JPH0571994A

JPH0571994A - 立体画像表示盤の製造方法

Info

Publication number: JPH0571994A
Application number: JP23000391A
Authority: JP
Inventors: Toshiharu Otsuka; 敏治大塚; Fujiaki Yamakawa; 藤明山河; Kenji Tokuoka; 謙二徳岡
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 1991-09-10
Filing date: 1991-09-10
Publication date: 1993-03-23

Abstract

(57)【要約】【目的】断面形状が台形状もしくは階段状であって、
高さが異なる立体的な画像を、基体上の所定位置に再現
性よく形成することできる立体画像表示盤の製造方法を
提供する。【構成】基体１上に形成された光硬化性樹脂層２に、
フォトマスク４ａを通して露光、硬化させ、現像して未
硬化部分を除去することにより、基体１上の所定の位置
に立体的な画像パターンを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基体上の所定位置に所
定の画像パタ−ンが形成された立体画像表示盤の製造方
法に関する。

【０００２】このような表示盤は、例えば、車両用メー
タやディスプレイパネル等に使用することができる。

【０００３】

【従来の技術】従来より、表示盤の文字および数字など
の画像は、基体上に印刷によって形成されることが多
く、平面的な画像が一般的である。

【０００４】ところが、近年、高級化指向が高まるにつ
れて、これらの文字および数字などの画像に高級感を付
与するため、画像を平面的なものから立体的なものに転
換しようとする検討が行われている。

【０００５】しかも、表示盤に形成された立体化画像
は、特に、装飾性や視認性の点から、その断面形状が台
形や階段状である方が望ましい。表示盤の画像を立体化
するための方法として、厚肉印刷、ホットスタンピング
による凹凸の転写などが考えられるが、いずれも画像の
形成方法が複雑で量産性に乏しいという欠点がある。

【０００６】また、表示盤に文字および数字などの立体
化された画像を形成する別の方法として、光硬化性樹脂
層を基体上に形成し、該光硬化性樹脂層にフォトマスク
を通して露光し硬化させ、未硬化の部分を除去すること
により、所定の立体的画像を基体上に形成する方法が特
開平２−１２２２２０号公報に提案されている。

【０００７】上述の方法によれば、高い凸部を形成する
部分に対しては、フォトマスクの光線透過性を高くして
光硬化性樹脂の硬化度を上げ、低い凸部を形成する部分
に対しては、フォトマスクの光線透過性を低くして光硬
化性樹脂を下げるという手段によって、現像液に対する
溶解性を加減し、凸部の断面形状の高低を設けることに
より、立体的な画像を形成しようとするものである。

【０００８】しかしながら、光硬化性樹脂は、一般に、
完全な硬化に至らなくても、一定のレベルの硬化度に達
した部分は、現像によって除去されなくなるため、この
レベル以上に硬化度を上げることによって、凸部の高さ
の制御することは難かしい。

【０００９】また、硬化度が一定のレベルに到達しない
部分は、現像によって除去されるため、このレベル以下
の硬化度で凸部の高さを制御することも難かしい。従っ
て、上記の方法では、光硬化性樹脂の限られた硬化度の
範囲内で、凸部の高低を制御しなければならないので、
断面形状が台形状もしくは階段状であって、かつ高さを
自由に制御することできる立体画像を、再現性よく形成
することが難しいという問題点があった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたものであり、その目的は、断面形状が台
形もしくは階段状であって、かつ高さの異なる立体的画
像を、基体上の所定位置に再現性よく形成することがで
きる立体画像表示盤の製造方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の立体画像表示盤
の製造方法は、基体上に形成された光硬化性樹脂層に、
フォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を現
像によって除去することにより、基体上の所定の位置
に、断面形状が台形状や階段状の立体的な画像パターン
を形成することを前提としている。

【００１２】まず、第１発明を説明する。本発明１にお
いては、光硬化性樹脂層は、線状共重合体、光重合可能
な不飽和化合物及び活性光線により増感する光重合開始
剤からなる光重合性組成物を成分とし、光線の吸収波長
域が、それぞれ、異なる光重合開始剤を含有する複数の
層から構成される。

【００１３】線状共重合体は、カルボキシル基を含有す
るα、β−不飽和エチレン系単量体と、前記以外のα、
β−不飽和エチレン系単量体を構成成分とするのが好ま
しい。上記カルボキシル基を含有するα、β−不飽和エ
チレン系単量体としては、カルボキシル基を含有し、
α、β−不飽和エチレン系単量体と共重合しうる単量体
であればよく、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン
酸、マレイン酸（無水物）、フマル酸、イタコン酸等の
不飽和カルボン酸類があげられる。

