-curable resin layer 23 is used as a composite layer of a layer 23a containing no light-scattering fine particles and a layer 22a containing light-scattering fine particles from the photo-mask 33 side. By exposing through 33, the light travels almost straight through the layer 23a containing no light-scattering fine particles, but in the layer 22a containing light-scattering fine particles, the light propagates while scattering to cure each layer, and as shown in FIG. It is possible to form a three-dimensional image 23 'having an inverted cup-shaped cross section.
【0057】本発明3で使用される露光用光源、現像液
及び現像装置は、本発明1で使用されるものが使用可能
である。次に、本発明4について説明する。As the light source for exposure, the developing solution and the developing device used in the present invention 3, those used in the present invention 1 can be used. Next, the present invention 4 will be described.
【0058】本発明4において、光硬化性樹脂層は、線
状共重合体、光重合可能な不飽和化合物及び光重合開始
剤からなる光重合性組成物を成分とする層によって構成
される。In the present invention 4, the photocurable resin layer is composed of a layer containing a photopolymerizable composition comprising a linear copolymer, a photopolymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator.
【0059】本発明4において、線状共重合体、光重合
可能な不飽和化合物は、本発明1で用いたものを使用す
ることができ、光重合開始剤は、本発明2で用いたもの
を、それぞれ、使用することができる。In the present invention 4, the linear copolymer and the photopolymerizable unsaturated compound used in the present invention 1 can be used, and the photopolymerization initiator used in the present invention 2 can be used. Can be used respectively.
【0060】光重合性組成物中の不飽和化合物の量は、
線状共重合体100重量部に対して、5〜150重量部
が好ましく、より好ましくは10〜100重量部であ
る。また、光重合性組成物中の光重合開始剤の量は、線
状共重合体100重量部に対して、0.1〜10重量部
の範囲が好ましい。The amount of unsaturated compound in the photopolymerizable composition is
The amount is preferably 5 to 150 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the linear copolymer. Further, the amount of the photopolymerization initiator in the photopolymerizable composition is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the linear copolymer.
【0061】また、本発明4で使用される光重合性樹脂
組成物に、テトラエチレングリコールジアクリレートな
どの光重合性単量体;ジオクチルフタレート、トリエチ
レングリコールジアセテート、p−トルエンスルホンア
ミド、N−エチルトルエンスルホンアミド等の可塑剤;
ヒドロキノン、p−メトキシフェノール等の熱重合禁止
剤;安定剤;紫外線吸収剤;酸化防止剤;メチルエチル
ケトン、トルエン等の溶媒などが添加されてもよい。In the photopolymerizable resin composition used in the present invention 4, a photopolymerizable monomer such as tetraethylene glycol diacrylate; dioctyl phthalate, triethylene glycol diacetate, p-toluene sulfonamide, N -Plasticizers such as ethyltoluenesulfonamide;
A thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone or p-methoxyphenol; a stabilizer; an ultraviolet absorber; an antioxidant; a solvent such as methyl ethyl ketone or toluene may be added.
【0062】本発明4で使用される基体としては、本発
明1で用いたものを使用することができる。また、本発
明4では、本発明1で用いた方法によって、上記基体上
に光硬化性樹脂層を形成することができる。As the substrate used in the present invention 4, those used in the present invention 1 can be used. Further, in the present invention 4, the photocurable resin layer can be formed on the substrate by the method used in the present invention 1.
【0063】本発明4で使用される露光用光源、現像液
及び現像装置は、本発明1で使用されるものが使用可能
である。次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形成す
る方法について説明する。As the light source for exposure, the developing solution and the developing device used in the present invention 4, those used in the present invention 1 can be used. Next, a method of forming a three-dimensional image on the photocurable resin layer will be described.
【0064】まず、基体1上に、例えば、図12に示す
ように、光硬化性樹脂層24を形成した後、光散乱板6
及びフォトマスク34を通して、光硬化性樹脂層24に
露光、硬化させることにより、図13に示すように、断
面形状が台形状の立体的な画像24’を形成することが
できる。First, for example, as shown in FIG. 12, a photocurable resin layer 24 is formed on the substrate 1, and then the light scattering plate 6 is formed.
