JPH0572455B2 - - Google Patents
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- JPH0572455B2 JPH0572455B2 JP6722186A JP6722186A JPH0572455B2 JP H0572455 B2 JPH0572455 B2 JP H0572455B2 JP 6722186 A JP6722186 A JP 6722186A JP 6722186 A JP6722186 A JP 6722186A JP H0572455 B2 JPH0572455 B2 JP H0572455B2
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- Conductive Materials (AREA)
- Heat Treatment Of Steel (AREA)
Description
[発明の目的]
本発明はリードフレーム用アルミニウム合金に
係り、熱履歴後の強度、固さ並びに曲げ加工性が
良好で、低コストなリードフレーム用アルミニウ
ム合金を提供しようとするものである。 産業上の利用分野 半導体を要素とするIC、LEDなどの機器にお
けるリードフレーム用アルミニウム合金。 従来の技術 半導体を要素とするIC、LSI、LED等の機器は
何れも半導体ペレツト、リード、ボンデイングワ
イヤによつて構成されたものをセラミツクスや樹
脂によつて封止したもので、種々の形式のものが
用いられている。然してこの種機器に使用される
リード用フレームは薄板をプレス打ち抜きして所
定の形状に形成した後、半導体の取りつけ、ワイ
ヤのボンデイング、樹脂の熱硬化、さらに組み付
けを容易にするため溶融ハンダ材が被覆されるこ
ととなり、多様な熱履歴を受ける。ところで従来
これらの機器におけるリードフレーム材として
は、鉄系材料としてコバール(Fe−29%Ni−17
%Co)、Fe−42%Ni合金、Fe−Ni合金にAlをク
ラツドした材料が用いられ、又銅系材料として
194合金、(Cu−Fe−Zn−P系)、195合金(Cu−
Fe−Co−Sn−P系)等が使用されてきた。即ち
前記鉄系材料は耐熱性、強度等が優れており、
MOS型IC、LSI等に広く採用され、銅系材料は
良好な熱伝導性や曲げ性を有し、しかも鉄系材料
に比較して安価であることから近年パワートラン
ジスタ、ダイオード、サイリスタ等の個別半導体
のリードフレーム材として広く使用されている。
近時、高集積化がますます進む中で、電気抵抗の
小さい、高熱伝導性、高強度の、銅合金も開発さ
れ、、鉄系材料に代わつて次第に使用されつつあ
る。なお、一部の銅合金より更に低価格な材料と
して、アルミニウム合金の使用が検討されている
が、実用に至つていない。 発明が解決しようとする問題点 しかし前記した鉄系材料のものは相当に高価格
であり、しかも熱伝導性や耐食性に劣る不利であ
る。この点銅系材料は鉄系材料よりは安価で、熱
伝導性、耐食性、曲げ性に優れたものであるが、
耐熱性、強度等は鉄系材料より劣り、しかもやは
りそれなりに高価格とならざるを得ない。 アルミニウム合金によるものは価格的には最も
有利であるが、曲げ性等の機械的性質が劣るとい
う問題点を有している。 「発明の構成」 問題点を解決するための手段 Mg:3.0〜6.0wt%、Zn:0.5〜2.0wt%、 Cu:0.1〜0.5wt% を含有し、しかも Mn:0.20〜1.0wt%、Cr:0.05〜0.30wt%、 Zr:0.05〜0.25wt%、V:0.05〜0.20wt%、 Ti:0.01〜0.15wt% の何れか1種または2種以上を合計量で1.2wt%
以下含有し、残部がAlと不純物より成ることを
特徴とするリードフレーム用アルミニウム合金。 作 用 Mg:3.0%以上、Zn:0.5%以上、Cu:0.1%以
上を含有させることにより強度の向上が得られ、
且つ半田づけ性も向上される。 Mg:6.0%以下、Zn:2.0%以下、Cu:0.5%以
下とすることにより曲げ性を良好に維持し、しか
もこのものにMn:0.20%以上、Cr:0.05%以上、
Zr:0.05%以上、V:0.05%以上、Ti:0.01%以
上の何れか1種または2種以上含有させることに
よつて結晶粒を微細化して曲げ加工性を良好にす
る。 Mn:1.0%以下、Cr:0.30%以下、Zr:0.25%
以下、V:0.20%以下、Ti:0.15%以下とし、且
つそれらの複合添加時における合計量を1.2%以