【００１４】また、前記以外のα、β−不飽和エチレン
系単量体としては、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチ
レン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、α−
メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、２，４−ジメチ
ルスチレン、ｐ−ｎ−ヘキシルスチレン、ｐ−ｎ−オク
チルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−フェニルス
チレン、３，４−ジメチルクロルスチレンなどのスチレ
ン類；α−ビニルナフタレンなどのビニルナフタレン
類；エチレン、プロピレン、ブチレンまたはＣ₅〜Ｃ₃₀
及びそれ以上のα−オレフィン類；塩化ビニル、臭化ビ
ニル、弗化ビニルなどのハロゲン化ビニル類；酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどのビニルエス
テル類；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル
酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）
アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチ
ル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸
−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−クロ
ルエチル、α−クロル（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ジメチル
アミノエチルなどの（メタ）アクリル酸エステル類；ビ
ニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテルなどのビニ
ルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルエチルケト
ンなどのビニルケトン類；Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビ
ニルインドールなどのＮ−ビニル化合物；（メタ）アク
リロニトリル、（メタ）アクリル酸アミド類があげられ
る。

【００１５】線状共重合体の構成成分中のカルボキシル
基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体に相当す
る部分の量は、少なくなるとアルカリ水溶液に不溶にな
るため、アルカリ水溶液による現像ができなくなり、逆
に多くなると塗工溶媒または他の成分との相溶性が低下
し、解像性も低下するので、１０〜４０重量％の範囲が
好ましく、より好ましくは１５〜３５重量％である。

【００１６】そして、線状共重合体の構成成分中のカル
ボキシル基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体
に相当する部分以外の量は、６０〜９０重量％である。
線状共重合体の重量平均分子量は、小さくなると、いわ
ゆるコールドフローを起こしやすくなり、逆に、大きく
なると、アルカリ水溶液に溶解し難くなって現像し難く
なり、解像性も低下するので、２万〜５０万の範囲が好
ましく、より好ましくは５万〜３０万である。

【００１７】本発明で使用される光重合可能な不飽和化
合物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物からなる群
より選ばれる少なくとも１種以上の化合物であることが
好ましい。

【００１８】

【化１】

【００１９】式 (Ｉ）において、Ｒ¹及びＲ²は水素基
又はメチル基、ｎは１〜１５までの整数、Ｒ³は炭素数
１〜１０までの炭化水素基、ｍは１〜１００までの整
数、Ｘは炭素数２〜２０の２価の炭化水素基である。

【００２０】ここで、Ｘで示される２価の炭化水素基と
しては、直鎖、分枝鎖、脂環式または芳香族などの部分
から構成される炭化水素基、例えば、ヘキサメチレン
基、トリレン基、イソホロン基、テトラメチルキシリレ
ン基、ナフチレン基等があげられる。

【００２１】上記不飽和化合物の製法は、任意の方法が
採用されてよく、例えば、ジイソシアネートとジオール
を、求める化合物の組成比に合う割合で混合して反応さ
せ、末端にイソシアネート基をもつウレタンオリゴマー
を形成した後、水酸基をもつ（メタ）アクリレートを添
加して末端にあるイソシアネート基と反応させればよ
い。この際、必要ならば、酢酸エチル、メチルエチルケ
トン、トルエンなどの有機溶剤に溶解して反応させても
よく、さらにジブチルスズジラウレートなどの触媒を添
加してもよい。

【００２２】光重合性樹脂組成物中の不飽和化合物の量
は、少なくなると露光、現像後の光重合性樹脂組成物層
の柔軟性が低下し、逆に多くなるとコールドフローが起
こりやすくなると共に解像性が低下するので、前記線状
共重合体１００重量部に対して５〜１５０重量部が好ま
しく、より好ましくは１０〜１００重量部である。

【００２３】また、不飽和化合物の重量平均分子量は、
小さくなると露光、現像後の樹脂組成物層の柔軟性が低
下し、大きくなると現像時間が長くなるので１，０００
〜１５，０００が好ましく、より好ましくは１，５００
〜１０，０００である。

【００２４】本発明で使用される光重合開始剤として
は、特定の波長の光線を吸収して上記不飽和化合物を活
性化し、重合を開始させる性質を有するものであればよ
い。光線の吸収波長域が２５０〜３００ｎｍの範囲にあ
る光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、
３，４’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メ
チルフェニルグリオキシレートなどが挙げられる。

【００２５】また、光線の吸収波長域が３００〜３５０
ｎｍの範囲にある光重合開始剤としては、例えば、ｐ−
ジメチルアミノ安息香酸（２−ブトキシ）エチル、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパンー１−
オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロパンー１−オン、４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プ
ロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられ
る。