By exposing and curing the photocurable resin layer 24 through the photomask 34 and the photomask 34, a three-dimensional image 24 'having a trapezoidal sectional shape can be formed as shown in FIG.
【0065】本発明4で使用される光散乱板6として
は、光を任意の方向へ散乱させる効果があれば、特に制
限はなく、例えば、すりガラス、マット加工したポリエ
チレンテレフタレート(PET)フィルムなどが好適で
ある。The light-scattering plate 6 used in the present invention 4 is not particularly limited as long as it has an effect of scattering light in an arbitrary direction, and for example, frosted glass, matte-processed polyethylene terephthalate (PET) film and the like can be used. It is suitable.
【0066】また、光散乱板6、フォトマスク33のい
ずれが光源側にあってもよい。Further, either the light scattering plate 6 or the photomask 33 may be on the light source side.
【0067】[0067]
【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する。EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.
【0068】(実施例1) 〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕還流冷却器、滴下
漏斗、温度計およびメカニカルスタラーを備えた5リッ
トルの4つ口フラスコにヘキサメチレンジイソシアネー
ト504g(3mol)と、溶媒として乾燥メチルエチ
ルケトン(MEK)826gおよびジブチルスズジラウ
レート(触媒)1gを加えて攪拌しながらポリエチレン
グリコール916g(2mol、平均分子量:458)
を加えて5時間加熱、還流した。(Example 1) [Preparation of unsaturated compound capable of photopolymerization] Hexamethylene diisocyanate 504 g (3 mol) was placed in a 5-liter four-necked flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, a thermometer and a mechanical stirrer. And 826 g of dry methyl ethyl ketone (MEK) and 1 g of dibutyltin dilaurate (catalyst) as a solvent are added, and 916 g of polyethylene glycol (2 mol, average molecular weight: 458) while stirring.
Was added and the mixture was heated to reflux for 5 hours.
【0069】次いで、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト232g(2mol)を滴下し、さらに5時間還流し
て反応させた後、MEKを蒸発させて、光重合可能な不
飽和化合物を調製した。Then, 232 g (2 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate was added dropwise, the mixture was refluxed for another 5 hours for reaction, and MEK was evaporated to prepare a photopolymerizable unsaturated compound.
【0070】 〔光重合性樹脂組成物の調製〕 1)400nm以上の波長吸収域の光重合性樹脂組成物(A) 線状共重合体 100重量部 (メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチル/メタクリル酸 =重量比50/25/25、重量平均分子量:15万) 光重合可能な不飽和化合物 75重量部 光重合性単量体 (テトラエチレングリコールジアクリレート) 75重量部 光重合開始剤(カンファーキノン) 2.5重量部 上記物質を、250重量部のMEKに溶解させ、光重合
性樹脂組成物の溶液を調製した。 2)350〜400nmの波長吸収域の光重合性樹脂組
成物(B) 光重合開始剤としてベンジルを2.5重量部使用したこ
と以外は、前記1)の光重合性樹脂組成物と同様にして
調製した。 3)250〜300nmの波長吸収域の光重合性樹脂組
成物(C) 光重合開始剤としてメチルフェニルグリオキシレートを
2.5重量部使用したこと以外は、前記1)の光重合性
樹脂組成物と同様にして調製した。[Preparation of Photopolymerizable Resin Composition] 1) Photopolymerizable resin composition (A) linear copolymer in the wavelength absorption region of 400 nm or more 100 parts by weight (methyl methacrylate / butyl methacrylate / methacrylic acid) = Weight ratio 50/25/25, weight average molecular weight: 150,000) Photopolymerizable unsaturated compound 75 parts by weight Photopolymerizable monomer (tetraethylene glycol diacrylate) 75 parts by weight Photopolymerization initiator (camphorquinone) 2.5 parts by weight The above substances were dissolved in 250 parts by weight of MEK to prepare a solution of the photopolymerizable resin composition. 2) Photopolymerizable resin composition (B) in the wavelength absorption region of 350 to 400 nm The same as the photopolymerizable resin composition of 1) above except that 2.5 parts by weight of benzyl was used as a photopolymerization initiator. Prepared. 3) Photopolymerizable resin composition in the wavelength absorption range of 250 to 300 nm (C) The photopolymerizable resin composition of 1) above except that 2.5 parts by weight of methylphenylglyoxylate is used as a photopolymerization initiator. It was prepared in the same manner as the product.