下とすることによつて粗大な化合物の生成などに
よる曲げ加工性劣化を回避する。 アルミニウムをベースとし前記のような関係で
夫々の元素を含有させることにより、リードフレ
ーム材を従来のものより適切に低コストでしかも
好ましい特性をもつたもとして提供する。 なおMgが6.0%以下たることにより応力腐食割
れに敏感となる傾向をなからしめ、Znを0.5%以
上とすることにより半田づけ性が改善される。
Cuが0.5%以下たることで耐食性劣化をなからし
める。 実施例 上記した本発明について更に説明すると、本発
明においては前記のようにMg、Zn、Cuの適量を
アルミニウムに含有させることによりリードフレ
ーム材として必要な強度を高価格化を来すことな
しに得しめるもので、このような適量のMg、
Zn、CuはAl中に固溶して固溶体強化および加工
硬化により大きな強度を与える。 即ちwt%(以下単に%という)で、Mgが3.0
%未満ではこのような効果が充分に得られず、一
方6.0%を超えると曲げ性を劣化し、しかも応力
腐食割れに敏感となるので、3.0〜6.0%とする。 Znは、0.5%以上の含有によつて強度の向上だ
けでなく、半田づけ性の向上が得られる。しかし
2.0%を超えると曲げ性の劣化が認められるので
これを上限とする。 Cuは、0.1%以上の添加で強度の向上が得られ
るが、0.5%を超えると曲げ性が劣化するので0.1
〜0.5%とする。 本発明においては前記のような成分組成のもの
に体して、Mn:0.20〜1.0%、Cr:0.05〜0.30%、
Zr:0.05〜0.25%、V:0.05〜0.20%、Ti:0.01〜
0.15%の何れか1種または2種以上を含有させる
ことにより結晶粒を微細化し曲げ加工性を良好に
する。 即ちこれらのものが下限値以下では効果が少な
く、又上限値以上となると金属間化合物、例えば
MnAl6、AlMnSi、CrAl7、ZrAl3、VAl10、
TiAl3などの粗大な化合物が生成して曲げ加工性
を低下させる。特にMn、Cr、Zr、Vの場合は上
記した効果の他に耐熱性を付与することができ、
このような場合にはそれら元素についての上記化
合物をマトリツクス中に微細に分散して生成させ
ると該耐熱性をより効果的に付与することができ
る。なおこれらの元素を複合して添加する場合の
合計量としては1.2%以下とすることが好ましく、
1.2%を超えると曲げ性を劣化する傾向が認めら
れる。 またこれらの元素をできるだけAl中に固溶さ
せた状態とすれば導電率および熱伝導率を低下さ
せることができ、LED用として利用する場合に
有効である。 更に本発明によるものは、Bは0.001〜0.1%の
範囲では鋳造割れ防止および結晶粒微細化に有効
であり、添加させ得る。又不純物として、Fe≦
0.3%、Si≦0.2%の範囲であれば本発明の特性を
劣化させることがない。 本発明合金によるリードフレーム材の製造は、
通常のアルミニウム合金と同様に溶解され、前記
した結晶粒微細化のためのTi又はBが溶解炉又
は鋳造機への溶湯移送樋中へ連続的に添加され、
次いで溶湯の酸化物などの非金属介在物を除去す
べく濾過され、最後にDC鋳造などの半連続鋳造
法や、ハンター鋳造法などの連続鋳造圧延によつ
て鋳塊とされる。次いで鋳塊の均質化処理、熱間
圧延、または冷間圧延によつて所定の厚さの板と
し、最後に熱処理が施される。なお中間焼鈍のよ
うな熱処理は圧延の中間段階でも施されることが
ある。 本発明によるものの具体的な製造例について説
明すると以下の如くである。 次の第1表に示す成分を有する本発明例1〜9
および比較例A−JのAl−Mg−Zn系合金を溶解
し、半連続鋳造にて厚さ70mmの鋳塊となした。
係り、熱履歴後の強度、固さ並びに曲げ加工性が
良好で、低コストなリードフレーム用アルミニウ
ム合金を提供しようとするものである。 産業上の利用分野 半導体を要素とするIC、LEDなどの機器にお
けるリードフレーム用アルミニウム合金。 従来の技術 半導体を要素とするIC、LSI、LED等の機器は
何れも半導体ペレツト、リード、ボンデイングワ
イヤによつて構成されたものをセラミツクスや樹
脂によつて封止したもので、種々の形式のものが
用いられている。然してこの種機器に使用される
リード用フレームは薄板をプレス打ち抜きして所
定の形状に形成した後、半導体の取りつけ、ワイ
ヤのボンデイング、樹脂の熱硬化、さらに組み付
けを容易にするため溶融ハンダ材が被覆されるこ
ととなり、多様な熱履歴を受ける。ところで従来
これらの機器におけるリードフレーム材として
は、鉄系材料としてコバール(Fe−29%Ni−17