【００２６】また、光線の吸収波長域が３５０〜４００
ｎｍの範囲にある光重合開始剤としては、例えば、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル、ベンジン、チオキサントン、２−エチルチオキ
サントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどが挙げられ
る。

【００２７】また、光線の吸収波長域が４００ｎｍ以上
である光重合開始剤としては、例えば、カンファーキノ
ンが挙げられる。光重合性樹脂組成物中の光重合開始剤
の量は、前記線状共重合体１００重量部に対して、０．
１〜１０重量部の範囲が好ましい。

【００２８】また、本発明１で使用される光重合性樹脂
組成物に、テトラエチレングリコールジアクリレートな
どの光重合性単量体；ジオクチルフタレート、トリエチ
レンジオクチルフタレート、トリエチレングリコールジ
アセテート、ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−エチル
トルエンスルホンアミド等の可塑剤；ヒドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール等の熱重合禁止剤；安定剤；紫外
線吸収剤；酸化防止剤；メチルエチルケトン、トルエン
等の溶媒などが添加されてもよい。

【００２９】本発明１における基体としては、例えば、
ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、アクリル樹脂などのシートもしくはフィルム、ガ
ラス板、セラミック板、金属板などが好適に使用され
る。また、前記基材は、予め印刷されたものであっても
よい。

【００３０】本発明１において、光硬化性樹脂層は、光
線の波長吸収域が異なる光重合開始剤を含有する複数の
層から構成される。上記基体上に光硬化性樹脂層を形成
する方法としては、厚肉のものを一度に成形すると、光
硬化性樹脂層に含まれる溶剤が蒸発し難く、高温で乾燥
すると発泡するなどの問題が生じる。

【００３１】従って、光硬化性樹脂組成物をキャスティ
ング法などにより、一定の厚さのものに予めフィルム化
しておき、このフィルム化したものを、例えば、ラミネ
ーターを使用して基体に熱圧着して積層することによ
り、厚肉の光硬化性樹脂組成物を得ることができる。

【００３２】また、基体上に複数の光硬化性樹脂層を形
成する場合は、光硬化性樹脂組成物をフィルム化したも
のを、基体上に１層毎に順次積層していく方法と、光硬
化性樹脂組成物をフィルム化したものを複数層まとめて
積層した後、基体上に熱圧着する方法のいずれを採用し
てもよい。

【００３３】次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形
成する方法について説明する。まず、基体１上に、例え
ば図１に示すように、光線の波長吸収域がそれぞれ異な
った光重合開始剤を含むＡ、Ｂ、Ｃの三層からなる光硬
化性樹脂層２を形成する。そして、該光硬化性樹脂層２
上に、図２に示すように、Ａ層の波長吸収域に対応した
光線を選択的に透過するカットオフフィルター４ａ及び
所定の画像パターンを有するフォトマスク３ａを通し
て、露光し、Ａ層のみを選択的に硬化させる。ここで、
カットオフフィルター４ａによって、Ａ層の光重合開始
剤のみが活性化され、Ｂ層及びＣ層の光重合開始剤は活
性化されることがないので、Ｂ層及びＣ層の硬化は起こ
らない。

【００３４】次いで、Ｂ層の波長吸収域に対応した光線
を選択的に透過するカットオフフィルター４ｂ及び所定
の画像パターンを有するフォトマスク３ｂを通して、露
光し、図３に示すように、Ｂ層のみを選択的に硬化させ
る。

【００３５】更に、同様にして、Ｃ層の波長吸収域に対
応した光線を選択的に透過するカットオフフィルター４
ｃ及び所定の画像パターンを有するフォトマスク３ｃを
通して、露光し、図４に示すように、Ｃ層のみを選択的
に硬化させる。

【００３６】以上のような順序でＡ、Ｂ、Ｃの三層から
なる光硬化性樹脂層２を順次硬化させた後（硬化部分を
ハッチングで示す）、光硬化性樹脂層２の未硬化部分
（ハッチングのない部分）を除去して現像し、図５に示
すように、断面が階段状の立体的な画像２’を形成する
ことができる。

【００３７】本発明で使用される露光用光源としては、
特に限定されるものではなく、従来公知のものが使用で
き、例えば、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が
好適に用いられる。

【００３８】また、現像する際に用いられる現像液とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、０．５
〜５重量％の濃度の炭酸ナトリウム水溶液が好適に用い
られる。そして、現像装置は、特に制限はなく、公知の
ものが使用可能である。

【００３９】次に、本発明２について説明する。本発明
２において、光硬化性樹脂層は、線状共重合体、光重合
可能な不飽和化合物及び光重合開始剤からなる光重合性
組成物を成分とする層によって構成される。