【0071】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記1)
〜3)の各光重合性樹脂組成物の溶液を、それぞれ、厚
さ500μmのPETフィルムD上に流延し、80℃で
10分間乾燥した後、乾燥後の厚さが85μmの3種類
(A、B、C)の光硬化性樹脂フィルムを作製した。[Preparation of Photocurable Resin Film] 1) above
Each of the solutions of the photopolymerizable resin compositions of 3 to 3) is cast on a PET film D having a thickness of 500 μm and dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then three types having a thickness after drying of 85 μm ( A photocurable resin film of A, B, C) was produced.
【0072】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ500μmのポリカーボネートシートの基体1上に、
上記光硬化性樹脂フィルムAのPETフィルムDを剥離
して、熱ラミネート法によって2枚積層し、次いで、こ
の上に同様にして、光硬化性樹脂フィルムBを2枚、さ
らに、その上へ光硬化性樹脂フィルムCを2枚積層し
て、図1に示す積層体2を作製した。[Production of Photocurable Resin Film Laminate] On a substrate 1 of a polycarbonate sheet having a thickness of 500 μm,
The PET film D of the photocurable resin film A is peeled off, two sheets are laminated by a heat laminating method, and then two photocurable resin films B are further laminated on the PET film D in the same manner. Two curable resin films C were laminated to produce a laminate 2 shown in FIG.
【0073】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルムC
は、上側にPETフィルムDを付けたまま積層した。However, the uppermost photocurable resin film C
Was laminated with the PET film D attached on the upper side.
【0074】〔立体画像表示盤の作製〕積層体2に、図
2に示すように、文字と目盛りに対応する部分のみ光が
透過するフォトマスク3aを重ね、波長400nm以下
の光線を遮蔽するカットオフフィルター4aを通して、
3KW超高圧水銀灯により300mJ/cm2 の強さの
光線を照射し、光硬化性樹脂フィルムAを硬化させた。[Production of Stereoscopic Image Display Panel] As shown in FIG. 2, a photomask 3a that allows light to pass through only the portions corresponding to characters and scales is placed on the laminated body 2 and cut to shield light rays having a wavelength of 400 nm or less. Through the off filter 4a,
The photocurable resin film A was cured by irradiating it with a light having an intensity of 300 mJ / cm 2 with a 3 KW ultra-high pressure mercury lamp.
【0075】次いで、図3に示すように、フォトマスク
3bを積層体2に重ね、波長300nm以下の光線を遮
蔽するカットオフフィルター4bを通して、3KW超高
圧水銀灯により300mJ/cm2 の強さの光線を照射
し、光硬化性樹脂フィルムBを硬化させた。Then, as shown in FIG. 3, a photomask 3b is superposed on the laminated body 2 and passed through a cut-off filter 4b which shields light having a wavelength of 300 nm or less, and a light having an intensity of 300 mJ / cm 2 by a 3 KW ultra-high pressure mercury lamp. Was irradiated to cure the photocurable resin film B.
【0076】最後に、図4に示すように、フォトマスク
3cを積層体2に重ね、カットオフフィルターを使用せ
ず、3KW超高圧水銀灯により300mJ/cm2 の強
さの光線を照射し、光硬化性樹脂フィルムCを硬化させ
た。Finally, as shown in FIG. 4, a photomask 3c was placed on the laminated body 2, and a light having an intensity of 300 mJ / cm 2 was irradiated by a 3 KW ultra-high pressure mercury lamp without using a cutoff filter. The curable resin film C was cured.
【0077】光硬化性樹脂フィルムA、B及びCの露光
を完了した後、積層体2のPETフィルムDを剥離し
て、30℃、濃度1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現
像して、図2に示すように、文字と目盛りに対応する部
分が凸状になった立体画像2’を有する表示盤5を得
た。After the exposure of the photocurable resin films A, B and C was completed, the PET film D of the laminate 2 was peeled off and developed with an aqueous sodium carbonate solution at 30 ° C. and a concentration of 1% by weight. As shown in FIG. 5, a display board 5 having a stereoscopic image 2 ′ in which portions corresponding to characters and scales are convex was obtained.
