JPH0572560B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0572560B2 JPH0572560B2 JP59013378A JP1337884A JPH0572560B2 JP H0572560 B2 JPH0572560 B2 JP H0572560B2 JP 59013378 A JP59013378 A JP 59013378A JP 1337884 A JP1337884 A JP 1337884A JP H0572560 B2 JPH0572560 B2 JP H0572560B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- ion
- potential
- shaped
- acceleration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Particle Accelerators (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオン注入装置のビーム絞り機構に
関する。
関する。
従来のイオン注入装置において、イオン源より
引出されたイオン流は、イオン源と引出電極系の
幾何学的寸法及びこの両者の物理的条件によつて
決まる角度で広がりまた空間電荷効果の影響を受
けるので、希望するイオンを不純物イオンと分離
する分析マグネツトに入る際には幅の広いビーム
となる。このマグネツトを出たイオン流は加速管
内に入り所定のエネルギまで加速され、レンズ系
で細いビームに絞られ所定のウエハに注入される
のであるが、加速管において拡がつたビームの一
部はレンズ系を通過できなくなるため、ビーム損
失が大きい不都合があつた。レンズの口径を大き
くすれば太いビームでも通過可能であるが、装置
が非常に大型化する不都合が生ずる。
引出されたイオン流は、イオン源と引出電極系の
幾何学的寸法及びこの両者の物理的条件によつて
決まる角度で広がりまた空間電荷効果の影響を受
けるので、希望するイオンを不純物イオンと分離
する分析マグネツトに入る際には幅の広いビーム
となる。このマグネツトを出たイオン流は加速管
内に入り所定のエネルギまで加速され、レンズ系
で細いビームに絞られ所定のウエハに注入される
のであるが、加速管において拡がつたビームの一
部はレンズ系を通過できなくなるため、ビーム損
失が大きい不都合があつた。レンズの口径を大き
くすれば太いビームでも通過可能であるが、装置
が非常に大型化する不都合が生ずる。
本発明はかかる従来の装置の不都合を無くすこ
とをその目的としたもので、イオン源から引出さ
れ分析マグネツトを通過したイオン流を、一対の
リング状端子板間に複数枚のリング状電極板が所
定間隙を介して配列され入力側のリング状端子板
に加速電位が与えられる加速管により加速するよ
うにしたイオン注入装置において、該加速管の入
力側の電極板の電位を加速電位より高くしたこと
を特徴とする。
とをその目的としたもので、イオン源から引出さ
れ分析マグネツトを通過したイオン流を、一対の
リング状端子板間に複数枚のリング状電極板が所
定間隙を介して配列され入力側のリング状端子板
に加速電位が与えられる加速管により加速するよ
うにしたイオン注入装置において、該加速管の入
力側の電極板の電位を加速電位より高くしたこと
を特徴とする。
以下本発明の実施例を図面につき説明する。
第１図において、１はイオン源、２は該イオン
源１から引出されたイオン流のうち必要とするイ
オンのみをスリツト３に導入するための分析マグ
ネツト、４は複数枚例えば第１図のように10枚の
リング状電極板４1〜４10とその両側のリング状
端子板４0及び４11が所定の間隙を介してビーム
通過方向に配列された加速管で、リング状端子板
４0は高圧ターミナル箱１１の開口部に導電的に
連結され、リング状端子板４11はスキヤナ９の一
端の開口部に連結されている。高圧ターミナル箱
１１、リング状端子板４0及びリング状電極板４2
とリング状端子板４11とは、夫々例えば18KVの
加速用高圧電源５の＋端子と−端子に接続され、
リング状電極板４3〜４10は、夫々前記電源５に
接続された分圧器６の引出端子に接続され、リン
グ状電極板４1は、前記電源５の＋端子に−端子
が接続された例えば10〜30KVの電源７の＋端子
に接続されている。８はイオンビームを絞るレン
ズ系、９はＹ方向に偏向させる偏向板９1及びＸ
方向に偏向させる偏向板９2、並びにＹ走査電源
９3、Ｘ走査電源９4からなるスキヤナ、１０はイ
オン注入が行なわれるウエハである。
源１から引出されたイオン流のうち必要とするイ
オンのみをスリツト３に導入するための分析マグ
ネツト、４は複数枚例えば第１図のように10枚の
リング状電極板４1〜４10とその両側のリング状
端子板４0及び４11が所定の間隙を介してビーム
通過方向に配列された加速管で、リング状端子板
４0は高圧ターミナル箱１１の開口部に導電的に
連結され、リング状端子板４11はスキヤナ９の一
端の開口部に連結されている。高圧ターミナル箱
１１、リング状端子板４0及びリング状電極板４2
とリング状端子板４11とは、夫々例えば18KVの
加速用高圧電源５の＋端子と−端子に接続され、
リング状電極板４3〜４10は、夫々前記電源５に
接続された分圧器６の引出端子に接続され、リン
グ状電極板４1は、前記電源５の＋端子に−端子
が接続された例えば10〜30KVの電源７の＋端子
に接続されている。８はイオンビームを絞るレン
ズ系、９はＹ方向に偏向させる偏向板９1及びＸ
方向に偏向させる偏向板９2、並びにＹ走査電源
９3、Ｘ走査電源９4からなるスキヤナ、１０はイ
オン注入が行なわれるウエハである。
以上の構成において、加速管４の各リング状電
極４1〜４10と加速用高圧電源５及び電源７との
接続以外の構成は従来のものと特に異ならない。