【００４０】本発明２において、線状共重合体、光重合
可能な不飽和化合物は、本発明１で用いたものを使用す
ることができる。光重合性組成物中の不飽和化合物の量
は、線状共重合体１００重量部に対して、５〜１５０重
量部が好ましく、より好ましくは１０〜１００重量部で
ある。

【００４１】本発明２で使用される光重合開始剤として
は、紫外線、可視光線などの活性光線により、上記不飽
和化合物を活性化し、重合を開始させる性質を有するも
のであればよい。

【００４２】紫外線により活性化されるものとしては、
例えば、ジフェニルモノサルファイド、ジサルファイド
などのサルファイド類；チオキサントン、２−エチルチ
オキサントンなどのキサントン類；ヒドラジン、アゾビ
スイソブチロニトリルなどのアゾ化合物；ベンゾイン、
ベンジルジメチルケタールなどの芳香族カルボニル化合
物などが挙げられる。

【００４３】また、可視光線により活性化されるものと
しては、例えば、２−ニトロフルオレン、チオミヒラー
ケトンなどが挙げられる。光重合性組成物中の光重合開
始剤の量は、少なくなると光硬化性樹脂層の硬化反応が
進ます、逆に多くなると少量の光で光硬化性樹脂層の硬
化反応が進行するので、解像度が低下して微細な画像が
得られ難くなる。

【００４４】従って、光重合性組成物中の光重合開始剤
の量は、線状共重合体１００重量部に対して、０．１〜
１０重量部の範囲が好ましい。また、本発明２で使用さ
れる光重合性樹脂組成物に、テトラエチレングリコール
ジアクリレートなどの光重合性単量体；ジオクチルフタ
レート、トリエチレングリコールジアセテート、ｐ−ト
ルエンスルホンアミド、Ｎ−エチルトルエンスルホンア
ミド等の可塑剤；ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェノー
ル等の熱重合禁止剤；安定剤；紫外線吸収剤；酸化防止
剤；メチルエチルケトン、トルエン等の溶媒などが添加
されてもよい。

【００４５】本発明２で使用される基体としては、本発
明１で用いたものを使用することができる。また、本発
明２では、本発明１で用いた方法によって、上記基体上
に光硬化性樹脂層を形成することができる。

【００４６】本発明２で使用される露光用光源、現像液
及び現像装置は、本発明１で使用されるものが使用可能
である。次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形成す
る方法について説明する。

【００４７】まず、基体１上に、例えば、図６に示すよ
うに、光重合開始剤の濃度が低い層２１ａと、光重合開
始剤の濃度が高い層２１ｃとが、光源側からこの順序に
積層された光硬化性樹脂層２１を形成した後、フォトマ
スク３１を通して、光硬化性樹脂層２１に露光すること
により、層２１ａでは、ほぼ光線が直進してフォトマス
ク３１の画像パターンに対応して硬化する。これに対し
て、層２１ｃでは、層２１ｃ内に散乱した微弱な光でも
硬化が起こるため、画像パターンよりも末広がり状に硬
化が進行し、光硬化性樹脂層２１には、図７に示すよう
に、断面形状が逆杯状の立体的な画像２１’を形成する
ことができる。

【００４８】次に、本発明３について説明する。本発明
３においては、光硬化性樹脂層は、線状共重合体、光重
合可能な不飽和化合物及び光重合開始剤からなる光重合
性組成物を成分とし、光重合性組成物中に光散乱用微粒
子を含有する単独の層、もしくは光散乱用微粒子を含有
する層と光散乱用微粒子を含有しない層とが積層された
複合層から構成される。

【００４９】線状共重合体及び光重合可能な不飽和化合
物は、それぞれ、本発明１で用いたものを使用すること
ができる。光重合性組成物中の不飽和化合物の量は、線
状共重合体１００重量部に対して、５〜１５０重量部が
好ましく、より好ましくは１０〜１００重量部である。

【００５０】本発明３で使用される光重合開始剤は、本
発明２で用いたものを使用することができる。光重合性
組成物中の光重合開始剤の量は、線状共重合体１００重
量部に対して、０．１〜１０重量部の範囲が好ましい。

【００５１】本発明３で使用される光散乱微粒子として
は、ガラス、メチルメタクリレート樹脂、スチレン樹
脂、シリカなどの微粒子が挙げられる。光散乱微粒子の
平均粒径を５μｍ以下とすることにより、光硬化性樹脂
層は光の透過に支障のない透明性を維持することができ
る。

【００５２】また、本発明３で使用される光重合性樹脂
組成物に、テトラエチレングリコールジアクリレートな
どの光重合性単量体；ジオクチルフタレート、トリエチ
レングリコールジアセテート、ｐ−トルエンスルホンア
ミド、Ｎ−エチルトルエンスルホンアミド等の可塑剤；
ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェノール等の熱重合禁止
剤；安定剤；紫外線吸収剤；酸化防止剤；メチルエチル
ケトン、トルエン等の溶媒などが添加されてもよい。