【0078】(実施例2) 〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例1と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。(Example 2) [Preparation of photopolymerizable unsaturated compound] In the same manner as in Example 1, a photopolymerizable unsaturated compound was prepared.
【0079】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを2.5重量部および7.5重量部使用したこと
以外は、実施例1と同様にして、光重合開始剤の濃度が
異なる2種類の光重合性樹脂組成物を調製した。[Preparation of Photopolymerizable Resin Composition] Same as Example 1 except that 2.5 parts by weight and 7.5 parts by weight of benzyl methyl ketal were used in place of camphorquinone as the photopolymerization initiator. Then, two kinds of photopolymerizable resin compositions having different concentrations of the photopolymerization initiator were prepared.
【0080】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記2種
類の光重合性樹脂組成物の溶液を、厚さ500μmのP
ETフィルム上にそれぞれ流延し、80℃で10分間乾
燥した後、乾燥後の厚さがいずれも100μmで、光重
合開始剤の濃度が異なる2種類の光硬化性樹脂フィルム
を作製した。[Preparation of Photocurable Resin Film] A solution of the above-mentioned two kinds of photopolymerizable resin compositions was applied to a P of 500 μm thickness.
After casting on an ET film and drying at 80 ° C. for 10 minutes, two types of photocurable resin films each having a thickness after drying of 100 μm and different photopolymerization initiator concentrations were produced.
【0081】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ500μmのポリカーボネートシートの基体1上に、
図6に示すように、まず、光重合開始剤の濃度が高い方
の光硬化性樹脂フィルム21cのPETフィルムを剥が
して、その2枚を熱ラミネート法によって積層した後、
その上に、光重合開始剤の濃度が低い方の光硬化性樹脂
フィルム21aのPETフィルムを剥がして、その3枚
を熱ラミネート法によって積層し、厚さが500μmの
積層体21を作製した。但し、最上層の光硬化性樹脂フ
ィルム21aには、上側にPETフィルム21bを付け
たまま積層した。[Production of Photocurable Resin Film Laminate] On a polycarbonate sheet substrate 1 having a thickness of 500 μm,
As shown in FIG. 6, first, the PET film of the photocurable resin film 21c having the higher concentration of the photopolymerization initiator is peeled off, and the two are laminated by a thermal laminating method.
On top of that, the PET film of the photocurable resin film 21a having the lower concentration of the photopolymerization initiator was peeled off, and the three sheets were laminated by a thermal lamination method to prepare a laminate 21 having a thickness of 500 μm. However, the uppermost photocurable resin film 21a was laminated with the PET film 21b attached on the upper side.
【0082】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体21
に、図6に示すように、文字と目盛りに対応する部分の
み光が透過するフォトマスク31を重ね、超高圧水銀灯
により1000mJ/cm2 の強さの光線を照射し、光
硬化性樹脂フィルム21aおよび21cを硬化させた。[Preparation of Stereoscopic Image Display Panel] The laminate 21
As shown in FIG. 6, a photomask 31 that allows light to pass through only the portions corresponding to the characters and the scale is overlaid, and a light beam having an intensity of 1000 mJ / cm 2 is irradiated by an ultra-high pressure mercury lamp. And 21c were cured.
【0083】次いで、積層体21のPETフィルム21
bを剥離して、30℃、濃度1重量%の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図7に示すように、文字と目盛りに
対応する部分が凸状になった立体画像21’を有する表
示盤51を作製した。Next, the PET film 21 of the laminated body 21
A display panel having a stereoscopic image 21 'in which portions corresponding to letters and scales are convex as shown in FIG. 51 was produced.
【0084】(実施例3) 〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例1と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。(Example 3) [Preparation of photopolymerizable unsaturated compound] In the same manner as in Example 1, a photopolymerizable unsaturated compound was prepared.
【0085】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを2.5重量部使用し、光散乱微粒子としてガラ
スビーズ(平均粒径1.0μm)20重量部添加したこ
と以外は、実施例1と同様にして、光重合性樹脂組成物
を調製した。[Preparation of Photopolymerizable Resin Composition] 2.5 parts by weight of benzyl methyl ketal was used in place of camphorquinone as a photopolymerization initiator, and glass beads (average particle size 1.0 μm) were used as light scattering particles. A photopolymerizable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight was added.