極４1〜４10と加速用高圧電源５及び電源７との
接続以外の構成は従来のものと特に異ならない。
次にその作動について説明する。
イオン源１より引出されたイオン流は前述のよ
うに角度αで広がつて分析用マグネツト２に入
り、こゝで偏向されて必要とするイオン流のみが
スリツト３に導入され、前述の開き角度αに空間
電荷効果による角度△αが加わつた角度で加速管
４に入射される。加速管４の入口側のリング状端
子板４0及びリング状電極板４2の電位は加速電位
であり、リング状電極板４1の電位は電源７によ
り加速電位より高くなつているから、その部分に
形成される導電位面ｅは、第２図示のように形成
される。したがつて、こゝに入射したイオンビー
ムは、質量分析系で一般に行なわれているダブル
フオーカス型と同じ理論により絞られる。かくて
レンズ系８に入射したイオンビームは従来のもの
よりも損失なくレンズ系８を通過し、スキヤナ９
を経てウエハ１０に注入する。
うに角度αで広がつて分析用マグネツト２に入
り、こゝで偏向されて必要とするイオン流のみが
スリツト３に導入され、前述の開き角度αに空間
電荷効果による角度△αが加わつた角度で加速管
４に入射される。加速管４の入口側のリング状端
子板４0及びリング状電極板４2の電位は加速電位
であり、リング状電極板４1の電位は電源７によ
り加速電位より高くなつているから、その部分に
形成される導電位面ｅは、第２図示のように形成
される。したがつて、こゝに入射したイオンビー
ムは、質量分析系で一般に行なわれているダブル
フオーカス型と同じ理論により絞られる。かくて
レンズ系８に入射したイオンビームは従来のもの
よりも損失なくレンズ系８を通過し、スキヤナ９
を経てウエハ１０に注入する。
尚、前記実施例では、加速管４の入口側の電極
板４1のみの電位を加速電位より高くしたが、電
極板４1を含めて数枚を加速電位より高くしても
よい。
板４1のみの電位を加速電位より高くしたが、電
極板４1を含めて数枚を加速電位より高くしても
よい。
このように本発明によるときは、イオン源から
引出され分析マグネツトを通過したイオン流を、
一対のリング状端子板間に複数枚のリング状電極
板が所定間隙を介して配列され入力側のリング状
端子板に加速電位が与えられる加速管により加速
するようにしたイオン注入装置において、該加速
管の入力側の電極板の電位を加速電位より高くし
たので、イオンビームを簡単な構成で絞ることが
でき、従来のものに比べて効率のよいイオン注入
装置が得られる効果を有する。
引出され分析マグネツトを通過したイオン流を、
一対のリング状端子板間に複数枚のリング状電極
板が所定間隙を介して配列され入力側のリング状
端子板に加速電位が与えられる加速管により加速
するようにしたイオン注入装置において、該加速
管の入力側の電極板の電位を加速電位より高くし
たので、イオンビームを簡単な構成で絞ることが
でき、従来のものに比べて効率のよいイオン注入
装置が得られる効果を有する。
第１図は本発明の一実施例の線図、第２図はそ
の作動説明図を示す。 １……イオン流、２……分析マグネツト、４…
…加速管、４1〜４10……リング状電極板、５…
…加速用高圧電源、６……分圧器、７……電源、
８……レンズ系、９……スキヤナ、１０……ウエ
ハ。
の作動説明図を示す。 １……イオン流、２……分析マグネツト、４…
…加速管、４1〜４10……リング状電極板、５…
…加速用高圧電源、６……分圧器、７……電源、
８……レンズ系、９……スキヤナ、１０……ウエ
ハ。
Claims (1)
- １ イオン源から引出され分析マグネツトを通過
したイオン流を、一対のリング状端子板間に複数
枚のリング状電極板が所定間隙を介して配列され
入力側のリング状端子板に加速電位が与えられる
加速管により加速するようにしたイオン注入装置
において、該加速管の入力側の電極板の電位を加
速電位より高くしたことを特徴とするイオン注入
装置のビーム絞り機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1337884A JPS60158400A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | イオン注入装置のビ−ム絞り機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1337884A JPS60158400A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | イオン注入装置のビ−ム絞り機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60158400A JPS60158400A (ja) | 1985-08-19 |
| JPH0572560B2 true JPH0572560B2 (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=11831429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1337884A Granted JPS60158400A (ja) | 1984-01-30 | 1984-01-30 | イオン注入装置のビ−ム絞り機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60158400A (ja) |
-
1984
- 1984-01-30 JP JP1337884A patent/JPS60158400A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60158400A (ja) | 1985-08-19 |
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