【００５３】本発明３における基体としては、本発明１
で用いたものを使用することができる。また、本発明３
では、本発明１で用いた方法によって、上記基体上に光
硬化性樹脂層を形成することができるが、１層の光硬化
性樹脂層によって、所定の厚さが得られない場合は、例
えば、熱ラミネート法によって積層して、複数層の光硬
化性樹脂層を基体上に形成すればよい。

【００５４】次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形
成する方法について説明する。まず、基体１上に、例え
ば図８に示すように、光散乱微粒子を含む層のみからな
る光硬化性樹脂層２２ａを形成し、該光硬化性樹脂層２
２ａに所定の画像パターンを有するフォトマスク３２を
通して露光することにより、光は光硬化性樹脂層２２ａ
中を散乱しながら進行して、光硬化性樹脂層２２ａを硬
化させる。

【００５５】次いで、光硬化性樹脂層２２ａの未露光部
分を現像して除去することにより、図９に示すように、
台形状の断面形状を有する立体的な像２２’を形成する
ことができる。

【００５６】また、図１０に示すように、光硬化性樹脂
層２３を、フォトマスク３３側から、光散乱微粒子を含
まない層２３ａと光散乱微粒子を含む層２２ａとの複合
層として、フォトマスク３３を通して露光することによ
り、光は光散乱微粒子を含まない層２３ａをほぼ直進す
るが、光散乱微粒子を含む層２２ａでは散乱しながら進
行して各層を硬化させることにより、図１１に示すよう
に、断面形状が逆杯状の立体的な画像２３’を形成する
ことができる。

【００５７】本発明３で使用される露光用光源、現像液
及び現像装置は、本発明１で使用されるものが使用可能
である。次に、本発明４について説明する。

【００５８】本発明４において、光硬化性樹脂層は、線
状共重合体、光重合可能な不飽和化合物及び光重合開始
剤からなる光重合性組成物を成分とする層によって構成
される。

【００５９】本発明４において、線状共重合体、光重合
可能な不飽和化合物は、本発明１で用いたものを使用す
ることができ、光重合開始剤は、本発明２で用いたもの
を、それぞれ、使用することができる。

【００６０】光重合性組成物中の不飽和化合物の量は、
線状共重合体１００重量部に対して、５〜１５０重量部
が好ましく、より好ましくは１０〜１００重量部であ
る。また、光重合性組成物中の光重合開始剤の量は、線
状共重合体１００重量部に対して、０．１〜１０重量部
の範囲が好ましい。

【００６１】また、本発明４で使用される光重合性樹脂
組成物に、テトラエチレングリコールジアクリレートな
どの光重合性単量体；ジオクチルフタレート、トリエチ
レングリコールジアセテート、ｐ−トルエンスルホンア
ミド、Ｎ−エチルトルエンスルホンアミド等の可塑剤；
ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェノール等の熱重合禁止
剤；安定剤；紫外線吸収剤；酸化防止剤；メチルエチル
ケトン、トルエン等の溶媒などが添加されてもよい。

【００６２】本発明４で使用される基体としては、本発
明１で用いたものを使用することができる。また、本発
明４では、本発明１で用いた方法によって、上記基体上
に光硬化性樹脂層を形成することができる。

【００６３】本発明４で使用される露光用光源、現像液
及び現像装置は、本発明１で使用されるものが使用可能
である。次に、光硬化性樹脂層に立体的な画像を形成す
る方法について説明する。

【００６４】まず、基体１上に、例えば、図１２に示す
ように、光硬化性樹脂層２４を形成した後、光散乱板６
及びフォトマスク３４を通して、光硬化性樹脂層２４に
露光、硬化させることにより、図１３に示すように、断
面形状が台形状の立体的な画像２４’を形成することが
できる。

【００６５】本発明４で使用される光散乱板６として
は、光を任意の方向へ散乱させる効果があれば、特に制
限はなく、例えば、すりガラス、マット加工したポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどが好適で
ある。

【００６６】また、光散乱板６、フォトマスク３３のい
ずれが光源側にあってもよい。

【００６７】

【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する。

【００６８】（実施例１）〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕還流冷却器、滴下
漏斗、温度計およびメカニカルスタラーを備えた５リッ
トルの４つ口フラスコにヘキサメチレンジイソシアネー
ト５０４ｇ（３ｍｏｌ）と、溶媒として乾燥メチルエチ
ルケトン（ＭＥＫ）８２６ｇおよびジブチルスズジラウ
レート（触媒）１ｇを加えて攪拌しながらポリエチレン
グリコール９１６ｇ（２ｍｏｌ、平均分子量：４５８）
を加えて５時間加熱、還流した。