【0086】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記光重
合性樹脂組成物の溶液を、厚さ500μmのPETフィ
ルム上に流延し、80℃で10分間乾燥した後、乾燥後
の厚さが100μmの光硬化性樹脂フィルムを作製し
た。[Preparation of Photocurable Resin Film] A solution of the photopolymerizable resin composition was cast on a PET film having a thickness of 500 μm and dried at 80 ° C. for 10 minutes. A 100 μm photocurable resin film was produced.
【0087】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ500μmのポリカーボネートシートの基体1上に、
図8に示すように、上記光硬化性樹脂フィルム22aの
PETフィルム22bを剥離して、熱ラミネート法によ
って5枚積層し、厚さ500μmの積層体22を作製し
た。[Production of Photocurable Resin Film Laminate] On a polycarbonate sheet substrate 1 having a thickness of 500 μm,
As shown in FIG. 8, the PET film 22b of the photocurable resin film 22a was peeled off, and five sheets were laminated by a thermal laminating method to prepare a laminated body 22 having a thickness of 500 μm.
【0088】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルム22
aには、上側にPETフィルム22bを付けたまま積層
した。However, the uppermost photocurable resin film 22
The layer a was laminated with the PET film 22b attached on the upper side.
【0089】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体22
に、図8に示すように、文字と目盛りに対応する部分の
み光が透過するフォトマスク32を重ね、超高圧水銀灯
により1000mJ/cm2 の強さの光線を照射し、光
硬化性樹脂フィルム22aを硬化させた。[Preparation of Stereoscopic Image Display Panel] The laminate 22
As shown in FIG. 8, a photomask 32 that allows light to pass through only the portions corresponding to the characters and the scale is overlaid, and a light beam having an intensity of 1000 mJ / cm 2 is irradiated by an ultra-high pressure mercury lamp. Was cured.
【0090】次いで、積層体22のPETフィルム22
bを剥離して、30℃、濃度1重量%の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図9に示すように、文字と目盛りに
対応する部分が凸状になった立体画像22’を有する表
示盤52を作製した。Next, the PET film 22 of the laminated body 22
A display panel having a stereoscopic image 22 'in which portions corresponding to letters and scales are convex as shown in FIG. 9 after peeling off b and developing with an aqueous sodium carbonate solution at a concentration of 1% by weight at 30.degree. 52 was produced.
【0091】(実施例4) 〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例1と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。(Example 4) [Preparation of photopolymerizable unsaturated compound] In the same manner as in Example 1, a photopolymerizable unsaturated compound was prepared.
【0092】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを2.5重量部使用したこと以外は、実施例1と
同様にして、光重合性樹脂組成物を調製した。[Preparation of Photopolymerizable Resin Composition] The photopolymerizable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2.5 parts by weight of benzylmethyl ketal was used instead of camphorquinone as the photopolymerization initiator. A resin composition was prepared.
【0093】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記光重
合性樹脂組成物の溶液を、厚さ500μmのPETフィ
ルム上に流延し、80℃で10分間乾燥した後、乾燥後
の厚さが100μmの光硬化性樹脂フィルムを作製し
た。[Preparation of Photocurable Resin Film] A solution of the above photopolymerizable resin composition was cast on a PET film having a thickness of 500 μm, dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then the thickness after drying was A 100 μm photocurable resin film was produced.
【0094】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ500μmのポリカーボネートシートの基体1上に、
図10に示すように、実施例3で作製した光硬化性樹脂
フィルム22aを2枚熱ラミネート法によって積層した
後、その上に、上記光硬化性樹脂フィルム23aのPE
Tフィルム23bを剥離して、熱ラミネート法によって
3枚積層し、厚さ500μmの積層体23を作製した。[Production of Photocurable Resin Film Laminate] On a polycarbonate sheet substrate 1 having a thickness of 500 μm,
As shown in FIG. 10, after the two photo-curable resin films 22a produced in Example 3 were laminated by the thermal laminating method, the PE of the photo-curable resin film 23a was formed thereon.
The T film 23b was peeled off, and three sheets were laminated by a thermal laminating method to prepare a laminated body 23 having a thickness of 500 μm.