%Co)、Fe−42%Ni合金、Fe−Ni合金にAlをク
ラツドした材料が用いられ、又銅系材料として
194合金、(Cu−Fe−Zn−P系)、195合金(Cu−
Fe−Co−Sn−P系)等が使用されてきた。即ち
前記鉄系材料は耐熱性、強度等が優れており、
MOS型IC、LSI等に広く採用され、銅系材料は
良好な熱伝導性や曲げ性を有し、しかも鉄系材料
に比較して安価であることから近年パワートラン
ジスタ、ダイオード、サイリスタ等の個別半導体
のリードフレーム材として広く使用されている。
近時、高集積化がますます進む中で、電気抵抗の
小さい、高熱伝導性、高強度の、銅合金も開発さ
れ、、鉄系材料に代わつて次第に使用されつつあ
る。なお、一部の銅合金より更に低価格な材料と
して、アルミニウム合金の使用が検討されている
が、実用に至つていない。 発明が解決しようとする問題点 しかし前記した鉄系材料のものは相当に高価格
であり、しかも熱伝導性や耐食性に劣る不利であ
る。この点銅系材料は鉄系材料よりは安価で、熱
伝導性、耐食性、曲げ性に優れたものであるが、
耐熱性、強度等は鉄系材料より劣り、しかもやは
りそれなりに高価格とならざるを得ない。 アルミニウム合金によるものは価格的には最も
有利であるが、曲げ性等の機械的性質が劣るとい
う問題点を有している。 「発明の構成」 問題点を解決するための手段 Mg:3.0〜6.0wt%、Zn:0.5〜2.0wt%、 Cu:0.1〜0.5wt% を含有し、しかも Mn:0.20〜1.0wt%、Cr:0.05〜0.30wt%、 Zr:0.05〜0.25wt%、V:0.05〜0.20wt%、 Ti:0.01〜0.15wt% の何れか1種または2種以上を合計量で1.2wt%
以下含有し、残部がAlと不純物より成ることを
特徴とするリードフレーム用アルミニウム合金。 作 用 Mg:3.0%以上、Zn:0.5%以上、Cu:0.1%以
上を含有させることにより強度の向上が得られ、
且つ半田づけ性も向上される。 Mg:6.0%以下、Zn:2.0%以下、Cu:0.5%以
下とすることにより曲げ性を良好に維持し、しか
もこのものにMn:0.20%以上、Cr:0.05%以上、
Zr:0.05%以上、V:0.05%以上、Ti:0.01%以
上の何れか1種または2種以上含有させることに
よつて結晶粒を微細化して曲げ加工性を良好にす
る。 Mn:1.0%以下、Cr:0.30%以下、Zr:0.25%
以下、V:0.20%以下、Ti:0.15%以下とし、且
つそれらの複合添加時における合計量を1.2%以
下とすることによつて粗大な化合物の生成などに
よる曲げ加工性劣化を回避する。 アルミニウムをベースとし前記のような関係で
夫々の元素を含有させることにより、リードフレ
ーム材を従来のものより適切に低コストでしかも
好ましい特性をもつたもとして提供する。 なおMgが6.0%以下たることにより応力腐食割
れに敏感となる傾向をなからしめ、Znを0.5%以
上とすることにより半田づけ性が改善される。
Cuが0.5%以下たることで耐食性劣化をなからし
める。 実施例 上記した本発明について更に説明すると、本発
明においては前記のようにMg、Zn、Cuの適量を
アルミニウムに含有させることによりリードフレ
ーム材として必要な強度を高価格化を来すことな
しに得しめるもので、このような適量のMg、
Zn、CuはAl中に固溶して固溶体強化および加工
硬化により大きな強度を与える。 即ちwt%(以下単に%という)で、Mgが3.0
%未満ではこのような効果が充分に得られず、一
方6.0%を超えると曲げ性を劣化し、しかも応力
腐食割れに敏感となるので、3.0〜6.0%とする。 Znは、0.5%以上の含有によつて強度の向上だ
けでなく、半田づけ性の向上が得られる。しかし
2.0%を超えると曲げ性の劣化が認められるので
これを上限とする。 Cuは、0.1%以上の添加で強度の向上が得られ
るが、0.5%を超えると曲げ性が劣化するので0.1
〜0.5%とする。 本発明においては前記のような成分組成のもの
に体して、Mn:0.20〜1.0%、Cr:0.05〜0.30%、
Zr:0.05〜0.25%、V:0.05〜0.20%、Ti:0.01〜
0.15%の何れか1種または2種以上を含有させる
ことにより結晶粒を微細化し曲げ加工性を良好に
する。 即ちこれらのものが下限値以下では効果が少な
く、又上限値以上となると金属間化合物、例えば
MnAl6、AlMnSi、CrAl7、ZrAl3、VAl10、
TiAl3などの粗大な化合物が生成して曲げ加工性