【００６９】次いで、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト２３２ｇ（２ｍｏｌ）を滴下し、さらに５時間還流し
て反応させた後、ＭＥＫを蒸発させて、光重合可能な不
飽和化合物を調製した。

【００７０】〔光重合性樹脂組成物の調製〕１）４００ｎｍ以上の波長吸収域の光重合性樹脂組成物（Ａ）線状共重合体１００重量部（メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル／メタクリル酸＝重量比５０／２５／２５、重量平均分子量：１５万）光重合可能な不飽和化合物７５重量部光重合性単量体（テトラエチレングリコールジアクリレート）７５重量部光重合開始剤（カンファーキノン）２．５重量部上記物質を、２５０重量部のＭＥＫに溶解させ、光重合
性樹脂組成物の溶液を調製した。２）３５０〜４００ｎｍの波長吸収域の光重合性樹脂組
成物（Ｂ）光重合開始剤としてベンジルを２．５重量部使用したこ
と以外は、前記１）の光重合性樹脂組成物と同様にして
調製した。３）２５０〜３００ｎｍの波長吸収域の光重合性樹脂組
成物（Ｃ）光重合開始剤としてメチルフェニルグリオキシレートを
２．５重量部使用したこと以外は、前記１）の光重合性
樹脂組成物と同様にして調製した。

【００７１】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記１）
〜３）の各光重合性樹脂組成物の溶液を、それぞれ、厚
さ５００μｍのＰＥＴフィルムＤ上に流延し、８０℃で
１０分間乾燥した後、乾燥後の厚さが８５μｍの３種類
（Ａ、Ｂ、Ｃ）の光硬化性樹脂フィルムを作製した。

【００７２】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ５００μｍのポリカーボネートシートの基体１上に、
上記光硬化性樹脂フィルムＡのＰＥＴフィルムＤを剥離
して、熱ラミネート法によって２枚積層し、次いで、こ
の上に同様にして、光硬化性樹脂フィルムＢを２枚、さ
らに、その上へ光硬化性樹脂フィルムＣを２枚積層し
て、図１に示す積層体２を作製した。

【００７３】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルムＣ
は、上側にＰＥＴフィルムＤを付けたまま積層した。

【００７４】〔立体画像表示盤の作製〕積層体２に、図
２に示すように、文字と目盛りに対応する部分のみ光が
透過するフォトマスク３ａを重ね、波長４００ｎｍ以下
の光線を遮蔽するカットオフフィルター４ａを通して、
３ＫＷ超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ²の強さの
光線を照射し、光硬化性樹脂フィルムＡを硬化させた。

【００７５】次いで、図３に示すように、フォトマスク
３ｂを積層体２に重ね、波長３００ｎｍ以下の光線を遮
蔽するカットオフフィルター４ｂを通して、３ＫＷ超高
圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ²の強さの光線を照射
し、光硬化性樹脂フィルムＢを硬化させた。

【００７６】最後に、図４に示すように、フォトマスク
３ｃを積層体２に重ね、カットオフフィルターを使用せ
ず、３ＫＷ超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ²の強
さの光線を照射し、光硬化性樹脂フィルムＣを硬化させ
た。

【００７７】光硬化性樹脂フィルムＡ、Ｂ及びＣの露光
を完了した後、積層体２のＰＥＴフィルムＤを剥離し
て、３０℃、濃度１重量％の炭酸ナトリウム水溶液で現
像して、図２に示すように、文字と目盛りに対応する部
分が凸状になった立体画像２’を有する表示盤５を得
た。

【００７８】（実施例２）〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例１と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。

【００７９】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを２．５重量部および７．５重量部使用したこと
以外は、実施例１と同様にして、光重合開始剤の濃度が
異なる２種類の光重合性樹脂組成物を調製した。

【００８０】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記２種
類の光重合性樹脂組成物の溶液を、厚さ５００μｍのＰ
ＥＴフィルム上にそれぞれ流延し、８０℃で１０分間乾
燥した後、乾燥後の厚さがいずれも１００μｍで、光重
合開始剤の濃度が異なる２種類の光硬化性樹脂フィルム
を作製した。

【００８１】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ５００μｍのポリカーボネートシートの基体１上に、
図６に示すように、まず、光重合開始剤の濃度が高い方
の光硬化性樹脂フィルム２１ｃのＰＥＴフィルムを剥が
して、その２枚を熱ラミネート法によって積層した後、
その上に、光重合開始剤の濃度が低い方の光硬化性樹脂
フィルム２１ａのＰＥＴフィルムを剥がして、その３枚
を熱ラミネート法によって積層し、厚さが５００μｍの
積層体２１を作製した。但し、最上層の光硬化性樹脂フ
ィルム２１ａには、上側にＰＥＴフィルム２１ｂを付け
たまま積層した。