【0095】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルム23
aには、上側にPETフィルム23bを付けたまま積層
した。However, the uppermost photocurable resin film 23
The layer a was laminated with the PET film 23b on the upper side.
【0096】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体23
に、図10に示すように、文字と目盛りに対応する部分
のみ光が透過するフォトマスク33を重ね、超高圧水銀
灯により1000mJ/cm2 の強さの光線を照射し、
光硬化性樹脂フィルム22a及び23aを硬化させた。[Production of Stereoscopic Image Display Panel] The laminate 23
As shown in FIG. 10, a photomask 33 that allows light to pass through only the portions corresponding to the characters and the scale is overlaid, and a light beam having an intensity of 1000 mJ / cm 2 is irradiated by an ultra-high pressure mercury lamp,
The photocurable resin films 22a and 23a were cured.
【0097】次いで、積層体23のPETフィルム23
bを剥離して、30℃、濃度1重量%の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図11に示すように、文字と目盛り
に対応する部分が凸状になった立体画像23’を有する
表示盤53を作製した。Next, the PET film 23 of the laminated body 23
11b is peeled off and developed with an aqueous sodium carbonate solution having a concentration of 1% by weight at 30 ° C., and as shown in FIG. 11, a display board having a stereoscopic image 23 ′ in which portions corresponding to characters and scales are convex. 53 was produced.
【0098】(実施例5) 〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例1と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。Example 5 [Preparation of Photopolymerizable Unsaturated Compound] A photopolymerizable unsaturated compound was prepared in the same manner as in Example 1.
【0099】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを2.5重量部使用したこと以外は、実施例1と
同様にして、光重合性樹脂組成物を調製した。[Preparation of Photopolymerizable Resin Composition] The photopolymerizable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2.5 parts by weight of benzyl methyl ketal was used instead of camphorquinone as the photopolymerization initiator. A resin composition was prepared.
【0100】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記光重
合性樹脂組成物の溶液を、厚さ500μmのPETフィ
ルム上に流延し、80℃で10分間乾燥した後、乾燥後
の厚さが100μmの光硬化性樹脂フィルムを作製し
た。[Preparation of Photocurable Resin Film] A solution of the photopolymerizable resin composition was cast on a PET film having a thickness of 500 μm and dried at 80 ° C. for 10 minutes. A 100 μm photocurable resin film was produced.
【0101】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ500μmのポリカーボネートシートの基体1上に、
図12に示すように、上記光硬化性樹脂フィルム24a
を5枚熱ラミネート法によって積層して、厚さ500μ
mの積層体24を作製した。[Production of Photocurable Resin Film Laminate] On a polycarbonate sheet substrate 1 having a thickness of 500 μm,
As shown in FIG. 12, the photocurable resin film 24a
5 sheets are laminated by the thermal lamination method to obtain a thickness of 500μ.
A laminate 24 of m was produced.
【0102】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルム24
aには、上側にPETフィルム24bを付けたまま積層
した。However, the uppermost photocurable resin film 24
The layer a was laminated with the PET film 24b attached on the upper side.
【0103】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体24
に、図12に示すように、文字と目盛りに対応する部分
のみ光が透過するフォトマスク34の下側に、スリガラ
ス板6を重ね、フォトマスク34の上から超高圧水銀灯
により1000mJ/cm2 の強さの光線を照射し、光
硬化性樹脂フィルム24aを硬化させた。[Preparation of Stereoscopic Image Display Panel] The laminate 24
As shown in FIG. 12, the ground glass plate 6 is superposed on the lower side of the photomask 34, through which light is transmitted only in the portions corresponding to the characters and the scale, and 1000 mJ / cm 2 is applied from above the photomask 34 by an ultra-high pressure mercury lamp. The photocurable resin film 24a was cured by irradiating it with a strong light beam.
【0104】次いで、積層体24のPETフィルム24
bを剥離して、30℃、濃度1重量%の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図13に示すように、文字と目盛り
に対応する部分が台形型に凸状になった立体画像24’
を有する表示盤54を作製した。Next, the PET film 24 of the laminated body 24
b is peeled off and developed with an aqueous solution of sodium carbonate having a concentration of 1% by weight at 30 ° C., and as shown in FIG. 13, a stereoscopic image 24 ′ in which the portions corresponding to the characters and the scales have a trapezoidal shape.