を低下させる。特にMn、Cr、Zr、Vの場合は上
記した効果の他に耐熱性を付与することができ、
このような場合にはそれら元素についての上記化
合物をマトリツクス中に微細に分散して生成させ
ると該耐熱性をより効果的に付与することができ
る。なおこれらの元素を複合して添加する場合の
合計量としては1.2%以下とすることが好ましく、
1.2%を超えると曲げ性を劣化する傾向が認めら
れる。 またこれらの元素をできるだけAl中に固溶さ
せた状態とすれば導電率および熱伝導率を低下さ
せることができ、LED用として利用する場合に
有効である。 更に本発明によるものは、Bは0.001〜0.1%の
範囲では鋳造割れ防止および結晶粒微細化に有効
であり、添加させ得る。又不純物として、Fe≦
0.3%、Si≦0.2%の範囲であれば本発明の特性を
劣化させることがない。 本発明合金によるリードフレーム材の製造は、
通常のアルミニウム合金と同様に溶解され、前記
した結晶粒微細化のためのTi又はBが溶解炉又
は鋳造機への溶湯移送樋中へ連続的に添加され、
次いで溶湯の酸化物などの非金属介在物を除去す
べく濾過され、最後にDC鋳造などの半連続鋳造
法や、ハンター鋳造法などの連続鋳造圧延によつ
て鋳塊とされる。次いで鋳塊の均質化処理、熱間
圧延、または冷間圧延によつて所定の厚さの板と
し、最後に熱処理が施される。なお中間焼鈍のよ
うな熱処理は圧延の中間段階でも施されることが
ある。 本発明によるものの具体的な製造例について説
明すると以下の如くである。 次の第1表に示す成分を有する本発明例1〜9
および比較例A−JのAl−Mg−Zn系合金を溶解
し、半連続鋳造にて厚さ70mmの鋳塊となした。
【表】
前記のような各鋳塊は、530℃で4時間加熱し
た後、熱間圧延により6mm厚さまで圧延した。さ
らに0.5mm厚さまで冷間圧延し、最後に500℃10分
間の焼鈍を行なつた。これらの板について、ハン
ダ付けに相当する275℃で30秒間加熱してから強
度、硬さ、繰り返し曲げ性および導電率を測定し
た結果は次の第2表の如くである。
た後、熱間圧延により6mm厚さまで圧延した。さ
らに0.5mm厚さまで冷間圧延し、最後に500℃10分
間の焼鈍を行なつた。これらの板について、ハン
ダ付けに相当する275℃で30秒間加熱してから強
度、硬さ、繰り返し曲げ性および導電率を測定し
た結果は次の第2表の如くである。
【表】
【表】
なお上記第2表における繰り返し曲げ性の評価
基準は、繰り返し曲げ操作を3回以上行なつても
割れの生じないものを「良」とし、割れの生じた
ものは「不良」とした。総合評価については強
度、硬さ、繰り返し曲げ性の全般について判断し
評価した。 又LED溶リードフレームとして使用する場合、
275℃で30秒の加熱後の導電率が35%IACS以下、
好ましくは30%IACS以下であることが求められ、
可視光線の全波長域に亘つて良好な反射率が要求
される。従来の銅合金材料や鉄系材料で銅メツキ
の施されているものの場合可視光線の短波長側で
反射率が劣り、そのため銀メツキが施されている
が、上記のような本発明のものは何等の処理を必
要としないで良好な反射特性を有し、即ち0.38〜
0.77μmの波長範囲において普通仕上げ板で65〜
75%、光輝仕上げ板で75〜80%を得ることがき
る。 更に上記した製造例のものについてハンダ付け
評価のために、Sn−Pb系の共晶ハンダを用い、
超音波ハンダ付けおよびフラクツスを用いなデイ
ツプ式のハンダ付けを行ないその評価をなした結
果は次の第3表の如くである。
基準は、繰り返し曲げ操作を3回以上行なつても
割れの生じないものを「良」とし、割れの生じた
ものは「不良」とした。総合評価については強
度、硬さ、繰り返し曲げ性の全般について判断し
評価した。 又LED溶リードフレームとして使用する場合、
275℃で30秒の加熱後の導電率が35%IACS以下、
好ましくは30%IACS以下であることが求められ、
可視光線の全波長域に亘つて良好な反射率が要求
される。従来の銅合金材料や鉄系材料で銅メツキ
の施されているものの場合可視光線の短波長側で
反射率が劣り、そのため銀メツキが施されている
が、上記のような本発明のものは何等の処理を必
要としないで良好な反射特性を有し、即ち0.38〜
0.77μmの波長範囲において普通仕上げ板で65〜
75%、光輝仕上げ板で75〜80%を得ることがき
る。 更に上記した製造例のものについてハンダ付け
評価のために、Sn−Pb系の共晶ハンダを用い、
超音波ハンダ付けおよびフラクツスを用いなデイ