【００８２】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体２１
に、図６に示すように、文字と目盛りに対応する部分の
み光が透過するフォトマスク３１を重ね、超高圧水銀灯
により１０００ｍＪ／ｃｍ²の強さの光線を照射し、光
硬化性樹脂フィルム２１ａおよび２１ｃを硬化させた。

【００８３】次いで、積層体２１のＰＥＴフィルム２１
ｂを剥離して、３０℃、濃度１重量％の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図７に示すように、文字と目盛りに
対応する部分が凸状になった立体画像２１’を有する表
示盤５１を作製した。

【００８４】（実施例３）〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例１と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。

【００８５】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを２．５重量部使用し、光散乱微粒子としてガラ
スビーズ（平均粒径１．０μｍ）２０重量部添加したこ
と以外は、実施例１と同様にして、光重合性樹脂組成物
を調製した。

【００８６】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記光重
合性樹脂組成物の溶液を、厚さ５００μｍのＰＥＴフィ
ルム上に流延し、８０℃で１０分間乾燥した後、乾燥後
の厚さが１００μｍの光硬化性樹脂フィルムを作製し
た。

【００８７】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ５００μｍのポリカーボネートシートの基体１上に、
図８に示すように、上記光硬化性樹脂フィルム２２ａの
ＰＥＴフィルム２２ｂを剥離して、熱ラミネート法によ
って５枚積層し、厚さ５００μｍの積層体２２を作製し
た。

【００８８】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルム２２
ａには、上側にＰＥＴフィルム２２ｂを付けたまま積層
した。

【００８９】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体２２
に、図８に示すように、文字と目盛りに対応する部分の
み光が透過するフォトマスク３２を重ね、超高圧水銀灯
により１０００ｍＪ／ｃｍ²の強さの光線を照射し、光
硬化性樹脂フィルム２２ａを硬化させた。

【００９０】次いで、積層体２２のＰＥＴフィルム２２
ｂを剥離して、３０℃、濃度１重量％の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図９に示すように、文字と目盛りに
対応する部分が凸状になった立体画像２２’を有する表
示盤５２を作製した。

【００９１】（実施例４）〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例１と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。

【００９２】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを２．５重量部使用したこと以外は、実施例１と
同様にして、光重合性樹脂組成物を調製した。

【００９３】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記光重
合性樹脂組成物の溶液を、厚さ５００μｍのＰＥＴフィ
ルム上に流延し、８０℃で１０分間乾燥した後、乾燥後
の厚さが１００μｍの光硬化性樹脂フィルムを作製し
た。

【００９４】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ５００μｍのポリカーボネートシートの基体１上に、
図１０に示すように、実施例３で作製した光硬化性樹脂
フィルム２２ａを２枚熱ラミネート法によって積層した
後、その上に、上記光硬化性樹脂フィルム２３ａのＰＥ
Ｔフィルム２３ｂを剥離して、熱ラミネート法によって
３枚積層し、厚さ５００μｍの積層体２３を作製した。

【００９５】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルム２３
ａには、上側にＰＥＴフィルム２３ｂを付けたまま積層
した。

【００９６】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体２３
に、図１０に示すように、文字と目盛りに対応する部分
のみ光が透過するフォトマスク３３を重ね、超高圧水銀
灯により１０００ｍＪ／ｃｍ²の強さの光線を照射し、
光硬化性樹脂フィルム２２ａ及び２３ａを硬化させた。

【００９７】次いで、積層体２３のＰＥＴフィルム２３
ｂを剥離して、３０℃、濃度１重量％の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図１１に示すように、文字と目盛り
に対応する部分が凸状になった立体画像２３’を有する
表示盤５３を作製した。

【００９８】（実施例５）〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕実施例１と同様に
して光重合可能な不飽和化合物を調製した。

【００９９】〔光重合性樹脂組成物の調製〕光重合開始
剤としてカンファーキノンに代えて、ベンジルメチルケ
タールを２．５重量部使用したこと以外は、実施例１と
同様にして、光重合性樹脂組成物を調製した。

【０１００】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記光重
合性樹脂組成物の溶液を、厚さ５００μｍのＰＥＴフィ
ルム上に流延し、８０℃で１０分間乾燥した後、乾燥後
の厚さが１００μｍの光硬化性樹脂フィルムを作製し
た。

【０１０１】〔光硬化性樹脂フィルム積層体の作製〕厚
さ５００μｍのポリカーボネートシートの基体１上に、
図１２に示すように、上記光硬化性樹脂フィルム２４ａ
を５枚熱ラミネート法によって積層して、厚さ５００μ
ｍの積層体２４を作製した。