A display panel 54 having
【0105】[0105]
【発明の効果】本発明の立体画像表示盤の製造方法によ
れば、基体上に、特定の光重合性樹脂組成物からなる光
硬化性樹脂層を形成し、露光、硬化させることによっ
て、断面形状を階段状もしくは台形状のいずれでも自由
に選択でき、しかも、高さが自由にコントロール可能な
立体画像を再現性よく作製することができるので、装飾
性や視認性に優れた表示盤を提供することができる。According to the method for producing a three-dimensional image display panel of the present invention, a photocurable resin layer made of a specific photopolymerizable resin composition is formed on a substrate, exposed and cured to form a cross section. Since the shape can be freely selected to be either stepped or trapezoidal, and the height can be freely controlled, a stereoscopic image can be produced with good reproducibility, providing a display panel with excellent decorativeness and visibility. can do.
【図1】本発明において、基体上に形成され、光の波長
吸収域が異なる3種の光硬化性樹脂層を示す模式断面図
である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing three types of photocurable resin layers formed on a substrate and having different light wavelength absorption regions in the present invention.
【図2】本発明において、基体上に形成された光硬化性
樹脂層に露光する状況を示す模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state of exposing a photocurable resin layer formed on a substrate in the present invention.
【図3】本発明において、基体上に形成された光硬化性
樹脂層に露光する状況を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a situation in which a photocurable resin layer formed on a substrate is exposed to light in the present invention.
【図4】本発明において、基体上に形成された光硬化性
樹脂層に露光する状況を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing a situation in which a photocurable resin layer formed on a substrate is exposed to light in the present invention.
【図5】本発明において、基体上に形成された階段状の
立体的な画像を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a stepwise stereoscopic image formed on a substrate in the present invention.
【図6】本発明において、基体上に形成され、光開始重
合剤の濃度が異なる2種類の層からなる光硬化性樹脂層
に、露光する状況を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a situation in which a photocurable resin layer formed on a substrate and composed of two types of layers having different concentrations of a photoinitiating polymer is exposed in the present invention.
【図7】本発明において、基体上に形成された台形状の
立体的な画像を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory view showing a trapezoidal three-dimensional image formed on a substrate in the present invention.
【図8】本発明において、基体上に形成された光散乱性
微粒子を含む光硬化性樹脂層に露光する状況を示す説明
図である。FIG. 8 is an explanatory view showing a situation in which a photo-curable resin layer containing light-scattering fine particles formed on a substrate is exposed in the present invention.
【図9】本発明において、基体上に形成された台形状の
立体的な画像を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory view showing a trapezoidal three-dimensional image formed on a substrate in the present invention.
【図10】本発明において、基体上に形成され、光散乱
性微粒子を含まない層と光散乱性微粒子を含む層からな
る光硬化性樹脂層に露光する状況を示す説明図である。FIG. 10 is an explanatory view showing a situation in which a photocurable resin layer formed on a substrate and containing a layer containing no light-scattering fine particles and a layer containing light-scattering fine particles is exposed in the present invention.
【図11】本発明において、基体上に形成された逆杯状
の立体的な画像を示す説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram showing an inverted cup-shaped three-dimensional image formed on a substrate in the present invention.
【図12】本発明において、基体上に形成された光硬化
性樹脂層に、光散乱板を通して露光する状況を示す説明
図である。FIG. 12 is an explanatory view showing a situation in which a photocurable resin layer formed on a substrate is exposed through a light scattering plate in the present invention.
【図13】本発明において、基体上に形成された台形状
の立体的な画像を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a trapezoidal three-dimensional image formed on a substrate in the present invention.