ツプ式のハンダ付けを行ないその評価をなした結
果は次の第3表の如くである。
【表】
「発明の効果」
以上説明したような本発明によるときは、この
種リードフレームとして要求される耐熱性、特に
強度、硬さと共に曲げ性を適切に具備し、好まし
いバランスをもつた材質が得られ、又ハンダづけ
性などにおいても良好であつて、好ましいリード
フレームを低コストに提供し得るものであるから
工業的にその効果の大きい発明である。
種リードフレームとして要求される耐熱性、特に
強度、硬さと共に曲げ性を適切に具備し、好まし
いバランスをもつた材質が得られ、又ハンダづけ
性などにおいても良好であつて、好ましいリード
フレームを低コストに提供し得るものであるから
工業的にその効果の大きい発明である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 Mg:3.0〜6.0wt%、Zn:0.5〜2.0wt%、 Cu:0.1〜0.5wt% を含有し、しかも Mn:0.20〜1.0wt%、Cr:0.05〜0.30wt%、 Zr:0.05〜0.25wt%、V:0.05〜0.20wt%、 Ti:0.01〜0.15wt% の何れか1種または2種以上を合計量で1.2wt%
以下含有し、残部がAlと不純物より成ることを
特徴とするリードフレーム用アルミニウム合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6722186A JPS62224652A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | リ−ドフレ−ム用アルミニウム合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6722186A JPS62224652A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | リ−ドフレ−ム用アルミニウム合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62224652A JPS62224652A (ja) | 1987-10-02 |
| JPH0572455B2 true JPH0572455B2 (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=13338634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6722186A Granted JPS62224652A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | リ−ドフレ−ム用アルミニウム合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62224652A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BR9812608A (pt) * | 1997-10-03 | 2000-08-01 | Hoogovens Alu Walzprod Gmbh | Liga de enchimento de solda de alumìnio-magnésio |
| US7494043B2 (en) | 2004-10-15 | 2009-02-24 | Aleris Aluminum Koblenz Gmbh | Method for constructing a welded construction utilizing an Al-Mg-Mn weld filler alloy |
| CN104152753B (zh) * | 2014-07-08 | 2016-06-15 | 蚌埠市英路光电有限公司 | 一种led用含改性树木灰的铝基复合散热材料 |
| CN104164597B (zh) * | 2014-07-22 | 2016-03-30 | 安徽冠宇光电科技有限公司 | 一种重利用电镀废水的led用铝基复合散热材料 |
-
1986
- 1986-03-27 JP JP6722186A patent/JPS62224652A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62224652A (ja) | 1987-10-02 |
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