【０１０２】但し、最上層の光硬化性樹脂フィルム２４
ａには、上側にＰＥＴフィルム２４ｂを付けたまま積層
した。

【０１０３】〔立体画像表示盤の作製〕上記積層体２４
に、図１２に示すように、文字と目盛りに対応する部分
のみ光が透過するフォトマスク３４の下側に、スリガラ
ス板６を重ね、フォトマスク３４の上から超高圧水銀灯
により１０００ｍＪ／ｃｍ²の強さの光線を照射し、光
硬化性樹脂フィルム２４ａを硬化させた。

【０１０４】次いで、積層体２４のＰＥＴフィルム２４
ｂを剥離して、３０℃、濃度１重量％の炭酸ナトリウム
水溶液で現像して、図１３に示すように、文字と目盛り
に対応する部分が台形型に凸状になった立体画像２４’
を有する表示盤５４を作製した。

【０１０５】

【発明の効果】本発明の立体画像表示盤の製造方法によ
れば、基体上に、特定の光重合性樹脂組成物からなる光
硬化性樹脂層を形成し、露光、硬化させることによっ
て、断面形状を階段状もしくは台形状のいずれでも自由
に選択でき、しかも、高さが自由にコントロール可能な
立体画像を再現性よく作製することができるので、装飾
性や視認性に優れた表示盤を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明において、基体上に形成され、光の波長
吸収域が異なる３種の光硬化性樹脂層を示す模式断面図
である。

【図２】本発明において、基体上に形成された光硬化性
樹脂層に露光する状況を示す模式断面図である。

【図３】本発明において、基体上に形成された光硬化性
樹脂層に露光する状況を示す説明図である。

【図４】本発明において、基体上に形成された光硬化性
樹脂層に露光する状況を示す説明図である。

【図５】本発明において、基体上に形成された階段状の
立体的な画像を示す説明図である。

【図６】本発明において、基体上に形成され、光開始重
合剤の濃度が異なる２種類の層からなる光硬化性樹脂層
に、露光する状況を示す説明図である。

【図７】本発明において、基体上に形成された台形状の
立体的な画像を示す説明図である。

【図８】本発明において、基体上に形成された光散乱性
微粒子を含む光硬化性樹脂層に露光する状況を示す説明
図である。

【図９】本発明において、基体上に形成された台形状の
立体的な画像を示す説明図である。

【図１０】本発明において、基体上に形成され、光散乱
性微粒子を含まない層と光散乱性微粒子を含む層からな
る光硬化性樹脂層に露光する状況を示す説明図である。

【図１１】本発明において、基体上に形成された逆杯状
の立体的な画像を示す説明図である。

【図１２】本発明において、基体上に形成された光硬化
性樹脂層に、光散乱板を通して露光する状況を示す説明
図である。

【図１３】本発明において、基体上に形成された台形状
の立体的な画像を示す説明図である。

【符号の説明】

１基体２、２１、２２、２３、２４光硬化性樹脂フィルム３ａ、３ｂ、３ｃフォトマスク３１、３１、３２、３３、３４フォトマスク４ａ、４ｂ、４ｃカットオフフィルター５、５１、５２、５３、５４表示盤６光散乱板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基体上に形成された光硬化性樹脂層に、
フォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除
去して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法
であって、前記光硬化性樹脂層が、光線の吸収波長域が
異なる光重合開始剤を含有する複数の層から構成され、
各光硬化性樹脂層には、光硬化性樹脂層が含有する光重
合開始剤の吸収波長域に対応する光線をそれぞれ照射し
て、露光、硬化させることを特徴とする立体画像表示盤
の製造方法。
【請求項２】基体上に形成された光硬化性樹脂層にフ
ォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去
して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法で
あって、前記光硬化性樹脂層が、光重合開始剤の濃度が
異なる複数の層から構成され、この光硬化性樹脂層に露
光し、硬化させることを特徴とする立体画像表示盤の製
造方法。
【請求項３】基体上に形成された光硬化性樹脂層に、
フォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除
去して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法
であって、前記光硬化性樹脂層が、光散乱微粒子を含有
する単独の層、もしくは光散乱微粒子を含有する層と光
散乱微粒子を含有しない層とが積層された複合層から構
成され、この光硬化性樹脂層に露光し、硬化させること
を特徴とする立体画像表示盤の製造方法。
【請求項４】基体上に形成された光硬化性樹脂層にフ
ォトマスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去
して所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法で
あって、前記光硬化性樹脂層に光散乱板を通して露光
し、硬化させることを特徴とする立体画像表示盤の製造
方法。