1 基体 2、21、22、23、24 光硬化性樹脂フィルム 3a、3b、3c フォトマスク 31、31、32、33、34 フォトマスク 4a、4b、4c カットオフフィルター 5、51、52、53、54 表示盤 6 光散乱板 1 Substrate 2, 21, 22, 23, 24 Photocurable resin film 3a, 3b, 3c Photomask 31, 31, 32, 33, 34 Photomask 4a, 4b, 4c Cutoff filter 5, 51, 52, 53, 54 Display panel 6 Light scattering plate
Claims (4)
フォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除
去して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法
であって、前記光硬化性樹脂層が、光線の吸収波長域が
異なる光重合開始剤を含有する複数の層から構成され、
各光硬化性樹脂層には、光硬化性樹脂層が含有する光重
合開始剤の吸収波長域に対応する光線をそれぞれ照射し
て、露光、硬化させることを特徴とする立体画像表示盤
の製造方法。1. A photocurable resin layer formed on a substrate,
A method of manufacturing a display panel, which comprises exposing through a photomask and curing, and removing an uncured portion to form a predetermined image pattern, wherein the photocurable resin layer is a photopolymerization initiator having a different light absorption wavelength range. Composed of a plurality of layers containing
Each photocurable resin layer is irradiated with a light ray corresponding to the absorption wavelength range of the photopolymerization initiator contained in the photocurable resin layer, exposed, and cured to produce a stereoscopic image display panel. Method.
ォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去
して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法で
あって、前記光硬化性樹脂層が、光重合開始剤の濃度が
異なる複数の層から構成され、この光硬化性樹脂層に露
光し、硬化させることを特徴とする立体画像表示盤の製
造方法。2. A method of manufacturing a display panel, which comprises exposing and curing a photocurable resin layer formed on a substrate through a photomask and removing an uncured portion to form a predetermined image pattern. A method for producing a three-dimensional image display panel, wherein the curable resin layer is composed of a plurality of layers having different concentrations of a photopolymerization initiator, and the photocurable resin layer is exposed and cured.
フォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除
去して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法
であって、前記光硬化性樹脂層が、光散乱微粒子を含有
する単独の層、もしくは光散乱微粒子を含有する層と光
散乱微粒子を含有しない層とが積層された複合層から構
成され、この光硬化性樹脂層に露光し、硬化させること
を特徴とする立体画像表示盤の製造方法。3. A photocurable resin layer formed on a substrate,
A method of manufacturing a display panel, which comprises exposing through a photomask, curing, and removing an uncured portion to form a predetermined image pattern, wherein the photocurable resin layer is a single layer containing light-scattering fine particles, or A method for producing a stereoscopic image display panel, comprising a composite layer in which a layer containing light-scattering fine particles and a layer not containing light-scattering fine particles are laminated, and the light-curable resin layer is exposed and cured. ..
ォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去
して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法で
あって、前記光硬化性樹脂層に光散乱板を通して露光
し、硬化させることを特徴とする立体画像表示盤の製造
方法。4. A method of manufacturing a display panel, which comprises exposing a photo-curable resin layer formed on a substrate through a photo mask to expose and cure it, and removing an uncured portion to form a predetermined image pattern. A method for producing a stereoscopic image display panel, which comprises exposing the curable resin layer through a light scattering plate to cure the resin layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23000391A JPH0571994A (en) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | Manufacture of stereoscopic image display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23000391A JPH0571994A (en) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | Manufacture of stereoscopic image display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0571994A true JPH0571994A (en) | 1993-03-23 |
Family
ID=16901081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23000391A Pending JPH0571994A (en) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | Manufacture of stereoscopic image display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0571994A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007533480A (en) * | 2003-07-25 | 2007-11-22 | ラフバラ ユニバーシティ エンタープライジズ リミテッド | Method and apparatus for bonding particulate material |
| CN106696277A (en) * | 2016-12-12 | 2017-05-24 | 英华达(上海)科技有限公司 | 3D printing method and system |
| CN113985700A (en) * | 2021-11-18 | 2022-01-28 | 业成科技(成都)有限公司 | Method for manufacturing optical waveguide and display device and photomask used by same |
-
1991
- 1991-09-10 JP JP23000391A patent/JPH0571994A/en active Pending
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| US20230152690A1 (en) * | 2021-11-18 | 2023-05-18 | Interface Technology (Chengdu) Co., Ltd. | Methods for fabricating an optical waveguide and a display device and photomask used therein |
| CN113985700B (en) * | 2021-11-18 | 2023-08-29 | 业成科技(成都)有限公司 | Manufacturing method of optical waveguide and display device and photomask used therefor |
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